JPH0640250B2 - 多重表示パネルの電極形成方法 - Google Patents
多重表示パネルの電極形成方法Info
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- JPH0640250B2 JPH0640250B2 JP31135086A JP31135086A JPH0640250B2 JP H0640250 B2 JPH0640250 B2 JP H0640250B2 JP 31135086 A JP31135086 A JP 31135086A JP 31135086 A JP31135086 A JP 31135086A JP H0640250 B2 JPH0640250 B2 JP H0640250B2
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- resist
- forming
- substrate
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は強誘電性液晶と色調調整用ＴＮ型液晶を重ね合
わせた構成の多重表示パネルなどにおける中間透明基板
の表裏両面の同一位置に精度良く、透明電極を形成する
ため、中間透明基板の一方の面に形成した不透光性薄膜
付きの電極形成用レジストパターンを利用した、所謂セ
ルフアライン技法を用いて該基板の他方の面に全く同一
パターン形状の電極形成用レジストパターンを形成し、
かかる両電極形成用レジストパターンによって該基板の
両面の同一位置に透明電極を精度良く、かつ容易に形成
するようにしたものである。
わせた構成の多重表示パネルなどにおける中間透明基板
の表裏両面の同一位置に精度良く、透明電極を形成する
ため、中間透明基板の一方の面に形成した不透光性薄膜
付きの電極形成用レジストパターンを利用した、所謂セ
ルフアライン技法を用いて該基板の他方の面に全く同一
パターン形状の電極形成用レジストパターンを形成し、
かかる両電極形成用レジストパターンによって該基板の
両面の同一位置に透明電極を精度良く、かつ容易に形成
するようにしたものである。
本発明は多重表示パネルの電極形成方法に係り、特に対
向する両側の電極支持基板間に、表裏面に電極を設けた
中間基板を介在して少なくとも二つの異種液晶層を重ね
て設けた色調調整可能な液晶表示パネル、或いはカラー
液晶表示パネル等における中間基板の表裏面に配設して
なる電極形成方法に関するものである。
向する両側の電極支持基板間に、表裏面に電極を設けた
中間基板を介在して少なくとも二つの異種液晶層を重ね
て設けた色調調整可能な液晶表示パネル、或いはカラー
液晶表示パネル等における中間基板の表裏面に配設して
なる電極形成方法に関するものである。
強誘電性液晶を用いた表示パネルにおいては、該液晶セ
ル厚のバラツキにより色むら等ができる問題を解消する
ため、第２図の概念図に示すように表裏面に透明電極
２，３を設けた中間基板１を介して、ＴＮ型液晶セル層
４と強誘電性液晶セル層５とを重ね合わせ、その両側に
それぞれ透明電極８，９を支持した透明基板６，７が配
設された構成とし、前記ＴＮ型液晶セル層４を灰色フィ
ルタとして駆動させ、該ＴＮ型液晶セル層４の単位セル
毎に電圧を選択印加することによって、強誘電性液晶セ
ル層５での色むらを調整可能とした液晶表示パネル、或
いは少なくとも二つの異種液晶層と色フィルタ等を重ね
合わせて構成したカラー液晶表示パネルなどの多重液晶
表示パネルが既に提案されている。
ル厚のバラツキにより色むら等ができる問題を解消する
ため、第２図の概念図に示すように表裏面に透明電極
２，３を設けた中間基板１を介して、ＴＮ型液晶セル層
４と強誘電性液晶セル層５とを重ね合わせ、その両側に
それぞれ透明電極８，９を支持した透明基板６，７が配
設された構成とし、前記ＴＮ型液晶セル層４を灰色フィ
ルタとして駆動させ、該ＴＮ型液晶セル層４の単位セル
毎に電圧を選択印加することによって、強誘電性液晶セ
ル層５での色むらを調整可能とした液晶表示パネル、或
いは少なくとも二つの異種液晶層と色フィルタ等を重ね
合わせて構成したカラー液晶表示パネルなどの多重液晶
表示パネルが既に提案されている。
このような多重液晶表示パネルに用いられる中間基板の
表裏面に設けた透明電極としては、画素ズレが生じない
ように該表裏面の同一位置に精度良く設けることが要求
され、そのような電極形成を容易に行う方法が必要とさ
れている。
表裏面に設けた透明電極としては、画素ズレが生じない
ように該表裏面の同一位置に精度良く設けることが要求
され、そのような電極形成を容易に行う方法が必要とさ
れている。
従来、上記した多重液晶表示パネルに用いられる中間基
板の表裏面に電極を形成する方法としては、先ず第３図
(a)に示すように、例えばガラス板等からなる透明中間
基板21の表面に第一レジスト膜22を塗着し、該第一レジ
スト膜22に対して電極形成用パターンマスク23を介して
露光を行う。
板の表裏面に電極を形成する方法としては、先ず第３図
(a)に示すように、例えばガラス板等からなる透明中間
基板21の表面に第一レジスト膜22を塗着し、該第一レジ
スト膜22に対して電極形成用パターンマスク23を介して
露光を行う。
次に第３図(b)に示すように第一レジスト膜22を現像す
ることにより得られた第一レジストパターン24上を含む
前記基板21上にインジウム・錫酸化膜(ITO) などからな
る第一透明導電膜25を被着する。
ることにより得られた第一レジストパターン24上を含む
前記基板21上にインジウム・錫酸化膜(ITO) などからな
る第一透明導電膜25を被着する。
次に第３図(c)に示すように前記第一レジストパターン2
4及びその上の第一透明導電膜25部分をリフトオフ法に
より除去して表面側透明電極26を形成した後、該中間基
板21の裏面に第二レジスト膜27を塗着し、該第二レジス
ト膜27に対して前記表面側透明電極26と対応する部分に
露光がなされるように電極形成用パターンマスク23を介
して露光を行う。
4及びその上の第一透明導電膜25部分をリフトオフ法に
より除去して表面側透明電極26を形成した後、該中間基
板21の裏面に第二レジスト膜27を塗着し、該第二レジス
ト膜27に対して前記表面側透明電極26と対応する部分に
露光がなされるように電極形成用パターンマスク23を介
して露光を行う。
その後、第３図(d)に示すように第二レジスト膜27を現
像して得られた第二レジストパターン28上を含む前記基
板21上にインジウム・錫酸化膜(ITO) などからなる第二
透明導電膜29を被着し、前記第二レジストパターン28及
びその上の第二透明導電膜29部分をリフトオフ法により
除去して裏面側透明電極30を形成することによって、第
３図(e)に示すように前記中間基板21の表裏両面の同一
位置に表面側透明電極26と裏面側透明電極30を設けた構
成としている。
像して得られた第二レジストパターン28上を含む前記基
板21上にインジウム・錫酸化膜(ITO) などからなる第二
透明導電膜29を被着し、前記第二レジストパターン28及
びその上の第二透明導電膜29部分をリフトオフ法により
除去して裏面側透明電極30を形成することによって、第
３図(e)に示すように前記中間基板21の表裏両面の同一
位置に表面側透明電極26と裏面側透明電極30を設けた構
成としている。
ところで上記したような従来の電極形成方法では、中間
基板21の表面及び裏面にそれぞれ電極形成用パターンマ
スク23を用いて各透明電極26，30を形成しているため、
これら中間基板21の表裏面に対して電極形成用パターン
マスク23の位置合わせをかなり高精度に行わないと、表
面側透明電極26と裏面側透明電極30を中間基板21の表裏
両面の同一位置に正確に設けることが難しく、またかか
る形成工程が複雑になるという欠点があった。
基板21の表面及び裏面にそれぞれ電極形成用パターンマ
スク23を用いて各透明電極26，30を形成しているため、
これら中間基板21の表裏面に対して電極形成用パターン
マスク23の位置合わせをかなり高精度に行わないと、表
面側透明電極26と裏面側透明電極30を中間基板21の表裏
両面の同一位置に正確に設けることが難しく、またかか
る形成工程が複雑になるという欠点があった。
本発明は上記従来の実情に鑑み、中間基板の一方の面に
形成した電極形成用パターンを利用して、該基板の表裏
面の同一位置に精度良くそれぞれ電極を形成し得る新規
な多重液晶表示パネルの電極形成方法を提供することを
目的とするものである。
形成した電極形成用パターンを利用して、該基板の表裏
面の同一位置に精度良くそれぞれ電極を形成し得る新規
な多重液晶表示パネルの電極形成方法を提供することを
目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するため、中間透明基板の表面
に不透光性薄膜が被着された表面側電極形成用レジスト
パターンを形成し、この不透光性薄膜付きの表面側電極
形成用レジストパターンを利用して、該中間透明基板の
裏面に塗着したレジスト膜を選択的に前記基板を通して
露光し、裏面側電極形成用レジストパターンを形成す
る。
に不透光性薄膜が被着された表面側電極形成用レジスト
パターンを形成し、この不透光性薄膜付きの表面側電極
形成用レジストパターンを利用して、該中間透明基板の
裏面に塗着したレジスト膜を選択的に前記基板を通して
露光し、裏面側電極形成用レジストパターンを形成す
る。
その後、前記中間透明基板の表裏両面にそれぞれ不透光
性薄膜付き表面側電極形成用レジストパターン及び裏面
側電極形成用レジストパターンを介して透明導電膜を被
着した後、該表裏面の前記各レジストパターン及びその
上の不透光性薄膜、透明導電膜を所謂、リフトオフ法に
よって除去することにより、中間透明基板の両面の同一
位置にそれぞれ透明電極を形成する。
性薄膜付き表面側電極形成用レジストパターン及び裏面
側電極形成用レジストパターンを介して透明導電膜を被
着した後、該表裏面の前記各レジストパターン及びその
上の不透光性薄膜、透明導電膜を所謂、リフトオフ法に
よって除去することにより、中間透明基板の両面の同一
位置にそれぞれ透明電極を形成する。
本発明の多重表示パネルの電極形成方法では、中間透明
基板の一方の面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成
用レジストパターンを利用した、所謂セルフアライン技
法を用いて該基板の他方の面に全く同一形状の電極形成
用レジストパターンを形成し、これら両電極形成用レジ
ストパターンによって透明電極を形状すれば、該基板の
両面の同一位置に高精度にそれぞれ透明電極を設けるこ
とが可能となる。
基板の一方の面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成
用レジストパターンを利用した、所謂セルフアライン技
法を用いて該基板の他方の面に全く同一形状の電極形成
用レジストパターンを形成し、これら両電極形成用レジ
ストパターンによって透明電極を形状すれば、該基板の
両面の同一位置に高精度にそれぞれ透明電極を設けるこ
とが可能となる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図(a)〜(f)は本発明に係る多重表示パネルの電極形
成方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である。
成方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である。
先ず第１図(a)に示すように、例えばガラス板等からな
る中間透明基板31の表面に第一レジスト膜32を塗着し、
該第一レジスト膜32に対して電極形成用パターンマスク
33を介して露光を行う。
る中間透明基板31の表面に第一レジスト膜32を塗着し、
該第一レジスト膜32に対して電極形成用パターンマスク
33を介して露光を行う。
次に第１図(b)に示すようにかかる第一レジスト膜32上
にアルミニウム(Al)などからな不透光性薄膜34を被着し
た後、この第一レジスト膜32の露光部分とその上の不透
光性薄膜34部分とを、リフトオフ法により選択的に除去
する。
にアルミニウム(Al)などからな不透光性薄膜34を被着し
た後、この第一レジスト膜32の露光部分とその上の不透
光性薄膜34部分とを、リフトオフ法により選択的に除去
する。
次に第１図(c)に示すように前記基板31の裏面に第二レ
ジスト膜36を塗着すると共に、前記パターニングされた
不透光性薄膜34付き表面側電極形成用レジストパターン
35を裏面側電極形成用のパターンマスクにして該第二レ
ジスト膜36を前記基板31を通して選択的に露光し、かつ
現像して第１図(d)に示すように裏面側電極形成用レジ
ストパターン37を形成する。
ジスト膜36を塗着すると共に、前記パターニングされた
不透光性薄膜34付き表面側電極形成用レジストパターン
35を裏面側電極形成用のパターンマスクにして該第二レ
ジスト膜36を前記基板31を通して選択的に露光し、かつ
現像して第１図(d)に示すように裏面側電極形成用レジ
ストパターン37を形成する。
しかる後、第１図(e)に示すように前記透明基板31の両
面にそれぞれ不透光性薄膜34付き表面側電極形成用レジ
ストパターン35及び裏面側電極形成用レジストパターン
37を介して、例えばインジウム・錫酸化膜(ITO) などか
らなる第一、第二透明導電膜38，39を被着形成する。
面にそれぞれ不透光性薄膜34付き表面側電極形成用レジ
ストパターン35及び裏面側電極形成用レジストパターン
37を介して、例えばインジウム・錫酸化膜(ITO) などか
らなる第一、第二透明導電膜38，39を被着形成する。
次に前記表裏面の各電極形成用レジストパターン35，37
及びその上の不透光性薄膜34、透明導電膜38，39を所
謂、リフトオフ法によって除去することにより、第１図
(f)に示すように中間透明基板31の両面の同一位置にそ
れぞれ透明電極40，41を１μm 以下の位置ズレ誤差範囲
に精度良く形成することができる。
及びその上の不透光性薄膜34、透明導電膜38，39を所
謂、リフトオフ法によって除去することにより、第１図
(f)に示すように中間透明基板31の両面の同一位置にそ
れぞれ透明電極40，41を１μm 以下の位置ズレ誤差範囲
に精度良く形成することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る多重表示
パネルの電極形成方法によれば、中間透明基板の一方の
面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成用レジストパ
ターンを利用した、所謂セルフアライン技法を用いて該
基板の他方の面に全く同一パターン形状の電極形成用レ
ジストパターンを形成することが出来る。
パネルの電極形成方法によれば、中間透明基板の一方の
面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成用レジストパ
ターンを利用した、所謂セルフアライン技法を用いて該
基板の他方の面に全く同一パターン形状の電極形成用レ
ジストパターンを形成することが出来る。
従って、かかる両電極形成用レジストパターンによって
透明電極を形状すれば、該基板の両面の同一位置に高精
度にそれぞれ透明電極を容易に設けることが可能となる
優れた効果を奏する。
透明電極を形状すれば、該基板の両面の同一位置に高精
度にそれぞれ透明電極を容易に設けることが可能となる
優れた効果を奏する。
第１図(a)〜(f)は本発明に係る多重表示パネルの電極形
成方法の一実施例を工程順に示す要部断面図、 第２図は多重表示パネルを概念的に説明するための要部
断面図、 第３図は従来の多重表示パネルにおける中間透明基板に
対する電極形成方法を工程順に説明するための要部断面
図である。 第１図(a)〜(f)において、 31は中間透明基板、32は第一レジスト膜、33は電極形成
用パターンマスク、34は不透光性薄膜、35，37はレジス
トパターン、36は第二レジスト膜、38は第一透明導電
膜、39は第二透明導電膜、40，41は透明電極をそれぞれ
示す。
成方法の一実施例を工程順に示す要部断面図、 第２図は多重表示パネルを概念的に説明するための要部
断面図、 第３図は従来の多重表示パネルにおける中間透明基板に
対する電極形成方法を工程順に説明するための要部断面
図である。 第１図(a)〜(f)において、 31は中間透明基板、32は第一レジスト膜、33は電極形成
用パターンマスク、34は不透光性薄膜、35，37はレジス
トパターン、36は第二レジスト膜、38は第一透明導電
膜、39は第二透明導電膜、40，41は透明電極をそれぞれ
示す。
Claims (1)
- 【請求項１】対向する２つの基板の対向面にそれぞれ異
種の表示媒体層に対する一方の電極を形成し、これら基
板間に介在する中間透明基板(31)の両面に前記異種の表
示媒体層に対する他方の透明電極(40,41)を形成してな
る多重表示パネルにおいて、 上記中間透明基板(31)の両面に前記異種の表示媒体層に
対する他方の透明電極(40，41)を形成するに際し、該中
間透明基板(31)の表面に第一レジスト膜(32)を塗着し、
該第一レジスト膜(32)に電極形成用パターンマスク(33)
を介して露光を行う工程と、該第一レジスト膜(32)上に
不透光性薄膜(34)を被着し、第一レジスト膜(32)の露光
部分をその上の不透光性薄膜(34)と共に除去する工程
と、更に前記基板(31)の裏面に第二レジスト膜(36)を塗
着し、前記パターニングされた不透光性薄膜(34)付きレ
ジストパターン(35)を電極形成用パターンマスクにして
第二レジスト膜(36)を選択的に露光してレジストパター
ン(37)を形成する工程と、前記基板(31)の両面にそれぞ
れ不透光性薄膜(34)及びレジストパターン(37)を介して
導電膜(38，39)を被着する工程を行った後、前記導電膜
(38，39)が被着した不透光性薄膜(34)付きレジストパタ
ーン(35)及びレジストパターン(37)を除去することによ
り、前記基板(31)の両面の同一位置に電極(40，41)を形
成することを特徴とする多重表示パネルの電極形成方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31135086A JPH0640250B2 (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 多重表示パネルの電極形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31135086A JPH0640250B2 (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 多重表示パネルの電極形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159895A JPS63159895A (ja) | 1988-07-02 |
| JPH0640250B2 true JPH0640250B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=18016092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31135086A Expired - Fee Related JPH0640250B2 (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 多重表示パネルの電極形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640250B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020013059A (ja) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | 株式会社東芝 | 装置の製造方法 |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP31135086A patent/JPH0640250B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020013059A (ja) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | 株式会社東芝 | 装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63159895A (ja) | 1988-07-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |