JPS62238481A - ビ−ム電流密度分布測定装置 - Google Patents
ビ−ム電流密度分布測定装置Info
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- JPS62238481A JPS62238481A JP8148886A JP8148886A JPS62238481A JP S62238481 A JPS62238481 A JP S62238481A JP 8148886 A JP8148886 A JP 8148886A JP 8148886 A JP8148886 A JP 8148886A JP S62238481 A JPS62238481 A JP S62238481A
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、イオンビームや電子ビームの荷電粒子ビー
ムの照射方向に直交する一平面上のビーム電流密度分布
を測定する装置に関するものである。
ムの照射方向に直交する一平面上のビーム電流密度分布
を測定する装置に関するものである。
イオン注入装置のイオン源の開発などのために、イオン
源から引き出されるイオンビームのビーム電流密度分布
を測定する装置が必要となる。第４図および第５図にそ
の従来例を示す。
源から引き出されるイオンビームのビーム電流密度分布
を測定する装置が必要となる。第４図および第５図にそ
の従来例を示す。
第４図に示す従来例では、真空容器内においてイオンｆ
ｉＺＯから引き出されるイオンビームの照射方向に直交
する一平面上で開口部を比較的小さくしたファラデーカ
ップ２１をＸ−Ｙ方向（上下左右）に移動し、ファラデ
ーカップ２１を各位置に配置したときのビーム電流値を
測定する。
ｉＺＯから引き出されるイオンビームの照射方向に直交
する一平面上で開口部を比較的小さくしたファラデーカ
ップ２１をＸ−Ｙ方向（上下左右）に移動し、ファラデ
ーカップ２１を各位置に配置したときのビーム電流値を
測定する。
また第５図に示す他の従来例では、真空容器内において
イオン源２０とビーム径より大きい直径の開口部を有す
るファラデーカップ２２との間に互いに直交するスリッ
ト２３ａ、２４ａを形成した一対のスリット板２３．２
４を配置し、そのビーム通過口をＸ−Ｙ方向に移動し、
ビーム通過口を各所定位置に配置したときのビーム電流
値を測定する。
イオン源２０とビーム径より大きい直径の開口部を有す
るファラデーカップ２２との間に互いに直交するスリッ
ト２３ａ、２４ａを形成した一対のスリット板２３．２
４を配置し、そのビーム通過口をＸ−Ｙ方向に移動し、
ビーム通過口を各所定位置に配置したときのビーム電流
値を測定する。
上述のような従来例では、ファラデーカップ２１やスリ
ット板２３．２４を真空容器内で精度よくＸ−Ｙ方向に
移動させるためのシステムが必要であり、構成が複雑に
なるとともに大変高価なものとなる。
ット板２３．２４を真空容器内で精度よくＸ−Ｙ方向に
移動させるためのシステムが必要であり、構成が複雑に
なるとともに大変高価なものとなる。
この発明の目的は、簡単でしかも安価な構成でビーム電
流密度分布を測定することができるビーム電流密度分布
測定装置を提供することである。
流密度分布を測定することができるビーム電流密度分布
測定装置を提供することである。
この発明のビーム電流密度分布測定装置は、一平面上で
所定間隔をあけて平行配列した複数の導線からなる第１
導線群と、前記一平面社近接し平行な平面上で前記第１
導線群の導線の配列方向と交差する方向に所定間隔をあ
けて平行配列した複数の導線からなる第２導線群と、前
記第１および第２導線群のうちの１つの導線を選択して
電流計に接続するとともにその残余の導線を接地して各
導線に流れる電流を順次的に測定する電流測定手段とを
備えたものである。
所定間隔をあけて平行配列した複数の導線からなる第１
導線群と、前記一平面社近接し平行な平面上で前記第１
導線群の導線の配列方向と交差する方向に所定間隔をあ
けて平行配列した複数の導線からなる第２導線群と、前
記第１および第２導線群のうちの１つの導線を選択して
電流計に接続するとともにその残余の導線を接地して各
導線に流れる電流を順次的に測定する電流測定手段とを
備えたものである。
この発明の構成によれば、第１および第２導線群の各導
線の配列平面が荷電粒子ビームの照射方向に垂直になる
ようにして第１および第２導線群の交差部を荷電粒子ビ
ームにあて、前記各導線に流れる電流値を電流測定手段
で順次測定する。前記各導線に流れる電流値がビーム電
流密度とビームに照射された各導線の長さに比例するの
で、各導線に流れる電流値からビーム電流密度分布を得
ることができる。
線の配列平面が荷電粒子ビームの照射方向に垂直になる
ようにして第１および第２導線群の交差部を荷電粒子ビ
ームにあて、前記各導線に流れる電流値を電流測定手段
で順次測定する。前記各導線に流れる電流値がビーム電
流密度とビームに照射された各導線の長さに比例するの
で、各導線に流れる電流値からビーム電流密度分布を得
ることができる。
この発明の一実施例を第１図ないし第３図に基づいて説
明する。
明する。
第１図に示すように、このビーム電流密度分布測定装置
は、絶縁体からなる四角形の枠体１の各対向辺間に架設
した第１および第２導線群２．３と、第１および第２導
線群２．３の各導線２３〜２ｒ、３ａ〜３ｆを各固定接
点ＳＰ（第２図参照）にそれぞれ接続したロータリスイ
ッチ４およびロータリスイッチ４の可動接点ＭＰ（第２
図参照）に接続した電流計５からなる電流測定手段６と
を備えている。
は、絶縁体からなる四角形の枠体１の各対向辺間に架設
した第１および第２導線群２．３と、第１および第２導
線群２．３の各導線２３〜２ｒ、３ａ〜３ｆを各固定接
点ＳＰ（第２図参照）にそれぞれ接続したロータリスイ
ッチ４およびロータリスイッチ４の可動接点ＭＰ（第２
図参照）に接続した電流計５からなる電流測定手段６と
を備えている。
第１導線群２は枠体ｌの前面側平面上に所定間隔をあけ
て平行配列した複数の導線２３〜２ｒからなり、第２導
線群３は枠体１の後面側平面上に第１導線群２の導線２
ａ〜２ｆの配列方向と直交する方向に所定間隔をあけて
平行配列した複数の導線３ａ〜３ｒからなる。第１およ
び第２導線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｆの
両端部は枠体１に相互に絶縁して固定されており、その
一端部は相互に絶縁されたリード線７によってロータリ
スイッチ４に導かれている。
て平行配列した複数の導線２３〜２ｒからなり、第２導
線群３は枠体１の後面側平面上に第１導線群２の導線２
ａ〜２ｆの配列方向と直交する方向に所定間隔をあけて
平行配列した複数の導線３ａ〜３ｒからなる。第１およ
び第２導線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｆの
両端部は枠体１に相互に絶縁して固定されており、その
一端部は相互に絶縁されたリード線７によってロータリ
スイッチ４に導かれている。
電流測定手段６のロークリスイッチ４は、たとえば第２
図に示すようにリードｖＡ７を介して第１および第２導
線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｆに接続した
固定接点ＳＰを円柱状の固定台８の外周面に相互に絶縁
して固定し、電流計５に接続される可動接点ＭＰおよび
リング状の接地導体ＥＰを回動し、第１および第２導線
群２．３のうちの１つの導線（たとえば２ａ）を電流計
５に接続し、その残余の導ＮＩＡ（たとえば２ｂ〜２ｆ
。
図に示すようにリードｖＡ７を介して第１および第２導
線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｆに接続した
固定接点ＳＰを円柱状の固定台８の外周面に相互に絶縁
して固定し、電流計５に接続される可動接点ＭＰおよび
リング状の接地導体ＥＰを回動し、第１および第２導線
群２．３のうちの１つの導線（たとえば２ａ）を電流計
５に接続し、その残余の導ＮＩＡ（たとえば２ｂ〜２ｆ
。
３ａ〜３ｆ）を接地するものである。
この実施例では、第１図に示すように第１および第２導
線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｒの配列平面
が、イオン源９から引き出されるイオンビームｌＯの照
射方向に対して垂直となるようにし、第１および第２導
線群２，３が直交する部分にイオンビーム１０が照射さ
れるように枠体１を配置して、各導線２３〜２ｒ、３ａ
〜３ｆに流れる電流値を電流測定手段６によって測定す
る。その結果は、たとえば第３図に示すようになる。各
導線２ａ〜３ｆ、３ａ〜３ｒに流れる電流値は、イオン
ビーム１０の電流密度とイオンビーム１０が照射されて
いる各導線２ａ〜２ｆ、ｊａ〜３ｆの長さに比例する。
線群２．３の各導線２ａ〜２ｆ、３ａ〜３ｒの配列平面
が、イオン源９から引き出されるイオンビームｌＯの照
射方向に対して垂直となるようにし、第１および第２導
線群２，３が直交する部分にイオンビーム１０が照射さ
れるように枠体１を配置して、各導線２３〜２ｒ、３ａ
〜３ｆに流れる電流値を電流測定手段６によって測定す
る。その結果は、たとえば第３図に示すようになる。各
導線２ａ〜３ｆ、３ａ〜３ｒに流れる電流値は、イオン
ビーム１０の電流密度とイオンビーム１０が照射されて
いる各導線２ａ〜２ｆ、ｊａ〜３ｆの長さに比例する。
したがって、各１ ’ａ ２ ａ〜２ｒ、３ａ〜３ｆに
流れる電流値を測定することにより、ビーム電流密度分
布、ならびにイオンビーム１０の発散角を得ることがで
きる。
流れる電流値を測定することにより、ビーム電流密度分
布、ならびにイオンビーム１０の発散角を得ることがで
きる。
上述のようにこの実施例では、第１および第２導線群２
．３および電流測定手段６を備えるだけの非常に簡単で
しかも安価な構成で、ビーム電流密度分布、ならびにビ
ーム発散角を容易に測定することができる。
．３および電流測定手段６を備えるだけの非常に簡単で
しかも安価な構成で、ビーム電流密度分布、ならびにビ
ーム発散角を容易に測定することができる。
なお、この発明では、電流測定手段６で測定した電流値
および各導線２ａ〜２ｒ、３ａ〜３ｒを識別する信号と
をコンピュータに人力し、所定の表示状Ｂ（たとえば第
３図に示すような）でビーム電流密度分布を表示装置に
表示することも可能である。
および各導線２ａ〜２ｒ、３ａ〜３ｒを識別する信号と
をコンピュータに人力し、所定の表示状Ｂ（たとえば第
３図に示すような）でビーム電流密度分布を表示装置に
表示することも可能である。
この発明のビーム電流密度分布測定装置によれば、第１
および第２導線群の各導線の配列平面をビームの照射方
向に対して垂直にして各導線に流れる電流を電流測定手
段で測定することによりて、ビーム電流密度分布を得る
ことができる。したがって従来例のようにファラデーカ
ップやスリット板を精度よく移動させるためのシステム
を必要としないので、構成が簡単でしかも安価である。
および第２導線群の各導線の配列平面をビームの照射方
向に対して垂直にして各導線に流れる電流を電流測定手
段で測定することによりて、ビーム電流密度分布を得る
ことができる。したがって従来例のようにファラデーカ
ップやスリット板を精度よく移動させるためのシステム
を必要としないので、構成が簡単でしかも安価である。
第１図はこの発明の一実施例の構成を示す斜視図、第２
図はロータリスイッチの構造の一例を示す図、第３図は
各導線に流れる電流値の一例を示すグラフ、第４図およ
び第５図は従来例の構成を示す斜視図である。
図はロータリスイッチの構造の一例を示す図、第３図は
各導線に流れる電流値の一例を示すグラフ、第４図およ
び第５図は従来例の構成を示す斜視図である。
Claims (1)
- 一平面上で所定間隔をあけて平行配列した複数の導線か
らなる第１導線群と、前記一平面に近接し平行な平面上
で前記第１導線群の導線の配列方向と交差する方向に所
定間隔をあけて平行配列した複数の導線からなる第２導
線群と、前記第１および第２導線群のうちの１つの導線
を選択して電流計に接続するとともにその残余の導線を
接地して各導線に流れる電流を順次的に測定する電流測
定手段とを備えたビーム電流密度分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8148886A JPS62238481A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | ビ−ム電流密度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8148886A JPS62238481A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | ビ−ム電流密度分布測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62238481A true JPS62238481A (ja) | 1987-10-19 |
Family
ID=13747788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8148886A Pending JPS62238481A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | ビ−ム電流密度分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62238481A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01242984A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | ビームプロフアイルモニタ |
| JPH01320500A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
| JP4928599B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-05-09 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | ３次元の成形部品の特性変化を電子によって行うための装置および方法と、該装置の使用 |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP8148886A patent/JPS62238481A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01242984A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | ビームプロフアイルモニタ |
| JPH01320500A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
| JP4928599B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-05-09 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | ３次元の成形部品の特性変化を電子によって行うための装置および方法と、該装置の使用 |
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