JP2536174B2 - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JP2536174B2 JP2536174B2 JP1212063A JP21206389A JP2536174B2 JP 2536174 B2 JP2536174 B2 JP 2536174B2 JP 1212063 A JP1212063 A JP 1212063A JP 21206389 A JP21206389 A JP 21206389A JP 2536174 B2 JP2536174 B2 JP 2536174B2
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- Japan
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- film
- magnetic
- eliminating
- gap
- magnetic head
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記憶装置に使用される薄膜磁気ヘッド
に関し、特に薄膜磁気ヘッドの段差解消膜に関する。
に関し、特に薄膜磁気ヘッドの段差解消膜に関する。
薄膜磁気ヘッドは、磁気回路を形成する磁性体及びこ
の磁気回路と鎖交するように巻かれたコイルがいずれも
薄膜で形成されている。そのため、寸法精度が高く、且
つ小型に形成できることから、低インダクタンスで高い
周波数まで駆動できるという大きな特徴を有している。
一方、薄膜磁気ヘッドは、構成要素がいずれも薄膜であ
るため、磁性膜の磁気特性の劣化やコイルの断線を防ぐ
意味から、各構成要素は極めて平坦な面上に作製される
ことが要求される。また、薄膜磁気ヘッドの作製時に
は、下部磁性膜及びコイル等による段差が生ずることが
避けられないため、段差解消膜が用いられている。この
段差解消膜には、例えば、フォトレジスタやポリイミド
等の有機物を加熱処理によってリフローしたものが用い
られる。
の磁気回路と鎖交するように巻かれたコイルがいずれも
薄膜で形成されている。そのため、寸法精度が高く、且
つ小型に形成できることから、低インダクタンスで高い
周波数まで駆動できるという大きな特徴を有している。
一方、薄膜磁気ヘッドは、構成要素がいずれも薄膜であ
るため、磁性膜の磁気特性の劣化やコイルの断線を防ぐ
意味から、各構成要素は極めて平坦な面上に作製される
ことが要求される。また、薄膜磁気ヘッドの作製時に
は、下部磁性膜及びコイル等による段差が生ずることが
避けられないため、段差解消膜が用いられている。この
段差解消膜には、例えば、フォトレジスタやポリイミド
等の有機物を加熱処理によってリフローしたものが用い
られる。
第２図（ａ），同図（ｂ）及び同図（ｃ）は、従来の
薄膜磁気ヘッドの構成を示す平面図及び断面図である。
１は下部磁性膜、２はギャップ、３は下部段差解消膜、
４はコイル、５は上部段差解消膜、６は上部磁性膜、７
は電極引出し線及び８は基板である。第２図に示す従来
の薄膜磁気ヘッドにおいては、磁気回路の長さを短くし
て磁気効率を高めるため、上部段差解消膜５の面積を下
部段差解消膜３の面積より狭くして、下部磁性膜３と上
部磁性膜５に囲まれる段差解消膜の断面積を小さく抑え
ている。従って、上部段差解消膜５は、下部段差解消膜
３とのみ下側の境界を接することになる。
薄膜磁気ヘッドの構成を示す平面図及び断面図である。
１は下部磁性膜、２はギャップ、３は下部段差解消膜、
４はコイル、５は上部段差解消膜、６は上部磁性膜、７
は電極引出し線及び８は基板である。第２図に示す従来
の薄膜磁気ヘッドにおいては、磁気回路の長さを短くし
て磁気効率を高めるため、上部段差解消膜５の面積を下
部段差解消膜３の面積より狭くして、下部磁性膜３と上
部磁性膜５に囲まれる段差解消膜の断面積を小さく抑え
ている。従って、上部段差解消膜５は、下部段差解消膜
３とのみ下側の境界を接することになる。
上述した段差解消膜に用いられる有機物は、熱処理に
より粘度が大きく変化する。また、熱処理された有機物
の表面層は酸化が進み、密着力が低下する場合がある。
このため、粘度の変化によっては、ストレスが増加する
と段差解消膜が剥離する場合があり、特に下部段差解消
膜３上に形成される上部段差解消膜５において剥離が生
じやすい。剥離が生ずるとその箇所から水分等が進入
し、コイル４が腐食する恐れがある。このコイル４の腐
食層は、後処理によっても除去は極めて難しく、且つ、
薄膜磁気ヘッドの信頼性を大幅に低下させる。また、剥
離が進行すると、コイル４が引き剥されて断線する場合
がある。
より粘度が大きく変化する。また、熱処理された有機物
の表面層は酸化が進み、密着力が低下する場合がある。
このため、粘度の変化によっては、ストレスが増加する
と段差解消膜が剥離する場合があり、特に下部段差解消
膜３上に形成される上部段差解消膜５において剥離が生
じやすい。剥離が生ずるとその箇所から水分等が進入
し、コイル４が腐食する恐れがある。このコイル４の腐
食層は、後処理によっても除去は極めて難しく、且つ、
薄膜磁気ヘッドの信頼性を大幅に低下させる。また、剥
離が進行すると、コイル４が引き剥されて断線する場合
がある。
本発明の目的は、かかる欠点を除去した信頼性の高い
薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、 （１）基板上に下部磁気膜，ギャップ膜，下部段差解消
膜，コイル，上部段差解消膜及び上部磁性膜が順次積層
され前記下部磁性膜及び前記上部磁性膜が前記ギャップ
膜を介してリング状の磁気回路が形成され、且つ、前記
磁気回路中に発生する磁束と鎖交するように前記コイル
が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部段
差解消膜と前記上部段差解消膜が同一材料からなり、且
つ、前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜
を介して積層されている領域およびその近傍では前記下
部段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われておらず、
前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜を介
して積層されている領域及びその近傍の除いて前記下部
段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われていることを
特徴とする。
膜，コイル，上部段差解消膜及び上部磁性膜が順次積層
され前記下部磁性膜及び前記上部磁性膜が前記ギャップ
膜を介してリング状の磁気回路が形成され、且つ、前記
磁気回路中に発生する磁束と鎖交するように前記コイル
が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部段
差解消膜と前記上部段差解消膜が同一材料からなり、且
つ、前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜
を介して積層されている領域およびその近傍では前記下
部段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われておらず、
前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜を介
して積層されている領域及びその近傍の除いて前記下部
段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われていることを
特徴とする。
（２）コイルが２層以上積層され、且つ、最上部の前記
段差解消膜が前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が、前記
上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜を介して
積層されている領域およびその近傍では他の下部段差解
消膜を覆っておらず、前記ギャップ膜を介して積層され
ている領域及びその近傍を除いて他の前記段差解消膜を
覆っていることを特徴とする。
段差解消膜が前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が、前記
上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャップ膜を介して
積層されている領域およびその近傍では他の下部段差解
消膜を覆っておらず、前記ギャップ膜を介して積層され
ている領域及びその近傍を除いて他の前記段差解消膜を
覆っていることを特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図（ａ），同図（ｂ）及び同図（ｃ）は、本発明
の一実施例を示す平面図及び断面図である。第１図を用
いて、本発明の薄膜磁気ヘッドについて製造工程順に説
明する。まず、基板８上に下部磁性膜１が形成される。
下部磁性膜１による段差は、従来例の場合と同様に有機
物からなる下部段差解消膜３により平坦化され、その上
にコイル４が形成される。コイル４による段差は、下部
段差解消膜３と同様に有機物からなる上部段差解消膜５
により平坦化され、その上に上部磁性膜６が形成され
る。ここで、上部段差解消膜５は、上部磁性膜６及び下
部磁性膜１がギャップ膜を介して積層された領域、すな
わち、ギャップ２部とその近傍では下部段差解消膜３を
覆わないように形成され、且つ、ギャップ２部とその近
傍を除いては下部段差解消膜３を覆うように形成され
る。従って、上部段差解消膜５は、その周辺部において
基板８と直接境界を接するため、下地が下部段差解消膜
３のみの場合に比較して大幅に密着力が向上する。ま
た、磁気回路を形成するギャップ２部の領域で、下部段
差解消膜３の端部より上部段差解消膜５の端部が後退し
ているため、下部磁性膜１及び上部磁性膜６によって囲
まれる段差解消膜の断面積を最小に抑えることができ、
下部磁性膜１及び上部磁性膜６により構成される磁気回
路の長さを短くすることができる。
の一実施例を示す平面図及び断面図である。第１図を用
いて、本発明の薄膜磁気ヘッドについて製造工程順に説
明する。まず、基板８上に下部磁性膜１が形成される。
下部磁性膜１による段差は、従来例の場合と同様に有機
物からなる下部段差解消膜３により平坦化され、その上
にコイル４が形成される。コイル４による段差は、下部
段差解消膜３と同様に有機物からなる上部段差解消膜５
により平坦化され、その上に上部磁性膜６が形成され
る。ここで、上部段差解消膜５は、上部磁性膜６及び下
部磁性膜１がギャップ膜を介して積層された領域、すな
わち、ギャップ２部とその近傍では下部段差解消膜３を
覆わないように形成され、且つ、ギャップ２部とその近
傍を除いては下部段差解消膜３を覆うように形成され
る。従って、上部段差解消膜５は、その周辺部において
基板８と直接境界を接するため、下地が下部段差解消膜
３のみの場合に比較して大幅に密着力が向上する。ま
た、磁気回路を形成するギャップ２部の領域で、下部段
差解消膜３の端部より上部段差解消膜５の端部が後退し
ているため、下部磁性膜１及び上部磁性膜６によって囲
まれる段差解消膜の断面積を最小に抑えることができ、
下部磁性膜１及び上部磁性膜６により構成される磁気回
路の長さを短くすることができる。
以上説明したように本発明による薄膜磁気ヘッドは、
下部段差解消膜と上部段差解消膜との大小関係をギャッ
プ形成領域とその他の領域で逆転させることにより、段
差解消膜の剥離が生じず、且つ、磁気回路の長さを最小
限にできるので磁気効率が高くできるという効果があ
る。
下部段差解消膜と上部段差解消膜との大小関係をギャッ
プ形成領域とその他の領域で逆転させることにより、段
差解消膜の剥離が生じず、且つ、磁気回路の長さを最小
限にできるので磁気効率が高くできるという効果があ
る。
第１図（ａ），同図（ｂ）及び同図（ｃ）は本発明の薄
膜磁気ヘッドの実施例を示す平面図及び断面図、第２図
（ａ），同図（ｂ）及び同図（ｃ）は従来の薄膜磁気ヘ
ッドを示す平面図及び断面図である。 １…下部磁性膜、２…ギャップ、３…下部段差解消膜、
４…コイル、５…上部段差解消膜、６…上部磁性膜、７
…電極、８…基板。
膜磁気ヘッドの実施例を示す平面図及び断面図、第２図
（ａ），同図（ｂ）及び同図（ｃ）は従来の薄膜磁気ヘ
ッドを示す平面図及び断面図である。 １…下部磁性膜、２…ギャップ、３…下部段差解消膜、
４…コイル、５…上部段差解消膜、６…上部磁性膜、７
…電極、８…基板。
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に下部磁性膜，ギャップ膜，下部段
差解消膜，コイル，上部段差解消膜および上部磁性膜が
順次積層され前記下部磁性膜および前記上部磁性膜が前
記ギャップ膜を介してリング状の磁気回路が形成され、
且つ、前記磁気回路中に発生する磁束と鎖交するように
前記コイルが形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記下部段差解消膜と前記上部段差解消膜が同一材料か
らなり、且つ、前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記
ギャップ膜を介して積層されている領域およびその近傍
では前記下部段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われ
ておらず、前記上部磁性膜と前記下部磁性膜が前記ギャ
ップ膜を介して積層されている領域およびその近傍の除
いて前記下部段差解消膜が前記上部段差解消膜に覆われ
ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】コイルが２層以上積層され、且つ、最上部
の前記段差解消膜が、前記上部磁性膜と前記下部磁性膜
が前記ギャップ膜を介して積層されている領域およびそ
の近傍では他の下部段差解消膜を覆っておらず、前記ギ
ャップ膜を介して積層されている領域およびその近傍を
除いて他の段差解消膜を覆っていることを特徴とする特
許請求の範囲第（１）項に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212063A JP2536174B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212063A JP2536174B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376011A JPH0376011A (ja) | 1991-04-02 |
| JP2536174B2 true JP2536174B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=16616253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1212063A Expired - Fee Related JP2536174B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2536174B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58111116A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6242311A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-24 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS63253513A (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 | Yamaha Corp | 薄膜磁気ヘツド |
-
1989
- 1989-08-16 JP JP1212063A patent/JP2536174B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0376011A (ja) | 1991-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |