JP2551806B2 - 嵌合リング - Google Patents
嵌合リングInfo
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- JP2551806B2 JP2551806B2 JP63046467A JP4646788A JP2551806B2 JP 2551806 B2 JP2551806 B2 JP 2551806B2 JP 63046467 A JP63046467 A JP 63046467A JP 4646788 A JP4646788 A JP 4646788A JP 2551806 B2 JP2551806 B2 JP 2551806B2
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- Japan
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- fitting
- layer
- ring
- nickel
- fitting ring
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、筆記具の部品等に用いられる嵌合リングに
関する。
関する。
（従来の技術とその課題） 従来、装飾効果を高めるために筆記具などの部品表面
に金色装飾用被膜を設ける方法として、金あるいは金系
合金をめっきする方法、又は、イオンプレーティングに
よる窒化チタン層を形成する方法が一般に知られてい
る。
に金色装飾用被膜を設ける方法として、金あるいは金系
合金をめっきする方法、又は、イオンプレーティングに
よる窒化チタン層を形成する方法が一般に知られてい
る。
特に、キャップと軸筒の嵌合などに用いる嵌合リング
（例えば、実開昭53−38483号公報にに開示されている
様な、円周状をなしその周面に弧状の内向き突出部を有
する様なリング）等に上記装飾用被膜を設ける場合、そ
の被膜は、他部材との摺動により摩擦が生じるため、耐
摩耗性に優れ、基材との密着性の高いものが要求される
ものである。
（例えば、実開昭53−38483号公報にに開示されている
様な、円周状をなしその周面に弧状の内向き突出部を有
する様なリング）等に上記装飾用被膜を設ける場合、そ
の被膜は、他部材との摺動により摩擦が生じるため、耐
摩耗性に優れ、基材との密着性の高いものが要求される
ものである。
また、嵌合リングは、嵌合時に変形可能であり、弾力
性が得られ、嵌合が確実で嵌合感が良いものであること
が必要であるので、基材の材質として適切なものを選定
すると共に、被膜の膜厚を制御することにより、嵌合リ
ングの大きさを微妙に調整することができなければなら
ない。
性が得られ、嵌合が確実で嵌合感が良いものであること
が必要であるので、基材の材質として適切なものを選定
すると共に、被膜の膜厚を制御することにより、嵌合リ
ングの大きさを微妙に調整することができなければなら
ない。
これに対し、金あるいは金系合金めっきを用いる方法
の場合、耐摩耗性に優れた被膜を設けるためには、数ミ
クロン以上の膜厚を必要とすることから、非常に高価な
金を多量に使用し、コスト高となるといった欠点を有し
ている。
の場合、耐摩耗性に優れた被膜を設けるためには、数ミ
クロン以上の膜厚を必要とすることから、非常に高価な
金を多量に使用し、コスト高となるといった欠点を有し
ている。
また、膜厚の薄い被膜が得られやすいイオンプレーテ
ィングにより窒化チタン層を形成する方法は、膜厚の制
御が困難であり、基材との密着性においても十分とはい
えないものである。
ィングにより窒化チタン層を形成する方法は、膜厚の制
御が困難であり、基材との密着性においても十分とはい
えないものである。
（課題を解決するための手段） 本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、真
鍮製基材よりなるリング上に、ニッケル系めっき層を３
〜５μｍ設け、その上に反応性バイアススパッタリング
法によりチタン層0.1〜1.0μｍ、窒化チタン層１〜２μ
ｍを順次設けてなる嵌合リングとを要旨とする。
鍮製基材よりなるリング上に、ニッケル系めっき層を３
〜５μｍ設け、その上に反応性バイアススパッタリング
法によりチタン層0.1〜1.0μｍ、窒化チタン層１〜２μ
ｍを順次設けてなる嵌合リングとを要旨とする。
以下、本発明を詳述する。
本発明の嵌合リングの基材としては、真鍮を用いる必
要がある。これは、嵌合時の嵌合が確実で嵌合感を良好
とするため、嵌合リングが嵌合時に変形可能であり、弾
力性が得られるようにするためである。
要がある。これは、嵌合時の嵌合が確実で嵌合感を良好
とするため、嵌合リングが嵌合時に変形可能であり、弾
力性が得られるようにするためである。
ニッケル系めっき層は、基材と装飾用被膜との密着性
向上のため設けるものであり、弾力性に優れたニッケル
系のものを用いることが必要である。具体的には、光沢
ニッケル、半光沢ニッケル、多重ニッケル等が挙げられ
る。そして、このニッケル系下地めっき層の厚みは３〜
５μｍであることが必要である。これは、層厚が３μｍ
より薄いと十分な密着性が得られず、また、５μｍより
厚いと嵌合リングの大きさの調整が困難になるためであ
る。
向上のため設けるものであり、弾力性に優れたニッケル
系のものを用いることが必要である。具体的には、光沢
ニッケル、半光沢ニッケル、多重ニッケル等が挙げられ
る。そして、このニッケル系下地めっき層の厚みは３〜
５μｍであることが必要である。これは、層厚が３μｍ
より薄いと十分な密着性が得られず、また、５μｍより
厚いと嵌合リングの大きさの調整が困難になるためであ
る。
上記下地めっき層の上には、反応性バイアススパッタ
リング法により層厚0.1〜1.0μｍのチタン層、及び層厚
１〜２μｍの窒化チタン層が順次設けられている。
リング法により層厚0.1〜1.0μｍのチタン層、及び層厚
１〜２μｍの窒化チタン層が順次設けられている。
上記チタン層は、下地めっき層と窒化チタン層との密
着性向上のため設けるものであり、層厚が0.1μｍより
薄いと十分な密着性が得られず、また、1.0μｍより厚
いと嵌合リングの大きさの調整が困難になる。
着性向上のため設けるものであり、層厚が0.1μｍより
薄いと十分な密着性が得られず、また、1.0μｍより厚
いと嵌合リングの大きさの調整が困難になる。
上記窒化チタン層は耐摩耗性を有する装飾用被膜であ
り、層厚が１μｍより薄いと対摩耗性が十分でなく、ま
た、２μｍより厚いと嵌合リングの大きさの調整が困難
になる。
り、層厚が１μｍより薄いと対摩耗性が十分でなく、ま
た、２μｍより厚いと嵌合リングの大きさの調整が困難
になる。
（実施例） 真鍮製の嵌合リングに光沢ニッケルめっきを施し、こ
れを有機溶剤で洗浄脱脂した後、このリングを反応性バ
イアススパッタリング装置内に備えられた治具にセット
する。装置内を３×10-6Torrまで真空排気した後、アル
ゴン分圧４×10-3Torr、窒素分圧１×10-3Torrの雰囲気
の状態でチタンをスパッタリング機構により放電プラズ
マを形成させながら治具にセットされている嵌合リング
上に金色を有する窒化チタンを約１μｍ形成したとこ
ろ、金色をした光沢のある装飾層を有した嵌合リングと
なった。
れを有機溶剤で洗浄脱脂した後、このリングを反応性バ
イアススパッタリング装置内に備えられた治具にセット
する。装置内を３×10-6Torrまで真空排気した後、アル
ゴン分圧４×10-3Torr、窒素分圧１×10-3Torrの雰囲気
の状態でチタンをスパッタリング機構により放電プラズ
マを形成させながら治具にセットされている嵌合リング
上に金色を有する窒化チタンを約１μｍ形成したとこ
ろ、金色をした光沢のある装飾層を有した嵌合リングと
なった。
（効果） 上記嵌合リングを用い、耐摩耗性試験及び密着性試験
を行なった。その結果を以下に示す。
を行なった。その結果を以下に示す。
耐摩耗性試験……金めっき性部材を用い、10000回嵌合
を行なったが、摩耗による下地の露出はみられなかっ
た。
を行なったが、摩耗による下地の露出はみられなかっ
た。
密着性試験……金めっき性部材を用い、10000回嵌合を
行なった嵌合リング表面の装飾用被膜の剥離はみられな
かった。
行なった嵌合リング表面の装飾用被膜の剥離はみられな
かった。
上記試験において、試験に使用した嵌合リングのサン
プル数は５である。
プル数は５である。
本発明により得られた嵌合リングは、耐摩耗性に優
れ、確実な嵌合が行なえるものであり、しかも、嵌合感
の良いものである。
れ、確実な嵌合が行なえるものであり、しかも、嵌合感
の良いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−179630（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−170560（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−11783（ＪＰ，Ａ) 実開 昭53−38431（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】真鍮製基材よりなるリング上に、ニッケル
系めっき層を３〜５μｍ設け、その上に反応性バイアス
スパッタリング法によりチタン層0.1〜1.0μｍ、窒化チ
タン層１〜２μｍを順次設けてなる嵌合リング。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63046467A JP2551806B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 嵌合リング |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63046467A JP2551806B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 嵌合リング |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01218898A JPH01218898A (ja) | 1989-09-01 |
| JP2551806B2 true JP2551806B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=12747975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63046467A Expired - Fee Related JP2551806B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 嵌合リング |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2551806B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0432563A (ja) * | 1990-05-28 | 1992-02-04 | Anelva Corp | スパッタリング方法および装置 |
| JPH06192853A (ja) * | 1991-08-01 | 1994-07-12 | Kagawa Pref Gov | 電気めっき法で形成した皮膜と物理的気相成長法で形成した皮膜からなる表面硬化方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5811783A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-22 | Seiko Epson Corp | 装飾用外装部品 |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP63046467A patent/JP2551806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01218898A (ja) | 1989-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |