JP2517646B2 - 放射線照射装置 - Google Patents
放射線照射装置Info
- Publication number
- JP2517646B2 JP2517646B2 JP15242488A JP15242488A JP2517646B2 JP 2517646 B2 JP2517646 B2 JP 2517646B2 JP 15242488 A JP15242488 A JP 15242488A JP 15242488 A JP15242488 A JP 15242488A JP 2517646 B2 JP2517646 B2 JP 2517646B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monitor
- extraction window
- electron
- beam extraction
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は，医薬品等に電子線等の放射線を照射する
放射線照射装置に関するものである。
放射線照射装置に関するものである。
［従来の技術］ 第３図は，従来の放射線照射装置を示す構成図であ
る。図において，（１）は電子銃，（２）は電子銃
（１）から得られた電子線，（３）は電子線（２）を位
相変調するプリバンチャ，（４）は位相変調された電子
線（２）を集束する集束コイル，（５）は電子線（２）
を加速する加速管，（６）は加速管（５）に大電力マイ
クロ波を供給するクライストロン，（７）はクライスト
ロン（６）と接続されるマイクロ波伝送回路，（８）は
マイクロ波伝送回路（７）側に設けられたRF窓，（９）
は電子銃（１），加速管（５）等を真空排気するイオン
ポンプ，（10）は電子線（２）をモニタする電流モニ
タ，（11）は集束電磁石，（12）は加速管（５）で加速
された電子線（２）を偏向する偏向電磁石，（13）は偏
向ダクト，（14）は電子線（２）を広い範囲に照射する
走査電磁石，（15）は走査ダクト，（16）は電子線
（２）を大気に取り出すビーム取り出し窓，（17）は送
風ノズルである。
る。図において，（１）は電子銃，（２）は電子銃
（１）から得られた電子線，（３）は電子線（２）を位
相変調するプリバンチャ，（４）は位相変調された電子
線（２）を集束する集束コイル，（５）は電子線（２）
を加速する加速管，（６）は加速管（５）に大電力マイ
クロ波を供給するクライストロン，（７）はクライスト
ロン（６）と接続されるマイクロ波伝送回路，（８）は
マイクロ波伝送回路（７）側に設けられたRF窓，（９）
は電子銃（１），加速管（５）等を真空排気するイオン
ポンプ，（10）は電子線（２）をモニタする電流モニ
タ，（11）は集束電磁石，（12）は加速管（５）で加速
された電子線（２）を偏向する偏向電磁石，（13）は偏
向ダクト，（14）は電子線（２）を広い範囲に照射する
走査電磁石，（15）は走査ダクト，（16）は電子線
（２）を大気に取り出すビーム取り出し窓，（17）は送
風ノズルである。
第４図は従来の走査ダクトのビーム取り出し部の断面
を示す図である。図において，（16a）はビーム取り出
し窓箱，（16b）はビーム取り出し窓フランジ，（16c）
はガスケット，（16d）はボルトである。
を示す図である。図において，（16a）はビーム取り出
し窓箱，（16b）はビーム取り出し窓フランジ，（16c）
はガスケット，（16d）はボルトである。
従来の放射線照射装置は上記のように構成され，電子
銃（１）によって生成された電子線（２）は，プリバン
チャ（３）で位相変調をうけ加速管（５）の入口で狭い
位相に圧縮され加速管（５）に入る。加速管（５）に入
った電子線（２）はマイクロ伝送回路（７）を通して伝
送されたクライストロン（６）からの大電力のマイクロ
波によって加速される。加速された電子線（２）は電流
モニタ（10）でモニタされ，さらに偏向電磁石（12）で
偏向される。偏向された電子線（２）は走査電磁石（1
4）で走査され，走査ダクト（15）およびビーム取り出
し窓（16）を通して大気に取り出され試料に照射され
る。ビーム取り出し窓（16）は電子線通過に伴って発熱
するので，空気を送風ノズル（17）よりビーム取り出し
窓（16）に吹き付けて冷却している。
銃（１）によって生成された電子線（２）は，プリバン
チャ（３）で位相変調をうけ加速管（５）の入口で狭い
位相に圧縮され加速管（５）に入る。加速管（５）に入
った電子線（２）はマイクロ伝送回路（７）を通して伝
送されたクライストロン（６）からの大電力のマイクロ
波によって加速される。加速された電子線（２）は電流
モニタ（10）でモニタされ，さらに偏向電磁石（12）で
偏向される。偏向された電子線（２）は走査電磁石（1
4）で走査され，走査ダクト（15）およびビーム取り出
し窓（16）を通して大気に取り出され試料に照射され
る。ビーム取り出し窓（16）は電子線通過に伴って発熱
するので，空気を送風ノズル（17）よりビーム取り出し
窓（16）に吹き付けて冷却している。
［発明が解決しようとする課題］ 上記のような従来の放射線照射装置では，走査された
電子線の分布をモニタしていなかったので，電子線強度
も間接的にしか求められず照射の信頼性が良くないなど
の問題点があった。
電子線の分布をモニタしていなかったので，電子線強度
も間接的にしか求められず照射の信頼性が良くないなど
の問題点があった。
この発明は，かかる問題点を解決するためになされた
もので，走査された電子線の分布をモニタできると共に
照射線量も同時にモニタすることができる放射線照射装
置を得ることを目的とする。
もので，走査された電子線の分布をモニタできると共に
照射線量も同時にモニタすることができる放射線照射装
置を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］ この発明に係る放射線照射装置は、電子銃によって生
成した電子線を、加速管でマイクロ波によって加速し、
電モニタによってモニタし、偏向電磁石によって偏向
し、走査電磁石によって走査し、走査ダクト及びビーム
取り出し窓フランジの内側に設けられたビーム取り出し
窓箔を通して大気に取り出して試料に照射する放射線照
射装置において、前記ビーム取り出し窓フランジに設け
られたビーム取り出し窓箔よりもさらに前記走査ダクト
側である内側であって、前記ビーム取り出し窓フランジ
の電磁シールドされた内部に配置されたモニタワイヤ基
板に設けられ、かつ前記電子線の走査方向に配列され前
記電子線が通過すると二次電子を放出する複数個のモニ
タワイヤと、前記ビーム取り出し窓フランジに設けられ
二次電子電流を大気に取り出す貫通端子、前記電流モニ
タからの信号でトリガーがかけられ、前記複数個のモニ
タワイヤ位置に相当した横軸の時間点にそれぞれ二次電
子電流を表示する表示装置と、前記複数個のモニタワイ
ヤのうち中心部のモニタワイヤからの二次電子電流を入
力して照射線量を測定する計数率計とを備えたものであ
る。
成した電子線を、加速管でマイクロ波によって加速し、
電モニタによってモニタし、偏向電磁石によって偏向
し、走査電磁石によって走査し、走査ダクト及びビーム
取り出し窓フランジの内側に設けられたビーム取り出し
窓箔を通して大気に取り出して試料に照射する放射線照
射装置において、前記ビーム取り出し窓フランジに設け
られたビーム取り出し窓箔よりもさらに前記走査ダクト
側である内側であって、前記ビーム取り出し窓フランジ
の電磁シールドされた内部に配置されたモニタワイヤ基
板に設けられ、かつ前記電子線の走査方向に配列され前
記電子線が通過すると二次電子を放出する複数個のモニ
タワイヤと、前記ビーム取り出し窓フランジに設けられ
二次電子電流を大気に取り出す貫通端子、前記電流モニ
タからの信号でトリガーがかけられ、前記複数個のモニ
タワイヤ位置に相当した横軸の時間点にそれぞれ二次電
子電流を表示する表示装置と、前記複数個のモニタワイ
ヤのうち中心部のモニタワイヤからの二次電子電流を入
力して照射線量を測定する計数率計とを備えたものであ
る。
［作用］ この発明においては，モニタワイヤは電子線が通過す
ると二次電子を放出し，その放出された二次電子強度は
入射電子線の強度に比例するので，モニタワイヤから放
出された二次電子強度を測定し，照射線量率の分布をモ
ニタする。
ると二次電子を放出し，その放出された二次電子強度は
入射電子線の強度に比例するので，モニタワイヤから放
出された二次電子強度を測定し，照射線量率の分布をモ
ニタする。
［実施例］ 第１図はこの発明の一実施例による放射線照射装置の
走査ダクトのビーム取り出し部の断面を示す図である。
図において，（15）〜（17）は従来のものと同様であ
る。（18）は走査ダクト（15）のビーム取り出し窓（1
6）の内側の走査方向に配列された複数個のモニタワイ
ヤ，（19）は複数個のモニタワイヤ（18）を支えるモニ
タワイヤ基板，（20）は電磁シールド，（21）はモニタ
ワイヤ信号を大気外に引き出す貫通端子，（22）は貫通
端子（21）と接続されるリード線，（23）は表示装置で
あって，その一方の入力側が電流モニタ（10），その他
方の入力側がリード線（22）を介して貫通端子（21）と
それぞれ接続されている。（24）は表示装置（23）と接
続される計算率計である。
走査ダクトのビーム取り出し部の断面を示す図である。
図において，（15）〜（17）は従来のものと同様であ
る。（18）は走査ダクト（15）のビーム取り出し窓（1
6）の内側の走査方向に配列された複数個のモニタワイ
ヤ，（19）は複数個のモニタワイヤ（18）を支えるモニ
タワイヤ基板，（20）は電磁シールド，（21）はモニタ
ワイヤ信号を大気外に引き出す貫通端子，（22）は貫通
端子（21）と接続されるリード線，（23）は表示装置で
あって，その一方の入力側が電流モニタ（10），その他
方の入力側がリード線（22）を介して貫通端子（21）と
それぞれ接続されている。（24）は表示装置（23）と接
続される計算率計である。
第２図は電子ビームモニタの他の構成を示す図であ
る。図において，同一符号のもの第１図のものと同様で
ある。（23a）はモニタワイヤ（18）とグランド間に接
続されたコンデンサで，モニタワイヤ（18）毎に設けら
れている。（23b）はマルチプレクサで，その入力側が
複数のモニタワイヤ（18）と接続され，その出力側がA/
Cコンバータ（23c）と接続している。（23d）はメモリ
で，その入力側がA/Cコンバータ（23c）および電流モニ
タ（10）と，その出力側が表示装置（23）とそれぞれ接
続されている。（23e）は同期信号発生器で，マルチプ
レクサ（23b）,A/Cコンバータ（23c），表示装置（23）
とそれぞれ接続されている。
る。図において，同一符号のもの第１図のものと同様で
ある。（23a）はモニタワイヤ（18）とグランド間に接
続されたコンデンサで，モニタワイヤ（18）毎に設けら
れている。（23b）はマルチプレクサで，その入力側が
複数のモニタワイヤ（18）と接続され，その出力側がA/
Cコンバータ（23c）と接続している。（23d）はメモリ
で，その入力側がA/Cコンバータ（23c）および電流モニ
タ（10）と，その出力側が表示装置（23）とそれぞれ接
続されている。（23e）は同期信号発生器で，マルチプ
レクサ（23b）,A/Cコンバータ（23c），表示装置（23）
とそれぞれ接続されている。
上記のように構成された第１図の実施例において，走
査電磁石（14）によって電子線が走査ダクト（15）の中
の真空中を走査され，広げられてモニタワイヤ（18）の
列に衝突し，モニタワイヤ（18）より二次電子を放出す
る。この二次電子電流は貫通端子（21）を通って大気に
取り出され，リード線（22）を通して表示装置に表示さ
れる。表示装置（23）には電流モニタ（10）よりの信号
でトリガーがかけられ，横軸にモニタワイヤ位置に相当
した時間点にそれぞれモニタワイヤ信号が表示される。
さらに、中心部のモニタワイヤ（18）からの信号を計数
率計（24）に入力し照射線量も測定する。
査電磁石（14）によって電子線が走査ダクト（15）の中
の真空中を走査され，広げられてモニタワイヤ（18）の
列に衝突し，モニタワイヤ（18）より二次電子を放出す
る。この二次電子電流は貫通端子（21）を通って大気に
取り出され，リード線（22）を通して表示装置に表示さ
れる。表示装置（23）には電流モニタ（10）よりの信号
でトリガーがかけられ，横軸にモニタワイヤ位置に相当
した時間点にそれぞれモニタワイヤ信号が表示される。
さらに、中心部のモニタワイヤ（18）からの信号を計数
率計（24）に入力し照射線量も測定する。
なお，上記実施例ではモニタワイヤ（18）からの二次
電子放出の信号を直接表示装置（23）に入力して時間軸
でモニタワイヤの位置を出していたが，第２図のように
各モニタワイヤ（18）のそれぞれを各モニタワイヤ（1
8）毎に設けられたコンデンサ（23a）に充電し，マルチ
プレクサ（23b）で切り換えてメモリ（23d）に記憶させ
積算値として表示装置（23）に表示するようにしてもよ
い。
電子放出の信号を直接表示装置（23）に入力して時間軸
でモニタワイヤの位置を出していたが，第２図のように
各モニタワイヤ（18）のそれぞれを各モニタワイヤ（1
8）毎に設けられたコンデンサ（23a）に充電し，マルチ
プレクサ（23b）で切り換えてメモリ（23d）に記憶させ
積算値として表示装置（23）に表示するようにしてもよ
い。
［発明の効果］ この発明は以上説明したとおり、前記ビーム取り出し
窓フランジに設けられたビーム取り出し窓箔よりもさら
に前記走査ダクト側である内側であって、前記ビーム取
り出し窓フランジの電磁シールドされた内部に配置され
たモニタワイヤ基板に設けられ、かつ前記電子線の走査
方向に配列され前記電子線が通過すると二次電子を放出
する複数個のモニタワイヤと、前記ビーム取り出し窓フ
ランジに設けられ二次電子電流を大気に取り出す貫通端
子と、前記電流モニタからの信号でトリガーがかけら
れ、前記複数個のモニタワイヤ位置に相当した横軸の時
間点にそれぞれ二次電子電流を表示する表示装置と、前
記複数個のモニタワイヤのうち中心部のモニタワイヤか
らの二次電子電流を入力して照射線量を測定する計数率
計とを備えたので、照射むら等のモニタが可能となり放
射線の照射が確実に行われる効果がある。
窓フランジに設けられたビーム取り出し窓箔よりもさら
に前記走査ダクト側である内側であって、前記ビーム取
り出し窓フランジの電磁シールドされた内部に配置され
たモニタワイヤ基板に設けられ、かつ前記電子線の走査
方向に配列され前記電子線が通過すると二次電子を放出
する複数個のモニタワイヤと、前記ビーム取り出し窓フ
ランジに設けられ二次電子電流を大気に取り出す貫通端
子と、前記電流モニタからの信号でトリガーがかけら
れ、前記複数個のモニタワイヤ位置に相当した横軸の時
間点にそれぞれ二次電子電流を表示する表示装置と、前
記複数個のモニタワイヤのうち中心部のモニタワイヤか
らの二次電子電流を入力して照射線量を測定する計数率
計とを備えたので、照射むら等のモニタが可能となり放
射線の照射が確実に行われる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による放射線照射装置の走
査ダクトのビーム取り出し部の断面図，第２図はこの発
明の他の実施例による電子ビームモニタの構成図，第３
図は従来の放射線照射装置の構成図，第４図は従来の走
査ダクトのビーム取り出し部の断面図である。 図において，（15）……走査ダクト，（16）……ビーム
取り出し窓，（18）……モニタワイヤ，（23）……表示
装置である。 なお，各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
査ダクトのビーム取り出し部の断面図，第２図はこの発
明の他の実施例による電子ビームモニタの構成図，第３
図は従来の放射線照射装置の構成図，第４図は従来の走
査ダクトのビーム取り出し部の断面図である。 図において，（15）……走査ダクト，（16）……ビーム
取り出し窓，（18）……モニタワイヤ，（23）……表示
装置である。 なお，各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】電子銃によって生成した電子線を、加速管
でマイクロ波によって加速し、電流モニタによってモニ
タし、偏向電磁石によって偏向し、走査電磁石によって
走査し、走査ダクト及びビーム取り出し窓フランジの内
側に設けられたビーム取り出し窓箔を通して大気に取り
出して試料に照射する放射線照射装置において、 前記ビーム取り出し窓フランジに設けられたビーム取り
出し窓箔よりもさらに前記走査ダクト側である内側であ
って、前記ビーム取り出し窓フランジの電磁シールドさ
れた内部に配置されたモニタワイヤ基板に設けられ、か
つ前記電子線の走査方向に配列され前記電子線が通過す
ると二次電子を放出する複数個のモニタワイヤと、 前記ビーム取り出し窓フランジに設けられ二次電子電流
を大気に取り出す貫通端子、 前記電流モニタからの信号でトリガーがかけられ、前記
複数個のモニタワイヤ位置に相当した横軸の時間点にそ
れぞれ二次電子電流を表示する表示装置、 及び 前記複数個のモニタワイヤのうち中心部のモニタワイヤ
からの二次電子電流を入力して照射線量を測定する計数
率計 を備えたことを特徴とする放射線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15242488A JP2517646B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 放射線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15242488A JP2517646B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 放射線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01320500A JPH01320500A (ja) | 1989-12-26 |
| JP2517646B2 true JP2517646B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=15540214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15242488A Expired - Fee Related JP2517646B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 放射線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2517646B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102170744A (zh) * | 2010-11-24 | 2011-08-31 | 无锡爱邦辐射技术有限公司 | 电子加速器电子束流监测装置 |
| WO2022271586A1 (en) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | Varian Medical Systems, Inc. | Monitor for high dose rate electron therapy, system and method |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385175A (en) * | 1977-01-06 | 1978-07-27 | Mitsubishi Electric Corp | Monitoring device of charged particle beam radiation apparatus |
| FR2485507A1 (fr) * | 1980-06-27 | 1981-12-31 | Rhone Poulenc Ind | Nouvelles substances luminescentes a base de borate double de magnesium et de terres rares pour ecrans ou tubes |
| JPS62238481A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-19 | Nissin Electric Co Ltd | ビ−ム電流密度分布測定装置 |
| JPS62193599U (ja) * | 1986-05-29 | 1987-12-09 | ||
| JPS63140976A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-13 | Mitsubishi Electric Corp | ビ−ムプロフアイルモニタ− |
-
1988
- 1988-06-22 JP JP15242488A patent/JP2517646B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102170744A (zh) * | 2010-11-24 | 2011-08-31 | 无锡爱邦辐射技术有限公司 | 电子加速器电子束流监测装置 |
| WO2022271586A1 (en) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | Varian Medical Systems, Inc. | Monitor for high dose rate electron therapy, system and method |
| US11633628B2 (en) | 2021-06-21 | 2023-04-25 | Varian Medical Systems, Inc. | Monitor for high dose rate electron therapy, system and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01320500A (ja) | 1989-12-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001319608A (ja) | マイクロフォーカスｘ線発生装置 | |
| US6686590B2 (en) | Low-vacuum scanning electron microscope | |
| JP2517646B2 (ja) | 放射線照射装置 | |
| JPH1116525A (ja) | Ｘ線コンピュータトモグラフ装置 | |
| US10032595B2 (en) | Robust electrode with septum rod for biased X-ray tube cathode | |
| JPH09106777A (ja) | 電子顕微鏡用電子増倍器 | |
| JP2722835B2 (ja) | イオン注入装置 | |
| US3596091A (en) | Induced electron emission spectrometer having a unipotential sample chamber | |
| JP2002100316A (ja) | 低真空走査電子顕微鏡 | |
| US3767926A (en) | Field emission scanning microscope display | |
| US4651003A (en) | Particle-accelerating electrode | |
| JP2002082173A (ja) | 大電流ビームモニタ | |
| GB1112796A (en) | Vacuum gauge | |
| US3395309A (en) | Electronic display tubes | |
| Wittenburg | Overview of recent halo diagnosis and non-destructive beam profile monitoring | |
| JPH0419590A (ja) | ビームモニタ | |
| US3435334A (en) | Method and apparatus for measuring high vacuums | |
| US4922196A (en) | Beam-blanking apparatus for stroboscopic electron beam instruments | |
| JPH058549B2 (ja) | ||
| Friedrich | Equipment for beam diagnostics | |
| US3546577A (en) | Apparatus for nondestructively measuring the position and particle-density profile of an accelerator beam | |
| JP4082005B2 (ja) | 電子線照射装置用加速管短絡装置 | |
| JPH09190799A (ja) | エネルギーアナライザ | |
| JPH0778560B2 (ja) | 電子線照射用ライナック | |
| JPH05266829A (ja) | 陰極線管 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |