JP2546844B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JP2546844B2 JP2546844B2 JP62197495A JP19749587A JP2546844B2 JP 2546844 B2 JP2546844 B2 JP 2546844B2 JP 62197495 A JP62197495 A JP 62197495A JP 19749587 A JP19749587 A JP 19749587A JP 2546844 B2 JP2546844 B2 JP 2546844B2
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- JP
- Japan
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- magneto
- recording medium
- optical recording
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
Description
【発明の詳細な説明】 「技術分野」 本発明は、ビーム照射によって情報の記録および再生
を行なうための光磁気記録媒体の改良に関する。
を行なうための光磁気記録媒体の改良に関する。
「従来技術およびその問題点」 この種の光磁気記録媒体の一例として、従来では特開
昭58−80142号に示すものがある。この光記録媒体１
は、第３図に示すように、基板２上に、磁性層３、記録
層４および保護層５が積層形成されてなっている。記録
層４は、比熱、熱伝導率がともに低い断熱効果に優れた
アクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの高分子材
料、または一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化チタンな
どの無機酸化物で形成されている。また、保護層５は、
通気性がなく、湿気に対して安定なアルミニウム、ビス
マス、鉛などの金属により形成されている。この光磁気
記録媒体１に対する記録再生は、第４図のように、基板
１側から、集光レンズ６によって集束されたレーザービ
ーム７を基板１に対して垂直に照射させながら、集光レ
ンズ６と光磁気記録媒体１を挟んで対向する側に配置し
た電磁石８から発せられる磁界を磁性層３のビーム照射
箇所に加えることで行なうようになっている。
昭58−80142号に示すものがある。この光記録媒体１
は、第３図に示すように、基板２上に、磁性層３、記録
層４および保護層５が積層形成されてなっている。記録
層４は、比熱、熱伝導率がともに低い断熱効果に優れた
アクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの高分子材
料、または一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化チタンな
どの無機酸化物で形成されている。また、保護層５は、
通気性がなく、湿気に対して安定なアルミニウム、ビス
マス、鉛などの金属により形成されている。この光磁気
記録媒体１に対する記録再生は、第４図のように、基板
１側から、集光レンズ６によって集束されたレーザービ
ーム７を基板１に対して垂直に照射させながら、集光レ
ンズ６と光磁気記録媒体１を挟んで対向する側に配置し
た電磁石８から発せられる磁界を磁性層３のビーム照射
箇所に加えることで行なうようになっている。
上記のように構成された光磁気記録媒体１では、磁性
膜３は、断熱効果に優れた記録層４に覆われているた
め、照射されるレーザービーム７による温度上昇が容易
で、熱エネルギーを効率良く用いることができ、保護層
５によって、大気の湿気、手の油や水分による酸化、腐
食を防止できる利点がある。
膜３は、断熱効果に優れた記録層４に覆われているた
め、照射されるレーザービーム７による温度上昇が容易
で、熱エネルギーを効率良く用いることができ、保護層
５によって、大気の湿気、手の油や水分による酸化、腐
食を防止できる利点がある。
しかしながら、保護層５は、上記のように磁性層３お
よび記録層４を保護する目的で形成されるものであっ
て、金属材料からなるため、電磁石８をこれに接触させ
て使用することができず、保護層５と電磁石８との間
は、通常0.2mm〜2mm程度のスペーシングＳを必要として
いる。
よび記録層４を保護する目的で形成されるものであっ
て、金属材料からなるため、電磁石８をこれに接触させ
て使用することができず、保護層５と電磁石８との間
は、通常0.2mm〜2mm程度のスペーシングＳを必要として
いる。
このようにスペーシングＳをとると、次のような問題
点が生じる。
点が生じる。
電磁石８からレーザービーム７の照射部分に充分な磁
界を加えることができない。
界を加えることができない。
スペーシングＳを所定値に保つための装置が必要とな
る。
る。
「発明の目的」 本発明は、基板とは反対側の面に電磁石とのスペーシ
ングをとらずに該電磁石を直接接触させて、電磁石から
の磁界をレーザービーム照射部分に充分に印加でき、磁
性膜の発熱が少なく、比較的小さい電流を用いることの
できる光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
ングをとらずに該電磁石を直接接触させて、電磁石から
の磁界をレーザービーム照射部分に充分に印加でき、磁
性膜の発熱が少なく、比較的小さい電流を用いることの
できる光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
「発明の概要」 本発明は、媒体面に電磁石を直接接触させることがで
きないかとの着想の基に完成されたもので、基板上に、
磁性層、記録層および保護層が形成されてなり、レーザ
ービームが該基板を通して磁性層に照射され、保護層側
に配置された電磁石の磁界が照射部分に加えられること
で、該照射部分に情報の記録および再生が行なわれる光
磁気記録媒体において、上記保護層表面に多数の小孔を
形成し、該小孔に潤滑材を含浸させて該保護層表面に潤
滑層を形成したこと、を特徴としている。
きないかとの着想の基に完成されたもので、基板上に、
磁性層、記録層および保護層が形成されてなり、レーザ
ービームが該基板を通して磁性層に照射され、保護層側
に配置された電磁石の磁界が照射部分に加えられること
で、該照射部分に情報の記録および再生が行なわれる光
磁気記録媒体において、上記保護層表面に多数の小孔を
形成し、該小孔に潤滑材を含浸させて該保護層表面に潤
滑層を形成したこと、を特徴としている。
「発明の実施例」 以下に、本発明の一実施例を第１図および第２図にし
たがって説明する。なお、第３図および第４図と共通す
る部分には同一符号が付してある。
たがって説明する。なお、第３図および第４図と共通す
る部分には同一符号が付してある。
基板２上に、磁性層３、記録層４および保護層５が積
層形成されている点は、従来例と同様である。基板２
は、比熱、熱伝導率がともに低く断熱効果に優れたガラ
スまたは高分子材で成形されている。記録媒体としての
磁性層３は、真空蒸着等の薄膜形成技術で形成されてい
る。記録層４は、比熱、熱伝導率がともに低い断熱硬化
に優れたアクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの高
分子材料、または一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化チ
タンなどの無機酸化物で形成されている。さらに保護層
５は、通気性がなく、湿気に対して安定なアルミニウ
ム、ビスマス、鉛などの金属により形成されている。
層形成されている点は、従来例と同様である。基板２
は、比熱、熱伝導率がともに低く断熱効果に優れたガラ
スまたは高分子材で成形されている。記録媒体としての
磁性層３は、真空蒸着等の薄膜形成技術で形成されてい
る。記録層４は、比熱、熱伝導率がともに低い断熱硬化
に優れたアクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの高
分子材料、または一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化チ
タンなどの無機酸化物で形成されている。さらに保護層
５は、通気性がなく、湿気に対して安定なアルミニウ
ム、ビスマス、鉛などの金属により形成されている。
本発明による光磁気記録媒体10は、上記の保護層５の
表面に、潤滑層11を形成してなっている。この潤滑層11
は、保護層５の効果を保持しつつ電磁石８を接触させる
ためのものである。潤滑層11は、脂肪酸エステル、フロ
ロカーボンあるいは脂肪酸を含んだポリエステル系樹脂
のうちから選ばれた一種または数種混合したものを、例
えばスピンコーティング、スパッタリング、蒸着などの
適宜手段により形成される。この場合、潤滑層11は、保
護層５上に膜厚10〜100μｍで積層形成するか、多数の
小孔を形成した保護層５の該小孔に上記の材料を含浸形
成することで行なわれる。
表面に、潤滑層11を形成してなっている。この潤滑層11
は、保護層５の効果を保持しつつ電磁石８を接触させる
ためのものである。潤滑層11は、脂肪酸エステル、フロ
ロカーボンあるいは脂肪酸を含んだポリエステル系樹脂
のうちから選ばれた一種または数種混合したものを、例
えばスピンコーティング、スパッタリング、蒸着などの
適宜手段により形成される。この場合、潤滑層11は、保
護層５上に膜厚10〜100μｍで積層形成するか、多数の
小孔を形成した保護層５の該小孔に上記の材料を含浸形
成することで行なわれる。
上記の光磁気記録媒体10によると、潤滑層11に電磁石
８を直接接触させることができ、電磁石８と磁性層３と
の間のスペーシングを従来例の半分以下にすることがで
きるため、磁性層３における集束されたレーザービーム
７の照射部分に、電磁石８からの磁界を小電流で充分に
印加することができる。したがって、磁性層３のビーム
照射部分は、電流による発熱が抑制される。また、スペ
ーシングＳを保持するための装置を不要にすることがで
きる。さらにまた、電磁石８のコイルのターン数を少な
くできるため、インダクタンスが小さくなり、高周波駆
動が可能となる。
８を直接接触させることができ、電磁石８と磁性層３と
の間のスペーシングを従来例の半分以下にすることがで
きるため、磁性層３における集束されたレーザービーム
７の照射部分に、電磁石８からの磁界を小電流で充分に
印加することができる。したがって、磁性層３のビーム
照射部分は、電流による発熱が抑制される。また、スペ
ーシングＳを保持するための装置を不要にすることがで
きる。さらにまた、電磁石８のコイルのターン数を少な
くできるため、インダクタンスが小さくなり、高周波駆
動が可能となる。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明の光磁気記録媒体によれ
ば、保護層表面に、電磁石と接触可能な潤滑層を形成し
たので、電磁石と媒体面との間にスペーシングをとらず
に、電磁石を潤滑層に直接接触させることができる。よ
って、磁性膜のビーム照射部分に、電磁石からの磁界を
小電流で充分に印加することができる。さらに、従来の
ようにスペーシングをとる必要がなくなるので、スペー
シングのための装置を不要にすることができる。
ば、保護層表面に、電磁石と接触可能な潤滑層を形成し
たので、電磁石と媒体面との間にスペーシングをとらず
に、電磁石を潤滑層に直接接触させることができる。よ
って、磁性膜のビーム照射部分に、電磁石からの磁界を
小電流で充分に印加することができる。さらに、従来の
ようにスペーシングをとる必要がなくなるので、スペー
シングのための装置を不要にすることができる。
第１図は本発明による光磁気記録媒体の断面図、第２図
は第１図の光磁気記録媒体を用いた情報の記録および再
生状態を示す説明図、第３図は従来の光磁気記録媒体の
断面図、第４図は第３図の光磁気記録媒体を用いた情報
の記録および再生状態を示す説明図である。 ２……基板、３……磁性層、４……記録層、５……保護
層、集光レンズ、７……レーザービーム、８……電磁
石、10……光磁気記録媒体、11……潤滑層。
は第１図の光磁気記録媒体を用いた情報の記録および再
生状態を示す説明図、第３図は従来の光磁気記録媒体の
断面図、第４図は第３図の光磁気記録媒体を用いた情報
の記録および再生状態を示す説明図である。 ２……基板、３……磁性層、４……記録層、５……保護
層、集光レンズ、７……レーザービーム、８……電磁
石、10……光磁気記録媒体、11……潤滑層。
Claims (3)
- 【請求項１】基板上に、磁性層、記録層および保護層が
形成されてなり、レーザービームが該基板を通して磁性
層に照射され、保護層側に配置された電磁石の磁界が照
射部分に加えられることで、該照射部分に情報の記録お
よび再生が行なわれる光磁気記録媒体において、 上記保護層表面に多数の小孔を形成し、該小孔に潤滑材
を含浸させて該保護層表面に潤滑層を形成したこと、を
特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項において、上記潤滑
層は、上記保護層の表面からの厚さが10〜100μｍであ
ること、を特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項３】基板上に、磁性層、記録層および保護層が
形成されてなり、レーザービームが該基板を通して磁性
層に照射され、保護層側に配置された電磁石の磁界が照
射部分に加えられることで、該照射部分に情報の記録お
よび再生が行なわれる光磁気記録媒体において、 上記潤滑層を、上記保護層上に厚さ10〜100μｍで積層
形成したこと、を特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62197495A JP2546844B2 (ja) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62197495A JP2546844B2 (ja) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6442039A JPS6442039A (en) | 1989-02-14 |
| JP2546844B2 true JP2546844B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=16375422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62197495A Expired - Fee Related JP2546844B2 (ja) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546844B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2570567B2 (ja) * | 1993-03-04 | 1997-01-08 | ソニー株式会社 | 光磁気記録装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57130235A (en) * | 1981-02-03 | 1982-08-12 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5857632A (ja) * | 1981-10-01 | 1983-04-05 | Nec Corp | 可撓性磁気記録体 |
| JPS58175136A (ja) * | 1982-04-08 | 1983-10-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気記録媒体用表面潤滑剤 |
| JPS61131231A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6398857A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-04-30 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスク |
-
1987
- 1987-08-07 JP JP62197495A patent/JP2546844B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6442039A (en) | 1989-02-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |