JP2544685B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JP2544685B2 JP2544685B2 JP2326314A JP32631490A JP2544685B2 JP 2544685 B2 JP2544685 B2 JP 2544685B2 JP 2326314 A JP2326314 A JP 2326314A JP 32631490 A JP32631490 A JP 32631490A JP 2544685 B2 JP2544685 B2 JP 2544685B2
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- Japan
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- magneto
- layer
- recording medium
- optical recording
- magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は小さなレーザパワーで記録できかつ再生C/N
の大きい光磁気記録媒体に関する。
の大きい光磁気記録媒体に関する。
従来、光磁気メモリー材料の磁性膜としてアモルファ
ス磁性合金膜Gd−Co、Gd−Fe、Tb−Fe、Gd−Tb−Fe、Dy
−Tb−Feなどが用いられていたが、基板上にこれらの磁
性合金膜を単味で設けたものは磁気光学特性、カーまた
はファラデー回転角が不十分で再生時のS/Nが低かっ
た。キュリー温度を上げると例えばGd−Tb−Feのように
カー回転角が向上するものがあるが、いまだカー回転角
は不十分であり、またキュリー温度が高いと記録時のレ
ーザパワーが大きいという欠点がある。
ス磁性合金膜Gd−Co、Gd−Fe、Tb−Fe、Gd−Tb−Fe、Dy
−Tb−Feなどが用いられていたが、基板上にこれらの磁
性合金膜を単味で設けたものは磁気光学特性、カーまた
はファラデー回転角が不十分で再生時のS/Nが低かっ
た。キュリー温度を上げると例えばGd−Tb−Feのように
カー回転角が向上するものがあるが、いまだカー回転角
は不十分であり、またキュリー温度が高いと記録時のレ
ーザパワーが大きいという欠点がある。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、磁
性薄層の膜厚と記録に必要なレーザ出力の間に密接な関
係があることを見出すとともに、磁性薄膜の一面に高屈
折率層と反射層を設けることによりファラデー効果を利
用した再生がより効率的になされうることを見出し、本
発明の完成に至った。
性薄層の膜厚と記録に必要なレーザ出力の間に密接な関
係があることを見出すとともに、磁性薄膜の一面に高屈
折率層と反射層を設けることによりファラデー効果を利
用した再生がより効率的になされうることを見出し、本
発明の完成に至った。
本発明の目的は記録時のメモリー媒体面でのレーザパ
ワーが小さい光磁気記録媒体を提供することである。ま
た、本発明の別の目的は再生時のS/Nすなわちファラデ
ー回転角の大きい光磁気記録媒体を提供することであ
る。
ワーが小さい光磁気記録媒体を提供することである。ま
た、本発明の別の目的は再生時のS/Nすなわちファラデ
ー回転角の大きい光磁気記録媒体を提供することであ
る。
本発明の光磁気記録媒体は、基板上に下記一般式
（Ｉ）〜（Ｖ）の中から選ばれる少なくとも一種の磁性
含金材料からなる磁性薄膜を設け、かつその上に高屈折
率層、反射層を順次設けてなり、さらに該磁性薄膜の膜
厚が150Å〜250Åであることを特徴とするものである。
（Ｉ）〜（Ｖ）の中から選ばれる少なくとも一種の磁性
含金材料からなる磁性薄膜を設け、かつその上に高屈折
率層、反射層を順次設けてなり、さらに該磁性薄膜の膜
厚が150Å〜250Åであることを特徴とするものである。
(TbXDy1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （Ｉ） (TbXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （II） (GdXDy1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （III） (GdXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （IV） (DyXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （Ｖ） （式中、0.0＜ｘ＜1.0、0.7≦ｙ＜1.0および0.1＜ｚ＜
0.3である。） 本発明における磁性薄層の組成ではFeとCoの２種類の
遷移金属によってファラデー回転角が改善され、そして
２種の希土類元素の組合せないし１種の希土類金属とBi
との組合せによって垂直磁気異方性とキュリー温度が調
整されるものと考えられる。本発明の磁性薄層に用いら
れる合金組成の代表的な例としては以下のものをあげる
ことができる。
0.3である。） 本発明における磁性薄層の組成ではFeとCoの２種類の
遷移金属によってファラデー回転角が改善され、そして
２種の希土類元素の組合せないし１種の希土類金属とBi
との組合せによって垂直磁気異方性とキュリー温度が調
整されるものと考えられる。本発明の磁性薄層に用いら
れる合金組成の代表的な例としては以下のものをあげる
ことができる。
(Tb0.5Dy0.5)0.22(Fe0.8Co0.2)0.78 …（ａ）、 (Tb0.9Bi0.1)0.17(Fe0.78Co0.22)0.83…（ｂ）、 (Gd0.5Dy0.5)0.18(Fe0.9Co0.1)0.82 …（ｃ）、 (Gd0.85Bi0.15)0.26(Fe0.88Co0.12)0.74…（ｄ）、
(Gd0.7Tb0.3)0.24(Fe0.95Co0.05)0.76…（ｅ）。
(Gd0.7Tb0.3)0.24(Fe0.95Co0.05)0.76…（ｅ）。
光磁気記録媒体の重要な課題は記録時には小さなエネ
ルギーを要し、一方再生時には大きなS/Nが得られねば
ならない。記録時のエネルギーは磁性膜のキュリー温
度、膜厚、媒体の熱伝導率が大きな要因である。第１図
は後記する表１の光磁気記録媒体No.1を用いて膜厚と記
録に必要なエネルギー（レーザ出力）との関係を調べた
グラフである。この図から明らかなように、膜厚200Å
（0.02μｍ）付近を臨界点としてこれより膜厚が大きく
なると膜厚とレーザ出力は直線的に増大し、これより薄
くなってもレーザ出力は増大してしまう。膜厚が200Å
より薄くなるとレーザ光が透過してしまい熱が蓄積され
ないためである。したがって、本発明では磁性薄層への
適正な蓄熱の観点から磁性薄層の厚さをこの臨界点の近
傍、すなわち150Å〜250Åとする。また、この膜厚では
再生はファラデー効果を用いて行うようになるので、再
生光入射側から効率的に再生を行うために本発明では反
射層を設置する。
ルギーを要し、一方再生時には大きなS/Nが得られねば
ならない。記録時のエネルギーは磁性膜のキュリー温
度、膜厚、媒体の熱伝導率が大きな要因である。第１図
は後記する表１の光磁気記録媒体No.1を用いて膜厚と記
録に必要なエネルギー（レーザ出力）との関係を調べた
グラフである。この図から明らかなように、膜厚200Å
（0.02μｍ）付近を臨界点としてこれより膜厚が大きく
なると膜厚とレーザ出力は直線的に増大し、これより薄
くなってもレーザ出力は増大してしまう。膜厚が200Å
より薄くなるとレーザ光が透過してしまい熱が蓄積され
ないためである。したがって、本発明では磁性薄層への
適正な蓄熱の観点から磁性薄層の厚さをこの臨界点の近
傍、すなわち150Å〜250Åとする。また、この膜厚では
再生はファラデー効果を用いて行うようになるので、再
生光入射側から効率的に再生を行うために本発明では反
射層を設置する。
以下、図面について本発明の光磁気記録媒体の構成を
説明する。
説明する。
第２図は本発明の光磁気記録媒体の層構成例を示す模
式図であって、基板１上に磁性薄層２、高屈折率層３、
反射層４および酸化防止層５を順次設けたものである。
磁性薄層２は単層であっても積層であっても良い。
式図であって、基板１上に磁性薄層２、高屈折率層３、
反射層４および酸化防止層５を順次設けたものである。
磁性薄層２は単層であっても積層であっても良い。
基板としては、ガラス、プラスチックなどを用いるこ
とができる。
とができる。
高屈折率層は例えばFe2O3、TiO2、CeO2、Sb2O3、W
O3、SiO、Bi2O3、CdOなどの屈折率が2.0以上の物をスッ
パタリング法によって付着させる。
O3、SiO、Bi2O3、CdOなどの屈折率が2.0以上の物をスッ
パタリング法によって付着させる。
酸化防止層としてはMgO、Al2O3、SiO2、TiO2、および
ThO2の酸化物が用いられ、膜厚は1000Å以上である。
ThO2の酸化物が用いられ、膜厚は1000Å以上である。
磁性薄層は150Å〜250Åの膜厚で付着しており、再生
時のレーザー光が透過可能な物である。
時のレーザー光が透過可能な物である。
反射層としては金属薄膜Cu、Ag、Cr、Al、Rh、Auおよ
びNiなどが用いられる。反射層に金属薄膜を用いる場合
はその上に酸化防止層が必要である。次に、本発明の光
磁気記録媒体の製造例を具体的に説明する。
びNiなどが用いられる。反射層に金属薄膜を用いる場合
はその上に酸化防止層が必要である。次に、本発明の光
磁気記録媒体の製造例を具体的に説明する。
厚さ1mmのガラス基板上に最初に磁性層をアルゴンガ
ス圧３×10-2Torr、放電々力300W、膜作製速度20Å/sec
の条件で作製する。スパッタリングは４つのターゲット
を用いて基板回転で行い例えばGd Tb Fe Co磁性層のタ
ーゲット上の配置はFeターゲット上にGd、Tb、Coのチッ
プが磁性層に対応する面積比で配置される。１つのター
ゲットは高屈折率層例えばSiOであり、もう１つのター
ゲットは反射層例えばCuであり、さらにもう１つのター
ゲットは酸化防止層例えばSiO2がそれぞれ配置される。
各々の積層膜は同一真空中でターゲット上のシャッター
が開閉されて順次膜が積層され光磁気記録媒体が作製さ
れるものである。
ス圧３×10-2Torr、放電々力300W、膜作製速度20Å/sec
の条件で作製する。スパッタリングは４つのターゲット
を用いて基板回転で行い例えばGd Tb Fe Co磁性層のタ
ーゲット上の配置はFeターゲット上にGd、Tb、Coのチッ
プが磁性層に対応する面積比で配置される。１つのター
ゲットは高屈折率層例えばSiOであり、もう１つのター
ゲットは反射層例えばCuであり、さらにもう１つのター
ゲットは酸化防止層例えばSiO2がそれぞれ配置される。
各々の積層膜は同一真空中でターゲット上のシャッター
が開閉されて順次膜が積層され光磁気記録媒体が作製さ
れるものである。
上述したようにして作製された本発明の光磁気記録媒
体の構成例を以下の表１に記載する。磁性薄層の欄にお
いて、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）は
それぞれ先に例示した合金組成に対応する。表１に示し
た本発明の光磁気記録媒体について、レーザ（波長800n
mおよび媒体面での強度1mW）を用いて測定したファラデ
ー回転角θＦと記録周波数2Mbit/sにおける記録レーザ
パワーを以下の表２に示す。
体の構成例を以下の表１に記載する。磁性薄層の欄にお
いて、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）は
それぞれ先に例示した合金組成に対応する。表１に示し
た本発明の光磁気記録媒体について、レーザ（波長800n
mおよび媒体面での強度1mW）を用いて測定したファラデ
ー回転角θＦと記録周波数2Mbit/sにおける記録レーザ
パワーを以下の表２に示す。
表２ 試料No. (deg) 記録レーザパワー １ 0.68 2.5 ２ 0.60 2.8 ３ 0.74 2.8 ４ 0.72 2.5 ５ 0.88 3.5 表２に示すように、本発明による光磁気記録媒体は磁
性合金膜の組成を前記のように規定したので十分な大き
さのファラデー回転角が得られる。ちなみに、Tb、FeC
o、TbDyFe、GdDyFe、GdTbFe等の従来の３元系磁性合金
膜で得られるカー回転角ないしファラデー回転角は0.2
〜0.35deg程度である（特開昭58−159252号公報等）の
で、本発明によりかなり改善されていることがわかる。
また、膜厚を特定の範囲に規定するとともに、高屈折率
層及び反射層を設ける構成としたので、同じ磁性合金膜
でもこのような層構成をとらない場合の記録レーザパワ
ーが５〜8mWであるのに比べ、本発明によれば記録時の
レーザパワーも小さくできることがわかる。
性合金膜の組成を前記のように規定したので十分な大き
さのファラデー回転角が得られる。ちなみに、Tb、FeC
o、TbDyFe、GdDyFe、GdTbFe等の従来の３元系磁性合金
膜で得られるカー回転角ないしファラデー回転角は0.2
〜0.35deg程度である（特開昭58−159252号公報等）の
で、本発明によりかなり改善されていることがわかる。
また、膜厚を特定の範囲に規定するとともに、高屈折率
層及び反射層を設ける構成としたので、同じ磁性合金膜
でもこのような層構成をとらない場合の記録レーザパワ
ーが５〜8mWであるのに比べ、本発明によれば記録時の
レーザパワーも小さくできることがわかる。
なお、本発明による光磁気記録媒体は光変調方式と磁
界変調方式のいずれにも適用でき、また重ね書きタイプ
の記録方式にも適用可能である。
界変調方式のいずれにも適用でき、また重ね書きタイプ
の記録方式にも適用可能である。
第１図は磁性薄層の膜厚と記録エネルギーとの関係を示
すグラフであり、第２図は光磁気記録媒体の層構成例を
示す模式図である。 １……基板、２……磁性薄層、３……高屈折率層、４…
…反射層、５……酸化防止層。
すグラフであり、第２図は光磁気記録媒体の層構成例を
示す模式図である。 １……基板、２……磁性薄層、３……高屈折率層、４…
…反射層、５……酸化防止層。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）の中か
ら選ばれる少なくとも一種の磁性合金材料からなる磁性
薄層を設け、かつその上に高屈折率層、反射層を順次設
けてなり、さらに該磁性薄層の膜厚が150Å〜250Åであ
ることを特徴とする光磁気記録媒体。 (TbXDy1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （Ｉ） (TbXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （II） (GdXDy1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （III） (GdXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （IV） (DyXBi1-X)Z(FeyCo1-y)1-Z （Ｖ） （式中、0.0＜ｘ＜1.0、0.7≦ｙ＜1.0および0.1＜ｚ＜
0.3である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2326314A JP2544685B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2326314A JP2544685B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光磁気記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57169707A Division JPS5961011A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181040A JPH03181040A (ja) | 1991-08-07 |
| JP2544685B2 true JP2544685B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=18186382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2326314A Expired - Lifetime JP2544685B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2544685B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5961011A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2326314A patent/JP2544685B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5961011A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03181040A (ja) | 1991-08-07 |
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