JP2557651B2 - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JP2557651B2 JP2557651B2 JP62164021A JP16402187A JP2557651B2 JP 2557651 B2 JP2557651 B2 JP 2557651B2 JP 62164021 A JP62164021 A JP 62164021A JP 16402187 A JP16402187 A JP 16402187A JP 2557651 B2 JP2557651 B2 JP 2557651B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光フアイバ母材の製造方法、特にVAD法
や外付け法等に使用して好適な方法を提供するもので、
母材に泡を含ませず、以つて得られる光フアイバの強
度、損失の改善を図つたものである。
や外付け法等に使用して好適な方法を提供するもので、
母材に泡を含ませず、以つて得られる光フアイバの強
度、損失の改善を図つたものである。
従来この種の光フアイバ母材の製造方法、例えばVAD
法においては、第２図に示すような装置を用いて多孔質
母材を得ている。図において、100は反応容器、101は、
その斜め下端に設けられた挿通口102に挿通された、コ
アガラス生成用の第１の酸水素バーナ、103は、容器100
のバーナ102に近い側の側壁に設けられた挿通孔104に挿
通された、クラツデイングガラス生成用の第２のバー
ナ、105はこれらバーナと相対する側の容器側壁に設け
られた排気口、106は、バーナ103,101によつてえられる
多孔質ガラス母材、107は、この母材を支持する支持
体、108は容器100の上部に設けられた支持体挿通口であ
る。
法においては、第２図に示すような装置を用いて多孔質
母材を得ている。図において、100は反応容器、101は、
その斜め下端に設けられた挿通口102に挿通された、コ
アガラス生成用の第１の酸水素バーナ、103は、容器100
のバーナ102に近い側の側壁に設けられた挿通孔104に挿
通された、クラツデイングガラス生成用の第２のバー
ナ、105はこれらバーナと相対する側の容器側壁に設け
られた排気口、106は、バーナ103,101によつてえられる
多孔質ガラス母材、107は、この母材を支持する支持
体、108は容器100の上部に設けられた支持体挿通口であ
る。
以上の構成において、支持体107を回転させつつ、そ
の下端に第１のバーナ101を用いて例えばSiCl4とGeCl4
からなる原料ガスを熱酸化もしくは火災加水分解させて
コア用のSiO2−GeO2ガラス微粒子を堆積させるとともに
その周りに第２のバーナ103を用いてSiO2ガラス微粒子
を生成堆積させてコアークラツデイング多孔質母材106
としている。
の下端に第１のバーナ101を用いて例えばSiCl4とGeCl4
からなる原料ガスを熱酸化もしくは火災加水分解させて
コア用のSiO2−GeO2ガラス微粒子を堆積させるとともに
その周りに第２のバーナ103を用いてSiO2ガラス微粒子
を生成堆積させてコアークラツデイング多孔質母材106
としている。
かくして得られた多孔質母材は、次の工程で脱水、透
明ガラス化されて透明な母材とされ、次いで光フアイバ
に紡糸される。
明ガラス化されて透明な母材とされ、次いで光フアイバ
に紡糸される。
しかしながら得られた光フアイバの損失を測定すると
波長1.55μｍで0.20dB/km程度がせいぜいであつて理論
値の0.16に到達するのはなかなか困難なことであつた。
波長1.55μｍで0.20dB/km程度がせいぜいであつて理論
値の0.16に到達するのはなかなか困難なことであつた。
本発明者等がその原因を調べたところ、容器内を排気
口から吸引しているために容器内が負圧となり、容器と
各挿通孔間の僅な隙間からではあるが、外気が入り込む
こととなり、外気にゴムやホコリが含まれているとそれ
が容器内に入り多孔質ガラス母材内に混入してしまう結
果であることが判明した。
口から吸引しているために容器内が負圧となり、容器と
各挿通孔間の僅な隙間からではあるが、外気が入り込む
こととなり、外気にゴムやホコリが含まれているとそれ
が容器内に入り多孔質ガラス母材内に混入してしまう結
果であることが判明した。
この発明は、以上の観点から反応容器内において、ガ
ラス原料ガスを火災加水分解又は熱酸化させて多孔質ガ
ラスプリフオームを得るに際し、前記反応容器の外側に
外気しゃ断容器を設け、この外気しゃ断容器内に清浄ガ
スを供給して清浄な雰囲気とするとともに、反応容器内
圧力P1、外気しゃ断容器内圧力P2、外気P3との関係をP1
＜P3＜P2とすることにより、反応容器内へのゴミやホコ
リの浸入を防止し、以つて低損失の光フアイバ母材を得
るようにしたものである。
ラス原料ガスを火災加水分解又は熱酸化させて多孔質ガ
ラスプリフオームを得るに際し、前記反応容器の外側に
外気しゃ断容器を設け、この外気しゃ断容器内に清浄ガ
スを供給して清浄な雰囲気とするとともに、反応容器内
圧力P1、外気しゃ断容器内圧力P2、外気P3との関係をP1
＜P3＜P2とすることにより、反応容器内へのゴミやホコ
リの浸入を防止し、以つて低損失の光フアイバ母材を得
るようにしたものである。
反応容器の外側を清浄雰囲気とするためのガスとして
は、空気、窒素、酸素、アルゴン等があげられる。
は、空気、窒素、酸素、アルゴン等があげられる。
以下、図面に基づいてこの発明方法を説明する。
第１図は、この発明方法に用いられる装置を示したも
ので、まずその構成について説明すると、１は、従来同
様にこの内部で多孔質ガラス母材２を得るための反応容
器、３は、この反応容器１のまわりに設けられた外気し
や断用の容器、４はコアとなるガラス微粉末を生成する
第１のバーナで、5,6はこの第１のバーナが挿通され
る、反応容器１及び外気しや断容器３に設けられた挿通
口、７はクラツデイングとなるガラス微粉末を生成する
ための第２のバーナで、8,9はこの第２のバーナが挿通
される、反応容器１及び外気しや断容器３にそれぞれ設
けられた挿通口、10は容器１内と連通する排気パイプ
で、11,12はこの排気パイプを挿通するために容器1,3に
設けられた挿通口、13は、多孔質ガラス母材２を支持す
る石英ガラス棒で、14,15は容器1,3に設けられたその挿
通口、16は容器３内に清浄な空気を送り込むための供給
パイプでフイルタ17を備えている。なお18はパイプ16挿
通口である。
ので、まずその構成について説明すると、１は、従来同
様にこの内部で多孔質ガラス母材２を得るための反応容
器、３は、この反応容器１のまわりに設けられた外気し
や断用の容器、４はコアとなるガラス微粉末を生成する
第１のバーナで、5,6はこの第１のバーナが挿通され
る、反応容器１及び外気しや断容器３に設けられた挿通
口、７はクラツデイングとなるガラス微粉末を生成する
ための第２のバーナで、8,9はこの第２のバーナが挿通
される、反応容器１及び外気しや断容器３にそれぞれ設
けられた挿通口、10は容器１内と連通する排気パイプ
で、11,12はこの排気パイプを挿通するために容器1,3に
設けられた挿通口、13は、多孔質ガラス母材２を支持す
る石英ガラス棒で、14,15は容器1,3に設けられたその挿
通口、16は容器３内に清浄な空気を送り込むための供給
パイプでフイルタ17を備えている。なお18はパイプ16挿
通口である。
以上の構成においてフイルタ17を通して供給パイプ16
から容器３内に清浄な空気を送り込み、容器１内の圧力
をP1、容器３内のそれをP2、外気をP3としたときP1＜P3
＜P2となるようにする。
から容器３内に清浄な空気を送り込み、容器１内の圧力
をP1、容器３内のそれをP2、外気をP3としたときP1＜P3
＜P2となるようにする。
このような構成とすることにより容器１内へは清浄な
空気が入りこむこととなり外気はしや断される。
空気が入りこむこととなり外気はしや断される。
約50の容積の反応容器１内に第１のバーナ内にSiCl
4 50c.c./分、GeCl4 6c.c./分、Ar 800c.c./分 H2 5
／分、O2 10／分のガスを送り込み、石英ガラス棒の
先端にコア用のSiO2−GeO2ガラス微粒子層を堆積させる
とともに第２のバーナ内にSiCl4 800c.c./、Ar 1／
分、H2 12／分、O2 8／分のガスを送り込み、コア
用のガラス微粒子層のまわりにSiO2ガラス微粒子層を堆
積させて直径90mm、長さ50cmの多孔質母材を得た。
4 50c.c./分、GeCl4 6c.c./分、Ar 800c.c./分 H2 5
／分、O2 10／分のガスを送り込み、石英ガラス棒の
先端にコア用のSiO2−GeO2ガラス微粒子層を堆積させる
とともに第２のバーナ内にSiCl4 800c.c./、Ar 1／
分、H2 12／分、O2 8／分のガスを送り込み、コア
用のガラス微粒子層のまわりにSiO2ガラス微粒子層を堆
積させて直径90mm、長さ50cmの多孔質母材を得た。
一方この母材の生成中反応容器１の外側を1000の容
積の容器３で包み、この容器３内にフイルタを介して清
浄な空気（クラス100〜200）を6m3/分だけ送り込んだ。
積の容器３で包み、この容器３内にフイルタを介して清
浄な空気（クラス100〜200）を6m3/分だけ送り込んだ。
なおこの時排気口からの排気量は3m3/分であり容器１
内は0.5mmAqだけ外気より負圧となつた。
内は0.5mmAqだけ外気より負圧となつた。
かくして得られた多孔質母材をSOCl2雰囲気中で1000
℃に加熱して脱水処理を施し、次いでHe雰囲気下で1650
℃に加熱して透明ガラス化した。このプリフオームを紡
糸して直径125μｍのフアイバとした。この時のΔは0.3
％、波長1.55μｍにおける伝送損失は0.18dB/kmであり
非常に優れたフアイバであつた。
℃に加熱して脱水処理を施し、次いでHe雰囲気下で1650
℃に加熱して透明ガラス化した。このプリフオームを紡
糸して直径125μｍのフアイバとした。この時のΔは0.3
％、波長1.55μｍにおける伝送損失は0.18dB/kmであり
非常に優れたフアイバであつた。
この発明は、以上のように反応容器の外側に外気しゃ
断容器を設け、この外気しゃ断容器内に清浄ガスを供給
して内部を清浄な雰囲気とするとともに、反応容器内圧
力P1、外気しゃ断容器内圧力P2、外気P3との関係をP1＜
P3＜P2とすることにより反応容器内に外気中に含まれる
ゴミやホコリが入りこむことがなく、以つて多孔質母材
を不純物のない高品質のものとすることができる。
断容器を設け、この外気しゃ断容器内に清浄ガスを供給
して内部を清浄な雰囲気とするとともに、反応容器内圧
力P1、外気しゃ断容器内圧力P2、外気P3との関係をP1＜
P3＜P2とすることにより反応容器内に外気中に含まれる
ゴミやホコリが入りこむことがなく、以つて多孔質母材
を不純物のない高品質のものとすることができる。
第１図は、この発明方法に用いられる装置の概略図、第
２図は、従来方法に用いられる装置の概略図。 1:反応容器、3:外気しや断容器 16:供給パイプ
２図は、従来方法に用いられる装置の概略図。 1:反応容器、3:外気しや断容器 16:供給パイプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 大一郎 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 酒井 哲也 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 佐々木 秀樹 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 加藤 幸男 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 根本 忠明 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (56)参考文献 特開 昭62−187121（ＪＰ，Ａ) 実公 昭56−36899（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】反応容器内において、ガラス原料ガスを火
災加水分解又は熱酸化させて多孔質ガラスプリフオーム
を得るに際し、前記反応容器の外側に外気しゃ断容器を
設け、この外気しゃ断容器内に清浄ガスを供給して清浄
な雰囲気とするとともに、反応容器内圧力P1、外気しゃ
断容器内圧力P2、外気P3との関係をP1＜P3＜P2とするこ
とを特徴とする光フアイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】清浄な雰囲気が空気であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光フアイバ母材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62164021A JP2557651B2 (ja) | 1987-07-02 | 1987-07-02 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62164021A JP2557651B2 (ja) | 1987-07-02 | 1987-07-02 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS649830A JPS649830A (en) | 1989-01-13 |
| JP2557651B2 true JP2557651B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=15785281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62164021A Expired - Lifetime JP2557651B2 (ja) | 1987-07-02 | 1987-07-02 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2557651B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3931940A1 (de) * | 1989-09-28 | 1991-04-04 | Mitsubishi Electric Corp | Winkelmessvorrichtung |
| JPH07300332A (ja) * | 1994-05-02 | 1995-11-14 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材製造装置 |
| JP5157385B2 (ja) * | 2007-11-19 | 2013-03-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
| ES2706877T3 (es) | 2014-11-13 | 2019-04-01 | Gerresheimer Glas Gmbh | Filtro de partículas de máquina para conformar vidrio, unidad de émbolo, cabeza de soplado, soporte de cabeza de soplado y máquina para conformar vidrio adaptada a dicho filtro o que lo comprende |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636899U (ja) * | 1979-08-30 | 1981-04-08 | ||
| JPS62187121A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 合成ガラス製造装置 |
-
1987
- 1987-07-02 JP JP62164021A patent/JP2557651B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS649830A (en) | 1989-01-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |