JPS63159895A - 多重表示パネルの電極形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は強誘電性液晶と色調調整用ＴＮ型液晶を重ね合
わせた構成の多重表示パネルなどにおける中間透明基板
の表裏両面の同一位置に精度良く、透明電極を形成する
ため、中間透明基板の一方の面に形成した不透光性薄膜
付きの電極形成用レジストパターンを利用した、所謂セ
ルファライン技法を用いて該基板の他方の面に全く同一
パターン形状の電極形成用レジストパターンを形成し、
かかる両電極形成用レジストパターンによって該基板の
両面の同一位置に透明電極を精度良く、かつ容易に形成
するようにしたものである。

〔産業上の利用分野〕

本発明は多重表示パネルの電極形成方法に係り、特に対
向する両側の電極支持基板間に、表裏面に電極を設けた
中間基板を介在して少なくとも二つの異種液晶層を重ね
て設けた色調調整可能な液晶表示パネル、或いはカラー
液晶表示パネル等における中間基板の表裏面に配設して
なる電極形成方法に関するものである。

強誘電性液晶を用いた表示パネルにおいては、該液晶セ
ル厚のバラツキにより色むら等ができる問題を解消する
ため、第２図の概念図に示すように表裏面に透明電極２
，３を設けた中間基板１を介して、ＴＮＮ型液晶セル層
と強誘電性液晶セル層５とを重ね合わせ、その両側にそ
れぞれ透明電極８，９を支持した透明基板６．７が配設
された構成とし、前記ＴＮ型液晶セル層４を灰色フィル
タとして駆動させ、該ＴＮ型液晶セル層４の単位セル毎
に電圧を選択印加することによって、強誘電性液晶セル
層５での色むらを調整可能とした液晶表示パネル、或い
は少なくとも二つの異種液晶層と色フィルタ等を重ね合
わせて構成したカラー液晶表示パネルなどの多重液晶表
示パネルが既に提案されている。

このような多重液晶表示パネルに用いられる中間基板の
表裏面に設けた透明電極としては、画素ズレが生じない
ように該表裏面の同一位置に精度良（設けることが要求
され、そのような電極形成を容易に行う方法が必要とさ
れている。

〔従来の技術〕

従来、上記した多重液晶表示パネルに用いられる中間基
板の表裏面に電極を形成する方法としては、先ず第３図
（ａｌに示すように、例えばガラス板等からなる透明中
間基板２１の表面に第一レジスト膜２２を塗着し、該第
一レジスト膜２２に対して電極形成用バクーンマスク２
３を介して露光を行う。

次に第３図（ｂ＋に示すように第一レジスト膜２２を現
像することにより得られた第一レジストパターン２４上
を含む前記基板２１上にインジウム・６８６１化膜（Ｉ
ＴＯ）などからなる第一透明４電膜２５を被着する。

次に第３図（Ｃ１に示すように前記第一レシストパター
ン２４及びその上の第一透明導電膜２５部分をリフトオ
フ法により除去して表面側透明電極２６を形成した後、
該中間基板２１の裏面に第二レジスト膜２７を塗着し、
該第二レジスト膜２７に対して前記表面側透明電極２６
と対応する部分に露光がなされるように電極形成用パタ
ーンマスク２３を介して露光を行う。

その後、第３図（ｄ）に示すように第二レジスト膜２７
を現像して得られた第二レジストパターン２８上を含む
前記基板２１上にインジウム・錫酸化膜（ＩＴＯ）など
からなる第二透明導電膜２９を被着し、前記第二レジス
トパターン２８及びその上の第二透明導電膜２９部分を
リフトオフ法により除去して裏面側透明電極３０を形成
することによって、第３図（ｅ）に示すように前記中間
基板２１の表裏両面の同一位置に表面側透明電極２６と
裏面側透明電極３０を設けた構成としている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで上記したような従来の電極形成方法では、中間
基板２１の表面及び裏面にそれぞれ電極形成用パターン
マスク２３を用いて各透明電極２６．３０を形成してい
るため、これら中間基板２１の表裏面に対して電極形成
用パターンマスク２３の位置合わせをかなり高精度に行
わないと、表面側透明電極２６と裏面側透明電極３０を
中間基板２１０表裏両面の同一位置に正確に設けること
が難しく、またかかる形成工程が複雑になるという欠点
があった。

本発明は上記従来の実情に鑑み、中間基板の一方の面に
形成した電極形成用パターンを利用して、該基板の表裏
面の同一位置に精度良くそれぞれ電極を形成し得る新規
な多重液晶表示パネルの電極形成方法を提供することを
目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するため、中間透明基板の表面
に不透光性薄膜が被着された表面側電極形成用レジスト
パターンを形成し、この不透光性薄膜付きの表面側電極
形成用レジストパターンを利用して、該中間透明基板の
裏面に塗着したレジスト膜を選択的に前記基板を通して
露光し、裏面側電極形成用レジストパターンを形成する
。

その後、前記中間透明基板の表裏両面にそれぞれ不透光
性薄膜付き表面側電極形成用レジストパターン及び裏面
側電極形成用レジストパターンを介して透明導電膜を被
着した後、該表裏面の前記各レジストパターン及びその
上の不透光性薄膜、透明導電膜を所謂、リフトオフ法に
よって除去することにより、中間透明基板の両面の同一
位置にそれぞれ透明電極を形成する。

〔作用〕

本発明の多重表示パネルの電極形成方法では、中間透明
基板の一方の面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成
用レジストパターンを利用した、所謂セルファライン技
法を用いて該基板の他方の面に全く同一形状の電極形成
用レジストパターンを形成し、これら両電極形成用レジ
ストパターンによって透明電極を形状すれば、該基板の
両面の同一位置に高精度にそれぞれ透明電極を設けるこ
とが可能となる。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図（ａ）〜（ｆｌは本発明に係る多重表示パネルの
電極形成方法の一実施例を工程順に示す要部断面図であ
る。

先ず第１図（ａ）に示すように、例えばガラス板等から
なる中間透明基板３１の表□面に第一レジスト膜３２を
塗着し、該第一レジスト膜３２に対して電極形成用パタ
ーンマスク３３を介して露光を行う。

次に第１図（ｂｌに示すようにかかる第一レジスト膜３
２上にアルミニウム（Ａ１）などからなる不透光性薄膜
３４を被着した後、この第一レジスト膜３２の露光部分
とその上の不透光性薄膜３４部分とを、リフトオフ法に
より選択的に除去する。

次に第１図（Ｃ）に示すように前記基板３１の裏面に第
二レジスト膜３６を塗着すると共に、前記バターニング
された不透光性薄膜３４付き表面側電極形成用レジスト
パターン３５を裏面側電極形成用のパターンマスクにし
て該第二レジスト膜３６を前記基板３１を通して選択的
に露光し、かつ現像して第１図（ｄ＋に示すように裏面
側電極形成用レジストパターン３７を形成する。

しかる後、第１図（ｅ）に示すように前記透明基板３１
の両面にそれぞれ不透光性薄膜３４付き表面側電極形成
用レジストパターン３５及び裏面側電極形成用レジスト
パターン３７を介して、例えばインジウム・錫酸化膜（
ＴＴＯ）などからなる第一、第二透明導電膜３８．３９
を被着形成する。

次に前記表裏面の各電極形成用レジストパターン３５．
３７及びその上の不透光性薄膜３４、透明導電膜３８．
３９を所謂、リフトオフ法によって除去することにより
、第１図（ｆ）に示すように中間透明基板３１の両面の
同一位置にそれぞれ透明電極４０．４１を１μｍ以下の
位置ズレ　誤差範囲に精度良く形成することができる。

（発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明に係る多重表示
パネルの電極形成方法によれば、中間透明基板の一方の
面に形成した不透光性薄膜付きの電極形成用レジストパ
ターンを利用した、所謂セルファライン技法を用いて該
基板の他方の面に全く同一パターン形状の電極形成用レ
ジストパターンを形成することが出来る。

従って、かかる両電極形成用レジストパターンによって
透明電極を形状すれば、該基板の両面の同一位置に高精
度にそれぞれ透明電極を容易に設けることが可能となる
優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａｌ〜（ｆｌは本発明に係る多重表示パネルの
電極形成方法の一実施例を工程順に示 す要部断面図、 第２図は多重表示パネルを概念的に説明するための要部
断面図、 第３図は従来の多重表示パネルにおける中間透明基板に
対する電極形成方法を工程順 に説明するための要部断面図である。 第１図（ａ）〜（ｆ）において、 ３１は中間透明基板、３２は第一レジスト膜、３３は電
極形成用パターンマスク、３４は不透光性薄膜、３５．
３７はレジストパターン、３６は第二レジスト膜、３８
は第一透明導電膜、３９は第二透明導電膜、４０．４１
は透明電極をそれぞれ示す。 ３３ハシｔ〉マス７ Ｉｃ） 本茫１１１ｒ／ｌ突蛤例ｔひｆ櫨１ｚネＴ字部新血ｍ第
１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 対向する２つの基板の対向面にそれぞれ異種の表示媒体
   層に対する一方の電極を形成し、これら基板間に介在す
   る中間透明基板（３１）の両面に前記異種の表示媒体層
   に対する他方の透明電極（４０、４１）を形成してなる
   多重表示パネルにおいて、 上記中間透明基板（３１）の両面に前記異種の表示媒体
   層に対する他方の透明電極（４０、４１）を形成するに
   際し、該中間透明基板（３１）の表面に第一レジスト膜
   （３２）を塗着し、該第一レジスト膜（３２）に電極形
   成用パターンマスク（３３）を介して露光を行う工程と
   、該第一レジスト膜（３２）上に不透光性薄膜（３４）
   を被着し、第一レジスト膜（３２）の露光部分をその上
   の不透光性薄膜（３４）と共に除去する工程と、更に前
   記基板（３１）の裏面に第二レジスト膜（３６）を塗着
   し、前記パターニングされた不透光性薄膜（３４）付き
   レジストパターン（３５）を電極形成用パターンマスク
   にして第二レジスト膜（３６）を選択的に露光してレジ
   ストパターン（３７）を形成する工程と、前記基板（３
   １）の両面にそれぞれ不透光性薄膜（３４）及びレジス
   トパターン（３７）を介して導電膜（３８、３９）を被
   着する工程を行った後、前記導電膜（３８、３９）が被
   着した不透光性薄膜（３４）付きレジストパターン（３
   ５）及びレジストパターン（３７）を除去することによ
   り、前記基板（３１）の両面の同一位置に電極（４０、
   ４１）を形成することを特徴とする多重表示パネルの電
   極形成方法。