JP2565413B2 - 塗布方法及び装置 - Google Patents
塗布方法及び装置Info
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- JP2565413B2 JP2565413B2 JP2096284A JP9628490A JP2565413B2 JP 2565413 B2 JP2565413 B2 JP 2565413B2 JP 2096284 A JP2096284 A JP 2096284A JP 9628490 A JP9628490 A JP 9628490A JP 2565413 B2 JP2565413 B2 JP 2565413B2
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- coating
- flow rate
- extruder
- control valve
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は塗布方法及び装置に関し、特に、長尺幅広の
支持体に磁性液を塗布する塗布型磁気記録媒体の製造時
の塗布方法及び装置に関するものである。
支持体に磁性液を塗布する塗布型磁気記録媒体の製造時
の塗布方法及び装置に関するものである。
（従来技術） 本発明で言う塗布型磁気記録媒体とは、非磁性かつ可
撓性の帯状支持体（以下、「ウエブ」と称する。）を所
定の走行路に沿って連続的に移送させながら、該ウエブ
の表面に目的に応じた塗布液を所望する厚さに塗着、乾
燥してなるものであり、イオンプレーティング、スパッ
タリング、真空蒸着等の方式による、所謂、非塗布型磁
気記録媒体とはその製造プロセスを著しく異にするもの
である。
撓性の帯状支持体（以下、「ウエブ」と称する。）を所
定の走行路に沿って連続的に移送させながら、該ウエブ
の表面に目的に応じた塗布液を所望する厚さに塗着、乾
燥してなるものであり、イオンプレーティング、スパッ
タリング、真空蒸着等の方式による、所謂、非塗布型磁
気記録媒体とはその製造プロセスを著しく異にするもの
である。
オーディオ、ビデオあるいはデーター系の磁気記録媒
体の大部分は、依然として前記塗布型のものが多く生
産、販売され、それらは一般にグラビヤ、リバースロー
ル、ドクターブレード等も用いられるが、特に、他の製
造方法に比べて製品の安定性や廉価なことからエクスト
ルージョン型の塗布方法が多用されている。
体の大部分は、依然として前記塗布型のものが多く生
産、販売され、それらは一般にグラビヤ、リバースロー
ル、ドクターブレード等も用いられるが、特に、他の製
造方法に比べて製品の安定性や廉価なことからエクスト
ルージョン型の塗布方法が多用されている。
前記エクストルージョン型の塗布方法においては、製
品の得率を高めるために、例えば、特開昭62−117669号
公報に開示されているように、エクストルーダの直前に
塗布液の流路を切り替えて塗布液貯蔵タンクに該塗布液
を還流させることの出来る切替弁を設け、塗布開始前に
予め前記エクストルーダに塗布液を満たしてから、切替
弁の操作にて前記塗布液貯蔵タンクに塗布時の条件に近
似した条件にて所定量の塗布液を還流させておき、前記
切替弁の適宜操作にて前記エクストルーダに塗布液の送
液を開始或いは再開することで塗布工程を行うようにし
た。
品の得率を高めるために、例えば、特開昭62−117669号
公報に開示されているように、エクストルーダの直前に
塗布液の流路を切り替えて塗布液貯蔵タンクに該塗布液
を還流させることの出来る切替弁を設け、塗布開始前に
予め前記エクストルーダに塗布液を満たしてから、切替
弁の操作にて前記塗布液貯蔵タンクに塗布時の条件に近
似した条件にて所定量の塗布液を還流させておき、前記
切替弁の適宜操作にて前記エクストルーダに塗布液の送
液を開始或いは再開することで塗布工程を行うようにし
た。
このように塗布を行うことにより、走行する支持体へ
の塗布に際し、塗布開始時、支持体と支持体との接合部
がエクストルーダを通過する際、更には何らかの故障で
塗布を一旦停止し再度開始すりとき等の場合において、
比較的短時間で正規の塗布量にすることができ、製品と
ならない部分を減らし得率を向上させることができた。
の塗布に際し、塗布開始時、支持体と支持体との接合部
がエクストルーダを通過する際、更には何らかの故障で
塗布を一旦停止し再度開始すりとき等の場合において、
比較的短時間で正規の塗布量にすることができ、製品と
ならない部分を減らし得率を向上させることができた。
しかしながら、前記公報の塗布方法も含め従来の塗布
方法では、より高い品質の要求を満足させると共に増産
等の要請によりその塗布速度を大幅に上昇させることが
困難であった。
方法では、より高い品質の要求を満足させると共に増産
等の要請によりその塗布速度を大幅に上昇させることが
困難であった。
塗布速度の高速化を困難にしている要因には種々ある
が、主として、前記支持体の厚さが極めて薄いことと、
各塗布液の内、特に、強磁性層用の塗布液が電磁変換特
性に大きな影響を与える揺変性、所謂、チキソトロピッ
クな性質を有していること、等が挙げられる。そして、
前記強磁性層用の塗布液の流路に停滞個所が比較的多く
構成されている塗布方式では、前記揺変性による異常な
粘度上昇や凝集が発生し易く、その結果、前記強磁性層
の電磁変換特性、等が大きく変動することがあった。
が、主として、前記支持体の厚さが極めて薄いことと、
各塗布液の内、特に、強磁性層用の塗布液が電磁変換特
性に大きな影響を与える揺変性、所謂、チキソトロピッ
クな性質を有していること、等が挙げられる。そして、
前記強磁性層用の塗布液の流路に停滞個所が比較的多く
構成されている塗布方式では、前記揺変性による異常な
粘度上昇や凝集が発生し易く、その結果、前記強磁性層
の電磁変換特性、等が大きく変動することがあった。
前記問題は従来より用いられているエクストルージョ
ン型塗布装置において、エクストルーダのスリット（吐
出口）から吐出される塗布液量を絞るに従いエクストル
ーダの液溜りに給液する供給口とは反対側寄りにおいて
液凝集が生じ易くなり、この液凝集に起因して塗布層の
縦スジが多発し、反対に給液量を増して行くと前記縦ス
ジは減少する傾向にあるが塗布層の色ムラ（厚みムラ）
が塗布幅全域に広がる傾向があった。さらに、前記色ム
ラや縦スジの発生原因については、前記液溜めエクスト
ルーダ長手方向の流速が前記揺変性を大きく支配してい
ること、具体的には、比較的流速が大なる給液側近傍の
塗布液は剪断作用を受けて粘度が下り易く、色ムラの発
生原因となり、又、流速が略零まで下る反給液側の塗布
液は凝集し易く、縦スジの発生原因となるものと判断さ
れている。
ン型塗布装置において、エクストルーダのスリット（吐
出口）から吐出される塗布液量を絞るに従いエクストル
ーダの液溜りに給液する供給口とは反対側寄りにおいて
液凝集が生じ易くなり、この液凝集に起因して塗布層の
縦スジが多発し、反対に給液量を増して行くと前記縦ス
ジは減少する傾向にあるが塗布層の色ムラ（厚みムラ）
が塗布幅全域に広がる傾向があった。さらに、前記色ム
ラや縦スジの発生原因については、前記液溜めエクスト
ルーダ長手方向の流速が前記揺変性を大きく支配してい
ること、具体的には、比較的流速が大なる給液側近傍の
塗布液は剪断作用を受けて粘度が下り易く、色ムラの発
生原因となり、又、流速が略零まで下る反給液側の塗布
液は凝集し易く、縦スジの発生原因となるものと判断さ
れている。
このような解析の結果を基に、本発明者らは、先に特
開平１−236968号公報に示すような塗布方法を提案し
た。これは、連続的に移動している可撓性帯状支持体の
表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を連続的
に排出することにより前記支持体の表面に前記塗布液の
薄膜を層設する塗布方法において、前記スリットに連通
するエクストルーダの液溜りに前記塗布液を前記支持体
上の塗着量よりも多く供給するとともに、前記液溜り内
の塗布液の一部を前記液溜りの給液位置から前記支持体
の幅方向に最も離れた位置又はその近傍の排出口より外
部排出手段にて強制的に抜き取るようにした塗布方法で
ある。
開平１−236968号公報に示すような塗布方法を提案し
た。これは、連続的に移動している可撓性帯状支持体の
表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を連続的
に排出することにより前記支持体の表面に前記塗布液の
薄膜を層設する塗布方法において、前記スリットに連通
するエクストルーダの液溜りに前記塗布液を前記支持体
上の塗着量よりも多く供給するとともに、前記液溜り内
の塗布液の一部を前記液溜りの給液位置から前記支持体
の幅方向に最も離れた位置又はその近傍の排出口より外
部排出手段にて強制的に抜き取るようにした塗布方法で
ある。
前記特開平１−236968号公報に示した方法によれば、
例えば、塗布量と流出量（排出口からの流出量）の設定
の困難さ、すなわち、エクストルーダの形状や送液系、
塗布液の物性などの諸条件によって塗布量ならびに流出
量の設定が制限を受けるために、色ムラ、縦スジを少な
くするために行う流出量の調節範囲が狭い為に設定が困
難である等の問題が解決され、強磁性層の電磁変換特性
の向上を図ることができた。
例えば、塗布量と流出量（排出口からの流出量）の設定
の困難さ、すなわち、エクストルーダの形状や送液系、
塗布液の物性などの諸条件によって塗布量ならびに流出
量の設定が制限を受けるために、色ムラ、縦スジを少な
くするために行う流出量の調節範囲が狭い為に設定が困
難である等の問題が解決され、強磁性層の電磁変換特性
の向上を図ることができた。
（解決しようとする課題） 上述したように、従来においては得率を向上させるこ
とと、品質向上とは別々の解決方にて達成されていた。
そこで、本発明者らは前記２つの塗布方法を組み合わせ
て両方の効果を同時に期待できる方法を特願平１−6227
4号明細書に示した。この特願平１−62274号明細書に示
した方法により、塗布時における得率が高く生産性に優
れ、更に色ムラや縦スジの発生を効果的に抑制された電
磁変換特性にすぐれた高品質な磁気記録媒体を安定製造
することができた。
とと、品質向上とは別々の解決方にて達成されていた。
そこで、本発明者らは前記２つの塗布方法を組み合わせ
て両方の効果を同時に期待できる方法を特願平１−6227
4号明細書に示した。この特願平１−62274号明細書に示
した方法により、塗布時における得率が高く生産性に優
れ、更に色ムラや縦スジの発生を効果的に抑制された電
磁変換特性にすぐれた高品質な磁気記録媒体を安定製造
することができた。
このような状況下において、非塗布型の記録媒体に対
する競争力を高める上でも、この塗布型磁気記録媒体の
品質向上及び生産性の向上が求められてきており、前記
得願平１−62274号明細書に示した方法以上に優れた技
術が切望されていた。すなわち、前記特願平１−62274
号明細書に提案された方法によっても、エクストルーダ
を替えた場合には、塗布条件の最適化が困難なことがあ
り、製造品の種類に対する塗布設備の汎用性にはまだ課
題が残されていた。
する競争力を高める上でも、この塗布型磁気記録媒体の
品質向上及び生産性の向上が求められてきており、前記
得願平１−62274号明細書に示した方法以上に優れた技
術が切望されていた。すなわち、前記特願平１−62274
号明細書に提案された方法によっても、エクストルーダ
を替えた場合には、塗布条件の最適化が困難なことがあ
り、製造品の種類に対する塗布設備の汎用性にはまだ課
題が残されていた。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、塗布
ヘッドを変更した場合でも、得率が高く、且つ生産性に
優れ、合わせて色ムラや縦スジの発生抑止を極めて的確
にでき、該縦スジ等の発生抑止条件が従来以上に広範囲
の製造条件下に適用でき電磁変換特性にすぐれた高品質
な磁気記録媒体を安定製造できる塗布液の塗布方法及び
装置を提供することを目的とする。
ヘッドを変更した場合でも、得率が高く、且つ生産性に
優れ、合わせて色ムラや縦スジの発生抑止を極めて的確
にでき、該縦スジ等の発生抑止条件が従来以上に広範囲
の製造条件下に適用でき電磁変換特性にすぐれた高品質
な磁気記録媒体を安定製造できる塗布液の塗布方法及び
装置を提供することを目的とする。
（課題を解決するために手段） 本発明の係る目的は、連続的に移動している可撓性帯
状の支持体の表面に対向せしめたスリット先端部から塗
布液を連続的に排出することにより前記支持体の表面に
前記塗布液の薄膜を層設する塗布方法において、前記ス
リットに連通するエクストルーダの液溜めに、送液手段
により前記塗布液を前記支持体上の塗着量よりも過剰量
供給すると共に、前記液溜め内の塗布液の一部を前記塗
布液の給液位置から前記支持体の幅方向に最も離れた位
置又はその近傍の排出口から排液手段により強制的に抜
き取り可能にし、更に、前記エクストルーダの直前及び
直後の切替弁を介して繋がったバイパス系及び該バイパ
ス系から分岐した還流系を形成し、且つ前記バイパス系
及び前記還流系に各々流量調節弁を設け、塗布開始前に
予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたのち、前記
送液手段及び前記排液手段を運転状態に保ち、前記バイ
パス系の流量調節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条
件にて送液しておき、前記送液手段により液圧をみなが
ら前記還流系の流量調節弁を仮設定した後に、前記バイ
パス系の液圧をみながら該バイパス系の流量調節弁を微
調節し、その後再び前記還流系側の液圧をみながら該還
流系の流量調節弁を微調節してから、前記切替弁を切り
替えて前記塗布液を前記エクストルーダに送液して塗布
を開始することを特徴とする塗布方法、又は、塗布開始
前に予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたのち、
前記送液手段及び前記排液手段を運転状態に保ち、前記
還流系の流量調節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条
件にて送液しておき、前記バイパス系の液圧をみながら
該バイパス系の流量調節弁を仮設定した後に、前記還流
系の液圧をみながら該還流系の流量調節弁を微調節し、
その後再び前記バイパス系の液圧をみながら該バイパス
系の流量調節弁を微調節してから、前記切替弁を切り替
えて前記塗布液を前記エクストルーダに送液して塗布を
開始することを特徴とする塗布方法により達成でき、更
に、前記バイパス系及び前記還流系には前記塗布液の流
量を変えられる流量調節弁と夫々の系の液圧を測定可能
な圧力計とが夫々設けられたことを特徴とする塗布装置
により達成される。
状の支持体の表面に対向せしめたスリット先端部から塗
布液を連続的に排出することにより前記支持体の表面に
前記塗布液の薄膜を層設する塗布方法において、前記ス
リットに連通するエクストルーダの液溜めに、送液手段
により前記塗布液を前記支持体上の塗着量よりも過剰量
供給すると共に、前記液溜め内の塗布液の一部を前記塗
布液の給液位置から前記支持体の幅方向に最も離れた位
置又はその近傍の排出口から排液手段により強制的に抜
き取り可能にし、更に、前記エクストルーダの直前及び
直後の切替弁を介して繋がったバイパス系及び該バイパ
ス系から分岐した還流系を形成し、且つ前記バイパス系
及び前記還流系に各々流量調節弁を設け、塗布開始前に
予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたのち、前記
送液手段及び前記排液手段を運転状態に保ち、前記バイ
パス系の流量調節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条
件にて送液しておき、前記送液手段により液圧をみなが
ら前記還流系の流量調節弁を仮設定した後に、前記バイ
パス系の液圧をみながら該バイパス系の流量調節弁を微
調節し、その後再び前記還流系側の液圧をみながら該還
流系の流量調節弁を微調節してから、前記切替弁を切り
替えて前記塗布液を前記エクストルーダに送液して塗布
を開始することを特徴とする塗布方法、又は、塗布開始
前に予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたのち、
前記送液手段及び前記排液手段を運転状態に保ち、前記
還流系の流量調節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条
件にて送液しておき、前記バイパス系の液圧をみながら
該バイパス系の流量調節弁を仮設定した後に、前記還流
系の液圧をみながら該還流系の流量調節弁を微調節し、
その後再び前記バイパス系の液圧をみながら該バイパス
系の流量調節弁を微調節してから、前記切替弁を切り替
えて前記塗布液を前記エクストルーダに送液して塗布を
開始することを特徴とする塗布方法により達成でき、更
に、前記バイパス系及び前記還流系には前記塗布液の流
量を変えられる流量調節弁と夫々の系の液圧を測定可能
な圧力計とが夫々設けられたことを特徴とする塗布装置
により達成される。
以下、添付した図面に基づいて本発明の実施態様を説
明する。
明する。
第１図は第２図、第３図及び第４図に示すエクストル
ーダを用いた本発明装置の一実施態様の概略図を示す。
ーダを用いた本発明装置の一実施態様の概略図を示す。
初めに、第２図及び第３図に示した本発明を実施する
ためのエクストルーダの構造ならびに作用について説明
する。前記エクストルーダ40はその先端部分がパスロー
ル間に架け渡され支持されて一定速度で移送される支持
体４の表面にに直接接触するように対設し、塗着した前
記塗布液３の液圧により前記支持体４を前記スリット２
の先端部から若干離脱せしめるように塗布するものであ
る。そして、塗布工程時においては前記支持体４の表面
に対する塗着量Q1よりも多い供給量Q0を送液手段である
送液ポンプP1でもって、給液管路30を介し給液ノズル12
から塗布液３が幅方向に傾きをもった液溜め10内に連続
して給液され、その液圧分布が前記支持体４の幅方向に
ほぼ均一化されながら、その一部は前記給液ノズル12か
ら前記支持体４の幅方向に最も離れた位置、即ち前記液
溜め10の他方端に取付けた排液ノズル41から器外に、外
部排液手段である引抜ポンプP2により前記液溜め10内の
過剰塗布液を強制的に抜き取るようになされる。
ためのエクストルーダの構造ならびに作用について説明
する。前記エクストルーダ40はその先端部分がパスロー
ル間に架け渡され支持されて一定速度で移送される支持
体４の表面にに直接接触するように対設し、塗着した前
記塗布液３の液圧により前記支持体４を前記スリット２
の先端部から若干離脱せしめるように塗布するものであ
る。そして、塗布工程時においては前記支持体４の表面
に対する塗着量Q1よりも多い供給量Q0を送液手段である
送液ポンプP1でもって、給液管路30を介し給液ノズル12
から塗布液３が幅方向に傾きをもった液溜め10内に連続
して給液され、その液圧分布が前記支持体４の幅方向に
ほぼ均一化されながら、その一部は前記給液ノズル12か
ら前記支持体４の幅方向に最も離れた位置、即ち前記液
溜め10の他方端に取付けた排液ノズル41から器外に、外
部排液手段である引抜ポンプP2により前記液溜め10内の
過剰塗布液を強制的に抜き取るようになされる。
第４図におけるエクストルーダ60は、第２図及び第３
図におけるエクストルーダ40と比べ、給液ノズル62の位
置と液溜め61の形状が若干異なるものである。
図におけるエクストルーダ40と比べ、給液ノズル62の位
置と液溜め61の形状が若干異なるものである。
前記エクストルーダ60は前記給液ノズル62がほぼ中央
に位置した、所謂、中央供給方式型であり、前述した片
側供給方式の前記エクストルーダ40よりも前記縦スジや
色ムラが発生し難いものであるが、前記塗布液３の物性
によって、前記舟底型の液溜り61の両端部近傍と中央部
で前述した電磁変換特性のバラツキをもたらす縦スジや
色ムラが発生しやすい傾向にあるが、前記液溜り61の両
端部に夫々排液ノズル63、64を取付け、前述した如く前
記塗布液３の一部を強制的に抜き取るように流出せしめ
ることにより、幅方向に均一な品質の塗膜を得ることが
できる。
に位置した、所謂、中央供給方式型であり、前述した片
側供給方式の前記エクストルーダ40よりも前記縦スジや
色ムラが発生し難いものであるが、前記塗布液３の物性
によって、前記舟底型の液溜り61の両端部近傍と中央部
で前述した電磁変換特性のバラツキをもたらす縦スジや
色ムラが発生しやすい傾向にあるが、前記液溜り61の両
端部に夫々排液ノズル63、64を取付け、前述した如く前
記塗布液３の一部を強制的に抜き取るように流出せしめ
ることにより、幅方向に均一な品質の塗膜を得ることが
できる。
なお、前記排液ノズル41、63、64は前記液溜め10、61
の端部に限らず、その近傍のエクストルーダーブロック
に流路を透設しても良い。
の端部に限らず、その近傍のエクストルーダーブロック
に流路を透設しても良い。
なお、第３図においては、前記エクストルーダ40を上
向きに設けたものを図示したが、必要に応じ前記エクス
トルーダ40、60は垂直下向きに前記支持体４に対向せし
めることも可能であることは勿論である。
向きに設けたものを図示したが、必要に応じ前記エクス
トルーダ40、60は垂直下向きに前記支持体４に対向せし
めることも可能であることは勿論である。
更に、前記エクストルーダ40、60はそのスリット２の
先端部を第３図の想像線にて示すバッキングロール７に
対向した位置に設置することもでき、この場合、前記エ
クストルーダ40、60はバッキングロール７により支持さ
れて一定速度で移送される支持体４の表面に対し、下方
より僅少の間隙（通常、２〜5mm）をもってスリット２
の先端部を垂直に対向させるように設置される。
先端部を第３図の想像線にて示すバッキングロール７に
対向した位置に設置することもでき、この場合、前記エ
クストルーダ40、60はバッキングロール７により支持さ
れて一定速度で移送される支持体４の表面に対し、下方
より僅少の間隙（通常、２〜5mm）をもってスリット２
の先端部を垂直に対向させるように設置される。
上記のように構成された前記エクストルーダ40、60を
用いた本実施態様を第１図を参照しつつ説明する。
用いた本実施態様を第１図を参照しつつ説明する。
前記塗布液３を貯蔵したストックタンク20から送液ポ
ンプP1により前記エクストルーダ40（60）方向に送り出
すことができる。なお、前記送液ポンプP1による送液系
の液圧は、第１圧力計55により測定される。前記塗布液
３の経路は、前記エクストルーダ40の直前に設置された
第１の切替弁である三方コックC1により、本路50とバイ
パス管路32（バイパス系）とに適宜経路が切り替えられ
る。なお、前記バイパス管路32にはその途中から分岐し
て前記塗布液３を前記ストックタンク20に戻すことので
きる還流管路33（還流系）が設けられており、更に、還
流管路33には流量を調整できる調節弁V1が設置されてい
る。
ンプP1により前記エクストルーダ40（60）方向に送り出
すことができる。なお、前記送液ポンプP1による送液系
の液圧は、第１圧力計55により測定される。前記塗布液
３の経路は、前記エクストルーダ40の直前に設置された
第１の切替弁である三方コックC1により、本路50とバイ
パス管路32（バイパス系）とに適宜経路が切り替えられ
る。なお、前記バイパス管路32にはその途中から分岐し
て前記塗布液３を前記ストックタンク20に戻すことので
きる還流管路33（還流系）が設けられており、更に、還
流管路33には流量を調整できる調節弁V1が設置されてい
る。
前記エクストルーダ40（60）の直後で且つ前記引抜ポ
ンプP2の上流側には、前記三方コックC1とほぼ同期動作
する第２の切替弁である三方コックC2が設けられてい
る。前記三方コックC2と前記引抜ポンプP2との間には第
２圧力計56が設置されており、該第２圧力計56により塗
布時の圧力或いはバイパス系の圧力を測定することがで
きる。なお、前記引抜ポンプP2にて引き抜かれた前記塗
布液３は、最終還流路31を経て再び前記ストックタンク
20に戻される。
ンプP2の上流側には、前記三方コックC1とほぼ同期動作
する第２の切替弁である三方コックC2が設けられてい
る。前記三方コックC2と前記引抜ポンプP2との間には第
２圧力計56が設置されており、該第２圧力計56により塗
布時の圧力或いはバイパス系の圧力を測定することがで
きる。なお、前記引抜ポンプP2にて引き抜かれた前記塗
布液３は、最終還流路31を経て再び前記ストックタンク
20に戻される。
上述のように構成された設備を用いて本発明の塗布方
法を行う。
法を行う。
先ず、塗布開始前に予め前記塗布液３を前記エクスト
ルーダ40（60）に満たしたのち、前記送液ポンプP1及び
前記引抜ポンプP2を運転状態に保ったまま、前記三方コ
ックC1,C2をほぼ同期させて電気信号にて操作し、前記
塗布液３を前記バイパス管路32並びに前記還流管路33に
流しておく。このとき、前記バイパス管路32の調節弁V2
の開き度（絞り度）を塗布時と同じ送液条件に概ね定め
ておき、前記第１圧力計55を見ながら該圧力を前記調節
弁V1の絞り調整によりある程度設定し、その後、前記バ
イパス管路32の第２圧力計56をみながら前記調節弁V2を
微調節したのちに、前記第１圧力計55を見ながら該圧力
を前記調節弁V1の絞り調整により微調節する。この調節
により前記バイパス管路32と前記還流管路33とに流れる
前記塗布液３の分量が適宜調整されている。この調整
は、前記バイパス管路32に流れる流量を、塗布時に前記
排液ノズル41（63、64）から流出する流量（Q2）に対応
した量とし、前記還流管路33に流れる流量を、塗布時に
前記スリット２から流出する流量（Q1）に対応した量に
調整する方法であって、前記調節弁V1を絞り調整するこ
とは、塗布液が前記液溜まり10内を通過する通過抵抗に
対して前記スリット２から吐出される塗布液の吐出抵抗
の類似的調節と云うことができる。すなわち、この調節
により、塗布工程の前の段階において、前記スリット２
における前記塗布液の吐出抵抗からみて既に塗布時に極
めて近似した送液条件となっている。
ルーダ40（60）に満たしたのち、前記送液ポンプP1及び
前記引抜ポンプP2を運転状態に保ったまま、前記三方コ
ックC1,C2をほぼ同期させて電気信号にて操作し、前記
塗布液３を前記バイパス管路32並びに前記還流管路33に
流しておく。このとき、前記バイパス管路32の調節弁V2
の開き度（絞り度）を塗布時と同じ送液条件に概ね定め
ておき、前記第１圧力計55を見ながら該圧力を前記調節
弁V1の絞り調整によりある程度設定し、その後、前記バ
イパス管路32の第２圧力計56をみながら前記調節弁V2を
微調節したのちに、前記第１圧力計55を見ながら該圧力
を前記調節弁V1の絞り調整により微調節する。この調節
により前記バイパス管路32と前記還流管路33とに流れる
前記塗布液３の分量が適宜調整されている。この調整
は、前記バイパス管路32に流れる流量を、塗布時に前記
排液ノズル41（63、64）から流出する流量（Q2）に対応
した量とし、前記還流管路33に流れる流量を、塗布時に
前記スリット２から流出する流量（Q1）に対応した量に
調整する方法であって、前記調節弁V1を絞り調整するこ
とは、塗布液が前記液溜まり10内を通過する通過抵抗に
対して前記スリット２から吐出される塗布液の吐出抵抗
の類似的調節と云うことができる。すなわち、この調節
により、塗布工程の前の段階において、前記スリット２
における前記塗布液の吐出抵抗からみて既に塗布時に極
めて近似した送液条件となっている。
また、他の調節方法について述べる。これは、前記塗
布液３を前記バイパス管路32並びに前記還流管路33に流
しておき、この後に、前記還流管路33の調節弁V1の開き
度（絞り度）を塗布時と同じ送液条件に概ね定めてお
き、前記バイパス系の前記第２圧力計56を見ながら該圧
力を前記調節弁V2の絞り調整により概ね定め、その後、
前記還流管路33の第１圧力計55をみながら前記調節弁V1
を微調節したのちに、前記バイパス系の前記第２圧力計
56を見ながら該圧力を前記調節弁V2の微調節する。この
調節により前記方法と同様に前記バイパス管路32と前記
還流管路33とに流れる前記塗布液３の分量が適宜調整さ
れている。この調整方法の場合のように前記調節弁V2を
絞り調整することは、塗布液が前記スリット２から吐出
される塗布液の吐出抵抗に対して前記液溜まり10内を通
過する通過抵抗の疑似的調節と云うことができる。そし
て、この調節により、前記調節方法と同様に塗布工程の
前の段階において、前記スリット２における前記塗布液
の吐出抵抗からみて既に塗布時に極めて近似した送液条
件となっている。
布液３を前記バイパス管路32並びに前記還流管路33に流
しておき、この後に、前記還流管路33の調節弁V1の開き
度（絞り度）を塗布時と同じ送液条件に概ね定めてお
き、前記バイパス系の前記第２圧力計56を見ながら該圧
力を前記調節弁V2の絞り調整により概ね定め、その後、
前記還流管路33の第１圧力計55をみながら前記調節弁V1
を微調節したのちに、前記バイパス系の前記第２圧力計
56を見ながら該圧力を前記調節弁V2の微調節する。この
調節により前記方法と同様に前記バイパス管路32と前記
還流管路33とに流れる前記塗布液３の分量が適宜調整さ
れている。この調整方法の場合のように前記調節弁V2を
絞り調整することは、塗布液が前記スリット２から吐出
される塗布液の吐出抵抗に対して前記液溜まり10内を通
過する通過抵抗の疑似的調節と云うことができる。そし
て、この調節により、前記調節方法と同様に塗布工程の
前の段階において、前記スリット２における前記塗布液
の吐出抵抗からみて既に塗布時に極めて近似した送液条
件となっている。
そして、塗布開始に際しては、自動操作にて前記両三
方コックC1,C2をほぼ同時（下流側の前記三方コックC2
の作動を僅かに遅延させるようにしてもよい。）に操作
して、前記塗布液３を前記エクストルーダ40（60）に送
液して塗布を開始する。
方コックC1,C2をほぼ同時（下流側の前記三方コックC2
の作動を僅かに遅延させるようにしてもよい。）に操作
して、前記塗布液３を前記エクストルーダ40（60）に送
液して塗布を開始する。
このように塗布を開始することによって、前記エクス
トルーダ40（60）のスリット２から吐出する流量は、そ
の所望量に達するまでの時間が瞬時になされる。又、前
記三方コックC1,C2の操作によるバイパス系への流路切
り替え後の時間や前記エクストルーダ40（60）への予め
の送液後の時間は短時間であるので、前記エクストルー
ダ40（60）内の前記塗布液３の凝集は無視することが出
来る。従って、前記支持体４が極めて高速にて走行する
高速塗布の場合であっても、支持体の空走領域或いは塗
布不完全領域、すなわち、塗布開始時或いは塗布再開時
における製品とならない部分を極めて少なすることが出
来る。
トルーダ40（60）のスリット２から吐出する流量は、そ
の所望量に達するまでの時間が瞬時になされる。又、前
記三方コックC1,C2の操作によるバイパス系への流路切
り替え後の時間や前記エクストルーダ40（60）への予め
の送液後の時間は短時間であるので、前記エクストルー
ダ40（60）内の前記塗布液３の凝集は無視することが出
来る。従って、前記支持体４が極めて高速にて走行する
高速塗布の場合であっても、支持体の空走領域或いは塗
布不完全領域、すなわち、塗布開始時或いは塗布再開時
における製品とならない部分を極めて少なすることが出
来る。
また、前述塗布液３は前記送液ポンプP1により送り出
されているとき、流量計M1にて計量しつつフィルタｆを
通り前記エクストルーダ40（60）に送り込まれる一方、
これと同時に、前記排液ノズル41（63、64）からエクス
トルーダ内の塗布液３の一部は給液系とは別系統の前記
引抜ポンプP2により流量計M2で計量されつつ引き抜かれ
ることは前述した通りである。従って、前記スリット２
から流出する前記塗布液３の量（Q1）は、前記流量計M1
と前記流量計M2との流量差（Q0−Q2）で現される量が前
記支持体４に塗布されることになる。
されているとき、流量計M1にて計量しつつフィルタｆを
通り前記エクストルーダ40（60）に送り込まれる一方、
これと同時に、前記排液ノズル41（63、64）からエクス
トルーダ内の塗布液３の一部は給液系とは別系統の前記
引抜ポンプP2により流量計M2で計量されつつ引き抜かれ
ることは前述した通りである。従って、前記スリット２
から流出する前記塗布液３の量（Q1）は、前記流量計M1
と前記流量計M2との流量差（Q0−Q2）で現される量が前
記支持体４に塗布されることになる。
なお、前記送液ポンプP1ならびに前記引抜ポンプP2に
ついては、送液が滑らかで安定したものが望ましく、ど
のような型式のポンプでもよく特に限定するものではな
い。特に、前記引抜ポンプP2においては、前記排液ノズ
ル41（63、64）から塗布液３を引き抜く作用を有する手
段であれば、塗布液３の循環用のポンプであってもよ
く、又、他の送液手段であってもよい。
ついては、送液が滑らかで安定したものが望ましく、ど
のような型式のポンプでもよく特に限定するものではな
い。特に、前記引抜ポンプP2においては、前記排液ノズ
ル41（63、64）から塗布液３を引き抜く作用を有する手
段であれば、塗布液３の循環用のポンプであってもよ
く、又、他の送液手段であってもよい。
上記のような塗布液の強制引き抜きを用いた塗布方法
で、且つ前記還流系及び前記バイパス系において夫々液
流量の調節が別々にできることにより、塗布量（Q1）の
調整は、前記スリット２における吐出抵抗或いは前記液
溜め10における通過抵抗を基準にした調節ができ、液物
性やエクストルーダの種類により適宜調節方法を選択で
きるので、従来以上に広い範囲において安定調整可能と
なり、色ムラや縦スジなどの発生し難い範囲を広くする
ことができる。すなわち、前記引抜ポンプP2の引抜き力
だけでなく液流路系の複数の箇所にて相互の関係して微
調整することにより、例えば、前記液溜め10（61）内に
おける前記塗布液３の流速を全域において均一化し、前
記液溜め10（61）内の塗布液３に生じる圧力変動や過剰
圧力の発生を抑え、且つ前記塗布液３の実効的な流動性
を高めた状態を保つことができ、合わせて前記スリット
２から吐出される前記塗布液３の挙動安定化を図ること
ができる。このことは言い換えると、同じ塗布量（Q1）
を得る場合でも、前記送液ポンプP1と前記引抜ポンプP2
の運転状態及び前記各調整弁V1、V2の調節を適宜変える
ことによって、非常に広い範囲で前記塗布液３の異なっ
た送液条件とすることができ、塗布条件設定の自由度を
高めることができることを意味するものである。
で、且つ前記還流系及び前記バイパス系において夫々液
流量の調節が別々にできることにより、塗布量（Q1）の
調整は、前記スリット２における吐出抵抗或いは前記液
溜め10における通過抵抗を基準にした調節ができ、液物
性やエクストルーダの種類により適宜調節方法を選択で
きるので、従来以上に広い範囲において安定調整可能と
なり、色ムラや縦スジなどの発生し難い範囲を広くする
ことができる。すなわち、前記引抜ポンプP2の引抜き力
だけでなく液流路系の複数の箇所にて相互の関係して微
調整することにより、例えば、前記液溜め10（61）内に
おける前記塗布液３の流速を全域において均一化し、前
記液溜め10（61）内の塗布液３に生じる圧力変動や過剰
圧力の発生を抑え、且つ前記塗布液３の実効的な流動性
を高めた状態を保つことができ、合わせて前記スリット
２から吐出される前記塗布液３の挙動安定化を図ること
ができる。このことは言い換えると、同じ塗布量（Q1）
を得る場合でも、前記送液ポンプP1と前記引抜ポンプP2
の運転状態及び前記各調整弁V1、V2の調節を適宜変える
ことによって、非常に広い範囲で前記塗布液３の異なっ
た送液条件とすることができ、塗布条件設定の自由度を
高めることができることを意味するものである。
前記実施態様においては、前記還流系及び前記バイパ
ス系に前記調節弁V1及びV2を設置したが、本発明はこれ
に限るものではなく、第５図に示すように前記調節弁V2
の代わりにブースターポンプP3を設け、このブースター
ポンプP3の運転状態を変化させることにより流量調節を
行うことができ、又、前記調節弁V1もポンプに替えても
よい。なお、前記ブースターポンプに定量ポンプを用い
た場合には該定量ポンプを迂回するミニバイパス系とも
言える流路を形成することにより、定量ポンプの前記バ
イパス系或いは前記還流液内における適応性を高めるこ
とができる。
ス系に前記調節弁V1及びV2を設置したが、本発明はこれ
に限るものではなく、第５図に示すように前記調節弁V2
の代わりにブースターポンプP3を設け、このブースター
ポンプP3の運転状態を変化させることにより流量調節を
行うことができ、又、前記調節弁V1もポンプに替えても
よい。なお、前記ブースターポンプに定量ポンプを用い
た場合には該定量ポンプを迂回するミニバイパス系とも
言える流路を形成することにより、定量ポンプの前記バ
イパス系或いは前記還流液内における適応性を高めるこ
とができる。
（発明の効果） 以上述べたように、本発明はエクストルーダの液溜り
に塗布量よりも過剰量の塗布液を供給すると共に液溜り
の適所に設けた排出口から前記塗布液の一部を強制的に
抜き取るようにし、更に、前記エクストルーダの直前及
び直後の切替弁を介して繋がったバイパス系及び該バイ
パス系から分岐した還流系を形成して、且つ前記バイパ
ス系及び前記還流系に設けた流量調節弁により、塗布開
始前に予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたの
ち、前記送液ポンプ及び前記排液ポンプを運転状態に保
って、前記塗布液を前記バイパス系に塗布時と同じ送液
条件にて送液しておくときの調節を、前記エクストルー
ダ内の塗布液の通過抵抗に対する吐出抵抗値、或いは吐
出抵抗に対する通過抵抗値と言った方向から微調整す
る。
に塗布量よりも過剰量の塗布液を供給すると共に液溜り
の適所に設けた排出口から前記塗布液の一部を強制的に
抜き取るようにし、更に、前記エクストルーダの直前及
び直後の切替弁を介して繋がったバイパス系及び該バイ
パス系から分岐した還流系を形成して、且つ前記バイパ
ス系及び前記還流系に設けた流量調節弁により、塗布開
始前に予め塗布液を前記エクストルーダに満たしたの
ち、前記送液ポンプ及び前記排液ポンプを運転状態に保
って、前記塗布液を前記バイパス系に塗布時と同じ送液
条件にて送液しておくときの調節を、前記エクストルー
ダ内の塗布液の通過抵抗に対する吐出抵抗値、或いは吐
出抵抗に対する通過抵抗値と言った方向から微調整す
る。
従って、塗布工程を開始する際に、前記エクストルー
ダのスリットから吐出する流量は、その適正量に達する
までの時間が瞬時になされ、前記支持体が極めて高速に
て走行する高速塗布の場合であっても、支持体の空走領
域或いは塗布不完全領域、すなわち、製品とならない部
分を極めて少なすることが出来る。更に、塗布量の調整
は、前記スリットにおける吐出抵抗或いは前記液溜めに
おける通過抵抗を基準にした調節ができることから、液
物性やエクストルーダの種類により適宜調節方法を選択
できるので、一つの塗布設備にてエクストルーダを入れ
替えても従来以上に広い範囲において安定調整可能とな
り、塗布条件設定の自由度を高めることができ、合わせ
て色ムラや縦スジなどの発生し難い範囲を広くすること
ができる。すなわち、本発明によれば、前記引抜ポンプ
の引抜き力だけでなく液流路系の複数の箇所にて相互の
関係して微調整することにより、例えば、前記液溜め内
における前記塗布液の流速を全域において均一化できる
範囲が広がり、前記液溜め内の塗布液に生じる圧力変動
や過剰圧力の発生を抑え、且つ前記塗布液の実効的な流
動性を高めた状態を保つことができ、合わせて前記スリ
ットから吐出される前記塗布液の挙動安定化を極めて効
果的に図ることができる。
ダのスリットから吐出する流量は、その適正量に達する
までの時間が瞬時になされ、前記支持体が極めて高速に
て走行する高速塗布の場合であっても、支持体の空走領
域或いは塗布不完全領域、すなわち、製品とならない部
分を極めて少なすることが出来る。更に、塗布量の調整
は、前記スリットにおける吐出抵抗或いは前記液溜めに
おける通過抵抗を基準にした調節ができることから、液
物性やエクストルーダの種類により適宜調節方法を選択
できるので、一つの塗布設備にてエクストルーダを入れ
替えても従来以上に広い範囲において安定調整可能とな
り、塗布条件設定の自由度を高めることができ、合わせ
て色ムラや縦スジなどの発生し難い範囲を広くすること
ができる。すなわち、本発明によれば、前記引抜ポンプ
の引抜き力だけでなく液流路系の複数の箇所にて相互の
関係して微調整することにより、例えば、前記液溜め内
における前記塗布液の流速を全域において均一化できる
範囲が広がり、前記液溜め内の塗布液に生じる圧力変動
や過剰圧力の発生を抑え、且つ前記塗布液の実効的な流
動性を高めた状態を保つことができ、合わせて前記スリ
ットから吐出される前記塗布液の挙動安定化を極めて効
果的に図ることができる。
次に、実施例及び比較例により本発明の効果を一層明
確にすることができる。
確にすることができる。
（実施例） 第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れて十分
に混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エポキシ当量50
0）を30重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗布
液とした。
に混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エポキシ当量50
0）を30重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗布
液とした。
こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島津製作所
の島津レオメータRM−１により測定したところ剪断速度
が10sec-1において7poiseを示した。
の島津レオメータRM−１により測定したところ剪断速度
が10sec-1において7poiseを示した。
上記磁性塗布液を第２図及び第３図に示すエクストル
ーダ40を用いて、第１図に示した設備を用いてポリエチ
レンテレフタレートの支持体に塗布した。なお、塗布条
件については第２表に示す。
ーダ40を用いて、第１図に示した設備を用いてポリエチ
レンテレフタレートの支持体に塗布した。なお、塗布条
件については第２表に示す。
液溜め径の異なった２つの前記エクストルーダ40を取
り替えてそれぞれ塗布を実施した。そして、その塗布は
予め本発明の方法により微調節しておいてから塗布して
いる状態で、前記三方コックC1,C2を操作して、前記エ
クストルーダ40への送液を一旦停止し（第７図、第８図
の「液切り点t1」）、その後再び前記三方コックC1,C2
を逆操作して再度塗布を開始（第７図、第８図の「再開
点t2」）する塗布工程をそれぞれ５回行った。その結果
は第７図、第８図及び第３表の通りであった。尚、第７
図の流量の測定は流量計M1,M2にて測定し、第８図の塗
布圧力の測定は圧力計56にて測定した。
り替えてそれぞれ塗布を実施した。そして、その塗布は
予め本発明の方法により微調節しておいてから塗布して
いる状態で、前記三方コックC1,C2を操作して、前記エ
クストルーダ40への送液を一旦停止し（第７図、第８図
の「液切り点t1」）、その後再び前記三方コックC1,C2
を逆操作して再度塗布を開始（第７図、第８図の「再開
点t2」）する塗布工程をそれぞれ５回行った。その結果
は第７図、第８図及び第３表の通りであった。尚、第７
図の流量の測定は流量計M1,M2にて測定し、第８図の塗
布圧力の測定は圧力計56にて測定した。
この結果、液溜め径の異なった前記エクストルーダ40
を交換しても塗布量及び塗布圧の変化は第７図及び第８
図に実線にて示す一つの変化軌跡線上に重なり全く変わ
らなかった。
を交換しても塗布量及び塗布圧の変化は第７図及び第８
図に実線にて示す一つの変化軌跡線上に重なり全く変わ
らなかった。
（比較例−１） 第１表に示す磁性塗布液と同じものを第６図に示す塗
布方法（特願平１−62274号）により、第２表に示す条
件において、液溜め径が15mmのエクストレーダ用いて塗
布を行った。バイパス系の流量調節は調節弁V1により予
めおこなっておき、塗布している状態で前記三方コック
C1,C2を操作して、前記エクストルーダ40への送液を一
旦停止し（第７図、第８図の「液切り点t1」）、その後
再び前記三方コックC1,C2を逆操作して再度塗布を開始
（第７図、第８図の「再開点t2」）する塗布工程をそれ
ぞれ５回行った。その結果は第７図、第８図及び第３表
の通りであった。尚、第７図の流量の測定は流量計M1,M
2にて測定し、第８図の塗布圧力の測定は圧力計55にて
測定した。
布方法（特願平１−62274号）により、第２表に示す条
件において、液溜め径が15mmのエクストレーダ用いて塗
布を行った。バイパス系の流量調節は調節弁V1により予
めおこなっておき、塗布している状態で前記三方コック
C1,C2を操作して、前記エクストルーダ40への送液を一
旦停止し（第７図、第８図の「液切り点t1」）、その後
再び前記三方コックC1,C2を逆操作して再度塗布を開始
（第７図、第８図の「再開点t2」）する塗布工程をそれ
ぞれ５回行った。その結果は第７図、第８図及び第３表
の通りであった。尚、第７図の流量の測定は流量計M1,M
2にて測定し、第８図の塗布圧力の測定は圧力計55にて
測定した。
（比較例−２） 第１表に示す磁性塗布液と同じものを第６図に示す塗
布方法（特願平１−62274号）により、第２表に示す条
件において、液溜め径が20mmのエクストルーダ用いて塗
布を行った。他の操作は比較例−１と全く同じに行っ
た。
布方法（特願平１−62274号）により、第２表に示す条
件において、液溜め径が20mmのエクストルーダ用いて塗
布を行った。他の操作は比較例−１と全く同じに行っ
た。
その結果は第７図、第８図及び第３表の通りであっ
た。
た。
第３表、第７図及び第８図から明らかなように、本発
明の実施例は、液切り操作（液切り点t1）並びに送液再
開操作（再開点t2）に対する塗布量及び塗布液圧の反応
が迅速であり、特に、本発明の実施例にあっては異なっ
たエクストルーダを使用した場合であっても、その塗布
性能には殆ど変化が無いが、比較例１と比較例２とでは
塗布性能の変化が現れた。これは、本発明が例えばエク
ストルーダの形状に影響されずに安定した塗布ができ、
良好な塗布の安定領域が広いことを示している。また、
色ムラや縦スジについては目視による観察を行った。色
ムラおよび縦スジについては、比較例と実施例とは共に
良好な結果を示すが、特に、再開点t2の付近においは本
発明の実施例の方が好結果を得ることができた。製品の
得率が高いことが判る。
明の実施例は、液切り操作（液切り点t1）並びに送液再
開操作（再開点t2）に対する塗布量及び塗布液圧の反応
が迅速であり、特に、本発明の実施例にあっては異なっ
たエクストルーダを使用した場合であっても、その塗布
性能には殆ど変化が無いが、比較例１と比較例２とでは
塗布性能の変化が現れた。これは、本発明が例えばエク
ストルーダの形状に影響されずに安定した塗布ができ、
良好な塗布の安定領域が広いことを示している。また、
色ムラや縦スジについては目視による観察を行った。色
ムラおよび縦スジについては、比較例と実施例とは共に
良好な結果を示すが、特に、再開点t2の付近においは本
発明の実施例の方が好結果を得ることができた。製品の
得率が高いことが判る。
第１図は本発明の一実施態様である送液制御を示すため
の概略図、第２図、第３図、第４図は夫々本発明を実施
するためのエクストルーダの要部を示す斜視図ならびに
断面図、第５図は本発明の変形例の送液制御を示すため
の概略図、第６図は従来の塗布方法を示した概略図、第
７図は塗布液の塗布量の変化を示したグラフ、第８図は
塗布液の塗布圧の変化をしめしたグラフである。 （図中符号） ２……スリット、３……塗布液、 ４……支持体、７……バッキングロール、 10、61……液溜め、12、62……供給ノズル、 20……ストックタンク、30……給液管路、 31……最終還流管路、32……バイパス管路、 33……還流管路、40、60……エクストルーダ、 41、63、64……排液ノズル、50……本路、 55,56……圧力計、C1,C2……三方コック、 ｆ……フィルタ、M1,M2……流量計、 P1……送液ポンプ、P2……引抜ポンプ、 V1,V2……調節弁。
の概略図、第２図、第３図、第４図は夫々本発明を実施
するためのエクストルーダの要部を示す斜視図ならびに
断面図、第５図は本発明の変形例の送液制御を示すため
の概略図、第６図は従来の塗布方法を示した概略図、第
７図は塗布液の塗布量の変化を示したグラフ、第８図は
塗布液の塗布圧の変化をしめしたグラフである。 （図中符号） ２……スリット、３……塗布液、 ４……支持体、７……バッキングロール、 10、61……液溜め、12、62……供給ノズル、 20……ストックタンク、30……給液管路、 31……最終還流管路、32……バイパス管路、 33……還流管路、40、60……エクストルーダ、 41、63、64……排液ノズル、50……本路、 55,56……圧力計、C1,C2……三方コック、 ｆ……フィルタ、M1,M2……流量計、 P1……送液ポンプ、P2……引抜ポンプ、 V1,V2……調節弁。
Claims (3)
- 【請求項１】連続的に移動している可撓性帯状の支持体
の表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を連続
的に排出することにより前記支持体の表面に前記塗布液
の薄膜を層設する塗布方法において、前記スリットに連
通するエクストルーダの液溜めに、送液手段により前記
塗布液を前記支持体上の装着量よりも過剰量供給すると
共に、前記液溜め内の塗布液の一部を前記塗布液の給液
位置から前記支持体の幅方向に最も離れた位置又はその
近傍の排出口から排液手段により強制的に抜き取り可能
にし、更に、前記エクストルーダの直前及び直後の切替
弁を介して繋がったバイパス系及び該バイパス系から分
岐した還流系を形成し、且つ前記バイパス系及び前記還
流系に各々流量調節弁を設け、塗布開始前に予め塗布液
を前記エクストルーダに満たしたのち、前記送液手段及
び前記排液手段を運転状態に保ち、前記バイパス系の流
量調節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条件にて送液
しておき、前記送液手段による液圧をみながら前記還流
系の流量調節弁を仮設定した後に、前記バイパス系の液
圧をみながら該バイパス系の流量調節弁を微調節し、そ
の後再び前記還流系側の液圧をみながら該還流系の流量
調節弁を微調節してから、前記切替弁を切り替えて前記
塗布液を前記エクストルーダに送液して塗布を開始する
ことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項２】連続的に移動している可撓性帯状の支持体
の表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を連続
的に排出することにより前記支持体の表面に前記塗布液
の薄膜を層設する塗布方法において、前記スリットに連
通するエクストルーダの液溜めに、送液手段により前記
塗布液を前記支持体上の装着量よりも過剰量供給すると
共に、前記液溜め内の塗布液の一部を前記塗布液の給液
位置から前記支持体の幅方向に最も離れた位置又はその
近傍の排出口から排液手段により強制的に抜き取り可能
にし、更に、前記エクストルーダの直前及び直後の切替
弁を介して繋がったバイパス系及び該バイパス系から分
岐した還流系を形成し、且つ前記バイパス系及び前記還
流系に各々流量調節弁を設け、塗布開始前に予め塗布液
を前記エクストルーダに満たしたのち、前記送液手段及
び前記排液手段を運転状態に保ち、前記還流系の流量調
節弁の開き度を塗布時とほぼ同じ送液条件にて送液して
おき、前記バイパス系の液圧をみながら該バイパス系の
流量調節弁を仮設定した後に、前記還流系の液圧をみな
がら該還流系の流量調節弁を微調節し、その後再び前記
バイパス系の液圧をみながら該バイパス系の流量調節弁
を微調節してから、前記切替弁を切り替えて前記塗布液
を前記エクストルーダに送液して塗布を開始することを
特徴とする塗布方法。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２に記載した塗布方法
をに用いる塗布装置であって、前記バイパス系及び前記
還流系には前記塗布液の流量を変えられる流量調節弁と
夫々の系の液圧を測定可能な圧力計とが夫々設けられた
ことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2096284A JP2565413B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 塗布方法及び装置 |
| DE69110948T DE69110948T2 (de) | 1990-04-13 | 1991-04-12 | Verfahren zum Auftragen einer magnetischen Flüssigkeit auf ein Gewebe unter Benutzung eines Extrusionskopfes mit Überschu flüssigkeit. |
| EP91105870A EP0451862B1 (en) | 1990-04-13 | 1991-04-12 | Method for Applying Magnetic Liquid to a Web by Use of an Extrusion Head with Excess Liquid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2096284A JP2565413B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 塗布方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03296463A JPH03296463A (ja) | 1991-12-27 |
| JP2565413B2 true JP2565413B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=14160810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2096284A Expired - Lifetime JP2565413B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0451862B1 (ja) |
| JP (1) | JP2565413B2 (ja) |
| DE (1) | DE69110948T2 (ja) |
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| JP5866919B2 (ja) * | 2011-09-21 | 2016-02-24 | 凸版印刷株式会社 | 塗工装置及び塗工方法 |
| JP5858247B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2016-02-10 | 株式会社村田製作所 | 塗工装置 |
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-
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- 1991-04-12 EP EP91105870A patent/EP0451862B1/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
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| EP0451862B1 (en) | 1995-07-05 |
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| DE69110948T2 (de) | 1995-11-23 |
| JPH03296463A (ja) | 1991-12-27 |
| EP0451862A3 (en) | 1991-12-27 |
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