JP2722835B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
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- JP2722835B2 JP2722835B2 JP3068795A JP6879591A JP2722835B2 JP 2722835 B2 JP2722835 B2 JP 2722835B2 JP 3068795 A JP3068795 A JP 3068795A JP 6879591 A JP6879591 A JP 6879591A JP 2722835 B2 JP2722835 B2 JP 2722835B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ターゲットにイオン
ビームを照射して当該ターゲットにイオン注入を行うイ
オン注入装置に関し、より具体的には、多価イオン注入
時に問題となるエネルギーコンタミネーションの量をイ
ンプロセスで（即ち実際の注入処理を行うときに）モニ
タする手段に関する。
ビームを照射して当該ターゲットにイオン注入を行うイ
オン注入装置に関し、より具体的には、多価イオン注入
時に問題となるエネルギーコンタミネーションの量をイ
ンプロセスで（即ち実際の注入処理を行うときに）モニ
タする手段に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来のイオン注入装置の一例を
示す概略平面図である。
示す概略平面図である。
【０００３】イオン源２から引き出されたイオンビーム
４は、質量分析器６で質量分析された後、加速管８で加
速され、一組の垂直走査用の走査電極１０で垂直方向に
走査され、かつ一組の水平走査用の走査電極１２で水平
方向に走査されてターゲット（例えばウェーハ）１４に
入射して、その全面に対してイオン注入が行われる。イ
オンビーム４は、それに含まれている中性粒子がターゲ
ット１４に入射しないように、その中心がこの例では走
査電極１２で水平方向に所定角度だけ曲げられる（オフ
セットされる）。
４は、質量分析器６で質量分析された後、加速管８で加
速され、一組の垂直走査用の走査電極１０で垂直方向に
走査され、かつ一組の水平走査用の走査電極１２で水平
方向に走査されてターゲット（例えばウェーハ）１４に
入射して、その全面に対してイオン注入が行われる。イ
オンビーム４は、それに含まれている中性粒子がターゲ
ット１４に入射しないように、その中心がこの例では走
査電極１２で水平方向に所定角度だけ曲げられる（オフ
セットされる）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記イオン
注入装置においては、ターゲット１４に対して多価イオ
ン（主に２価イオン）を注入する場合に、エネルギーコ
ンタミネーション（即ち異エネルギーイオンの混入）が
問題となる。
注入装置においては、ターゲット１４に対して多価イオ
ン（主に２価イオン）を注入する場合に、エネルギーコ
ンタミネーション（即ち異エネルギーイオンの混入）が
問題となる。
【０００５】これを詳述すると、図５に示すように、イ
オン源２から元素Ａ（例えばホウ素、ヒ素等）のイオン
を引き出す場合、引出し電圧を例えば２５ＫＶにする
と、エネルギー５０ＫｅＶの２価イオンＡ2+と共に、エ
ネルギー２５ＫｅＶの１価の分子状イオンＡ2 + が引き
出される。後者のイオンは、質量分析器６に入る前にあ
る割合で解離して２個のエネルギー１２．５ＫｅＶの１
価イオンＡ+ に分かれる。
オン源２から元素Ａ（例えばホウ素、ヒ素等）のイオン
を引き出す場合、引出し電圧を例えば２５ＫＶにする
と、エネルギー５０ＫｅＶの２価イオンＡ2+と共に、エ
ネルギー２５ＫｅＶの１価の分子状イオンＡ2 + が引き
出される。後者のイオンは、質量分析器６に入る前にあ
る割合で解離して２個のエネルギー１２．５ＫｅＶの１
価イオンＡ+ に分かれる。
【０００６】イオンのエネルギーをＥ、その電価数をｑ
とすると、質量が同じ場合、当該イオンの質量分析器６
における曲率半径は（Ｅ／ｑ2 ）の平方根に比例するの
で、上記５０ＫｅＶの２価イオンＡ2+と１２．５ＫｅＶ
の１価イオンＡ+ は互いに同じ軌道で曲がるため、質量
分析器６で分離することはできない。
とすると、質量が同じ場合、当該イオンの質量分析器６
における曲率半径は（Ｅ／ｑ2 ）の平方根に比例するの
で、上記５０ＫｅＶの２価イオンＡ2+と１２．５ＫｅＶ
の１価イオンＡ+ は互いに同じ軌道で曲がるため、質量
分析器６で分離することはできない。
【０００７】質量分析器６から出た上記２価イオンＡ2+
は、電価移行によってその一部が１価イオンＡ+ とな
り、加速管８での加速電圧を例えば１７５ＫＶとした場
合、加速管８からは、目的とする４００ＫｅＶの２価イ
オンＡ2+ （これはエネルギー的には２００ＫｅＶの１
価イオンＡ+ に相当する）の他に、２２５ＫｅＶの１価
イオンＡ+ および１８７．５ＫｅＶの１価イオンＡ+ が
異エネルギーイオンとして出てくる。
は、電価移行によってその一部が１価イオンＡ+ とな
り、加速管８での加速電圧を例えば１７５ＫＶとした場
合、加速管８からは、目的とする４００ＫｅＶの２価イ
オンＡ2+ （これはエネルギー的には２００ＫｅＶの１
価イオンＡ+ に相当する）の他に、２２５ＫｅＶの１価
イオンＡ+ および１８７．５ＫｅＶの１価イオンＡ+ が
異エネルギーイオンとして出てくる。
【０００８】図６に示すように、上記のようなエネルギ
ーの異なるイオンを含むイオンビーム４を走査電極１２
で走査して目的とするイオン（例えば上記４００ＫｅＶ
のＡ 2+ ）がターゲット１４の全面に入射するようにす
ると、それよりも高エネルギーのイオン（例えば上記２
２５ＫｅＶのＡ2+）は少ししか偏向されず、逆に低エネ
ルギーのイオン（例えば上記１８７．５ＫｅＶのＡ+ ）
は多く偏向されるため、これらが目的とするイオンの走
査領域と重複するところでエネルギーコンタミネーショ
ンが起こる。
ーの異なるイオンを含むイオンビーム４を走査電極１２
で走査して目的とするイオン（例えば上記４００ＫｅＶ
のＡ 2+ ）がターゲット１４の全面に入射するようにす
ると、それよりも高エネルギーのイオン（例えば上記２
２５ＫｅＶのＡ2+）は少ししか偏向されず、逆に低エネ
ルギーのイオン（例えば上記１８７．５ＫｅＶのＡ+ ）
は多く偏向されるため、これらが目的とするイオンの走
査領域と重複するところでエネルギーコンタミネーショ
ンが起こる。
【０００９】その結果、ターゲット１４においては、例
えば図７に示すように、異エネルギーイオン（この図の
場合は低エネルギーイオン）による注入量分布のため
に、合成した注入量分布は、目的イオンによる注入量分
布とは掛け離れたものになってしまい、不良注入が起こ
る。
えば図７に示すように、異エネルギーイオン（この図の
場合は低エネルギーイオン）による注入量分布のため
に、合成した注入量分布は、目的イオンによる注入量分
布とは掛け離れたものになってしまい、不良注入が起こ
る。
【００１０】そこでこの発明は、多価イオン注入時に問
題となるエネルギーコンタミネーションの量をインプロ
セスでモニタすることができるようにしたイオン注入装
置を提供することを主たる目的とする。
題となるエネルギーコンタミネーションの量をインプロ
セスでモニタすることができるようにしたイオン注入装
置を提供することを主たる目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のイオン注入装置は、イオンビームを走査
する走査電極と、この走査電極の上流側付近に設けられ
ていてイオンビームを細く成形するスリット板と、前記
走査電極に走査電圧を供給する走査電源と、前記走査電
極によって走査されたイオンビームを受けてそのビーム
電流を計測するものであってターゲットよりも小さい口
径を持つビーム電流計測器と、このビーム電流計測器で
計測したビーム電流と前記走査電源から与えられる走査
電圧とに基づいてイオンビームのエネルギースペクトル
を求める機能、このエネルギースペクトルのピークを検
出して各ピークの高さを求める機能、目的とするイオン
のピークを同定する機能および目的とするイオン以外の
イオンのピークの高さを基準値と比較してそれを超える
ものがある場合に警報信号を出力する機能を有する演算
制御装置とを備えることを特徴とする。
め、この発明のイオン注入装置は、イオンビームを走査
する走査電極と、この走査電極の上流側付近に設けられ
ていてイオンビームを細く成形するスリット板と、前記
走査電極に走査電圧を供給する走査電源と、前記走査電
極によって走査されたイオンビームを受けてそのビーム
電流を計測するものであってターゲットよりも小さい口
径を持つビーム電流計測器と、このビーム電流計測器で
計測したビーム電流と前記走査電源から与えられる走査
電圧とに基づいてイオンビームのエネルギースペクトル
を求める機能、このエネルギースペクトルのピークを検
出して各ピークの高さを求める機能、目的とするイオン
のピークを同定する機能および目的とするイオン以外の
イオンのピークの高さを基準値と比較してそれを超える
ものがある場合に警報信号を出力する機能を有する演算
制御装置とを備えることを特徴とする。
【００１２】
【作用】走査電極によってイオンビームを走査した場
合、当該イオンビームに含まれるイオンはそのエネルギ
ーによって曲がり方が異なるので、走査電圧を一方の軸
（例えば横軸）にし、ビーム電流計測器で計測したビー
ム電流を他方の軸（例えば縦軸）にすることで、イオン
ビームのエネルギースペクトルを求めることができる。
演算制御装置は、このエネルギースペクトルを求め、目
的とするイオン以外のピークの高さ（これは同イオンの
量に相当する）が基準値を超えているものがある場合に
警報信号を出力する。これにより、エネルギーコンタミ
ネーションの量をインプロセスでモニタすることがで
き、その結果、不良注入が起こるのを未然に防止するこ
とができる。
合、当該イオンビームに含まれるイオンはそのエネルギ
ーによって曲がり方が異なるので、走査電圧を一方の軸
（例えば横軸）にし、ビーム電流計測器で計測したビー
ム電流を他方の軸（例えば縦軸）にすることで、イオン
ビームのエネルギースペクトルを求めることができる。
演算制御装置は、このエネルギースペクトルを求め、目
的とするイオン以外のピークの高さ（これは同イオンの
量に相当する）が基準値を超えているものがある場合に
警報信号を出力する。これにより、エネルギーコンタミ
ネーションの量をインプロセスでモニタすることがで
き、その結果、不良注入が起こるのを未然に防止するこ
とができる。
【００１３】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係るイオン注
入装置の要部を示す図である。図４の従来例と同一また
は相当する部分には同一符号を付し、以下においては当
該従来例との相違点を主に説明する。
入装置の要部を示す図である。図４の従来例と同一また
は相当する部分には同一符号を付し、以下においては当
該従来例との相違点を主に説明する。
【００１４】この実施例においては、エネルギーコンタ
ミネーションを測定するための走査電極として、前述し
た水平走査用の走査電極１２を流用するようにしてい
る。なお、エネルギーコンタミネーション測定時は、前
述した垂直走査用の走査電極１０を使う必要はないの
で、それを休止させておけば良い。
ミネーションを測定するための走査電極として、前述し
た水平走査用の走査電極１２を流用するようにしてい
る。なお、エネルギーコンタミネーション測定時は、前
述した垂直走査用の走査電極１０を使う必要はないの
で、それを休止させておけば良い。
【００１５】この走査電極１２の上流側付近に、この実
施例ではスリット状または小孔状の開口部１８ａを有す
るスリット板１８を設けており、これによってイオンビ
ーム４を細く成形して分解能を上げるようにしている。
このスリット板１８は、駆動装置２０によって前後に駆
動され、後述する演算制御装置２６による制御によっ
て、エネルギーコンタミネーションを測定するときは図
示のようにイオンビーム４の経路に入れられ、通常のイ
オン注入時はイオンビーム４の経路から外される。この
スリット板１８がなくてもエネルギースペクトルの測定
は可能であるが分解能は悪い。
施例ではスリット状または小孔状の開口部１８ａを有す
るスリット板１８を設けており、これによってイオンビ
ーム４を細く成形して分解能を上げるようにしている。
このスリット板１８は、駆動装置２０によって前後に駆
動され、後述する演算制御装置２６による制御によっ
て、エネルギーコンタミネーションを測定するときは図
示のようにイオンビーム４の経路に入れられ、通常のイ
オン注入時はイオンビーム４の経路から外される。この
スリット板１８がなくてもエネルギースペクトルの測定
は可能であるが分解能は悪い。
【００１６】前記走査電極１２には、三角波状の走査電
圧Ｖを発生する走査電圧発生器１６ａとそれを高電圧に
増幅する高圧アンプ１６ｂを有する走査電源１６から走
査電圧が供給され、これによってイオンビーム４はこの
実施例では水平方向に走査される。
圧Ｖを発生する走査電圧発生器１６ａとそれを高電圧に
増幅する高圧アンプ１６ｂを有する走査電源１６から走
査電圧が供給され、これによってイオンビーム４はこの
実施例では水平方向に走査される。
【００１７】また前述したターゲット１４が置かれる上
流側には、この実施例では図示しない機構によってイオ
ンビーム４の経路に出し入れ可能であって、図１に示す
ようにターゲット１４よりも小さな口径を持つビーム電
流計測器（例えばファラデーカップ）２２が設けられて
おり、走査電極１２によって走査されたイオンビーム４
はこのビーム電流計測器２２に入射し、そのビーム電流
Ｉが計測される。これによって計測されたビーム電流Ｉ
は、この実施例では変換器２４で適当に変換されて演算
制御装置２６のＹ軸入力端子２６ｂに入力され、そのＸ
軸入力端子２６ａには前述した走査電圧発生器１６ａか
ら出力される走査電圧Ｖが入力さる。
流側には、この実施例では図示しない機構によってイオ
ンビーム４の経路に出し入れ可能であって、図１に示す
ようにターゲット１４よりも小さな口径を持つビーム電
流計測器（例えばファラデーカップ）２２が設けられて
おり、走査電極１２によって走査されたイオンビーム４
はこのビーム電流計測器２２に入射し、そのビーム電流
Ｉが計測される。これによって計測されたビーム電流Ｉ
は、この実施例では変換器２４で適当に変換されて演算
制御装置２６のＹ軸入力端子２６ｂに入力され、そのＸ
軸入力端子２６ａには前述した走査電圧発生器１６ａか
ら出力される走査電圧Ｖが入力さる。
【００１８】この演算制御装置２６は次の〜の機能
を有している。
を有している。
【００１９】 走査電極１２によってイオンビーム４
を走査した場合の走査電圧ＶをＸ軸（横軸）にし、その
ときにビーム電流計測器２２で計測するビーム電流Ｉを
Ｙ軸（縦軸）にして、イオンビーム４のエネルギースペ
クトルを求める。これによって、例えば図２に示すよう
なエネルギースペクトルが得られる。この図は、先に図
５で説明した３種のエネルギーのイオンを含むイオンビ
ーム４のものの例である。このようなエネルギースペク
トルが得られるのは、走査電極１２によってイオンビー
ム４を走査した場合、当該イオンビーム４に含まれるイ
オンはそのエネルギーによって曲がり方が異なり、例え
ばエネルギーの小さいイオンは小さい走査電圧Ｖのとき
にビーム電流計測器２２に入射し、エネルギーの大きい
イオンは大きい走査電圧Ｖのときにビーム電流計測器２
２に入射するからである。
を走査した場合の走査電圧ＶをＸ軸（横軸）にし、その
ときにビーム電流計測器２２で計測するビーム電流Ｉを
Ｙ軸（縦軸）にして、イオンビーム４のエネルギースペ
クトルを求める。これによって、例えば図２に示すよう
なエネルギースペクトルが得られる。この図は、先に図
５で説明した３種のエネルギーのイオンを含むイオンビ
ーム４のものの例である。このようなエネルギースペク
トルが得られるのは、走査電極１２によってイオンビー
ム４を走査した場合、当該イオンビーム４に含まれるイ
オンはそのエネルギーによって曲がり方が異なり、例え
ばエネルギーの小さいイオンは小さい走査電圧Ｖのとき
にビーム電流計測器２２に入射し、エネルギーの大きい
イオンは大きい走査電圧Ｖのときにビーム電流計測器２
２に入射するからである。
【００２０】 上記によって得られたエネルギースペ
クトルのピークを検出して各ピークの高さを求める。図
２の例の場合であれば、ピークＰ1 〜Ｐ3 を検出してそ
れぞれの高さＩ1 〜Ｉ3 を求める。この高さが、それぞ
れのイオンの量を示している。
クトルのピークを検出して各ピークの高さを求める。図
２の例の場合であれば、ピークＰ1 〜Ｐ3 を検出してそ
れぞれの高さＩ1 〜Ｉ3 を求める。この高さが、それぞ
れのイオンの量を示している。
【００２１】 目的とするイオンの電荷数やエネルギ
ーから、走査電圧Ｖが幾らのときにイオンビーム４がビ
ーム電流計測器２２に入射するかが求まるから、これに
よって目的イオンの同定を行う。図２の例の場合であれ
ば、ピークＰ2 が目的イオンのものであり、これを同定
する。
ーから、走査電圧Ｖが幾らのときにイオンビーム４がビ
ーム電流計測器２２に入射するかが求まるから、これに
よって目的イオンの同定を行う。図２の例の場合であれ
ば、ピークＰ2 が目的イオンのものであり、これを同定
する。
【００２２】 目的イオン以外のイオンのピークの高
さを予め設定された基準値と比較してそれを超えるもの
がある場合に警報信号Ｓを出力する。図２の例の場合で
あれば、Ｉ1 、Ｉ3 の内で基準値を超えるものがあれば
警報信号Ｓを出力する。
さを予め設定された基準値と比較してそれを超えるもの
がある場合に警報信号Ｓを出力する。図２の例の場合で
あれば、Ｉ1 、Ｉ3 の内で基準値を超えるものがあれば
警報信号Ｓを出力する。
【００２３】従って上記構成によれば、例えばターゲッ
ト４に対してサンプル注入を行ってその深さ方向の注入
量分布を測定するというような非常に面倒なことをしな
くても、インプロセスで、即ち実際の注入処理を行うと
きに（より具体的には注入の直前に）エネルギーコンタ
ミネーションの量を簡単にモニタすることができ、その
結果、不良注入が起こるのを未然に防止することができ
る。この場合、上記警報信号Ｓに基づいて例えば人為的
にイオン注入を中止するようにしても良いし、この警報
信号Ｓを上位の制御装置に送って自動的にインターロッ
クをかけるようにしても良い。
ト４に対してサンプル注入を行ってその深さ方向の注入
量分布を測定するというような非常に面倒なことをしな
くても、インプロセスで、即ち実際の注入処理を行うと
きに（より具体的には注入の直前に）エネルギーコンタ
ミネーションの量を簡単にモニタすることができ、その
結果、不良注入が起こるのを未然に防止することができ
る。この場合、上記警報信号Ｓに基づいて例えば人為的
にイオン注入を中止するようにしても良いし、この警報
信号Ｓを上位の制御装置に送って自動的にインターロッ
クをかけるようにしても良い。
【００２４】なお、この発明は、上記例のようにイオン
ビーム４を直交する２方向に走査（ＸＹスキャン）する
イオン注入装置の場合のみならず、イオンビームを１方
向に電気的に走査し、ターゲットをそれと直交する方向
に機械的に走査する、いわゆるハイブリッドスキャン方
式のイオン注入装置にも勿論適用することができる。
ビーム４を直交する２方向に走査（ＸＹスキャン）する
イオン注入装置の場合のみならず、イオンビームを１方
向に電気的に走査し、ターゲットをそれと直交する方向
に機械的に走査する、いわゆるハイブリッドスキャン方
式のイオン注入装置にも勿論適用することができる。
【００２５】例えば、図３はハイブリッドスキャン方式
のイオン注入装置の一例を示し、この装置は、前後二組
の走査電極２８および３２でイオンビーム４を水平方向
に並行走査（パラレルスキャン）し、ターゲット１４を
駆動装置３６で垂直方向に機械的に走査し、両走査の協
働によって、ターゲット１４の全面にイオン注入を行う
ものである。両走査電極２８、３２の間には、イオンビ
ーム４を一定角度だけ垂直方向に曲げる（オフセットさ
せる）偏向電極３０が設けられており、例えばこの偏向
電極３０を図１中の走査電極１２の代わりに用い、その
他は図１と同じ構成にすれば、上記と同様にしてエネル
ギーコンタミネーションの量をインプロセスで簡単にモ
ニタすることができる。
のイオン注入装置の一例を示し、この装置は、前後二組
の走査電極２８および３２でイオンビーム４を水平方向
に並行走査（パラレルスキャン）し、ターゲット１４を
駆動装置３６で垂直方向に機械的に走査し、両走査の協
働によって、ターゲット１４の全面にイオン注入を行う
ものである。両走査電極２８、３２の間には、イオンビ
ーム４を一定角度だけ垂直方向に曲げる（オフセットさ
せる）偏向電極３０が設けられており、例えばこの偏向
電極３０を図１中の走査電極１２の代わりに用い、その
他は図１と同じ構成にすれば、上記と同様にしてエネル
ギーコンタミネーションの量をインプロセスで簡単にモ
ニタすることができる。
【００２６】もっとも、このような偏向電極３０を有し
ていない場合は、エネルギーコンタミネーション測定用
の走査電極を設ければ良い。また、図３の例と違ってイ
オンビーム４をパラレルビーム化しないハイブリッドス
キャン方式のイオン注入装置でも良い。
ていない場合は、エネルギーコンタミネーション測定用
の走査電極を設ければ良い。また、図３の例と違ってイ
オンビーム４をパラレルビーム化しないハイブリッドス
キャン方式のイオン注入装置でも良い。
【００２７】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、多価イ
オン注入時に問題となるエネルギーコンタミネーション
の量をインプロセスで簡単にモニタすることができ、そ
の結果、不良注入が起こるのを未然に防止することがで
きる。しかも、イオンビームを細く成形するスリット板
およびターゲットよりも小さい口径のビーム電流計測器
を備えているので、エネルギースペクトルの分解能が高
く正確な測定が可能である。
オン注入時に問題となるエネルギーコンタミネーション
の量をインプロセスで簡単にモニタすることができ、そ
の結果、不良注入が起こるのを未然に防止することがで
きる。しかも、イオンビームを細く成形するスリット板
およびターゲットよりも小さい口径のビーム電流計測器
を備えているので、エネルギースペクトルの分解能が高
く正確な測定が可能である。
【図１】 この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す図である。
要部を示す図である。
【図２】 イオンビームのエネルギースペクトルの一例
を示す図である。
を示す図である。
【図３】 ハイブリッドスキャン方式のイオン注入装置
の一例を部分的に示す図である。
の一例を部分的に示す図である。
【図４】 従来のイオン注入装置の一例を示す概略平面
図である。
図である。
【図５】 異エネルギーイオンの発生要因を示す概略図
である。
である。
【図６】 ターゲットにおいてエネルギーコンタミネー
ションが起こる状況を説明する図である。
ションが起こる状況を説明する図である。
【図７】 エネルギーコンタミネーションが起こった場
合のターゲットにおける深さ方向の注入量分布の一例を
示す図である。
合のターゲットにおける深さ方向の注入量分布の一例を
示す図である。
４ イオンビーム １２ 走査電極 １４ ターゲット １６ 走査電源 ２２ ビーム電流計測器 ２６ 演算制御装置
Claims (1)
- 【請求項１】 ターゲットにイオンビームを照射して当
該ターゲットにイオン注入を行う装置であって、イオン
ビームを走査する走査電極と、この走査電極の上流側付
近に設けられていてイオンビームを細く成形するスリッ
ト板と、前記走査電極に走査電圧を供給する走査電源
と、前記走査電極によって走査されたイオンビームを受
けてそのビーム電流を計測するものであってターゲット
よりも小さい口径を持つビーム電流計測器と、このビー
ム電流計測器で計測したビーム電流と前記走査電源から
与えられる走査電圧とに基づいてイオンビームのエネル
ギースペクトルを求める機能、このエネルギースペクト
ルのピークを検出して各ピークの高さを求める機能、目
的とするイオンのピークを同定する機能および目的とす
るイオン以外のイオンのピークの高さを基準値と比較し
てそれを超えるものがある場合に警報信号を出力する機
能を有する演算制御装置とを備えることを特徴とするイ
オン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3068795A JP2722835B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3068795A JP2722835B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04282547A JPH04282547A (ja) | 1992-10-07 |
| JP2722835B2 true JP2722835B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=13384013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3068795A Expired - Fee Related JP2722835B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2722835B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3827132B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2006-09-27 | 株式会社 Ｓｅｎ−Ｓｈｉ・アクセリス カンパニー | イオン注入装置及びイオン注入方法 |
| US7102146B2 (en) | 2004-06-03 | 2006-09-05 | Axcelis Technologies, Inc. | Dose cup located near bend in final energy filter of serial implanter for closed loop dose control |
| CN101238539B (zh) * | 2005-06-06 | 2010-10-06 | 艾克塞利斯技术公司 | 靠近连续注入机最后能量过滤器中弯折部的闭环回路剂量控制剂量杯 |
| CN109613597B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-04-06 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 一种确定电子束能谱的方法及系统 |
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