JP2507730B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は非磁性材料の基板と垂直方向の異方性を有す
る薄い磁性層とからなり、該薄い磁性層が交互のPd層と
Co層とからなる磁気記録媒体に関するものである。
る薄い磁性層とからなり、該薄い磁性層が交互のPd層と
Co層とからなる磁気記録媒体に関するものである。
また、本発明はこのような磁気記録媒体の製造方法に
関するものである。
関するものである。
垂直方向の異方性を有する薄い磁性層は垂直磁気記録
方法、例えば、ディジタル情報の垂直磁気記録方法に使
用されており、この記録方法では長手方向の磁気記録に
よって得られる線密度より著しく大きい線密度(情報ト
ラックの単位長さ当り)を得ることができる。垂直(縦
と呼ばれることもある)磁気記録では、磁束は、記録媒
体の表面に平行に長手方向に通るのではなく、交互の領
域において一方の表面から他方の表面まで記録媒体を横
切って真直ぐに通る。
方法、例えば、ディジタル情報の垂直磁気記録方法に使
用されており、この記録方法では長手方向の磁気記録に
よって得られる線密度より著しく大きい線密度(情報ト
ラックの単位長さ当り)を得ることができる。垂直(縦
と呼ばれることもある)磁気記録では、磁束は、記録媒
体の表面に平行に長手方向に通るのではなく、交互の領
域において一方の表面から他方の表面まで記録媒体を横
切って真直ぐに通る。
「アプライド・フィジックス・レターズ」第47巻、第
2号、第178〜180頁(1985)のピー.エフ.カーシア等
による「パーペンディキュラ・マグネチック・アニソト
ロピー・イン・Pd/Co・シン・フイルム・レヤー・スト
ラクチャーズ」には、垂直磁気情報記録のために、非磁
性Pd層と磁性Co層とがスパッタリングによって交互に設
けられている構造体を使用することが記載されている。
Co層の厚さは0.47〜0.72nmであり、Pd層の厚さは1.06〜
7.84nmである。飽和磁化4πMsは1480〜6010Gであり、
保磁力HCは350〜550Oeであり、薄い層に垂直な磁界内で
測定した残留磁気と薄い層に平行な磁界内で測定した残
留磁気の比MR(⊥)/MR()で示される残留磁気の比
は1.1〜10である。後者の値は磁化容易軸を示し、垂直
方向の異方性を有する薄膜ではこの値は1より大きい。
最大飽和磁化を有する薄い層は最小の残留磁気の比を示
す。しかも、比較試験の結果、このような薄い層の構造
体は飽和磁化MSが大きい場合に小さい残留磁気MRを示す
にすぎないことが分った。
2号、第178〜180頁(1985)のピー.エフ.カーシア等
による「パーペンディキュラ・マグネチック・アニソト
ロピー・イン・Pd/Co・シン・フイルム・レヤー・スト
ラクチャーズ」には、垂直磁気情報記録のために、非磁
性Pd層と磁性Co層とがスパッタリングによって交互に設
けられている構造体を使用することが記載されている。
Co層の厚さは0.47〜0.72nmであり、Pd層の厚さは1.06〜
7.84nmである。飽和磁化4πMsは1480〜6010Gであり、
保磁力HCは350〜550Oeであり、薄い層に垂直な磁界内で
測定した残留磁気と薄い層に平行な磁界内で測定した残
留磁気の比MR(⊥)/MR()で示される残留磁気の比
は1.1〜10である。後者の値は磁化容易軸を示し、垂直
方向の異方性を有する薄膜ではこの値は1より大きい。
最大飽和磁化を有する薄い層は最小の残留磁気の比を示
す。しかも、比較試験の結果、このような薄い層の構造
体は飽和磁化MSが大きい場合に小さい残留磁気MRを示す
にすぎないことが分った。
本発明の目的は、次に示す基本的認識に従い、従来の
記録媒体より優れたSN比を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
記録媒体より優れたSN比を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
情報は磁気層の小さい領域(ドメイン)の形態で磁気
記録媒体に記憶(記録)され、このような小さい領域は
周囲領域とは反対方向の磁化を有する。情報は磁気ヘッ
ドによって読取られ、磁気ヘッドは垂直磁化の局部的不
連続と放射磁界とを電気信号に変換する。薄い層におけ
る残留磁化が飽和磁化より著しく小さい場合には、反対
方向の磁化の小さいサブドメインまたは、薄い層に垂直
ではなく平行である磁化を有する小さいサブドメイン
が、ドメインに存在する。磁気情報を読み取る場合、か
かるサブドメイン間の転移により、望ましくない電気信
号(磁気ノイズ)が生ずる。
記録媒体に記憶(記録)され、このような小さい領域は
周囲領域とは反対方向の磁化を有する。情報は磁気ヘッ
ドによって読取られ、磁気ヘッドは垂直磁化の局部的不
連続と放射磁界とを電気信号に変換する。薄い層におけ
る残留磁化が飽和磁化より著しく小さい場合には、反対
方向の磁化の小さいサブドメインまたは、薄い層に垂直
ではなく平行である磁化を有する小さいサブドメイン
が、ドメインに存在する。磁気情報を読み取る場合、か
かるサブドメイン間の転移により、望ましくない電気信
号(磁気ノイズ)が生ずる。
情報信号の強さは、反対に磁化した2領域の残留磁化
の差により決まり、従ってMR(⊥)に比例する。ノイズ
の強さは飽和磁化MSと残留磁気MR(⊥)の差に左右され
る。このころから、大きにSN比に対する基準は が大きくなくてはならないことになる。また強い信号を
得ることができるために、MSも大きくなくてはならな
い。垂直方向の異方性を有する磁気記録媒体の満足しな
ければならない他の既知の要求条件は、残留磁気の比が
1より大きくなくてはならないことおよび保磁力が200
〜300Oeであるのが好ましいことである。これ等の要求
条件は尚有効である。
の差により決まり、従ってMR(⊥)に比例する。ノイズ
の強さは飽和磁化MSと残留磁気MR(⊥)の差に左右され
る。このころから、大きにSN比に対する基準は が大きくなくてはならないことになる。また強い信号を
得ることができるために、MSも大きくなくてはならな
い。垂直方向の異方性を有する磁気記録媒体の満足しな
ければならない他の既知の要求条件は、残留磁気の比が
1より大きくなくてはならないことおよび保磁力が200
〜300Oeであるのが好ましいことである。これ等の要求
条件は尚有効である。
本発明において、磁気記録媒体に大きいSN比を与える
目的は、序文に記載した如き磁気記録媒体で、更に個々
のPd層の厚さが0.2〜2.0nmであり、個々のCo層が少なく
とも1層のCo原子の単分子層(monolayer)から成り、
0.3nmより薄い厚さを有することを特徴とする磁気記録
媒体により達成される。
目的は、序文に記載した如き磁気記録媒体で、更に個々
のPd層の厚さが0.2〜2.0nmであり、個々のCo層が少なく
とも1層のCo原子の単分子層(monolayer)から成り、
0.3nmより薄い厚さを有することを特徴とする磁気記録
媒体により達成される。
本発明の磁気記録媒体の好適例におていは、Pdの個々
の層は厚さ0.4〜2.0nmである。
の層は厚さ0.4〜2.0nmである。
非磁性Pdの量が従来技術と比較して低減するので、Pd
とCoから成る薄い磁性層は大きい飽和磁化を有する。極
めて薄いCo層を使用すると、大きいSN比が得られる。少
なくともCo層は原子の一つの単分子層の平均厚さを有す
る。
とCoから成る薄い磁性層は大きい飽和磁化を有する。極
めて薄いCo層を使用すると、大きいSN比が得られる。少
なくともCo層は原子の一つの単分子層の平均厚さを有す
る。
本発明の磁気記録媒体の適当な例においては、薄い磁
性層の全体の厚さ(総てのCo層とPd層を一緒にして)は
0.1〜2μmである。
性層の全体の厚さ(総てのCo層とPd層を一緒にして)は
0.1〜2μmである。
本発明の磁気記録媒体の好適例においては、10〜40nm
厚さのPd層が基板と薄い磁性層の間に存在する。これに
より、引続く層の適当な結晶配向が達成される。この目
的のため20〜200nmのTiの1層を用いることが可能であ
る。
厚さのPd層が基板と薄い磁性層の間に存在する。これに
より、引続く層の適当な結晶配向が達成される。この目
的のため20〜200nmのTiの1層を用いることが可能であ
る。
本発明の他の目的は、磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
することにある。
従来技術から知られるスパッタリング法は、個々の層
の界面に合金の形成が行われることにより使用すること
ができない。特にCo層の厚さが薄い結果として、本発明
の磁気記録媒体において,望ましくない合金の寄与が著
しい。
の界面に合金の形成が行われることにより使用すること
ができない。特にCo層の厚さが薄い結果として、本発明
の磁気記録媒体において,望ましくない合金の寄与が著
しい。
適当な方法を提供するための目的は、本発明におい
て、PdおよびCoの個々の層を真空蒸着によりつくる方法
により満足される。この技術は、例えば、日本物理学会
誌52(9)3154〜3162頁(1983)にティー・シンジョー
等により記載されている。
て、PdおよびCoの個々の層を真空蒸着によりつくる方法
により満足される。この技術は、例えば、日本物理学会
誌52(9)3154〜3162頁(1983)にティー・シンジョー
等により記載されている。
次に図面を参照して本発明を実施例および比較例によ
り説明する。
り説明する。
薄い磁性層を珪素の基板1上につくった。基板として
は、他の硬質材料、例えば石英またはガラスおよび可撓
性材料、例えばポリエステルフイルムまたはポリイミド
フイルムも考えられる。若干の用途には、基板上に下層
として軟磁性体、例えばパーマロイ(Ni80 Fe20)の層
を用いるのが有利である。磁気記録媒体は、例えば、硬
質または可撓性ディスクの形態或いは可撓性テープの形
態で製造することができる。
は、他の硬質材料、例えば石英またはガラスおよび可撓
性材料、例えばポリエステルフイルムまたはポリイミド
フイルムも考えられる。若干の用途には、基板上に下層
として軟磁性体、例えばパーマロイ(Ni80 Fe20)の層
を用いるのが有利である。磁気記録媒体は、例えば、硬
質または可撓性ディスクの形態或いは可撓性テープの形
態で製造することができる。
基板を真空ベルジャー内に配置し、このベルジャー内
に、蒸着すべき各金属の蒸気を電子ビーム蒸発器により
発生させ、蒸発速度は石英結晶発振器(oscillator)よ
り制御する。蒸着中の圧力は10-4Paより小であり、蒸着
速度は10-1nm/secより小であった。給源(PdおよびCo)
を、他の金属を蒸着する間シャッターにより交互に覆っ
た。テープ状の基板を選定する場合には、テープを若干
の給源上を通過させる(所望に応じて繰返し)連続法を
用いることができる。
に、蒸着すべき各金属の蒸気を電子ビーム蒸発器により
発生させ、蒸発速度は石英結晶発振器(oscillator)よ
り制御する。蒸着中の圧力は10-4Paより小であり、蒸着
速度は10-1nm/secより小であった。給源(PdおよびCo)
を、他の金属を蒸着する間シャッターにより交互に覆っ
た。テープ状の基板を選定する場合には、テープを若干
の給源上を通過させる(所望に応じて繰返し)連続法を
用いることができる。
図示する例においては、第1Pd層2を20nmの厚さで被
着した。Co層3a,3b,…3y,3zを0.2nmの厚さで、これと交
互にPd層4a,4b,…4y,4zを0.45nmの厚さで、各金属を合
計300層で堆積させた。X線回折により多層構造が形成
されたことを確認した。
着した。Co層3a,3b,…3y,3zを0.2nmの厚さで、これと交
互にPd層4a,4b,…4y,4zを0.45nmの厚さで、各金属を合
計300層で堆積させた。X線回折により多層構造が形成
されたことを確認した。
振動試料磁力計により、薄い磁性層に平行なおよび垂
直な磁界を用いて磁気特性を評価した。評価した磁気モ
ーメントを薄い磁性層(PdおよびCo)の全容積により割
ることにより、磁化4πMSおよび4πMRを決定した。得
た結果を表に示す。
直な磁界を用いて磁気特性を評価した。評価した磁気モ
ーメントを薄い磁性層(PdおよびCo)の全容積により割
ることにより、磁化4πMSおよび4πMRを決定した。得
た結果を表に示す。
製造した磁気記録媒体は、要求条件を満足し、 が従来の記録媒体に対して著しく増大した。
実施例および比較例 本発明の多数の記録媒体の測定結果を表に示す。表に
おいてnはCoおよびPdの層の数で、CoおよびPdの欄は個
々の層の厚さをnmで示す。4πMsは飽和磁化(ガウス)
で、4πMRは薄い磁性層に垂直方向の残留磁気(ガウ
ス)である。
おいてnはCoおよびPdの層の数で、CoおよびPdの欄は個
々の層の厚さをnmで示す。4πMsは飽和磁化(ガウス)
で、4πMRは薄い磁性層に垂直方向の残留磁気(ガウ
ス)である。
は本発明において高いSN比を得るために高い値を有する
必要がある指数値である。更に表には残留磁気の比(垂
直磁気記録方法に対し1より大でなくてはならない)お
よび保磁力(エルステッド)を示す。
必要がある指数値である。更に表には残留磁気の比(垂
直磁気記録方法に対し1より大でなくてはならない)お
よび保磁力(エルステッド)を示す。
比較のため、表に本発明における要求条件を満足しな
い磁気記録媒体の測定結果を示す。
い磁気記録媒体の測定結果を示す。
Co層の厚さを0.4nmとした以外は本発明の方法に従っ
て製造した磁気記録媒体において、SN比および残留磁気
の比を決定する指数値が本発明の磁気記録媒体における
よりも著しく低いことが実証された。Coの量が比較的に
多いことにより飽和磁化は比較的に大であるが、このこ
とはSN比が低いことの欠点を補償しない。
て製造した磁気記録媒体において、SN比および残留磁気
の比を決定する指数値が本発明の磁気記録媒体における
よりも著しく低いことが実証された。Coの量が比較的に
多いことにより飽和磁化は比較的に大であるが、このこ
とはSN比が低いことの欠点を補償しない。
また、比較のため前記カーシア等により文献に記載さ
れている多層系の一つの結果を記録した。その結果は前
記比較例の結果と一致した。
れている多層系の一つの結果を記録した。その結果は前
記比較例の結果と一致した。
例えば英国特許第2125069号明細書に記載されている
ような垂直磁気記録の従来法において使用されているよ
うな種々の均質なCoCr層の評価は、比 および残留磁気の比が、本発明の薄い磁性層を用いた場
合より小さいことを示す。磁性層がBaFe12O19粉末を重
合体結合剤で結合してなる垂直情報記録用の他の既知、
磁気記録媒体は、磁気ノイズ以外に、磁性層の粒子の特
性の結果としてノイズを示す。
ような垂直磁気記録の従来法において使用されているよ
うな種々の均質なCoCr層の評価は、比 および残留磁気の比が、本発明の薄い磁性層を用いた場
合より小さいことを示す。磁性層がBaFe12O19粉末を重
合体結合剤で結合してなる垂直情報記録用の他の既知、
磁気記録媒体は、磁気ノイズ以外に、磁性層の粒子の特
性の結果としてノイズを示す。
本発明の磁気記録媒体は、適当な飽和磁化および保磁
力を示し、高い残留磁気の比および特に大きい値の指数
値 により特色を示し、従って大きいSN比を有する磁気記録
の垂直方法において用いるのに適し、特にディジタル情
報記録、例えばディジタル情報処理用データまたはビデ
オ信号の情報記録用に適する。
力を示し、高い残留磁気の比および特に大きい値の指数
値 により特色を示し、従って大きいSN比を有する磁気記録
の垂直方法において用いるのに適し、特にディジタル情
報記録、例えばディジタル情報処理用データまたはビデ
オ信号の情報記録用に適する。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の磁気記録媒体の断面図である。 1……基板、2……第1Pd層 3a,3b,…3y,3z……Co層 4a,4b,…4y,4z……Pd層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アレキザンダー・カーレ オランダ国5621 ベーアー アインドー フェン フルーネバウツウェッハ1 (56)参考文献 アプライド・フィジックス・レターズ 第47巻、第2号.第178〜180頁(1985) 「パーペンディキュラ・マグネチック・ アニソトロピー・イン・Pd/Co・シ ン・フィルム・レヤー・ストラクチャー ズ」
Claims (6)
- 【請求項1】非磁性材料の基板と垂直方向の異方性を有
する薄い磁性層とからなり、該薄い磁性層が交互のPd層
とCo層とからなる磁気記録媒体において、 個々のPd層の厚さは0.2〜2.0nmであり、個々のCo層は少
なくとも1層のCo原子の単分子層からなり、0.3nm未満
の厚さを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】個々のPd層の厚さが0.4〜2.0nmである特許
請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】薄い磁性層の厚さの合計が0.1〜2μmで
ある特許請求の範囲第1項または第2項記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項4】厚さ10〜40nmのPd層が基板と薄い磁性層と
の間に存在している特許請求の範囲第1〜3項のいずれ
か一つの項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】厚さ20〜200nmのTi層が基板と薄い磁性層
との間に存在している特許請求の範囲第1〜3項のいず
れか一つの項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】非磁性材料の基板と垂直方向の異方性を有
する薄い磁性層とからなり、該薄い磁性層が交互のPd層
とCo層とからなる磁気記録媒体を製造するに当り、 個々のPd層およびCo層を真空蒸着により製造することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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NL8600869 | 1986-04-07 | ||
NL8600869 | 1986-04-07 |
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---|---|
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP2507730B2 (ja) |
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DE (1) | DE3761114D1 (ja) |
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US5400307A (en) * | 1987-08-26 | 1995-03-21 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium with stacked layer structure |
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US5750270A (en) * | 1995-02-07 | 1998-05-12 | Conner Peripherals, Inc. | Multi-layer magnetic recording media |
US6893542B1 (en) | 1999-09-10 | 2005-05-17 | Seagate Technology Llc | Sputtered multilayer magnetic recording media with ultra-high coercivity |
JP2003248914A (ja) | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
ES2422455T3 (es) | 2005-08-12 | 2013-09-11 | Modumetal Llc | Materiales compuestos modulados de manera composicional y métodos para fabricar los mismos |
BR122013014464B1 (pt) | 2009-06-08 | 2020-10-20 | Modumetal, Inc | revestimento de multicamadas resistente à corrosão em um substrato e método de eletrodepósito para produção de um revestimento |
BR112015022235A2 (pt) | 2013-03-15 | 2017-07-18 | Modumetal Inc | revestimentos nanolaminados |
CN110273167A (zh) | 2013-03-15 | 2019-09-24 | 莫杜美拓有限公司 | 通过添加制造工艺制备的制品的电沉积的组合物和纳米层压合金 |
WO2014145588A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Modumetal, Inc. | Nickel chromium nanolaminate coating having high hardness |
CA2905575C (en) | 2013-03-15 | 2022-07-12 | Modumetal, Inc. | A method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings |
AR102068A1 (es) | 2014-09-18 | 2017-02-01 | Modumetal Inc | Métodos de preparación de artículos por electrodeposición y procesos de fabricación aditiva |
BR112017005464A2 (pt) | 2014-09-18 | 2017-12-05 | Modumetal Inc | método e aparelho para aplicar continuamente revestimentos de metal nanolaminado |
US11365488B2 (en) | 2016-09-08 | 2022-06-21 | Modumetal, Inc. | Processes for providing laminated coatings on workpieces, and articles made therefrom |
CN109963966B (zh) | 2016-09-14 | 2022-10-11 | 莫杜美拓有限公司 | 用于可靠、高通量、复杂电场生成的系统以及由其生产涂层的方法 |
WO2018085591A1 (en) | 2016-11-02 | 2018-05-11 | Modumetal, Inc. | Topology optimized high interface packing structures |
US11293272B2 (en) | 2017-03-24 | 2022-04-05 | Modumetal, Inc. | Lift plungers with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same |
CA3060619A1 (en) | 2017-04-21 | 2018-10-25 | Modumetal, Inc. | Tubular articles with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same |
CN112272717B (zh) | 2018-04-27 | 2024-01-05 | 莫杜美拓有限公司 | 用于使用旋转生产具有纳米层压物涂层的多个制品的设备、系统和方法 |
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---|---|---|---|---|
US3479156A (en) * | 1966-10-20 | 1969-11-18 | Burton Silverplating Co | Multilayer magnetic coating |
NL8202596A (nl) * | 1982-06-28 | 1984-01-16 | Philips Nv | Magnetisch registratiemedium. |
US4587176A (en) * | 1985-01-14 | 1986-05-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Layered coherent structures for magnetic recording |
-
1986
- 1986-06-02 US US06/869,483 patent/US4678721A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-03-26 DE DE8787200577T patent/DE3761114D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-26 EP EP87200577A patent/EP0241080B1/en not_active Expired
- 1987-04-02 CA CA000533693A patent/CA1290055C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-03 AU AU71025/87A patent/AU586601B2/en not_active Ceased
- 1987-04-06 JP JP62083107A patent/JP2507730B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
アプライド・フィジックス・レターズ第47巻、第2号.第178〜180頁(1985)「パーペンディキュラ・マグネチック・アニソトロピー・イン・Pd/Co・シン・フィルム・レヤー・ストラクチャーズ」 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62236131A (ja) | 1987-10-16 |
CA1290055C (en) | 1991-10-01 |
EP0241080B1 (en) | 1989-12-06 |
EP0241080A1 (en) | 1987-10-14 |
AU7102587A (en) | 1987-10-15 |
US4678721A (en) | 1987-07-07 |
AU586601B2 (en) | 1989-07-13 |
DE3761114D1 (de) | 1990-01-11 |
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