JP2567959B2

JP2567959B2 - 流体流量制御弁及びその製造方法並びに流体流量制御弁に使用される弁体

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Publication number: JP2567959B2
Application number: JP1293804A
Authority: JP
Inventors: 鈴木　　勲
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Current assignee: NIPPON TYLAN KK
Priority date: 1989-11-14
Filing date: 1989-11-14
Publication date: 1996-12-25
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Also published as: JPH03157570A; KR0175068B1; KR910010098A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は流体流量制御弁の及びその製造方法並びにこ
の制御弁に使用される弁体に関するものである。

（従来の技術）従来の流体流量制御弁としては、第11図に示されるよ
うな構造が知られている。基台部１には流体供給源より
到来する流体が通過する一次側通路２及び流体を送出す
う二次側通路３が形成されている。基台部１の上面中央
部には、弁座４及び弁室壁部５を収納する円筒穴が形成
されている。弁室壁部５の上端部と弁体６の上端部との
間はベローズ７により接続され、流体が上部のピエゾス
タック８へ到らぬように封止している。有蓋円筒状のケ
ース９は、内部にピエゾスタック８を収納する。ケース
９の蓋部に設けられた保持部10によってピエゾスタック
８が保持されている。ピエゾスタック８にはリード線11
a,11bを介して電圧に印加される。ピエゾスタック８
は、ピエゾ素子が積層されたもので、リード線11a,11b
から電圧を与えると図の縦方向に変位し、スペーサ12を
介して弁体６を下方へ押し下げる。弁座４には一次側通
路２に連通する通路及び二次側通路３に連通する通路が
形成され、これら通路の連通部分がＯリング13,14によ
り封止されている。また、弁室壁部５の下端面と基台３
との間には流体の封止及び弁室壁部５と基台３との緩衝
作用を持つリング15が介挿される。弁体６の弁頭16はテ
ーパーとなっており、常態においては弁体６がベローズ
７によって吊り下げられ、ノーマリーオープン型の制御
弁を実現する。このような構成の流体流量制御弁では、
リード線11a,11bを介して印加される電圧の電圧値に応
じて弁頭16と弁座４とによって形成されるオリフィス17
の調整が行われる。上記ピエゾスタック８による変位
は、最大で40ミクロンから50ミクロン程度である。第12
図に上記オリフィス17の近傍の拡大図を示す。このよう
に変位が少ない制御弁では、流量Ｑは、第12図のように
オリフィス17の近傍を示したとき、ギャップと弁座４の
口径Ｄとに比例し、以下の（１）式によって表わされ
る。

ここに、K;定数,g;重力加速度 γ；流体の比重,P₁;一次側圧力 P₂;二次側圧力である。

（発明が解決しようとする課題）従って、流体の流量Ｑを大きくするためには、ギャッ
プｌが弁頭16の変位が僅かであることからギャップｌを
大きくできず、口径Ｄを大きくしなければならない。従
って、弁体の大きさを変える必要があり、これに応じて
制御弁のハウジング全体を変えて、流量の異なる制御弁
を製造しなければならぬことになった。

また、一次側と二次側との圧力差を大きくすること
で、流量を大きくすることも考えられる。しかし、圧力
差が過大になると、弁頭が弁座側に吸引され、流量が逆
に減少し、的確な流量制御を行い得なくなる。

しかも、上記吸引によりアクチュエータに無理な力が
加わる。また、口径Ｄを大とした場合にも一次側より弁
体が受ける圧力が増加し、アクチュエータに無理な力が
加わる。いずれの場合にもアクチュエータとしてピエゾ
スタック等の脆い部材を採用すると、破壊が生じ易いと
いう問題もあった。

更に、特開昭62−204088号公報に示されるように弁体
に流通路を形成し、弁体の下面周縁部に２重に突条を設
けて、この突条間から流通路へ流体を導出して流量の制
御範囲を増大するようにした制御弁も知られている。し
かし、この制御弁においては内突条内の平面の面積を大
とすることで効果を大とするもので、やはり、大流量の
流体制御用とするためには流通路の位置など制御弁の構
成を変えなければならぬものである。

本発明は上記のような流体流量制御弁に関し、流量の
制御範囲を変えるときに生じる制御弁自体の構造の改変
を極力行わずに済ませることを目的とし、一次側と二次
側との差圧が小さくても、弁体の径を大きくすることな
く必要な制御範囲を有する流体流量制御弁を提供し、か
つ、この流体流量制御弁を簡単に製造する方法を提供
し、更に、上記流体流量制御弁に用いられると好適な弁
体を提供する。

（課題を解決するための手段）本発明の流体流量制御弁は、弁室と、この弁室に流体
供給側から流体を導入する一次側通路と、前記弁室から
流体を導出する二次側通路と、前記流体の流量を制御す
る制御力を発生する制御力発生手段と、前記弁室の前記
一次側通路口に形成された弁座と、前記弁室内で前記弁
座に対向配置されるとともに前記制御力発生手段から制
御力を受けて前記弁座との間でオリフィスを形成する弁
体とを備えており、前記弁体と前記弁座とのいずれか一方に、前記一次側
通路と前記二次側通路とを隔絶する隔壁であって、弁座
の周縁部位置から中央部側に対して入り組みながら連続
する閉曲線を描くように立設形成される隔壁を設けられ
ていることを特徴とする。

本発明の流体流量制御弁の製造方法は、流体供給源か
ら一次側通路を介して到来する流体を二次側通路へ送出
する所定形状の弁室に設けられ、前記流体の流量を制御
する制御力を受ける本体部と、この本体部に閉曲線を描
くように立設形成された前記一次側通路と前記二次側通
路とを隔絶する隔壁であって、周縁部側から中央部側に
対して入り組みながら連続する閉曲線を描くように立設
形成されている隔壁とを有する弁体と、この弁体の前記隔壁の端面に対向し、この端面との間
で前記流体の流量に対応する間隙を形成する面を有する
弁座とを有する流体流量制御弁の前記弁体を複数種用意
する。ここに、複数種の弁体は、前記所定形状の弁室に
合致した本体部を有し、隔壁によって描かれる閉曲線の
長さが様々である弁体である。そして、必要とする流量
に応じて前記閉曲線の長さが所要の弁体を選択して、前
記弁室に備えさせて流体流量制御弁を製造するようにし
た。

更に、本発明では、上記製造方法に用いられる弁体と
して、次のような弁体を構成した。

即ち、流体供給源から一次側通路を介して到来する流
体を二次側通路へ送出する所定形状の弁室に設けられ、前記流体の流量を制御する制御力を受ける前記所定形
状の弁室に合致する本体部と、この本体部の所定面に、この所定面の周縁部から内側
へ入り込む部分を有する閉曲線を描くように立設形成さ
れ上記一次側通路と上記二次側通路とを隔絶する隔壁で
あって、周縁部側から中央部側に対して入り組みながら
連続する閉曲線を描くように立設形成されている隔壁と
を有させて弁体を構成した。

更に、本発明では、上記弁体の本体部が同様の構成で
あり、一次側通路と二次側通路を隔絶する隔壁部を、上
記本体部の所定面に、この所定面の周縁部が描く閉曲線
とは異なる形状の閉曲線を描くように立設形成させて、
弁体を構成した。

また、本発明では、上記弁体の本体部が同様の構成で
あり、一次側通路と二次側通路とを隔絶する隔壁部を、
上記本体部の所定面であってこの所定面の周縁部を除く
内側部分に周縁部側から中央部側に対して入り組みなが
ら連続する閉曲線を描くように立設形成させて弁体を構
成した。

（作用）上記の流体流量制御弁によると、弁体または弁座に設
けられた隔壁が入り組んだ形状とされているため、従来
と同じ径を有する弁座を用いた場合には、小さな一次圧
力で大きな流量を制御できる。

また、上記の流体流量制御弁の製造方法では、弁体の
みを変える。ここに、本体部は所定形状の弁室に合致す
るから、制御弁のハウジング等の構造を変える要素とな
り得ない。一方、隔壁が描く閉曲線の長さが変えられる
だけであり、一次側通路と二次側通路とを隔絶する隔壁
を有しているものであるから、制御弁の流体通路の位置
等を変える必要がない。隔壁の長さは、従来の口径Ｄを
実質上大きくするように働く。即ち先の（１）式を変形
すると、となる。この（２）式から、流体の種類、流体圧力及び
ギャップｌを固定すると、隔壁周長Ｓの長短により流量
を変化させることができると理解できる。つまり、弁体
自体の口径Ｄを変えることなく、隔壁周長Ｓが様々な弁
体を作製して、適宜な隔壁周長Ｓを有する弁体を選択す
ることにより、流量制御範囲を大幅に変更することがで
きる。

また、弁体では、上記の隔壁が、周縁部から内側へ
入り込んで立設形成されてる、あるいは、周縁部の形
状と異ならされて立設形成されている、また、周縁部
を除く内側部分に閉曲線を描くように立設形成されてい
る、のいずれかであり、隔壁の長さが様々なものを実現
する。

（実施例）以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第３図に本発明によって製造されたノーマリーオープン
型の流体流量制御弁を示す。基台100には一次側通路10
1,二次側通路102が形成されている。基台100の上部に
は、バルブベース103が例えば、固定ネジ104等の固定手
段によって、基台100に固定されている。バルブベース1
03の内側にはダイヤフラム105が設けられ、ダイヤフラ
ム105と基台100との間はＯリング106によりシールされ
ている。ダイヤフラム105の真下には弁体200が設けられ
ている。この弁体200は、一次側通路101の終端部に形成
されたバネ止め穴に設けられているバネ107によって常
時、上方へ押圧されている。ダイヤフラム105と基台100
の上部とにより囲まれた部分は弁室を構成する。バルブ
ベース103の頭部にはケース108がネジにより固定され
る。ケース108は円筒状をなし、上部には袋ナットから
なる調整ネジ109が螺合されている。ケース108内にはア
クチュエータであるピエゾスタック110が設けられ、上
端と下端とから、それぞれスペーサ111,112により挟ま
れている。スペーサ111の周囲部とケース108の上端部に
はベローズ113により接続され、スペーサ112のフランジ
の下端部とケース108の下端部とはベローズ114により接
続されている。スペーサ112はピエゾスタック110の押圧
力のダイヤフラム105へ伝達する。また、スペーサ111は
調整ネジ109のしめ込み量が多くなるに応じてピエゾス
タック110を下方に位置付けるように働く。従って、調
整ネジ109のしめ込み量を調整し、スペーサ112,ダイヤ
フラム105,弁体200を下方へ移動させることで、オリフ
ィスの初期設定を行うことができる。ケースの周囲中央
部の穴にはハーメチックシール端子115が嵌合され、リ
ード線116がこのハーメチックシール端子115を介してピ
エゾスタック110の端子117に接続されている。従って、
ピエゾスタック110は、ベローズ113,114及びハーメチッ
ク端子115を用いることによって気密なケース108内部に
設けられる。そして、ケース108の周囲下部にはガス封
入を行って封止した端部118が残される。つまり、ピエ
ゾスタック110はピエゾ素子を積層して形成したもので
あり、湿気によって電極の絶縁不良となるため、当初
に、ケース108内部をベークして不活性ガスを端部118の
部分から導入し、端部118で封止する。

かかる構成の流体流量制御弁に用いられる弁体を第４
図に示す。弁体200₁は、ダイヤフラム105と基台100の上
部とによって形成される弁室に入るような円盤状の本体
部201と、この本体部201から下方へ延びるように立設形
成された隔壁202₁とを備える。この隔壁は閉曲線を構成
し、一次側通路101と二次側通路102とを隔絶する。具体
的には、隔壁202₁は本体部201の下面の周縁部に立設さ
れた円環状の部分Ａに対し、同心円状に円環状の部分B,
Cが立設され、各部分Ａ〜Ｃの一部が切欠され、円環の
直径方向に延びるブリッジ部Ｅによって各部分Ａ〜Ｃが
接続されている。円環状の部分Ｃの内部に、一次側通路
101の終端（バネ止め穴）が位置し、円環状の部分Ａの
下側に二次側通路102の始端が位置するように構成され
る。隔壁202₁の端面及びこの端面に対向するベース100
の上部である弁座の面は、ともに鏡面仕上げが施されて
いる。この弁体200₁は制御すべき流体の流量によって異
なるが、例えば差圧が1kg/cm²Gで流量が30SLM程度の場
合、直径2cm、高さが1cmの本体部201₁に対し、隔壁202₁
の高さは１〜2mm程度で実現される。

第５図乃至第７図には弁体の他の構成が示されてい
る。第５図乃至第７図の弁体200₂〜200₄の本体部201は
第４図の弁体200₁と全く等しく、隔壁202₂〜202₄の描く
閉曲線の形状が異なり、従って隔壁の長が異なる。ま
た、一次側通路101の終端が本体201の下面ほぼ中央に位
置することになり、二次側通路102の始端が本体201の外
側に位置することになり、当該隔壁202₂〜202₄が一次側
通路101と二次側通路102とを隔絶する。第５図の弁体20
0₂の隔壁202₂は、本体部201の下面周縁部に沿った円環
状の部分を４等分して切欠し、この切欠部分から小円環
が描かれるようにして閉曲線を作る隔壁としたものであ
る。第５図（ａ）のＩ−Ｉ断面図及びII−II断面図が第
５図（ｂ），第５図（ｃ）に示されている。第６図の弁
体200₃の隔壁202₃は、本体部201の下面周縁部に沿った
第１の円環状の部分と、これと同心円をなす第２、第３
の円環状の部分とを有し、第１と第３の円環状の部分を
４等分に切欠し、第２の円環状の部分を８等分に切欠
し、この切欠された部分を直径方向に延びるブリッジ部
で接続し、閉曲線が描かれるようにした。第６図（ａ）
のIII−III断面図及びIV−IV断面図が第６図（ｂ）、第
６図（ｃ）に示されている。第７図の弁体200₄は、第４
図の弁体200₃とほぼ等しい隔壁202₄を有する。ただ、円
環状の部分Ｂから部分Ｃへ到るブリッジ部に円弧を接続
した張出部204が形成されている点が異なるだけであ
る。第７図（ａ）のＶ−Ｖ断面図、VI−VI断面図及びVI
I方向からの矢視図が、それぞれ、第７図（ｂ），第７
図（ｃ）、第７図（ｃ）に示されている。

以上のように隔壁が描く閉曲線の長さが異なる弁体20
0₁〜200₄を複数種作成しておき、流量の制御範囲に応じ
て必要な隔壁の長さを有する弁体200を選択して、第３
図に示した流体流量制御弁に備えさせて当該制御弁を製
造する。このようにして製造された制御弁は、弁体200
のみが異なる。特に、隔壁202の長さが異なる。ここ
で、流体は一次側通路101から到来して弁体200の本体部
201の下面中央部へ到り、隔壁202を越えて二次側通路10
2へ到る。このとき、隔壁202の長さが長ければ長いほど
流体が越え得る範囲が長くなり、弁体200の口径が同じ
であっても流れる流体の量が大となる。もちろん、かか
る作用はオリフィスのギャップが第12図で説明したよう
に、最大で数十ミクロンの範囲において顕著である。

第１図、第２図に本発明の一実施例に係る流体流量制
御弁の製造方法の説明図を示す。ここで用いる流体流量
制御弁は第４図に示した弁とほぼ同様であるが、弁室内
が大きく、弁室の構成のみが異なる。このため、第１
図、第２図には必要部分のみを示す。基台100の一次側
通路101の終端に形成されたバネ止め穴に、このバネ止
め穴の内径と同じ外径を有する円筒状の弁座ガイド121
が嵌入されている。弁座122は、中央に一次側通路101に
連通する穴であって、下方において弁座ガイド121に嵌
合する穴を有する。弁体200₅の隔壁202₅の端面に対向す
る弁座122の面も鏡面仕上げとなっている。弁体200₅は
第４図及び第２図に示される弁体200₁と同径同高を有す
る本体部201と、本体部201の下面中央部に円環状の隔壁
202₅とを有する。本体部201の下面中央部には２ケ所が
切欠された円環状のバネガイド203が立設形成されてい
る。バネガイド203と弁座ガイド121との間にはコイルバ
ネ123が介装され、ノーマリーオープン型の制御弁が構
成される。上記のような弁体200₅を弁室に備えさせるこ
とにより、流体の供給源から一次側通路101、弁座ガイ
ド121の内部及び弁座122の穴を介して到来する流体は、
弁体200₅の隔壁内部に到り、バネガイド203の切欠部分
を通り隔壁202₅の端部を越えて、弁体200₅及び弁座122
の外周の弁室空隙を介して、二次側通路102へ流れる。
上記弁体200₅の隔壁202₅はその長さが短く、第12図にお
ける口径Ｄを小さくした場合に相当することが理解され
る。

このような従来周知の制御弁に対し、大流量で流体を
流すことが要求される制御弁を製造する場合には、第２
図に示すように、第１図の弁体200₅を第４図に示した弁
体200₁に代える。コイルバネ123は隔壁202₁の円環状の
部分Ｃに介装される。このようにして製造された制御弁
では、流体の供給源から送られた流体は、一次側通路10
1、弁座ガイド121の内部及び弁座122の穴を介して弁体2
00₁の隔壁202₁の内部へ到る。そして、流体は隔壁202₁
の端部を越えて弁体200₁及び弁座122の外周の弁室空隙
を介して二次側通路102へ流出する。この弁体200₁は弁
体200₅よりはるかに隔壁202₁の長さが長く、この隔壁20
2₁の全ての部分を越えて流体が二次側通路102へ流出す
る。従って、流体が隔壁を越える範囲が長くなっただ
け、大きな流量となる。なお、第１図（ｂ）、第２図
（ｂ）は弁体200₅、弁体200₁の底面図を示している。

第８図には、熱膨張方式のアクチュエータを用いたノ
ーマリーオープン型の流体流量制御弁を本発明の弁体20
0を採用して製造した構成が示されている。同図におい
て、第３図の構成要素と同一構成要素には同一符号を付
しその説明を省略する。基台100の上面にはダイヤフラ
ム301が設けられ、ダイヤフラム301の上にバルブベース
302が積層されている。ダイヤフラム302及びバルブベー
ス302は基台100に固定ネジ104によって固定されてい
る。バルブベース103の頭部にはケース303を立設する穴
が形成され、ケース303がネジにより固定される。ケー
ス303は円筒状をなし、上部にはナットからなるロック
ネジ304が螺合されている。ケース303内にはアクチュエ
ータ305が設けられている。アクチュエータ305は、第９
図に示されるように、熱膨張する棒体306にヒーター線3
07が巻回され、下端にスペーサ308が設けられ、上端に
調整ネジ体309が設けられた構成となっている。棒体306
とスペーサ308、調整ネジ体309とは溶接部310,311の部
分で溶接され固定されている。リード線312は調整ネジ
体309内を介して棒体306上の溶接部313で溶接され、ヒ
ーター線307と接続されている。

このような構成の制御弁を製造するに当っても、第１
図、第２図を用いて説明したように、弁体200のみを交
換して、所望の流量の制御弁を提供するようにする。か
かる熱膨張方式の制御弁では、リード線312を介して電
圧を印加することにより、ヒーター線307が発熱し、棒
体306が熱膨張する。このため、スペーサ308がダイヤフ
ラム301を押下げ弁体200が押下げられる。この結果、弁
体200の隔壁端面とこれに対向する基台100上の弁座部分
との間隙が狭くなり、オリフィスの調整がなされる。従
って、必要な流量に応じて印加する電圧を変えればよ
い。なお、オリフィスの初期設定は調整ネジ体309のネ
ジ込み量により調整する。

第10図には本発明の他の実施例に係る流体流体制御弁
要部構成図を示す。この実施例は第10図（ａ）に第３図
と同一の符号が付されて示された第３図と同一の構成を
多く有するため、異なる構成部分を説明する。一次側通
路101Aと二次側通路102Aとが形成された基台100A上にリ
ング状の結合体151が設けられ、更に、この結合体151の
上にバルブベース103Aが載置され、これらが固定ネジ10
4によって固定されている。弁体200₁は第４図に示され
たと同じ弁体であり、この弁体200₁の上部外端縁部と結
合体151が上部内端縁部との間に第10図（ａ）に平面図
が示される如き中央部に穴153が形成されたリング状の
ダイヤフラム152が溶接により固定されている。このダ
イヤフラム152は縁環部の中央が突部154とされており、
弁体200₁を弾性を有した状態で保持している。一方、弁
体200₁の隔壁の所定の部分には板バネ155が介装され、
弁座156に抗して板バネ155は弁体200₁を上方向へ持ち上
げ、ノーマリーオープン型の流体流量制御弁を実現して
いる。ダイヤフラム152の中央部が穴153となっているた
め、ピエゾスタック110の変位によりスペーサ112が直接
に弁体200₁を下方へ押し下げることになる。従って、弁
体211₁がダイヤフラムにより間接的に制御力発生手段で
あるピエゾスタック110等の制御力を受ける第３図に示
された構成でなくとも、この第10図に示されたようなダ
イヤフラム152を介することなく直接に制御力を受ける
構成であっても、本発明に係る流体流量制御弁を提供で
きることが判る。

以上の実施例では、アクチュエータをピエゾスタック
を用いた場合と熱膨張方式として説明したが、そのほ
か、電磁方式や磁歪素子を用いたものであってもよい。
また、制御弁の型式もノーマリーオープン型のほかノー
マリークローズ型であってもよい。更に、弁体に立設形
成される隔壁によって描かれる閉曲線の形状は多角形や
星形、または花弁状など様々な形状とできる。

なお、本発明の弁体における隔壁の長さは長ければ長
い程、流量を大とできるのであるが、隔壁の間隔−例え
ば、第４図の円環状の部分Ｂと部分Ｃとの間隔−が、弁
体と弁座とのギャップに、より小さくなると（一般的に
はギャップが数十ミクロンであるから、このようなこと
は起こり得ないが）、隔壁を長くした効果が現われなく
なると考れられる。

また、本実施例の流体流量制御弁では、弁体側に隔壁
を設けたが、弁座に実施例で説明したような隔壁を設
け、弁体の対向する面を平坦にして一次側通路と二次側
通路とを隔絶するように構成しても良い。

［発明の効果］以上説明したように本願発明に係る流体流量制御弁
は、隔壁が周縁部側から中央部側に対して入り組みなが
ら連続する閉曲線を描くように立設形成されていること
によ、湾曲した曲線状の隔壁であり、単に円を描くよう
に隔壁を形成した場合に比べ、隔壁の長さを長くでき、
長さの長い隔壁を越えて流出する流量が大きくなる。つ
まり、弁体または弁座の径が同じであっても、大流量の
流体流量制御弁を構築できるという効果がある。

また、本願発明に係る流体流量制御弁の製造方法は、
外形や径等の基本的な形状が同じであるが、上記隔壁の
長さの異なる弁体を用意して、所望の流量を制御する流
体流量制御弁を容易に製造でき、弁室の大きさ（特に
径）の異なる流体流量制御弁自体を数多く用意する必要
がなくなる。つまり、部品としての弁体の交換により様
々な流量を制御する流体流量制御弁を容易に製造できる
効果を奏する。

更に、本願発明に係る弁体は、流体流量制御弁の本体
側の形状を変えることなく、隔壁の長さの長いものによ
り、大流量の流体流量制御弁を構築できるという効果が
ある。また、様々な流量を制御する流体流量制御弁を構
成する部品として便利なものである。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図は本発明に係る流体流量制御弁の製造方
法により流体流量制御弁を製造する過程を示し、第１図
は従来例に係る弁体を用いて構成された流体流量制御弁
の構成図、第２図は第１図の従来例に係る弁体を本発明
の実施例の弁体に代えた後の流体流量制御弁の構成図、
第３図、第８図は本発明の弁体を用いて構成した流体流
量制御弁の構成の一実施例を示す断面図、第４図乃至第
７図は本発明の弁体の構成図、第９図は第８図に示され
た流体流量制御弁の要部の斜視図、第10図は本発明の他
の実施例の構成図、第11図は従来の流体流量制御弁の構
成を示す断面図、第12図は流体流量制御弁による流量制
御の原理を説明するための図である。 100……基台 101……一次側通路 102……二次側通路 105,301……ダイヤフラム 200,200₁〜200₅……弁体 201……本体部 202₁〜202₅……隔壁 121……弁座ガイド 122……弁座 123……コイルバネ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】弁室と、この弁室に流体供給側から流体を
導入する一次側通路と、前記弁室から流体を導出する二
次側通路と、前記流体の流量を制御する制御力を発生す
る制御力発生手段と、前記弁室の前記一次側通路口に形
成された弁座と、前記弁室内で前記弁座に対向配置され
るとともに前記制御力発生手段から制御力を受けて前記
弁座との間でオリフィスを形成する弁体とを備えた流体
流量制御弁であって、前記弁体と前記弁座とのいずれか一方に、前記一次側通
路と前記二次側通路とを隔絶する隔壁であって、弁座の
周縁部位置から中央部側に対して入り組みながら連続す
る閉曲線を描くように立設形成される隔壁を設けたこと
を特徴とする流体流量制御弁。
【請求項２】流体供給源から一次側通路を介して到来す
る流体を二次側通路へ送出する所定形状の弁室に設けら
れ、前記流体の流量を制御する制御力を受ける本体部
と、この本体部に閉曲線を描くように立設形成され前記
一次側通路と前記二次側通路とを隔絶する隔壁とを有す
る弁体と、この弁体の前記隔壁の端面に対向し、この端面との間で
前記流体の流量に対応する間隔を形成する面を有する弁
座とを備える流体流量制御弁の製造方法であって、前記所定形状の弁室に合致した本体部と、小流量から大
流量までの流量制御に応じて描かれた閉曲線の長さが異
なる隔壁であって、周縁部側から中央部側に対して入り
組みながら連続する閉曲線を描くように立設形成されて
いる隔壁とを有する弁体を複数用意し、必要とする流量
に応じて前記閉曲線の長さが所要の弁体を選択して前記
弁室内に設けることを特徴とする流体流量制御弁の製造
方法。
【請求項３】流体供給源から一次側通路を介して到来す
る流体を二次側通路へ送出する所定形状の弁室内に設け
られる弁体であって、この所定形状の弁室に合致する形状を有し、前記流体の
流量を調整する制御力を受ける本体部と、この本体部の弁座に対向した面に、当該面の周縁部から
中央へ入り組む部分を有した連続する閉曲線を描くよう
に立設形成され、前記一次側通路と前記二次側通路とを
前記弁座に接したとき隔絶する隔壁とを有する弁体。
【請求項４】流体供給源から一次側通路を介して到来す
る流体を二次側通路へ送出する所定形状の弁室内に設け
られる弁体であって、この所定形状の弁室に合致する形状を有し、前記流体の
流量を調整する制御力を受ける本体部と、この本体部の弁座に対向した面に、当該面の周縁部が描
く閉曲線とは異なる形状の連続する閉曲線を描くように
立設形成され、前記一次側通路と前記二次側通路とを前
記弁座に接したとき隔絶する隔壁とを有する弁体。
【請求項５】流体供給源から一次側通路を介して到来す
る流体を二次側通路へ送出する所定形状の弁室内に設け
られる弁体であって、この所定形状の弁室に合致する形状を有し、前記流体の
流量を調整する制御力を受ける本体部と、この本体部の弁座に対向した面であって、当該面の周縁
部を除く内側部分に周縁部側から中央部側に対して入り
組みながら連続する閉曲線を描くように立設形成され、
前記一次側通路と前記二次側通路とを前記弁座に接した
とき隔絶する隔壁とを有する弁体。