JP2509169B2 - セル内メタルマスク付基板 - Google Patents
セル内メタルマスク付基板Info
- Publication number
- JP2509169B2 JP2509169B2 JP59234324A JP23432484A JP2509169B2 JP 2509169 B2 JP2509169 B2 JP 2509169B2 JP 59234324 A JP59234324 A JP 59234324A JP 23432484 A JP23432484 A JP 23432484A JP 2509169 B2 JP2509169 B2 JP 2509169B2
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- JP
- Japan
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- metal mask
- cell
- substrate
- metal
- mask
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、液晶セル内にマスクを組み込んだ液晶表示
素子(以下、セル内メタルマスク付LCDと称す)に関す
る。
素子(以下、セル内メタルマスク付LCDと称す)に関す
る。
(従来技術) 日付等の各種情報をフィルムに写し込む機能を付加し
たカメラ等において、ネガ表示の液晶表示素子(LCD)
をシャッターとして各種情報のフィルムへの写し込みを
実施する方法が汎用されている。この写し込み用ネガ表
示LCDにおいては、シャッターの光遮蔽力の向上とパタ
ーンエッジ精度(パターンエッジの高い直線性)の向上
とを目的として、液晶セル内にマスクを設ける方法が一
般的に用いられている。
たカメラ等において、ネガ表示の液晶表示素子(LCD)
をシャッターとして各種情報のフィルムへの写し込みを
実施する方法が汎用されている。この写し込み用ネガ表
示LCDにおいては、シャッターの光遮蔽力の向上とパタ
ーンエッジ精度(パターンエッジの高い直線性)の向上
とを目的として、液晶セル内にマスクを設ける方法が一
般的に用いられている。
第3図と第4図は、それぞれ、従来のセル内メタルマ
スク付LCDのコモン電極側基板の一例の正面図と側面図
である。メタルマスク(斜線で示す)2が蒸着とホトエ
ッチングによりガラス基板1の全面に中央部の情報表示
用パターン18:88を構成するセグメント3,3,…を除いて
クロム等により形成される。メタルマスク2は、セグメ
ント3,3,…を除いて光を遮蔽する。次に、透明導電膜
(コモン電極)4がメタルマスク2上の全面に、また
は、表示用パターン18:88のセグメント3,3,…の近傍に
のみ形成される。
スク付LCDのコモン電極側基板の一例の正面図と側面図
である。メタルマスク(斜線で示す)2が蒸着とホトエ
ッチングによりガラス基板1の全面に中央部の情報表示
用パターン18:88を構成するセグメント3,3,…を除いて
クロム等により形成される。メタルマスク2は、セグメ
ント3,3,…を除いて光を遮蔽する。次に、透明導電膜
(コモン電極)4がメタルマスク2上の全面に、また
は、表示用パターン18:88のセグメント3,3,…の近傍に
のみ形成される。
セル内メタルマスク2を設けたことにより、光遮蔽力
が増加し、パターンエッジ精度が高くなり、したがっ
て、情報がきれいに写し込まれる。
が増加し、パターンエッジ精度が高くなり、したがっ
て、情報がきれいに写し込まれる。
(発明の解決すべき問題点) 従来のセル内メタルマスク付LCDにおいては、セル内
メタルマスクとして光遮蔽力が高く、かつ、高いパター
ンエッジ精度のでやすいクロム等の金属を使用する。メ
タルマスク2と透明導電膜4は、電気的に導電する。し
たがって、従来のセル内メタルマスク付LCDの欠点は、
コモン電極側に単一信号が印加されるスタティック駆動
方式のみにしか適応できないことである。
メタルマスクとして光遮蔽力が高く、かつ、高いパター
ンエッジ精度のでやすいクロム等の金属を使用する。メ
タルマスク2と透明導電膜4は、電気的に導電する。し
たがって、従来のセル内メタルマスク付LCDの欠点は、
コモン電極側に単一信号が印加されるスタティック駆動
方式のみにしか適応できないことである。
クロム等の金属をセル内マスクとして使用し、かつ、
コモン電極側も2つ以上の信号に分ける必要のあるダイ
ナミック駆動に適応するためには、メタルマスクとコモ
ン電極との間に充分な絶縁膜を介在させねばならない。
絶縁膜として安価なPiを塗布する方式では、Pi膜厚が2
〜3μmと厚くなるので、濃い褐色の膜となり、液晶セ
ル用には光学的に使用できない。CVDによりSiO2の絶縁
膜を形成する方法は、有用であるが、高価である。
コモン電極側も2つ以上の信号に分ける必要のあるダイ
ナミック駆動に適応するためには、メタルマスクとコモ
ン電極との間に充分な絶縁膜を介在させねばならない。
絶縁膜として安価なPiを塗布する方式では、Pi膜厚が2
〜3μmと厚くなるので、濃い褐色の膜となり、液晶セ
ル用には光学的に使用できない。CVDによりSiO2の絶縁
膜を形成する方法は、有用であるが、高価である。
(問題点を解決するための手段) 本発明の目的は、液晶表示素子用のダイナミック駆動
にも適応可能で安価なセル内メタルマスク付基板を提供
することである。
にも適応可能で安価なセル内メタルマスク付基板を提供
することである。
本発明に係るセル内メタルマスク付基板は、ガラス基
板上の非表示領域に形成したマスク用の金属層と、この
金属層の表面上に形成した、該金属層を形成する金属材
料の酸化物からなる絶縁層と、さらにガラス基板とこの
絶縁層との上に形成した、表示パターンとを形成する1
個以上の透明電極とからなるセル内メタルマスク付基板
とからなる。
板上の非表示領域に形成したマスク用の金属層と、この
金属層の表面上に形成した、該金属層を形成する金属材
料の酸化物からなる絶縁層と、さらにガラス基板とこの
絶縁層との上に形成した、表示パターンとを形成する1
個以上の透明電極とからなるセル内メタルマスク付基板
とからなる。
(実施例) 以下、添付の図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
る。
第1図と第2図とは、それぞれ、本発明の実施例の正
面図と断面図である。ガラス基板11上に、タンタルが20
00〜4000Åの厚さで蒸着され、ホトエッチングにより中
央部の情報表示用パターン18:88を構成するセグメント1
2,12,…が形成される。次に、このタンタル蒸着層の表
面を陽極酸化により処理し、表面にTa2O5層を形成す
る。こうして、ガラス基板11上に表示用パターン18:88
を構成するセグメントの形12,12,…を除いて、1000〜20
00Å厚のタンタルのメタルマスク(斜線で示す)13が形
成され、そして、このメタルマスク13の上に、1000〜20
00Å厚のTa2O5の薄い絶縁層14が形成される。(なお、
図示を省略したが、Ta2O5絶縁層14は、メタルマスク13
の側面にも形成される。)次に、透明導電膜である2個
の透明電極(コモン電極)15,16が、基板11と絶縁膜14
との表面を二分するように、かつ、両電極が境界で相互
に絶縁された状態に通常の方法により形成される。第1
図の曲線17は透明電極15,16間の境界を示す。こうし
て、コモン電極15,16がメタルマスク13と絶縁されるの
で、ダイナミック駆動の可能なセル内メタルマスク付液
晶セルが容易に安価に製造される。
面図と断面図である。ガラス基板11上に、タンタルが20
00〜4000Åの厚さで蒸着され、ホトエッチングにより中
央部の情報表示用パターン18:88を構成するセグメント1
2,12,…が形成される。次に、このタンタル蒸着層の表
面を陽極酸化により処理し、表面にTa2O5層を形成す
る。こうして、ガラス基板11上に表示用パターン18:88
を構成するセグメントの形12,12,…を除いて、1000〜20
00Å厚のタンタルのメタルマスク(斜線で示す)13が形
成され、そして、このメタルマスク13の上に、1000〜20
00Å厚のTa2O5の薄い絶縁層14が形成される。(なお、
図示を省略したが、Ta2O5絶縁層14は、メタルマスク13
の側面にも形成される。)次に、透明導電膜である2個
の透明電極(コモン電極)15,16が、基板11と絶縁膜14
との表面を二分するように、かつ、両電極が境界で相互
に絶縁された状態に通常の方法により形成される。第1
図の曲線17は透明電極15,16間の境界を示す。こうし
て、コモン電極15,16がメタルマスク13と絶縁されるの
で、ダイナミック駆動の可能なセル内メタルマスク付液
晶セルが容易に安価に製造される。
マスク材としては、タンタルの他にもマスク材の陽極
酸化処理により、簡単に均一な絶縁膜が得られる材料を
選択することができる。
酸化処理により、簡単に均一な絶縁膜が得られる材料を
選択することができる。
次に、従来通りの手順で液晶表示素子を製造する。上
記の基板をセグメント電極を形成したもう1枚のガラス
基板と対抗させ、シール剤を介して貼り合わせる。こう
して、形成した液晶セルに液晶を注入する。
記の基板をセグメント電極を形成したもう1枚のガラス
基板と対抗させ、シール剤を介して貼り合わせる。こう
して、形成した液晶セルに液晶を注入する。
(発明の効果) 本発明により、メタルマスクの絶縁化が安価で可能に
なる。したがって、光遮蔽力が高く、パターンエッジ精
度の高いセル内メタルマスク付LCDを容易にダイナミッ
ク駆動化できる。
なる。したがって、光遮蔽力が高く、パターンエッジ精
度の高いセル内メタルマスク付LCDを容易にダイナミッ
ク駆動化できる。
第1図と第2図とは、それぞれ、本発明の実施例の正面
図と平面図である。 第3図と第4図とは、それぞれ、従来のセル内メタルマ
スク付基板の正面図と平面図である。 1……ガラス基板、2……メタルマスク、3,3,… ……
情報のセグメント、4……コモン電極、12,12,… ……
情報のセグメント、17……コモン電極間の境界。
図と平面図である。 第3図と第4図とは、それぞれ、従来のセル内メタルマ
スク付基板の正面図と平面図である。 1……ガラス基板、2……メタルマスク、3,3,… ……
情報のセグメント、4……コモン電極、12,12,… ……
情報のセグメント、17……コモン電極間の境界。
Claims (1)
- 【請求項1】ガラス基板上の非表示領域に形成したマス
ク用の金属層と、この金属層の表面上に形成した、該金
属層を形成する金属材料の酸化物からなる絶縁層と、さ
らにガラス基板とこの絶縁層との上に形成した、表示パ
ターンを形成する1個以上の透明電極とからなるセル内
メタルマスク付基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59234324A JP2509169B2 (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | セル内メタルマスク付基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59234324A JP2509169B2 (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | セル内メタルマスク付基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61112125A JPS61112125A (ja) | 1986-05-30 |
JP2509169B2 true JP2509169B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=16969217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59234324A Expired - Lifetime JP2509169B2 (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | セル内メタルマスク付基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2509169B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000058780A1 (fr) * | 1999-03-25 | 2000-10-05 | Citizen Watch Co., Ltd. | Panneau a cristaux liquides |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57197592A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-03 | Suwa Seikosha Kk | Liquid crystal display unit |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP59234324A patent/JP2509169B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61112125A (ja) | 1986-05-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |