JP2532828B2 - 熱可塑性成形材料の製造法 - Google Patents
熱可塑性成形材料の製造法Info
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- JP2532828B2 JP2532828B2 JP59192773A JP19277384A JP2532828B2 JP 2532828 B2 JP2532828 B2 JP 2532828B2 JP 59192773 A JP59192773 A JP 59192773A JP 19277384 A JP19277384 A JP 19277384A JP 2532828 B2 JP2532828 B2 JP 2532828B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F246/00—Copolymers in which the nature of only the monomers in minority is defined
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、成形体、特に光学的に高価値の製品、例え
ばレンズ、コンタクトレンズ、光学フィルター、プリズ
ム、グリッド、鏡、光電管、反射鏡、光弾性模型、義眼
等として構成される0.5を超えない混濁度（DIN 5036に
よる）を示す光学材料を製造するための熱可塑性成形材
料の製造法に関する。
ばレンズ、コンタクトレンズ、光学フィルター、プリズ
ム、グリッド、鏡、光電管、反射鏡、光弾性模型、義眼
等として構成される0.5を超えない混濁度（DIN 5036に
よる）を示す光学材料を製造するための熱可塑性成形材
料の製造法に関する。
従来の技術 光の特定のエネルギー成分が生物材料及び常用の工作
材料の１部に好ましくない作用をすることが知られて以
来、特にUV−光に対して敏感な材料を保護するための技
術開発が進められている。多くの場合この保護はUV−吸
収被覆層から成る。ポリオレフイン、PVC、ポリスチロ
ール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル等のようなプ
ラスチツクの安定化は実地において大きな意義がある。
光安定化の原理は一般に、エネルギー吸収の光化学一次
反応を吸収により阻止するか又はこの反応を逆行させる
ことに帰因する（“Ullmanns Encyclopdie der Tech
n,Chemie,"第４版、第15巻、第253〜273頁、Verlag Che
mie,1978年参照）。
材料の１部に好ましくない作用をすることが知られて以
来、特にUV−光に対して敏感な材料を保護するための技
術開発が進められている。多くの場合この保護はUV−吸
収被覆層から成る。ポリオレフイン、PVC、ポリスチロ
ール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル等のようなプ
ラスチツクの安定化は実地において大きな意義がある。
光安定化の原理は一般に、エネルギー吸収の光化学一次
反応を吸収により阻止するか又はこの反応を逆行させる
ことに帰因する（“Ullmanns Encyclopdie der Tech
n,Chemie,"第４版、第15巻、第253〜273頁、Verlag Che
mie,1978年参照）。
プラスチツクは一定の前提下に市販のUV−安定剤を添
加することによつてある程度安定化することができる。
光の吸収はランバート・ベール（Lambert−Beer）の法
則により層厚と共に増加することから、一般に十分は保
護作用は約100μｍ以上の層厚で初めて生じる。一般に
調剤へのUV−吸収剤の添加は0.1〜５重量％である。従
つて極めて薄い成形体、例えば組織、帯状体及び極めて
薄いシートの保護はしばしば満足のいく程度に得ること
はできない。UV−範囲で吸収性の、重合可能なモノマー
のUV−吸収剤作用を利用することもすでに公知である
〔例えばS.Yoshida,O.Vogl“Makromol,Chem."第183巻、
第259〜279頁（1982年）参照〕。
加することによつてある程度安定化することができる。
光の吸収はランバート・ベール（Lambert−Beer）の法
則により層厚と共に増加することから、一般に十分は保
護作用は約100μｍ以上の層厚で初めて生じる。一般に
調剤へのUV−吸収剤の添加は0.1〜５重量％である。従
つて極めて薄い成形体、例えば組織、帯状体及び極めて
薄いシートの保護はしばしば満足のいく程度に得ること
はできない。UV−範囲で吸収性の、重合可能なモノマー
のUV−吸収剤作用を利用することもすでに公知である
〔例えばS.Yoshida,O.Vogl“Makromol,Chem."第183巻、
第259〜279頁（1982年）参照〕。
これは一般にすでに記載されているUV−吸収剤の類に
属する；多くの場合、これらは２−ヒドロキシベンゾフ
エノン、２−ヒドロキシフエニルベンズトリアゾール、
α−シアノ−β−フエニルケイ皮酸、４−アミノ安息香
酸、サリチル酸、オキサールアニリドから誘導され、ビ
ニル基、アリル基、アクリロイル基又はメタクリロイル
基のような重合可能な単位を含む。これらは一定の重合
体又は共重合体で安定化の作用をする。文献によればポ
リエチレンの安定化はUV−吸収性モノマーとのグラフト
共重合により生じると思われる。“Chem.Abstr."第93
巻、72000dにはLD−ポリエチレンの安定化を、２−ヒド
ロキシ−４−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロポキシ）ベンゾフエノンで表面グラフトすることが
推薦されている（“Chem.Abstr."第94巻、140375cによ
ればＮ−メタクリロイルベンゾキサゾリノンも適してい
る）、同様な処理は“Chem.Abstr."第94巻、48206qにも
記載されている。２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−ベンゾフエノ
ンでのPVCの表面グラフトは“Chem.Abstr."第86巻、121
979kに記載された研究の対象である。クロロプレン及び
スチロールと２−ベンゾチアゾールチオール−メタクリ
レートとの共重合体は“Chem.Abstr."第95巻、63499bに
より製造することができる。これはネオプレン及びSKS
−30−ゴム用の加硫促進剤として使用する。ベンズチア
ゾリンチオン−メタクリレートでのPVCの安定化は“Che
m.Abstr."第92巻、59614fに記載されている。
属する；多くの場合、これらは２−ヒドロキシベンゾフ
エノン、２−ヒドロキシフエニルベンズトリアゾール、
α−シアノ−β−フエニルケイ皮酸、４−アミノ安息香
酸、サリチル酸、オキサールアニリドから誘導され、ビ
ニル基、アリル基、アクリロイル基又はメタクリロイル
基のような重合可能な単位を含む。これらは一定の重合
体又は共重合体で安定化の作用をする。文献によればポ
リエチレンの安定化はUV−吸収性モノマーとのグラフト
共重合により生じると思われる。“Chem.Abstr."第93
巻、72000dにはLD−ポリエチレンの安定化を、２−ヒド
ロキシ−４−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロポキシ）ベンゾフエノンで表面グラフトすることが
推薦されている（“Chem.Abstr."第94巻、140375cによ
ればＮ−メタクリロイルベンゾキサゾリノンも適してい
る）、同様な処理は“Chem.Abstr."第94巻、48206qにも
記載されている。２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−ベンゾフエノ
ンでのPVCの表面グラフトは“Chem.Abstr."第86巻、121
979kに記載された研究の対象である。クロロプレン及び
スチロールと２−ベンゾチアゾールチオール−メタクリ
レートとの共重合体は“Chem.Abstr."第95巻、63499bに
より製造することができる。これはネオプレン及びSKS
−30−ゴム用の加硫促進剤として使用する。ベンズチア
ゾリンチオン−メタクリレートでのPVCの安定化は“Che
m.Abstr."第92巻、59614fに記載されている。
４−ビニル−α−シアン−β−フエニル−ケイ皮酸ビ
ニルエステルはスチロール及びメチルメタクリレート
（MMA）とのホモ−共重合体用モノマーとして記載され
ている（“Chem.Abstr."第95巻、187714n）。同様に6,8
−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニルメチルアクリ
レートはMMA又は塩化ビニルと共重合される（“Chem.Ab
str."第95巻、95740y）。α−オレフインとｏ−ヒドロ
キシベンゾフエノン−（メタ）−アクリレートからなる
共重合体は西ドイツ特許出願公開第1520458号公報から
公知である。この共重合体は特に自己支持性のフイル
ム、支持体上のフイルム等を製造するのに適している。
同様に４位に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２
−ヒドロキシベンゾフエノン誘導体は、スチロール、ア
クリルニトリル及び／又はMMAとの共重合体として推薦
されている（“Chem.Abstr."第96巻、53957f）。特にMM
Aとの6,8−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニル−メ
タクリレートの共重合体は“Chem.Abstr."第90巻、1690
84zに記載されている。"Europ.Polym.J."1977,（13）91
5−19（“Chem.Abstr.88,191967v）によれば、４−ベン
ゾイル−３−ヒドロキシフエニルアクリレートはABSと
共重合可能である。
ニルエステルはスチロール及びメチルメタクリレート
（MMA）とのホモ−共重合体用モノマーとして記載され
ている（“Chem.Abstr."第95巻、187714n）。同様に6,8
−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニルメチルアクリ
レートはMMA又は塩化ビニルと共重合される（“Chem.Ab
str."第95巻、95740y）。α−オレフインとｏ−ヒドロ
キシベンゾフエノン−（メタ）−アクリレートからなる
共重合体は西ドイツ特許出願公開第1520458号公報から
公知である。この共重合体は特に自己支持性のフイル
ム、支持体上のフイルム等を製造するのに適している。
同様に４位に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２
−ヒドロキシベンゾフエノン誘導体は、スチロール、ア
クリルニトリル及び／又はMMAとの共重合体として推薦
されている（“Chem.Abstr."第96巻、53957f）。特にMM
Aとの6,8−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニル−メ
タクリレートの共重合体は“Chem.Abstr."第90巻、1690
84zに記載されている。"Europ.Polym.J."1977,（13）91
5−19（“Chem.Abstr.88,191967v）によれば、４−ベン
ゾイル−３−ヒドロキシフエニルアクリレートはABSと
共重合可能である。
米穀特許第4260768号明細書には、例えばスチロール
又はビニルピロリドンと共重合可能のUV−吸収剤とし
て、２−（2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
アルキルフエノールアシルエステルが推薦されている。
共重合可能の４−アクリロイルオキシベンゾール−１−
アルキル−１−フエニルヒドラゾンは米国特許第424771
4号明細書にまた４−アルコキシ−２′−アクリルオキ
シ−ベンズアジンは米国特許第4260809号明細書にUV−
安定剤として記載されている。他のコモノマーは２−シ
アン−3,3−ジフエニルアクリルオキシ）アルキレン−
エチレンエーテル（米国特許第4202834号明細書）及び
−アクリル酸エステル（米国特許第4178303号明細書）
である。殺菌阻止されたピペリジン誘導体も提案されて
いる（西ドイツ特許出願公開第2651511号、同第2258752
号、同第2040983号、同第2352606号明細書）。
又はビニルピロリドンと共重合可能のUV−吸収剤とし
て、２−（2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
アルキルフエノールアシルエステルが推薦されている。
共重合可能の４−アクリロイルオキシベンゾール−１−
アルキル−１−フエニルヒドラゾンは米国特許第424771
4号明細書にまた４−アルコキシ−２′−アクリルオキ
シ−ベンズアジンは米国特許第4260809号明細書にUV−
安定剤として記載されている。他のコモノマーは２−シ
アン−3,3−ジフエニルアクリルオキシ）アルキレン−
エチレンエーテル（米国特許第4202834号明細書）及び
−アクリル酸エステル（米国特許第4178303号明細書）
である。殺菌阻止されたピペリジン誘導体も提案されて
いる（西ドイツ特許出願公開第2651511号、同第2258752
号、同第2040983号、同第2352606号明細書）。
発明が解決しようとする問題点 予め規定された光学特性を有する製品は、プラスチツ
ク、特にアクリルガラスから、注型、プレス、押出し、
ダイカスト、押出しプレス及び引抜き法により製造され
る。この場合プラスチツク製品それ自体をUV−光の好ま
しくない作用から保護すべきこと、また特に硬質のUV−
光の好ましくない光量の通過を阻止することの問題が生
じる。これらの製品は例えばレンズ、コンタクトレン
ズ、光学フイルター、プリズム、グリツド、鏡、光電
管、反射鏡、光弾性模型、義眼等である。
ク、特にアクリルガラスから、注型、プレス、押出し、
ダイカスト、押出しプレス及び引抜き法により製造され
る。この場合プラスチツク製品それ自体をUV−光の好ま
しくない作用から保護すべきこと、また特に硬質のUV−
光の好ましくない光量の通過を阻止することの問題が生
じる。これらの製品は例えばレンズ、コンタクトレン
ズ、光学フイルター、プリズム、グリツド、鏡、光電
管、反射鏡、光弾性模型、義眼等である。
高い光学的要求が設定されている成形体を製造するに
は、成形材料に移動可能のUV−吸収剤を添加するだけで
は不十分である、それというのも成形体へのUV−吸収剤
含量に関して排除することのできないコントロール不能
の配勾及び不均一性（これは時間の経過につれて初めて
生じることもある）は甘受することができないからであ
る。更に均質性が完全でまた等方性が完全な場合にも重
合体中にUV−吸収剤が存在することによつて相殺される
相互作用及び熱二次現象による問題が高価な光学系で予
想される。
は、成形材料に移動可能のUV−吸収剤を添加するだけで
は不十分である、それというのも成形体へのUV−吸収剤
含量に関して排除することのできないコントロール不能
の配勾及び不均一性（これは時間の経過につれて初めて
生じることもある）は甘受することができないからであ
る。更に均質性が完全でまた等方性が完全な場合にも重
合体中にUV−吸収剤が存在することによつて相殺される
相互作用及び熱二次現象による問題が高価な光学系で予
想される。
この解決法として例えば光線保護分野で通常用いられ
ているような短波光線に対する遮断層を成形体に設ける
ことが予測された、それというのもこの技術分野では、
前述の諸明細書に記載されているように反覆して使用可
能の生成物を製造することが本質的な改良手段として存
在するからである。
ているような短波光線に対する遮断層を成形体に設ける
ことが予測された、それというのもこの技術分野では、
前述の諸明細書に記載されているように反覆して使用可
能の生成物を製造することが本質的な改良手段として存
在するからである。
いずれにせよこれから製造された成形体がその光学特
性に関して高い要求を満足し、可能な場合には機械的及
び使用上本質的な特性を損なわないUV−光の有害な作用
に対して保護されるか又は保護可能の熱可塑性成形材料
の製造法を提供するという課題が存在する。
性に関して高い要求を満足し、可能な場合には機械的及
び使用上本質的な特性を損なわないUV−光の有害な作用
に対して保護されるか又は保護可能の熱可塑性成形材料
の製造法を提供するという課題が存在する。
問題点を解決するための手段 ところで式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表わし、Ｙは酸素
原子又は基 を表わし、R2は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキ
ル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ｚは （ａ）２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール
基： （式中、R3は水素原子又は、炭素原子数１〜12のアルキ
ル基を表わし、ｑは０又は１〜４の整数を表わす）を表
わし、Ｚは酸素原子又は−（CH2）ｑ−を介してか又は
直接フェニル基に結合していてよく、その際それぞれ残
りの位置は水素原子を有し、 （ｂ）α−シアノ−β，β−ジフェニル基： （式中、ｑは１〜４の整数を表わし、R5及びＲ′５はそ
れぞれ場合によってはC1〜C4−アルキル基で置換された
フェニル基を表わす）、 （ｃ）ヒドロキシ基含有安息香酸エステル： （式中、双方の基R6又はＲ′６の一方はヒドロキシ基を
表わし、他方は水素原子を表わし、R7は水素原子又は、
炭素原子数１〜10のアルキル基を表わし、それぞれ自由
な非置換位置を介してフェニル基に結合している）、 （ｄ）オキサールアニリド： （式中、R8及びR9は、同一でも異なっていてもよく、水
素原子又は、炭素原子数１〜８のアルキル基又はアルコ
キシ基を表わし、ｒは０又は１を表わし、この場合に
は、酸素原子を介して又は直接フェニル基の１つに結合
を生じており、その際他方はなお自由な位置に水素原子
を有する）又は （ｅ）ｐ−アミノ安息香酸エステル誘導体 （式中、R10及びR11は、同一でも異なっていてもよく、
水素原子又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
す）を表わし、基Ｚはｎが１の場合この基に属する酸素
原子を介して結合することはない〕で示される、UV光か
ら保護する成分を含有するラジカル重合可能なモノマー
を、自体公知のラジカル重合可能な他のモノマーと一緒
にアゾ化合物または過酸化物の型のラジカル形成性開始
剤のモノマーの全体量に対して0.01〜１重量％の存在下
に重合させることよりなる、熱可塑性成形材料の製造法
は、本課題を満足することが判明した。特にこの課題
は、成形材料がアクリル樹脂の光学的に好ましい前提を
有する場合に、すねわち他の自体公知のモノマーが全部
又は主として（すなわち耐UV−光性でないモノマー成分
の合計に対して50重量より多い）アクリル酸及び／又は
メタクリル酸の誘導体、特にそのエステルである場合に
満足される。
原子又は基 を表わし、R2は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキ
ル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ｚは （ａ）２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール
基： （式中、R3は水素原子又は、炭素原子数１〜12のアルキ
ル基を表わし、ｑは０又は１〜４の整数を表わす）を表
わし、Ｚは酸素原子又は−（CH2）ｑ−を介してか又は
直接フェニル基に結合していてよく、その際それぞれ残
りの位置は水素原子を有し、 （ｂ）α−シアノ−β，β−ジフェニル基： （式中、ｑは１〜４の整数を表わし、R5及びＲ′５はそ
れぞれ場合によってはC1〜C4−アルキル基で置換された
フェニル基を表わす）、 （ｃ）ヒドロキシ基含有安息香酸エステル： （式中、双方の基R6又はＲ′６の一方はヒドロキシ基を
表わし、他方は水素原子を表わし、R7は水素原子又は、
炭素原子数１〜10のアルキル基を表わし、それぞれ自由
な非置換位置を介してフェニル基に結合している）、 （ｄ）オキサールアニリド： （式中、R8及びR9は、同一でも異なっていてもよく、水
素原子又は、炭素原子数１〜８のアルキル基又はアルコ
キシ基を表わし、ｒは０又は１を表わし、この場合に
は、酸素原子を介して又は直接フェニル基の１つに結合
を生じており、その際他方はなお自由な位置に水素原子
を有する）又は （ｅ）ｐ−アミノ安息香酸エステル誘導体 （式中、R10及びR11は、同一でも異なっていてもよく、
水素原子又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
す）を表わし、基Ｚはｎが１の場合この基に属する酸素
原子を介して結合することはない〕で示される、UV光か
ら保護する成分を含有するラジカル重合可能なモノマー
を、自体公知のラジカル重合可能な他のモノマーと一緒
にアゾ化合物または過酸化物の型のラジカル形成性開始
剤のモノマーの全体量に対して0.01〜１重量％の存在下
に重合させることよりなる、熱可塑性成形材料の製造法
は、本課題を満足することが判明した。特にこの課題
は、成形材料がアクリル樹脂の光学的に好ましい前提を
有する場合に、すねわち他の自体公知のモノマーが全部
又は主として（すなわち耐UV−光性でないモノマー成分
の合計に対して50重量より多い）アクリル酸及び／又は
メタクリル酸の誘導体、特にそのエステルである場合に
満足される。
耐UV−光性モノマーは一般に、波長範囲250〜350nm
で、クロロホルム中の濃度0.002％（分光分析のため）
及び層厚d5mmで入射光の10％以上を吸収するという前提
を満足する。これは定義上常用のテルモプラストの芳香
族成分と異なる。共重合体Ｐ中に耐UV−光性モノマー
（通常モノマーの総量に対して0.1〜20重量％、有利に
は３〜12重量％、特に５〜10重量％）を組込むには、モ
ノマーの化学特性との関連において、自体公知の重合法
で行うことができる。その重合可能の単位は、普通アク
リル基、メタクリル基、ビニル基又はアリル基であり、
これらの基は自体公知の方法でラジカル重合可能であ
る。
で、クロロホルム中の濃度0.002％（分光分析のため）
及び層厚d5mmで入射光の10％以上を吸収するという前提
を満足する。これは定義上常用のテルモプラストの芳香
族成分と異なる。共重合体Ｐ中に耐UV−光性モノマー
（通常モノマーの総量に対して0.1〜20重量％、有利に
は３〜12重量％、特に５〜10重量％）を組込むには、モ
ノマーの化学特性との関連において、自体公知の重合法
で行うことができる。その重合可能の単位は、普通アク
リル基、メタクリル基、ビニル基又はアリル基であり、
これらの基は自体公知の方法でラジカル重合可能であ
る。
式Ｉのモノマーがハロゲン置換分を有する場合、その
ハロゲン置換分は臭素−又は塩素置換分である。特に式
−Ｉ（ａ）の代表的なものとしては、例えば米国特許第
3159646号及び同第3399173号明細書により製造すること
のできる２−ヒドロキシフエニルベンズトリアゾール化
合物を上げることができる。この例として２−（２′−
ヒドロキシ−３′−メタクリロイルアミドメチル−５′
−アルキル）ベンゾトリアゾール（アルキル＝例えばメ
チル又はオクチル）、２−（２′−ヒドロキシフエニ
ル）−５−メタクリロイルアミド−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシフエニル）−５−メタクリ
ロイルアミドメチルベンゾトリアゾール、更に２−（２
−ヒドロキシ−５−ビニルフエニル）−2H−ベンゾトリ
アゾールが挙げられる。
ハロゲン置換分は臭素−又は塩素置換分である。特に式
−Ｉ（ａ）の代表的なものとしては、例えば米国特許第
3159646号及び同第3399173号明細書により製造すること
のできる２−ヒドロキシフエニルベンズトリアゾール化
合物を上げることができる。この例として２−（２′−
ヒドロキシ−３′−メタクリロイルアミドメチル−５′
−アルキル）ベンゾトリアゾール（アルキル＝例えばメ
チル又はオクチル）、２−（２′−ヒドロキシフエニ
ル）−５−メタクリロイルアミド−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシフエニル）−５−メタクリ
ロイルアミドメチルベンゾトリアゾール、更に２−（２
−ヒドロキシ−５−ビニルフエニル）−2H−ベンゾトリ
アゾールが挙げられる。
また式Ｉ（ｂ）の代表的なものは特にビニル化合物例
えば４−エチル−α−シアノ−β−フエニルケイ皮酸ビ
ニルエステル及び不飽和エーテル、例えば２−シアン−
3,3−ジフエニルアクリルオキシ）−アルキレンエチレ
ンエーテル及び（メタ）−アクリル酸誘導体、例えば
（２−シアノ−3,3−ジフエニルアクリルオキシ）アル
キレンアクリル酸エステル、２−（アクリロイル）オキ
シエチル−２−シアノ−3,3−ジフエニルアクリレート
である。
えば４−エチル−α−シアノ−β−フエニルケイ皮酸ビ
ニルエステル及び不飽和エーテル、例えば２−シアン−
3,3−ジフエニルアクリルオキシ）−アルキレンエチレ
ンエーテル及び（メタ）−アクリル酸誘導体、例えば
（２−シアノ−3,3−ジフエニルアクリルオキシ）アル
キレンアクリル酸エステル、２−（アクリロイル）オキ
シエチル−２−シアノ−3,3−ジフエニルアクリレート
である。
式Ｉの前記モノマーの製造は文献から公知であり、ま
たこのモノマーは公知の方法により又は自体公知の方法
に類似する方法で製造することができる。耐UV−光性成
分を分子中に有するモノマー、特に式Ｉの化合物の量
は、共重合体Ｐに対し0.1〜20重量％、特に５〜10重量
％である。
たこのモノマーは公知の方法により又は自体公知の方法
に類似する方法で製造することができる。耐UV−光性成
分を分子中に有するモノマー、特に式Ｉの化合物の量
は、共重合体Ｐに対し0.1〜20重量％、特に５〜10重量
％である。
共重合体Ｐがアクリル樹脂である実施態様は特に重要
である。このアクリル樹脂は、耐UV−光性モノマー、特
に式Ｉのモノマーと、一般式II: 〔式中Ｒ′１は水素原子又はメチル基を表わし、R14は
炭素原子数１〜８のアルキル基又はフエニル基又は、炭
素原子数７〜12のアルアルキル基を表わす〕のアクリル
酸及び／又はメタクリル酸のエステル１種以上、及び場
合によつては一般式III: 〔式中Ｒ″１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｂは−
Ｏ−基又は を表わし、Ａは炭素原子数２〜６の炭化水素基を表わ
し、Ｑはヒドロキシ基、メトキシ基からヘキシルオキシ
基までの基又は を表わし、R15は水素原子又は、炭素原子数１〜６のア
ルキル基を表わし、R16およびR17は炭素原子数１〜６の
アルキル基を表わす〕のモノマーとから成る共重合体で
あり、この場合一般式II及びIIIのモノマーの合計量は
アクリル樹脂（共重合体Ｐ）に対して70〜99.9重量％で
あり、その際式II及びIIIのモノマーは相互に交換可能
であり、また場合によつてはアクリル樹脂（共重合体
Ｐ）に対して０〜25重量％の割合で式IV: 〔式中R19はニトリル基、場合によつてはＣ１〜４−ア
ルキル基で置換されていてもよいフエニル基、複素環式
基又は−CH＝CH2基を表わし、R20は水素原子又はメチル
基を表わし、R18は水素原子を表わすか、又はR19と一緒
になつて無水物基： を表わし、この場合R20は同時に水素原子であり、或い
はR19は基 を表わし、R21は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
し、この場合R18及びR20は水素原子を表わす〕の群から
成るモノマーを含み、モノマーI,II及び場合によつては
III、又は／及びIVから製造された重合体Ｐのビカー軟
化温度（DIN 53460による）は65℃を下廻らない。
である。このアクリル樹脂は、耐UV−光性モノマー、特
に式Ｉのモノマーと、一般式II: 〔式中Ｒ′１は水素原子又はメチル基を表わし、R14は
炭素原子数１〜８のアルキル基又はフエニル基又は、炭
素原子数７〜12のアルアルキル基を表わす〕のアクリル
酸及び／又はメタクリル酸のエステル１種以上、及び場
合によつては一般式III: 〔式中Ｒ″１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｂは−
Ｏ−基又は を表わし、Ａは炭素原子数２〜６の炭化水素基を表わ
し、Ｑはヒドロキシ基、メトキシ基からヘキシルオキシ
基までの基又は を表わし、R15は水素原子又は、炭素原子数１〜６のア
ルキル基を表わし、R16およびR17は炭素原子数１〜６の
アルキル基を表わす〕のモノマーとから成る共重合体で
あり、この場合一般式II及びIIIのモノマーの合計量は
アクリル樹脂（共重合体Ｐ）に対して70〜99.9重量％で
あり、その際式II及びIIIのモノマーは相互に交換可能
であり、また場合によつてはアクリル樹脂（共重合体
Ｐ）に対して０〜25重量％の割合で式IV: 〔式中R19はニトリル基、場合によつてはＣ１〜４−ア
ルキル基で置換されていてもよいフエニル基、複素環式
基又は−CH＝CH2基を表わし、R20は水素原子又はメチル
基を表わし、R18は水素原子を表わすか、又はR19と一緒
になつて無水物基： を表わし、この場合R20は同時に水素原子であり、或い
はR19は基 を表わし、R21は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
し、この場合R18及びR20は水素原子を表わす〕の群から
成るモノマーを含み、モノマーI,II及び場合によつては
III、又は／及びIVから製造された重合体Ｐのビカー軟
化温度（DIN 53460による）は65℃を下廻らない。
特に有利なのはメチルメタクリレート（MMA）と式Ｉ
の化合物、特に式IIの他のコモノマー、例えばアクリル
酸のメチルエステル、並びにアクリル酸及び／又はメタ
アクリル酸のエチル−、ブチル−、エチルヘキシル−、
フエニルエチル−エステルとの共重合体である。この場
合一般式IIのモノマーは共重合体Ｐの70〜99.9重量％、
また一般式IIIのモノマーは０〜25重量％である。
の化合物、特に式IIの他のコモノマー、例えばアクリル
酸のメチルエステル、並びにアクリル酸及び／又はメタ
アクリル酸のエチル−、ブチル−、エチルヘキシル−、
フエニルエチル−エステルとの共重合体である。この場
合一般式IIのモノマーは共重合体Ｐの70〜99.9重量％、
また一般式IIIのモノマーは０〜25重量％である。
一般にメチルメタクリレートの量は共重合体Ｐに対し
て少なくとも60重量％、有利には65〜90重量％、特に75
±10重量、式IIの他のコモノマ量は０〜30重量％、有利
には５〜25重量％、特に18±５重量％である。しかしコ
モノマーとして、式IIのモノマーを全部又は部分的に代
える式IIIの化合物、例えばヒドロキシエチル−又はヒ
ドロキシプロピルアクリレート又は−メタクリレート或
いは相応するアルキルエーテル、特にメチル−及びエチ
ル−エーテルが共重合体Ｐ中に０〜99.9重量％、有利に
は５〜20重量％の量で存在していてもよい。例えば式Ｉ
のモノマー0.1〜20重量％とヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート80〜99.9重量％とから成る共重合体
は、いわゆる「ソフトレンズ」に特に高い品質度で設定
される要求を満足する。最後に式IVのコモノマー、特に
アクリルニトリル、スチロール又は／及びそのアルキル
誘導体例えばα−メチルスチロール、ｐ−メチルスチロ
ール、無水マレイン酸並びに複素環式ビニル化合物、特
にＮ−ビニルピロリドンの１種以上が０〜25重量％の量
で共重合体中に存在していてもよい。この場合式IVの個
々のモノマー量は一般に２〜15重量％である。
て少なくとも60重量％、有利には65〜90重量％、特に75
±10重量、式IIの他のコモノマ量は０〜30重量％、有利
には５〜25重量％、特に18±５重量％である。しかしコ
モノマーとして、式IIのモノマーを全部又は部分的に代
える式IIIの化合物、例えばヒドロキシエチル−又はヒ
ドロキシプロピルアクリレート又は−メタクリレート或
いは相応するアルキルエーテル、特にメチル−及びエチ
ル−エーテルが共重合体Ｐ中に０〜99.9重量％、有利に
は５〜20重量％の量で存在していてもよい。例えば式Ｉ
のモノマー0.1〜20重量％とヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート80〜99.9重量％とから成る共重合体
は、いわゆる「ソフトレンズ」に特に高い品質度で設定
される要求を満足する。最後に式IVのコモノマー、特に
アクリルニトリル、スチロール又は／及びそのアルキル
誘導体例えばα−メチルスチロール、ｐ−メチルスチロ
ール、無水マレイン酸並びに複素環式ビニル化合物、特
にＮ−ビニルピロリドンの１種以上が０〜25重量％の量
で共重合体中に存在していてもよい。この場合式IVの個
々のモノマー量は一般に２〜15重量％である。
しかし共重合体Ｐはもつぱら式IIの他のモノマーにMM
Aとして、例えばエチルメタクリレート、イソブチルメ
タクリレート等として組込まれていてもよい。
Aとして、例えばエチルメタクリレート、イソブチルメ
タクリレート等として組込まれていてもよい。
成形材料を作るアクリル樹脂は、共重合体Ｐと他のポ
リ（メタ）アクリレート、例えば式II〜IVのモノマーを
重合又は共重合することによつて製造した重合体（式Ｉ
のモノマーを含まない共重合体Ｐに相当する状態）との
混合物であつてもよく、この場合一般に全成形材料中の
式Ｉのモノマー含有量は0.1重量％、有利には３重量％
を下廻らない。
リ（メタ）アクリレート、例えば式II〜IVのモノマーを
重合又は共重合することによつて製造した重合体（式Ｉ
のモノマーを含まない共重合体Ｐに相当する状態）との
混合物であつてもよく、この場合一般に全成形材料中の
式Ｉのモノマー含有量は0.1重量％、有利には３重量％
を下廻らない。
一般にアクリル樹脂、特に共重合体Ｐの分子量は1000
0〜500000、有利には120,000〜220,000である。比重は
1.3〜2.3である。
0〜500000、有利には120,000〜220,000である。比重は
1.3〜2.3である。
光学的に高価な成形体を製造するための熱可塑性プラ
スチツク成形材料とは、その値が0.5％、有利には0.3％
を上廻る材料混濁度（DIN 5036による）を有さない成
形体（場合によつては目的に応じて表面加工した後）を
生じるものと理解すべきである。
スチツク成形材料とは、その値が0.5％、有利には0.3％
を上廻る材料混濁度（DIN 5036による）を有さない成
形体（場合によつては目的に応じて表面加工した後）を
生じるものと理解すべきである。
共重合体Ｐの形の熱可塑性成形材料用の製造法として
は、慣用の成形材料を製造する公知のすべての重合法が
挙げられる。これは特に不連続的及び連続的な塊状重合
法（Winnacker−Ｋchler著、“Chemische Technologi
e"第６巻、“Organische Technologie II,"第414頁、Ca
rl Hanser社版、1982年）及び懸濁重合法（Schildknech
t/Skeist著、"Polymerization Processes"（Volume 29
of High Polymers,Wiley−Interscience 1977）、第133
頁）である。
は、慣用の成形材料を製造する公知のすべての重合法が
挙げられる。これは特に不連続的及び連続的な塊状重合
法（Winnacker−Ｋchler著、“Chemische Technologi
e"第６巻、“Organische Technologie II,"第414頁、Ca
rl Hanser社版、1982年）及び懸濁重合法（Schildknech
t/Skeist著、"Polymerization Processes"（Volume 29
of High Polymers,Wiley−Interscience 1977）、第133
頁）である。
開始剤としてはアゾ化合物（プロトタイプアゾイル酪
酸ニトリルAIBN）又は有機過酸化物例えばジアリールペ
ルオキシド又はペルエステル（プロトタイプ：ジベンゾ
イルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド）、（し
かし調節剤として使用したメルカプタン又はチオエーテ
ルに対する反応性の故にペルオキシジカーボネートはほ
とんど使用されない）を使用する。使用した開始剤の種
類及び量は本質的に前記の重合法の種類に依存する。配
量は通例モノマーの全量に対して0.01〜１重量％であ
る。分子量を調整するため特にPMMA−成形材料ではメル
カプタン、例えばアルキルメルカプタン、又は単官能性
又は多官能性アルコールとのチオグリコール−又はメル
カプトプロピオン酸のエステルを0.1〜１％、一般には
0.2〜0.5％使用する。滑剤又は離型剤としては常法の通
り長鎖のアルコール、エステル又はカルボン酸、例えば
ステアリルアルコール又はステアリン酸を使用する。他
の添加剤に関してもPMMA−成形材料の場合、この添加物
が光学特性を損なわない限り特に限定されることはな
い。
酸ニトリルAIBN）又は有機過酸化物例えばジアリールペ
ルオキシド又はペルエステル（プロトタイプ：ジベンゾ
イルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド）、（し
かし調節剤として使用したメルカプタン又はチオエーテ
ルに対する反応性の故にペルオキシジカーボネートはほ
とんど使用されない）を使用する。使用した開始剤の種
類及び量は本質的に前記の重合法の種類に依存する。配
量は通例モノマーの全量に対して0.01〜１重量％であ
る。分子量を調整するため特にPMMA−成形材料ではメル
カプタン、例えばアルキルメルカプタン、又は単官能性
又は多官能性アルコールとのチオグリコール−又はメル
カプトプロピオン酸のエステルを0.1〜１％、一般には
0.2〜0.5％使用する。滑剤又は離型剤としては常法の通
り長鎖のアルコール、エステル又はカルボン酸、例えば
ステアリルアルコール又はステアリン酸を使用する。他
の添加剤に関してもPMMA−成形材料の場合、この添加物
が光学特性を損なわない限り特に限定されることはな
い。
本方法を不連続的に実施される塊状重合につき詳述す
る： 添加物を目的に応じてモノマー混合物に溶かし、溶液
をフオイル袋に充填し（ベルギー特許第695342号と同様
に）、水浴中で約50℃で約22時間内に重合する。最終変
換率を高めるため重合を目的に応じて更に高めた温度
（約110℃）で例えば乾燥棚中で約10時間導く。引続き
重合体を常法で粉砕し、例えば押出機を用いて脱気す
る。
る： 添加物を目的に応じてモノマー混合物に溶かし、溶液
をフオイル袋に充填し（ベルギー特許第695342号と同様
に）、水浴中で約50℃で約22時間内に重合する。最終変
換率を高めるため重合を目的に応じて更に高めた温度
（約110℃）で例えば乾燥棚中で約10時間導く。引続き
重合体を常法で粉砕し、例えば押出機を用いて脱気す
る。
光学的に高価な成形体の製造は、適当な自体公知の過
酸化物又はアゾ化合物によつてか又は十分に烈しい照射
の場合にはUV−照射によつて開始する塊状重合により有
利に実施される。成形体は自体公知の方法で板状又は条
片状重合体から、必要な場合には通常の慎重な手段で機
械的に取り出すか又は、重合を適当な成形材料でスピン
キヤステイングで実施することができる。
酸化物又はアゾ化合物によつてか又は十分に烈しい照射
の場合にはUV−照射によつて開始する塊状重合により有
利に実施される。成形体は自体公知の方法で板状又は条
片状重合体から、必要な場合には通常の慎重な手段で機
械的に取り出すか又は、重合を適当な成形材料でスピン
キヤステイングで実施することができる。
効果 重合されたUV−吸収剤を含む軟質コンタクト・レンズ
は例えば、その認めうる移動なしにUV−吸収剤の長期作
用で入射光に対し眼を高度に保護することを示す。例え
ば白内障の手術後患者の水晶体の代りに使用されるよう
な眼に内移植したレンズでのUV−吸収剤の移動自由は特
に重要である。
は例えば、その認めうる移動なしにUV−吸収剤の長期作
用で入射光に対し眼を高度に保護することを示す。例え
ば白内障の手術後患者の水晶体の代りに使用されるよう
な眼に内移植したレンズでのUV−吸収剤の移動自由は特
に重要である。
実施例 次に実施例につき本発明を詳述する： 1. 共重合体P1の製造： メチルメタクリレート72重量部、ブチルメタクリレー
ト18重量部及び２−（α−シアノ−β，β−ジフエニル
アクリロイルオキシ）−エチル−１−メタクリレート10
重量部（＝モノマーIA）を、ドデシルメルカプタン0.36
部及びジラウロイルペルオキシド0.2部の添加後、50℃
で22時間以内に水浴中で重合する。熱処理（10時間、11
0℃）後、還元粘度ηsp/c65ml/g（20℃,CHCl3）の、澄
明な僅かに黄色に着色した材料が得られる。〔ηsp/cの
測定は一般に20℃でCHCl3中で実施した（ml/g）。測定
法は“Zeitschrift F.Elektrochemie"1937年、第479頁
参照〕。同様の方法で次の重合体を製造することができ
（第１表）、この場合分子中に耐UV−光性成分を有する
モノマー（式Ｉの化合物）に対しては次の略号を使用す
る： モノマーIA:2−（α−シアノ−β，β−ジフエニルアク
リロイルオキシ）エチル−１−メタクリレート IB:2−（２′−ヒドロキシ−３′−メタクリルアミドメ
チル−５′−オクチルフエニル）ベンゾトリアゾール IC（参考例１）:2−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
−３−メタクリロイルオキシ）−プロポキシベンゾフエ
ノン ID:2−（α−シアノ−β，β−ジフエニルアクリルオキ
シ）エチル−１−メタクリレート IE（参考例２）:2−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオ
キシベンゾフエノン IF（参考例３）:2−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキ
シエチルオキシベンゾフエノン IG:N−（４−メタクリロイルフエノール）−Ｎ′−（２
−エチルフエニル）−蓚酸ジアミド（“SANDUVOR" ,SA
NDOZ AG社製） IH（参考例４）:4−エチルα−シアノ−β−フエニルケ
イ皮酸ビニルエステル IJ:2−（２−ヒドロキシ−５−ビニルフエニル）−２−
ベンゾトリアゾール
ト18重量部及び２−（α−シアノ−β，β−ジフエニル
アクリロイルオキシ）−エチル−１−メタクリレート10
重量部（＝モノマーIA）を、ドデシルメルカプタン0.36
部及びジラウロイルペルオキシド0.2部の添加後、50℃
で22時間以内に水浴中で重合する。熱処理（10時間、11
0℃）後、還元粘度ηsp/c65ml/g（20℃,CHCl3）の、澄
明な僅かに黄色に着色した材料が得られる。〔ηsp/cの
測定は一般に20℃でCHCl3中で実施した（ml/g）。測定
法は“Zeitschrift F.Elektrochemie"1937年、第479頁
参照〕。同様の方法で次の重合体を製造することができ
（第１表）、この場合分子中に耐UV−光性成分を有する
モノマー（式Ｉの化合物）に対しては次の略号を使用す
る： モノマーIA:2−（α−シアノ−β，β−ジフエニルアク
リロイルオキシ）エチル−１−メタクリレート IB:2−（２′−ヒドロキシ−３′−メタクリルアミドメ
チル−５′−オクチルフエニル）ベンゾトリアゾール IC（参考例１）:2−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
−３−メタクリロイルオキシ）−プロポキシベンゾフエ
ノン ID:2−（α−シアノ−β，β−ジフエニルアクリルオキ
シ）エチル−１−メタクリレート IE（参考例２）:2−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオ
キシベンゾフエノン IF（参考例３）:2−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキ
シエチルオキシベンゾフエノン IG:N−（４−メタクリロイルフエノール）−Ｎ′−（２
−エチルフエニル）−蓚酸ジアミド（“SANDUVOR" ,SA
NDOZ AG社製） IH（参考例４）:4−エチルα−シアノ−β−フエニルケ
イ皮酸ビニルエステル IJ:2−（２−ヒドロキシ−５−ビニルフエニル）−２−
ベンゾトリアゾール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラルフ・リープラー ドイツ連邦共和国ダルムシユタツト・ア ルフレート‐メツセル‐ヴエーク 12 (72)発明者 マンフレート・ムンツアー ドイツ連邦共和国ベンスハイム１・フン スリユツクシユトラーセ 15 (72)発明者 ペーター・クヴイス ドイツ連邦共和国ダルムシユタツト・プ フアンミユラーヴエーク 26 (56)参考文献 特開 昭58−11563（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−125414（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−107835（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−25740（ＪＰ，Ａ)
Claims (13)
- 【請求項１】成形体として構成される0.5を超えない混
濁度（DIN 5036による）を示す光学材料を製造するた
めの熱可塑性成形材料の製造法において、式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表わし、Ｙは酸素
原子又は基 を表わし、R2は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキ
ル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ｚは （ａ）２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール
基： （式中、R3は水素原子又は、炭素原子数１〜12のアルキ
ル基を表わし、ｑは０又は１〜４の整数を表わす）を表
わし、Ｚは酸素原子又は−（CH2）ｑ−を介してか又は
直接フェニル基に結合していてよく、その際それぞれ残
りの位置は水素原子を有し、 （ｂ）α−シアノ−β，β−ジフェニル基： （式中、ｑは１〜４の整数を表わし、R5及びＲ′５はそ
れぞれ場合によってはC1〜C4−アルキル基で置換された
フェニル基を表わす）、 （ｃ）ヒドロキシ基含有安息香酸エステル： （式中、双方の基R6又はＲ′６の一方はヒドロキシ基を
表わし、他方は水素原子を表わし、R7は水素原子又は、
炭素原子数１〜10のアルキル基を表わし、それぞれ自由
な非置換位置を介してフェニル基に結合している）、 （ｄ）オキサールアニリド： （式中、R8及びR9は、同一でも異なっていてもよく、水
素原子又は、炭素原子数１〜８のアルキル基又はアルコ
キシ基を表わし、ｒは０又は１を表わし、この場合に
は、酸素原子を介して又は直接フェニル基の１つに結合
を生じており、その際他方はなお自由な位置に水素原子
を有する）又は （ｅ）ｐ−アミノ安息香酸エステル誘導体 （式中、R10及びR11は、同一でも異なっていてもよく、
水素原子又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
す）を表わし、基Ｚはｎが１の場合この基に属する酸素
原子を介して結合することはない〕で示される、UV光か
ら保護する成分を含有するラジカル重合可能なモノマー
を、自体公知のラジカル重合可能な他のモノマーと一緒
にアゾ化合物または過酸化物の型のラジカル形成性開始
剤のモノマーの全体量に対して0.01〜１重量％の存在下
に重合させることを特徴とする、熱可塑性成形材料の製
造法。 - 【請求項２】式（Ｉ）のモノマーの割合は共重合体Ｐに
対して0.1〜20重量％である、特許請求の範囲第１項記
載の方法。 - 【請求項３】式（Ｉ）のモノマーは波長範囲250〜350nm
において、クロロホルム中の濃度0.002％及び層厚ｄ 5
mmで入射された光の10％以上の吸収度を有する、特許請
求の範囲第１項又は第２項に記載の方法。 - 【請求項４】UV光から保護する成分を規制されて有する
モノマーは ２−（２′−ヒドロキシ−３′−メタクリロイルアミド
メチル−５′−アルキル）−ベンゾトリアゾール（但
し、アルキルはメチル又はオクチルを表わす）、 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）−５−メタクリロイ
ルアミド−ベンゾトリアゾール、 ２−（２′−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール、 （２−シアノ−3,3−ジフェニルアクリルオキシ）アル
キレン−アクリル酸エステル及び ２−（アクリロイル）オキシエチル−２−シアノ−3,3
−ジフェニルアクリレートから選択されたラジカル重合
可能な不飽和化合物である、特許請求の範囲第１項から
第３項までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】UV光から保護する成分（UV光から保護する
モノマー）を規制されて分子中に有するモノマーから構
成された共重合体Ｐはアクリル樹脂である、特許請求の
範囲第１項から第４項までのいずれか１項に記載の方
法。 - 【請求項６】共重合体ＰはUV光から保護する規制された
モノマーの他に付加的に式II: 〔式中、Ｒ′１は水素原子又はメチル基を表わし、R14
は炭素原子数１〜８のアルキル基又はフェニル基又は、
炭素原子数７〜12のアルアルキル基を表わす〕のアクリ
ル酸及び／又はメタクリル酸のエステルから、場合によ
っては一般式III: 〔式中、Ｒ″１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｂは
−Ｏ−基又は−NR15基を表わし、Ａは炭素原子数２〜６
の炭化水素橋を表わし、Ｑはヒドロキシ基、メトキシ基
からヘキシルオキシ基までの基又は−NR16R17基を表わ
し、R15は水素原子又は、炭素原子数１〜６のアルキル
基を表わし、R16およびR17は炭素原子数１〜６のアルキ
ル基を表わす〕のモノマーと一緒にして得られたもので
あり、一般式II及びIIIのモノマーの合計量はアクリル
樹脂（共重合体Ｐ）の全重量に対して70〜99.9重量％で
あり、その際式II及びIIIのモノマーは相互に交換可能
であり、場合によっては０〜25重量％の量で式IV: 〔式中、R19はニトリル基、場合によってはC1〜C4−ア
ルキル基によって置換されたフェニル基、複素環式基又
は−CH＝CH2基を表わし、R20は水素原子又はメチル基を
表わし、R18は水素原子を表わすか、又はR19と一緒にな
って無水物基： を表わし、この場合R20は水素原子を表わし、或いはR19
は基： を表わし、R21は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わ
し、この場合R18及びR20は水素原子を表わす〕のモノマ
ーを含み、モノマーＩ、II及び場合によってはIII、及
び／又はIVから得られた共重合体Ｐのビカー軟化温度
（DIN 53460による）は65℃を下廻らない、特許請求の
範囲第１項から第５項までのいずれか１項に記載の方
法。 - 【請求項７】共重合体Ｐはメチルメタクリレート60〜9
9.9重量％を有する、特許請求の範囲第１項から第６項
までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項８】共重合体Ｐはメチルメタクリレート65〜90
重量％を有する、特許請求の範囲第１項から第７項まで
のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項９】特許請求の範囲第６項に記載の式IIのコモ
ノマーの割合は０〜30重量％である、特許請求の範囲第
１項から第８項までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１０】共重合体Ｐはヒドロキシアルキルアクリ
レート又はメタクリレート65〜90重量％及び複素環式ビ
ニル化合物34.9〜9.9重量％を有する、特許請求の範囲
第１項から第９項までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１１】特許請求の範囲第６項に記載の式IVのコ
モノマーの１つ又はそれ以上は０〜25重量％の割合で存
在する、特許請求の範囲第１項から第10項までのいずれ
か１項に記載の方法。 - 【請求項１２】全部の成形材料中の式Ｉのモノマーの含
量は0.1重量％以上である、特許請求の範囲第１項から
第11項までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１３】成形体は0.3％を超えない混濁度（DIN
5036による）を有する、特許請求の範囲第１項から第12
項までのいずれか１項に記載の方法。
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