JP2519359B2 - ペ―スト塗布機のノズル位置決め方法 - Google Patents

ペ―スト塗布機のノズル位置決め方法

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JP2519359B2
JP2519359B2 JP3197317A JP19731791A JP2519359B2 JP 2519359 B2 JP2519359 B2 JP 2519359B2 JP 3197317 A JP3197317 A JP 3197317A JP 19731791 A JP19731791 A JP 19731791A JP 2519359 B2 JP2519359 B2 JP 2519359B2
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茂 石田
福男 米田
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板とノズルを相対的
に移動させて該基板上にペ−ストを塗布し、所望の形状
のペ−ストパターンを描画するペースト塗布機に係り、
特に、該ノズルを非接触で基板上に位置決めするのに好
適なノズル位置決め方法に関する。
【0002】
【従来の技術】基板上にペーストで所望形状パターンを
設ける技術としては、例えば特開昭53−4613号公
報に示されるように、開孔パタ−ンを有するマスクの一
面に基板を配置し、このマスクの他面でスキ−ジを移動
させることにより、開孔を通して基板上に塗布し、開孔
パタ−ンの形状にペ−スト膜を印刷するスクリ−ン印刷
技術や、例えば特開平2−52742号公報に示される
ように、ノズルに対して基板を相対的に移動させながら
ノズルから基板上に抵抗ペ−ストを吐出させ、所定の抵
抗パタ−ンを描画して抵抗形成を行なう吐出描画技術が
知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
を用い、最近の高精細化された液晶ディスプレイ等の基
板上に液晶の封止膜を形成するような場合には、次の問
題がある。
【0004】即ち、上記のスクリ−ン印刷技術では、マ
スクを基板に当て、マスクの他面でスキ−ジを移動させ
ることにより、この封止膜を形成することになるが、こ
のような基板には既に配向膜等が形成されており、かか
る基板上に封止膜を形成すると、配向膜等が傷つけられ
るし、さらには、基板面が汚れる等して歩留まりが低下
する。
【0005】また、上記の吐出描画技術では、このよう
な問題は生じないが、ペースト収納筒をペーストカート
リッジとすると、セットされているペーストカートリッ
ジのペ−ストが吐出され尽くし、新たなペ−ストカ−ト
リッジがセットされると、その取付け精度から、新たに
セットされたペーストカ−トリッジの先端のノズルと基
板との間隔に変動が生じ、所望の形状にペ−ストパター
ンを描画することができなくなるという新たな問題が発
生することが判明した。
【0006】本発明の目的は、かかる問題を解消し、基
板上を清浄に保つことができ、かつペ−ストカ−トリッ
ジの交換があっても、ノズルと基板との間隔を高精度で
所望に保持することができるようにしたペースト塗布機
のノズル位置決め方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、テ−ブル上に保持された測定用治具にノ
ズルの吐出口を当接させたときのペースト収納筒と一定
の位置関係にある距離センサの検出出力を得る第1の工
程と、該測定用治具に変えて該テ−ブル上に基板を保持
する第2の工程と、該第2の工程後該距離センサの検出
出力を得る第3の工程と、該第3の工程での該距離セン
サの検出出力が該第1の工程での該距離センサの検出出
力と該ノズルの吐出口、該基板間の所望の間隔との和に
一致するように該ペースト収納筒と該距離センサとを該
基板に対して移動させる第4の工程とからなる。
【0008】
【作用】セットされているペ−スト収納筒のペ−ストが
吐出され尽くし、新たにペ−スト収納筒をセットされた
とき、この新たなペースト収納筒の距離センサに対する
位置関係が変動しても、ノズルの吐出口を測定用治具に
当接させることにより、距離センサの新たな検出出力は
この新たなペースト収納筒の取付け精度の誤差を吸収す
る。ノズルの吐出口と基板7との間隔は距離センサのこ
の新たな検出出力で設定され、このため、ペースト収納
筒の取付け精度に拘らず、ノズルの吐出口と基板との間
隔は所望のものとなる。また、ノズルの吐出口が基板に
触れることはないため、ペーストで基板7の表面が汚れ
たり、傷ついたりすることはない。
【0009】
【実施例】まず、本発明が適用されるペースト塗布機に
ついて説明する。図2はかかるペ−スト塗布機の一例を
示す斜視図であって、1はノズル、2はペースト収納
筒、3は光学式変位計、4はZ軸テーブル部、5はX軸
テーブル部、6はY軸テーブル部、7は基板、8は基板
吸着部、9は架台部、10はZ軸テーブル部支持部、1
1は制御装置である。
【0010】同図において、架台部9上にX軸テーブル
部5が固定して載置され、このX軸テーブル5上にX軸
方向に移動可能にY軸テーブル部6が搭載されている。
そして、このY軸テーブル部6上に、Y軸方向に移動可
能に、基板吸着部(テーブル)8が搭載されている。こ
の基板吸着部8に基板7が、例えばその4辺がX、Y軸
に平行となるように、吸着されて固定されている。これ
らX軸テーブル部5、Y軸テーブル部6は制御装置11
によって制御駆動され、X軸テーブル部5が駆動される
と、Y軸テーブル部6がX軸方向に移動して基板吸着部
8が、従って基板7がX軸方向に移動し、Y軸テーブル
部6が駆動されると、基板7がY軸方向に移動する。従
って、X軸テーブル部5とY軸テーブル部6とが制御装
置11によって制御駆動されることにより、架台部9の
面に平行な面内で任意の方向に移動することができる。
【0011】一方、架台部9の面上にはZ軸テーブル部
支持部10が搭載されており、このZ軸テーブル部支持
部10にノズル1やペ−ストカートリッジであるをペー
スト収納筒2、光学式変位計3をZ軸方向(上下方向)
に移動させるZ軸テーブル部4が取り付けられている。
ここで、ノズル1はペ−スト収納筒2の下端に取り付け
られており、光学式変位計3は円筒2の脇に配置されて
いる。Z軸テ−ブル部4も制御装置11によって制御駆
動され、Z軸テ−ブル部4が駆動されると、これらノズ
ル1やペースト収納筒2、光学式変位計3が上下方向に
移動する。
【0012】かかる構成において、基板7上にペースト
のパターンを描く場合には、まず、Z軸テーブル部4が
制御装置11によって駆動制御され、ノズル1の先端を
基板7から所定の高さ位置に固定する。ここでは、この
高さ位置を形成されるペーストパターンの厚み分とす
る。このようにノズル1の位置が設定された後、制御装
置11によってX軸テーブル部5とY軸テーブル部6と
が駆動制御されて基板7が上記平面上を移動し、これと
ともに、ノズル1の先端から単位時間当たり一定の吐出
量でペースト収納筒2のペーストが基板7上に吐出され
る。これにより、基板7上にペーストのパターンが描か
れる。
【0013】図3は図2に示した実施例でのペ−ストの
塗布動作状態を示す図であって、12はペースト、13
はホース、14は吸着穴であり、図2に対応する部分に
は同一符号をつけている。
【0014】図3において、ペースト収納筒2はホルダ
15に着脱可能にセットされている。ホ−ス11を介し
てペースト収納筒2に圧縮空気あるいは圧縮窒素ガスが
送られ、これにより、ペースト収納筒2に収納されてい
るペ−スト12がノズル1の先端から基板7上に吐出さ
れる。このとき、ノズル1からの単位時間当りのペ−ス
ト吐出量が一定に保たれる。基板吸着部8には複数個の
吸着穴14が設けられ、これら吸着穴14により、基板
7が吸着されて基板吸着部8の所定の位置に載置されて
いる。光学式変位計3は三角測量法でもって基板7との
間隔を計測する。具体的には、投光素子からレ−ザ光を
基板7上に斜めに照射し、そこからの反射光を受光する
受光素子の位置から光学式変位計3と基板7との間隔を
測定する。そして、ノズル1と光学式変位計3の位置関
係からノズル1の先端と基板7との間隔を算出する。か
かる算出結果に基づいて、制御装置11(図2)がZ軸
テ−ブル部4を制御し、このノズル1の先端と基板7と
の間隔を、先に説明したように、また、図3に示すよう
に、基板7上に塗布されるペ−スト12の厚さにほぼ等
しくなるようにする。
【0015】X軸テ−ブル部5とY軸テ−ブル部6を制
御装置11により駆動制御して基板7を水平面内で移動
させ、同時に、ホ−ス13を介してペースト収納筒2に
収納されたペースト12に対して圧縮空気あるいは圧縮
窒素ガスを作用させ、ノズル1の吐出口からペースト1
2を吐出させると、基板7上に所望形状のペ−ストパタ
ーンが描画される。この描画中に基板7に接触するもの
はないので、基板7を清浄に保つことができるだけでな
く、基板7を傷つけることもない。
【0016】以下、本発明の実施例を図面によって説明
する。図1は本発明によるペースト塗布機のノズル位置
決め方法の一実施例を示す工程図であって、16は測定
用治具、17は画像認識用CCDカメラであり、前出図
面に対応する部分には同一符号を付けている。
【0017】まず、図1(a)に示すように、基板吸着
部8に測定用治具16が保持され、ノズル1が一体とな
ったペースト収納筒2と光学式変位計3とを、実線で示
した初期状態から点線で示すようにノズル1の先端が測
定用治具16に当接する位置まで、下降させる。そし
て、光学式変位計3は測定用治具16までの距離を測定
する。このときの測定距離を距離d1とする(ノズル当
接工程)。
【0018】なお、ノズル1の先端を測定用治具16に
当接させる具体的機構の例については、後に詳細に説明
する。
【0019】次に、図1(b)に示すように、Z軸テ−
ブル部4でペースト収納筒2と光学式変位計3を任意の
高さまで上昇させ、実線で示す測定用治具16の代わり
に点線で示す基板7を基板吸着部8上にセットする(基
板セット工程)。
【0020】次いで、図1(c)に示すように、ペース
ト収納筒2と光学式変位計3とを下降させながら光学式
変位計3で基板7までの距離d3を測定し、この測定距
離d3がノズル1の先端と基板7との間の設定しようと
する所望の間隙d2とノズル当接工程で先に光学式変位
計3が検出した距離d1との和に一致したとき、Z軸テ
−ブル部4の駆動を停止してペースト収納筒2と光学式
変位計3との下降をとめる(ノズル位置合せ工程)。こ
れにより、非接触で距離を測定する光学式変位計3の検
出出力を確認しつつZ軸テ−ブル部4を駆動するだけ
で、基板7に接触させずに、ノズル1の先端と基板7と
の間隔を所望の間隔d2にセットすることができる。
【0021】そして、図1(d)に示すように、画像認
識用CCDカメラ17で基板7上の認識マ−ク7aを読
取って、後述するように、基板7を所定の位置にセット
し、しかる後、X軸テ−ブル部5とY軸テ−ブル部6と
を制御装置14で駆動制御し、例えば矢印Aで示すよう
に、基板7を点線で示す左方に移動させながらノズル1
の吐出口から、一点鎖線で示すように、ペースト12を
吐出させ、基板7上に所望形状のペーストパターンを描
画する(描画工程)。
【0022】以上のように、この実施例では、セットさ
れているペースト収納筒2のペースト12が吐出し尽く
され、このペースト収納筒2と新たなペースト収納筒2
とが交換されてホルダ−12に新たなペースト収納筒2
が取付けられたとき、この新たなペースト収納筒2と光
学式変位計3との位置関係が変動しても、この新たなペ
ースト収納筒2に対して図1(a)のノズル当接工程を
行なうことにより、その取付け精度による誤差が光学式
変位計3の新たな距離d1に吸収されることになり、こ
の距離d1を用いて図1(b)、(c)を経ることによ
り、新たなペースト収納筒2の取付け精度に拘らず、ノ
ズル1の先端から基板7までの間隔d2が所望のものに
正しく設定されることになる。また、図1(a)〜
(c)の工程でもノズル1の先端の吐出口が基板7に触
れることはないから、基板7の表面をペーストで汚した
り、傷つけることはない。
【0023】以上の説明では、基板7が全体にわたって
一定の厚さで表面が平坦なものであるとしている。しか
し、実際には、基板7の表面にはかすかなうねりや凹凸
があり、図1(a)で説明したように、光学式変位計3
で測定した距離d1を用いて、図1(c)に示したよう
に、ノズル1の先端から基板7までの間隔を所望の間隔
d2とする距離d3を決めても、基板7上のノズル1の
先端に対向した位置と光学式変位計3が対向する位置と
はずれがあるので、このノズル1の先端から基板7まで
の間隔は所望の間隔d2になっていないおそれがある。
【0024】そこで、まず、図1(c)において、実線
で示す位置で、図1(a)の工程で測定した距離d1と
ノズル1の先端、基板7間の所望の間隔d2との和に距
離d3が等しくなるように、ノズル1と光学式変位計3
とを位置決めし、そのときの光学式変位計3のZ軸テ−
ブル部4に対する相対位置を得る。次に、図1(c)に
おいて、実線で示す位置の光学式変位計3がペースト収
納筒2の実線で示す位置に一致した点線で示した位置に
なるように、ペースト収納筒2と光学式変位計3とを基
板7の面に平行に移動させ、上記と同様、図1(a)の
工程で測定した距離d1とノズル1の先端、基板7間の
所望の間隔d2との和に距離d3が等しくなるように、
ノズル1と光学式変位計3とを位置決めし、そのときの
光学式変位計3のZ軸テ−ブル部4に対する相対位置を
得る。そして、これら相対位置の差分を演算し、演算結
果が零であれば、基板7の表面にうねりや凹凸が無かっ
たことになり、演算結果が零以外であれば、基板7の表
面にうねりや凹凸があることになり、その演算結果をう
ねりや凹凸による偏差として、図1(d)で説明した描
画工程に入る前に、光学式変位計3をZ軸テ−ブル部4
で上記の偏差分だけ補正移動させれば、図1(c)にお
いて、実線で示した位置でノズル1の先端から基板7ま
での距離は所望の間隔d2となる。
【0025】この方法により、ペーストパターンを図1
(d)の工程で形成する前に、ペーストが塗布される各
位置(以下、塗布予定位置という)について上記の偏差
を求め、図1(d)の描画工程では、各塗布予定位置毎
に対応する偏差分補正することにより、基板7の表面に
うねりや凹凸によるペーストパターンの断面形状の変動
を防止できる。
【0026】即ち、、図1(d)に示した全描画工程に
先立ち、まず、1つの塗布予定位置について、図1
(a)に示した工程で距離d1を求め、図1(c)に示
したように、光学式変位計3の基板7までの距離d3が
この距離d1とノズル1の先端、基板7間の所望の間隔
d2との和に等しくなる位置にノズル1と光学式変位計
3とを設定し、そのときの光学式変位計3のZ軸テ−ブ
ル部4との相対位置を得て基準相対位置とする。そし
て、各塗布予定位置に移動させて光学式変位計3の基板
7までの測定距離d3が上記距離d1とノズル1の先
端、基板7間の所望の間隔d2との和に等しくなるよう
にし、このときの光学式変位計3のZ軸テ−ブル部4と
の相対位置を得、これらと基準相対位置との偏差分を求
める。そして、図1(d)に示した描画工程では、X軸
テ−ブル部5とY軸テ−ブル部6を制御装置14により
駆動制御させながら、各塗布予定位置毎に、光学式変位
計3をZ軸テ−ブル部4で対応する上記偏差分だけ補正
移動させる。これにより、ペースト12が塗布される各
位置では、ノズル1の先端から基板7までの距離が所望
の間隔d2となる。
【0027】なお、上記偏差を求めるペーストの塗布予
定位置は、ペーストパターンが形成される軌跡に沿って
充分細かい間隔の位置とすればよい。
【0028】また、このように各塗布予定位置で上記の
偏差を求める場合、前述のとおり、光学式変位計3は三
角測量法で基板7との間隔を計測し、投光素子からレ−
ザ光を基板7に斜めに当てて、その反射光の方向に対し
て略垂直方向に配列された複数個の受光素子のうちその
反射光を受けた受光素子の位置から光学式変位計3と基
板7との間隔を測定し、さらに、ノズル1の先端と光学
式変位計3の位置関係からノズル1の先端と基板7との
間隔を算出するのであるから、ある塗布予定位置で基準
相対位置を検出する場合、反射光を受ける受光素子が中
央に配列された受光素子になるように、Z軸テ−ブル部
4に対して光学式変位計3が取付けられることにより、
基板7のうねりや凹凸によって各塗布予定位置での偏差
が基準相対位置に対して正負いずれの方向になっていて
も、全ての塗布予定位置に対して基板7のうねりや凹凸
による偏差を求めることができる。
【0029】図4、図5は、このように基準相対位置を
検出するときに、光学式変位計3における中央に配列さ
れた受光素子が反射光を受光するようにするための方法
を示すものである。
【0030】図4においては、ホルダー15を上下に移
動させるためのマイクロメ−タ18が設けられており、
マイクロメ−タ18の手動操作よってホルダー15を上
下させて位置調整し、ノズル1の先端が測定用治具16
に当接したとき、光学式変位計3の中央よりも所定の距
離d2だけずれて配置された受光素子で反射光を受光さ
せることにより、上記の基準相対位置を求めるときに中
央の受光素子が反射光を受光するようにすることができ
る。
【0031】図5においては、Z軸テ−ブル部4とホル
ダー15との間に荷重計19とマイクロメータ18(図
4)と同様の機能を有するノズル移動部20とが設けら
れており、荷重計19はペースト収納筒2、ホルダー1
5の重量を検出する。図1(a)の工程において、Z軸
テ−ブル部4でペースト収納筒2とホルダー15とを下
降させ、ノズル1の先端が測定用治具16に当接すると
荷重計19の出力は零になるので、このことをもってノ
ズル1の先端が測定用治具16に当接したことを確認す
ることができる。この場合でも、ノズル移動部材20を
手動で調整することにより、図4の場合と同様、基準相
対位置を求めるときの光学式変位計3の反射光を受光す
る受光素子を中央に配列された受光素子とすることがで
きる。
【0032】また、図5に示す構成では、ペースト収納
筒2に充填されているペースト12の重さも荷重計19
で計測しているので、予めペースト収納筒2とホルダー
15の重量を測定しておくことにより、ペースト収納筒
2に収納されているペースト12の減少量やペースト収
納筒2が空になることを知ることができる。
【0033】図6は、図1(d)に示した画像認識用C
CDカメラを用いた基板7の基板吸着部8での位置設定
手段の一具体例を示す構成図であって、17a、17b
は画像認識用CCDカメラ、21は光学系ベース、22
a、22bはXYZ軸テーブル部、23a、23bは鏡
筒であり、図1に対応する部分には同一符号をつけてい
る。
【0034】同図において、2台の画像認識用CCDカ
メラ17a、17bが図2の架台部9の一部である光学
系ベ−ス21上に設けられたXYZ軸テ−ブル部22
a、22bに各々設置されている。これらCCDカメラ
17a、17bは夫々鏡筒23a、23bを備え、鏡筒
23a、23bを通して基板吸着部8に載置された基板
7の表面を観測できるようになっている。なお、図6で
は、煩雑化を避けるために、Z軸テ−ブル部4を支持し
ているZ軸テ−ブル部支持部10(図2)は省略されて
いる。
【0035】図7に示すように、基板7上には、画像認
識用CCDカメラ17a、17bの視野の中心点間の距
離に等しい間隔で2つの認識用マーク7a、7bが付さ
れており、これら認識用マーク7a、7bを用いて、次
のように、基板7が基板吸着部8の所定位置に正確に載
置されているか否かの確認と、基板7の位置修正を行な
う。
【0036】即ち、まず、図7に示すように、基板7が
基板吸着部8上に載置され、認識用マーク7a、7bが
画像認識用CCDカメラ17a、17bの視野24a、
24bの中心点に一致するように、X軸テーブル部5と
Y軸テーブル部6とで基板7の位置が予備調整される。
次に、基板7を移動させて画像認識用CCDカメラ17
a、17bの視野24a、24bの中心点にノズル1の
先端が一致するようにし、ノズル1の先端からわずかに
ペ−ストを吐出させ、基板7の表面上にペ−ストを点状
に塗布して点状ペースト25a、25bを形成する。ノ
ズル1の先端のかかる位置設定は図2の制御装置11が
X軸テーブル部5とY軸テーブル部6を駆動制御するこ
とによって行なわれる。
【0037】これにより、点状ペ−スト25a、25b
が認識用マ−ク7a、7bに一致して塗布されたときに
は、基板7が基板吸着部8の所定位置に正確に載置され
ていることになる。しかし、点状ペ−スト25a、25
bが認識用マ−ク7a、7bに一致しないときには、基
板7が基板吸着部8の所定位置に正確に載置されていな
いことになり、この場合には、画像認識用CCDカメラ
17a、17bで夫々の視野24a、24b内の認識用
マ−ク7a、7bと点状ペ−スト25a、25bを読み
取り、図示していない画像処理装置部によって認識用マ
−ク7aと点状ペ−スト25aとのずれ量、認識用マ−
ク7bと点状ペ−スト25bとのずれ量を夫々画像を処
理して求め、これらにずれ量分だけ制御装置11によっ
てX軸テ−ブル部5とY軸テ−ブル部6を駆動制御し、
基板7の位置調整をする。そして、これとともに、基板
7をノズル1の先端に対してX軸およびY軸の方向に移
動させ、ノズル1の先端を基板7の塗布開始点に正しく
位置設定する。
【0038】以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は、この実施例にのみ限定されるものでな
い。例えば、上記実施例では、距離測定手段として光学
式変位計を用いたが、非接触で距離を測定できるもので
あれば、他の手段を用いてもよい。
【0039】また、基板7は基板吸着部8に吸着させる
ようにしたが、Y軸テ−ブル部6に直接固定するように
してもよい。
【0040】さらに、図1(a)に示した測定用治具1
6は表面が平坦なものであったが、高精度に製作された
ものであれば、段差でもって異なるステージが形成され
た測定用治具とし、一方のステ−ジにノズル1の先端を
当接させ、他方のステ−ジで光学式変位計や他の非接触
の距離センサによる距離測定を行なうようにしてもよ
い。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ペースト収納筒を交換可能なペ−ストカ−トリッジし、
該ペ−ストカ−トリッジを交換しても、取付け精度に拘
らず、ノズルの先端と基板の間隔を高精度に所望のもの
にすることができ、ペーストパターン全体にわたってそ
の断面形状を正確に所望の一定形状にすることができる
し、また、ノズルの先端が基板に当接することがないの
で、基板の表面を清浄に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペース塗布機のノズル位置決め方
法の一実施例を示す工程図である。
【図2】本発明が適用されるペースト塗布機の要部を示
す斜視図である。
【図3】図2に示したペースト塗布機のペースト塗布動
作状態を示す図である。
【図4】図2に示したペスート塗布機のノズルの先端の
位置調整手段の一具体例を示す図である。
【図5】図2に示したペスート塗布機のノズルの先端の
位置調整手段の他の具体例を示す図である。
【図6】図2に示したペースト塗布機の基板の設定位置
確認手段の一具体例を示す図である。
【図7】図6で示した手段による基板の位置決め方法を
示す図である。
【符号の説明】
1 ノズル 2 ペースト収納筒 3 光学式変位計 4 Z軸テ−ブル部 5 X軸テ−ブル部 6 Y軸テ−ブル部 7 基板 7a、7b 認識用マ−ク 8 基板吸着部 12 ペ−スト 16 ホルダ−測定用治具 17、17a、17b 画像認識用CCDカメラ 18 マイクロメ−タ 19 荷重計 20 ノズル移動部 21 光学系ベ−ス 22a、22b XYZ軸テ−ブル部 23a、23b 鏡筒 24a、24b 画像認識用CCDカメラ17a、17
bの視野 25a、25b 点状ペースト
フロントページの続き (72)発明者 三階 春夫 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−358(JP,A) 特開 昭55−3841(JP,A) 特開 平1−122127(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペースト収納筒の先端に設けられたノズ
    ルのペースト吐出口に対向させて基板を移動可能なテー
    ブル上に保持し、該ノズルから該ペースト収納筒に充填
    されたペーストを吐出させながら該基板を該ノズルと相
    対的に移動させ、該基板上にペーストによる所望のパタ
    ーンを描画するペースト塗布機において、該テーブル上に測定用治具を保持し、該測定用治具に該
    ノズルの吐出口を当接させて、そのときの該ペースト収
    納筒と一定の位置関係にあるはずの距離センサが計測す
    る該測定用治具までの距離d1 を得る第1の工程と、該第1の工程に続いて、該テーブル上に、該測定用治具
    に代えて、 該基板を保持する第2の工程と、該第2の工程に続いて、該ペースト収納筒と該距離セン
    サとを該基板に対して移動させながら該距離センサによ
    り該基板までの距離d3を検出し、該距離d3が該第1
    の工程で得られた上記距離d1と該ノズルのペースト吐
    出口,該基板間の所望とする間隔d2との和d1+d2
    に一致するように、該基板に対する該ノズル収納筒の位
    置設定を行なう 第3の工程とからなり、該基板への該所
    望のパターンの描画に先立って、該第1〜第3の工程に
    より、該ノズルのペースト吐出口と該基板との間を上記
    の間隔d2に設定することを特徴とするペースト塗布機
    のノズル位置決め方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記ペースト収納筒と前記距離センサの間に前記ペー
    スト収納筒の荷重を検出する荷重計が設けられ、 前記第1の工程は、該荷重計の検出出力が零になるまで
    前記ノズルのペースト吐出口を前記測定用治具に近付け
    る工程を含むことを特徴とするペースト塗布機のノズル
    位置決め方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、 前記第3の工程は、前記ノズルのペースト吐出口をペー
    ストによる描画位置に配置し、 ペーストによる該描画位置における前記距離センサによ
    って得られる前記基板 までの距離d3が前記第1の工程
    で前記距離センサによって得られた前記距離d1と前記
    ノズルのペースト吐出口,前記基板間の所望とする前記
    間隔d2との和d1+d2に一致するように、前記ペー
    スト収納筒と前記距離センサとを前記基板に対して移動
    させたときの、前記距離センサの位置と前記第3の工程
    での前記距離センサの位置との差分でもって前記ペース
    ト収納筒と前記距離センサを前記基板に対して補正移
    動させる第4の工程を有することを特徴とするペースト
    塗布機のノズル位置決め方法。
  4. 【請求項4】 請求項1において、 前記距離センサは光学式変位計であることを特徴とする
    ペースト塗布機のノズル位置決め方法。
  5. 【請求項5】 請求項1において、 前記第3の工程で前記距離センサにより得られる前記基
    板までの距離d3が前記第1の工程で前記距離センサ
    より得られた前記距離d1と前記ノズルのペースト吐出
    口,前記基板間の所望とする前記間隔d2との和d1+
    d2と前記距離センサの出力レンジの中央近傍で一致す
    るように、前記ペースト収納筒と前記距離センサとの位
    置関係を設定したことを特徴とするペースト塗布機のノ
    ズル位置決め方法。
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