JP2023536863A - アルコキシシラン化合物の製造方法 - Google Patents
アルコキシシラン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023536863A JP2023536863A JP2023506079A JP2023506079A JP2023536863A JP 2023536863 A JP2023536863 A JP 2023536863A JP 2023506079 A JP2023506079 A JP 2023506079A JP 2023506079 A JP2023506079 A JP 2023506079A JP 2023536863 A JP2023536863 A JP 2023536863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkoxysilane compound
- producing
- mixture
- alcohol
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 122
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 134
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 45
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical group CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 claims description 9
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 4
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- -1 1,1,3,3-tetraethyldisilazane (1,1,3,3-tetraethyldisilazane) Chemical compound 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- UHZMKAYDHYNZOM-UHFFFAOYSA-N (ethylsilylamino)silylethane Chemical compound C(C)[SiH2]N[SiH2]CC UHZMKAYDHYNZOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KDZDCBUTQIVSGK-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si](N[Si](CC)(CC)CC)(CC)CC.C(C)[Si](N[Si](CC)(CC)CC)(CC)CC Chemical compound C(C)[Si](N[Si](CC)(CC)CC)(CC)CC.C(C)[Si](N[Si](CC)(CC)CC)(CC)CC KDZDCBUTQIVSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNJUSQYKNSHVNI-UHFFFAOYSA-N C[SiH](N[SiH](C)C)C.C[SiH](N[SiH](C)C)C Chemical compound C[SiH](N[SiH](C)C)C.C[SiH](N[SiH](C)C)C WNJUSQYKNSHVNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- PRKQVKDSMLBJBJ-UHFFFAOYSA-N ammonium carbonate Chemical compound N.N.OC(O)=O PRKQVKDSMLBJBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
本発明は、シラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造し、前記第１混合物に化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて追加アルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造した後、前記第２混合物に水系溶媒を添加して前記アンモニウム塩を溶解させてこれを分離除去することで、シラザン系化合物を用いてアルコキシシラン化合物を製造する場合に副生成物として発生するアンモニアをより効果的に除去することができるアルコキシシラン化合物の製造方法に関する。
Description
本出願は、２０２０年７月３１日付けの韓国特許出願第１０－２０２０－００９６１５８号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されている全ての内容は、本明細書の一部として組み込まれる。
本発明は、アルコキシシラン化合物の製造方法に関し、より具体的には、シリカエアロゲルの疎水化表面改質に使用されるアルコキシシラン化合物の製造方法に関する。
エアロゲル（ａｅｒｏｇｅｌ）は、ナノ粒子で構成された高多孔性物質として、高い気孔率と比表面積、および低い熱伝導度を有することから、高効率の断熱材、防音材などの用途で注目されている。このようなエアロゲルは、多孔性構造によって非常に低い機械的強度を有するため、既存の断熱繊維である無機繊維または有機繊維などの繊維状ブランケットにエアロゲルを含浸して結合させたエアロゲル複合体が開発されている。一例として、シリカエアロゲルを用いたシリカエアロゲル含有ブランケットの場合、シリカゾルの製造ステップ、ゲル化ステップ、熟成（Ａｇｉｎｇ）ステップ、表面改質ステップおよび乾燥ステップを経て製造される。
シリカエアロゲルおよびシリカエアロゲル含有ブランケットの表面改質ステップにおいて、表面改質剤として使用されるシラザン系化合物は、アルコキシシラン化合物またはシラノール化合物に分解されて多量のＮＨ3を発生させる。ＮＨ3は、湿潤ゲル内の溶媒に溶解され、以降の超臨界乾燥中に抽出溶媒として使用する二酸化炭素と反応して炭酸アンモニウム塩を形成し、これは、温度低下の時に析出されて固相粉末を形成し、これは、後続工程において、スケール（ｓｃａｌｅ）の形成および配管またはバルブの目詰まりなどの問題の原因として作用する。
そのため、シリカエアロゲルまたはシリカエアロゲル含有ブランケットの表面改質ステップにおいて、表面改質剤として、シラザン系化合物の代わりに、アンモニアを発生させないアルコキシシラン化合物の使用が好まれている。したがって、シラザン系化合物を用いてアルコキシシラン化合物を製造する場合、副生成物として発生するアンモニアをより効果的に除去することができる新たなアルコキシシラン化合物の製造方法が求められている。
本発明が解決しようとする課題は、シラザン系化合物を用いてアルコキシシラン化合物を製造する過程において、副生成物として発生するアンモニアをより効果的に除去することができる新たなアルコキシシラン化合物の製造方法を提供することである。
本発明は、上記課題を解決するために、（１）下記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造するステップと、（２）前記第１混合物に下記化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて追加のアルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造するステップと、（３）前記第２混合物に水系溶媒を添加して前記アンモニウム塩を溶解させるステップと、（４）前記アンモニウム塩が溶解された水層を分離、除去してアルコキシシラン化合物を取得するステップとを含むアルコキシシラン化合物の製造方法を提供する。
前記化学式中、Ｒ1は、炭素数１～８のアルキル基であり、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～８のアルキル基であり、ｎは、１～３の整数であり、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである。
本発明によるアルコキシシラン化合物の製造方法は、シラザン系化合物を用いてアルコキシシラン化合物を製造する過程において、副生成物として形成されるアンモニアを用いて追加のアルコキシシラン化合物を製造するとともに、これをアンモニウム塩に転換して除去することで、効果的にアンモニアを除去することができ、且つ製造しようとするアルコキシシラン化合物の取得率を増加させることができる効果をともに発揮することができる。
以下、本発明に関する理解に資するため、本発明をより詳細に説明する。
本明細書および請求の範囲にて使用されている用語や単語は、通常的または辞書的な意味に限定して解釈してはならず、発明者らは、自分の発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適宜定義することができるという原則に則って、本発明の技術的思想に合致する意味と概念に解釈すべきである。
本発明によるアルコキシシラン化合物の製造方法は、（１）下記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造するステップと、（２）前記第１混合物に下記化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて追加のアルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造するステップと、（３）前記第２混合物に水系溶媒を添加して前記アンモニウム塩を溶解させるステップと、（４）前記アンモニウム塩が溶解された水層を分離、除去してアルコキシシラン化合物を取得するステップとを含む。
前記化学式中、Ｒ1は、炭素数１～８のアルキル基であり、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～８のアルキル基であり、ｎは、１～３の整数であり、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである。
（１）化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造するステップ
ステップ（１）では、下記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物を合成し、この際、副生成物としてアンモニアが生成され、アルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造する。
ステップ（１）では、下記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物を合成し、この際、副生成物としてアンモニアが生成され、アルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造する。
前記化学式１中、Ｒ1は、炭素数１～８のアルキル基であり、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～８のアルキル基であり、ｎは、１～３の整数である。
また、前記Ｒ1は、炭素数１～６のアルキル基であることができ、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基であることができる。
また、前記Ｒ1は、炭素数１～４のアルキル基であることができ、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることができる。
本発明の一例において、前記シラザン系化合物は、ジアルキルジシラザン、テトラアルキルジシラザンおよびヘキサアルキルジシラザンからなる群から選択される１種以上を含むことができる。
また、前記シラザン系化合物の具体的な例としては、１，３－ジエチルジシラザン（１，３－ｄｉｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）、１，１，３，３－テトラメチルジシラザン（１，１，３，３－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ ｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）、１，１，３，３－テトラエチルジシラザン（１，１，３，３－ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌ ｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン（１，１，１，３，３，３－ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ；ＨＭＤＳ）、１，１，１，３，３，３－ヘキサエチルジシラザン（１，１，１，３，３，３－ｈｅｘａｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）、１，１，３，３－テトラエチルジシラザン（１，１，３，３－ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）または１，３－ジイソプロピルジシラザン（１，３－ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）などが挙げられ、これらのうち１種単独または２種以上の混合物が使用されることができる。
一方、前記アルコールの例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノールなどの一価アルコール、グリセロール、エチレングリコールおよびジプロピレングリコールなどの二価アルコールが挙げられ、これらのいずれか一つまたは二つ以上の混合物が使用されることができる。本発明の一例において、前記アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、グリセロール、エチレングリコールおよびジプロピレングリコールからなる群から選択される１種以上であることができ、具体的には、前記アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノールおよびヘキサノールからなる群から選択される１種以上であることができ、より具体的には、前記アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、およびブタノールからなる群から選択される１種以上であることができる。
前記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させて合成されるアルコキシシラン化合物は、モノアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物およびトリアルコキシシラン化合物からなる群から選択される１種以上を含むことができ、前記アルコールが下記化学式３で表される化合物である時に、前記アルコキシシラン化合物は、具体的には、下記化学式４で表される化合物であることができる。
前記化学式３または４中、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立して、炭素数１～８のアルキル基であり、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～８のアルキル基であり、ｎは、１～３の整数である。
また、前記Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基であることができ、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基であることができる。
また、前記Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基であることができ、Ｒ2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることができる。
前記シラザン系化合物と前記アルコールとの反応は、下記反応式１のように示すことができ、１当量のシラザン系化合物と２当量のアルコールとの反応により２当量のアルコキシシラン化合物を生成し、副生成物として１当量のアンモニアを生成し、これによって製造される第１混合物は、アルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む。
前記反応式１中、Ｒ1～Ｒ3およびｎは、前記化学式１、３および４で定義したとおりである。
（２）前記第１混合物に下記化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて追加アルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造するステップ
ステップ（２）では、前記製造された第１混合物に、下記化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて、アンモニアと下記化学式２で表される化合物の反応により追加アルコキシシラン化合物を生成させ、アンモニアをアンモニウム塩に転換する。すなわち、ステップ（２）では、第１混合物に含まれたアンモニアと下記化学式２で表される化合物との反応を用いて追加のアルコキシシラン化合物を生成するとともに、アンモニアをアンモニウム塩に転換する過程が行われ、アンモニウム塩に転換されたアンモニアは、以降のステップにより除去されることができる。
前記化学式２中、Ｒ1は、炭素数１～８のアルキル基であり、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～８のアルキル基であり、ｎは、１～３の整数であり、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである。
また、前記Ｒ1は、炭素数１～６のアルキル基であることができ、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基であることができる。
また、前記Ｒ1は、炭素数１～４のアルキル基であることができ、Ｒ2は、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることができる。
また、Ｘは、Ｃｌであることがある。
本発明の一例において、前記アルコールは、前記ステップ（１）で使用されるアルコールと同じものであることができ、ステップ（２）で使用されるアルコールと前記ステップ（１）で使用されるアルコールが同じものである場合、ステップ（１）で製造されたアルコキシシラン化合物とステップ（２）で製造される追加アルコキシシラン化合物が同じ化合物になることができる。
ステップ（２）の反応は、下記反応式２のように示すことができる。
前記反応式２中、前記アンモニア（ＮＨ3）は、前記ステップ（１）において、シラザン系化合物分解の結果として発生し、第１混合物に含まれたアンモニアであり、ステップ（２）では、シラザン系化合物とアルコールの反応の副生成物として発生するアンモニアと、下記化学式２で表される化合物およびアルコールを反応させることで、追加アルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造する。すなわち、本発明のアルコキシシラン化合物の製造方法は、アンモニアを、除去が容易なアンモニウム塩の形態に転換し、且つ、従来、単純な除去の対象に過ぎなかったアンモニアを用いて、さらにアルコキシシラン化合物を生成する効果を発揮することができる。
前記化学式２で表される化合物は、前記第１混合物のアンモニアと同じ当量で添加されることができる。前記化学式２で表される化合物が前記第１混合物のアンモニアと同じ当量で添加される場合、アンモニアが効果的に除去されるとともに、追加アルコキシシラン化合物が使用された前記化学式２で表される化合物が高い収率で製造されることができる。前記化学式２で表される化合物が前記第１混合物のアンモニアに比べて過少量添加されると、アンモニアがアンモニウムに完全に転換されず、アンモニアの除去効率が低下することがあり、前記化学式２で表される化合物が前記第１混合物のアンモニアに比べて過量添加されると、副反応が発生することがあり、工程コントロールが容易でないこともある。
本発明の一例によるアルコキシシラン化合物の製造方法は、前記化学式２で表される化合物を前記第１混合物のアンモニアと同じ当量で添加するために、前記第１混合物に前記化学式２で表される化合物を投入する前に、前記第１混合物に含まれたアンモニアの濃度を測定する過程をさらに含むことができる。例えば、前記ステップ（１）のように、前記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させた後、第１混合物に含まれたアンモニアの濃度を測定する過程が行われることができ、その後、前記アンモニアの濃度に基づいて、同じ当量の前記化学式２で表される化合物を添加する過程が行われることができる。
（３）第２混合物に水系溶媒を添加して前記アンモニウム塩を溶解させるステップ
ステップ（３）では、第２混合物に水系溶媒を添加し、ステップ（２）においてアンモニアから転換されたアンモニウム塩を溶解させる。第２混合物は、アルコキシシラン化合物およびアンモニウム塩を含むものであり、アルコキシシラン化合物は、水系溶媒に溶解されず、アンモニウム塩のみ水系溶媒に溶解されるため、アンモニウム塩は水層に分離される。
ステップ（３）では、第２混合物に水系溶媒を添加し、ステップ（２）においてアンモニアから転換されたアンモニウム塩を溶解させる。第２混合物は、アルコキシシラン化合物およびアンモニウム塩を含むものであり、アルコキシシラン化合物は、水系溶媒に溶解されず、アンモニウム塩のみ水系溶媒に溶解されるため、アンモニウム塩は水層に分離される。
前記水系溶媒は、前記ステップ（２）においてアンモニアから転換されたアンモニウム塩を溶解させるためのものであり、アルコキシシラン化合物を溶解させないとともにアンモニウム塩を溶解させることができるものであることができ、例えば、水であることができる。この際、前記水は、工程水であることができ、具体的には、蒸留水またはイオン交換水であることができる。
（４）アンモニウム塩が溶解された水層を分離、除去してアルコキシシラン化合物を取得するステップ
ステップ（４）では、アンモニウム塩が溶解された水層をアルコキシシラン化合物の有機層と分離して除去することで、目的とするアルコキシシラン化合物を取得する。
ステップ（４）では、アンモニウム塩が溶解された水層をアルコキシシラン化合物の有機層と分離して除去することで、目的とするアルコキシシラン化合物を取得する。
このように、本発明のアルコキシシラン化合物の製造方法により、シラザン系化合物からシリカエアロゲルの疎水化表面改質に使用されるアルコキシシラン化合物を製造することができる。
本発明の一例において、前記化学式１で表されるシラザン系化合物は、具体的には、ヘキサメチルジシラザンであることができ、前記アルコールは、エタノールであることができ、前記化学式２で表される化合物は、トリメチルクロロシランであることができる。
前記ヘキサメチルジシラザンにエタノールを添加し反応させる場合、トリメチルエトキシシランおよびアンモニアを含む第１混合物が製造される。
前記第１混合物に含まれたアンモニアをトリメチルクロロシランおよびエタノールと反応させる場合、トリメチルクロロシランのクロロがエタノールのエトキシで置換され、さらなるトリメチルエトキシシランを生成し、アンモニアは塩化アンモニウムに転換される。これにより、本発明の一例によるアルコキシシラン化合物の製造方法は、第１混合物の製造時に製造されたトリメチルエトキシシラン以外に、第２混合物の製造時にさらにトリメチルエトキシシランが生成されることから、従来知られているヘキサメチルジシラザンにエタノールを添加して２分子のトリメチルエトキシシランを生成する反応に比べて、より高い取得率を達成することができ、また、これと同時に、ヘキサメチルジシラザンの分解によって発生する副生成物であるアンモニアをアンモニウム塩に転換して除去する効果を同時に奏することができる。
一方、本発明の一例において、前記ステップ（１）のシラザン系化合物とアルコールの反応は、酸触媒条件下で行われることができる。前記酸触媒は、前記シラザン系化合物とアルコールの反応を促進させるために使用されることができ、前記酸触媒は、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸およびフッ酸からなる群から選択される１種以上を含むことができる。
以下、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施することができるように、本発明の実施例について詳細に説明する。しかし、本発明は、様々な相違する形態に実現されることができ、ここで説明する実施例に限定されない。
（実施例１）
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、エタノールおよびＨＣｌを１：２：０．０００６４のモル比になるように混合した溶液を常温で２時間撹拌してトリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）を合成し、生成されたトリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）内のアンモニア濃度を測定した。測定されたアンモニアの当量と同じ当量のトリメチルクロロシラン（ＴＭＣＳ）とエタノールを投入し、沈殿塩を生成させた。
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、エタノールおよびＨＣｌを１：２：０．０００６４のモル比になるように混合した溶液を常温で２時間撹拌してトリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）を合成し、生成されたトリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）内のアンモニア濃度を測定した。測定されたアンモニアの当量と同じ当量のトリメチルクロロシラン（ＴＭＣＳ）とエタノールを投入し、沈殿塩を生成させた。
生成されたトリメチルクロロシランと１：１の体積比になるように蒸留水を投入し撹拌して沈殿塩を溶解させた後、水層を排出して、アンモニアが除去されたトリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）を取得した。
（実施例２）
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させた以外は、実施例１と同じ方法で、アンモニアが除去されたトリメチルエトキシシランを取得した。
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させた以外は、実施例１と同じ方法で、アンモニアが除去されたトリメチルエトキシシランを取得した。
（比較例１）
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを蒸留させてトリメチルエトキシシランを取得した。
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを蒸留させてトリメチルエトキシシランを取得した。
（比較例２）
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを、さらに、７５℃で２４時間還流（ｒｅｆｌｕｘ）させてトリメチルエトキシシランを取得した。
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを、さらに、７５℃で２４時間還流（ｒｅｆｌｕｘ）させてトリメチルエトキシシランを取得した。
（比較例３）
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを、さらに、２４時間７５℃で還流（ｒｅｆｌｕｘ）させた後、これを蒸留させてトリメチルエトキシシランを取得した。
ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールを１：２のモル比になるように混合した後、７５℃の還流（ｒｅｆｌｕｘ）条件で２時間反応させてトリメチルエトキシシランを合成し、これを、さらに、２４時間７５℃で還流（ｒｅｆｌｕｘ）させた後、これを蒸留させてトリメチルエトキシシランを取得した。
（実験例）
１）アンモニア含量の測定
トリメチルエトキシシラン内のアンモニアの含量および最終取得されたトリメチルエトキシシラン内の残留アンモニアの含量は、Ｍｅｔｒｏｈｍ社製の８７ Ｔｉｔｒｉｎｏ ｐｌｕｓを使用し、硫酸を用いて、滴定分析して測定した。
１）アンモニア含量の測定
トリメチルエトキシシラン内のアンモニアの含量および最終取得されたトリメチルエトキシシラン内の残留アンモニアの含量は、Ｍｅｔｒｏｈｍ社製の８７ Ｔｉｔｒｉｎｏ ｐｌｕｓを使用し、硫酸を用いて、滴定分析して測定した。
２）取得率
トリメチルエトキシシランの取得率は、下記数学式１によって計算した。
トリメチルエトキシシランの取得率は、下記数学式１によって計算した。
［数学式１］
（取得されたトリメチルエトキシシランのモル数／使用されたヘキサメチルシラザンのモル数×２）×１００＝取得率（％）
（取得されたトリメチルエトキシシランのモル数／使用されたヘキサメチルシラザンのモル数×２）×１００＝取得率（％）
前記表１を参照すると、実施例１および２は、最終残留アンモニアが検出されていないが、比較例１～３は、アンモニアが最終的に残留し、実施例１および２の製造方法による場合、より効果的にアンモニアを除去することができることを確認することができた。また、実施例１および２は、トリメチルエトキシシランの取得率が１００％を超えて反応が行われたヘキサメチルシラザンから得られるトリメチルエトキシシランの量を超えるトリメチルエトキシシランを取得することができたが、これは、実施例１および２の製造方法は、トリメチルエトキシシラン（ＴＭＥＳ）を合成した後、生成されたトリメチルエトキシシラン内のアンモニア濃度を測定した後、測定されたアンモニアの当量と同じ当量のトリメチルクロロシラン（ＴＭＣＳ）とエタノールを投入することで、さらにトリメチルエトキシシランを合成することができたためである。これにより、実施例１および２の製造方法は、非常に効果的にアンモニアを除去することができ、且つ除去の対象になるアンモニアを用いて、さらにトリメチルエトキシシランを得ることができ、アンモニアの除去およびアルコキシシラン化合物の製造において非常に優れた効果を発揮することができることを確認することができた。これに比べて、比較例１は、ヘキサメチルジシラザンおよびエタノールの還流反応によるトリメチルエトキシシラン合成反応の後、蒸留によりアンモニアがガス状に排出されて除去され、比較例２は、生成されたトリメチルエトキシシランを追加還流させてアンモニアをガス状に追加排出したが、最終的に残留するアンモニアが含まれていることを確認することができ、比較例３は、生成されたトリメチルエトキシシランを追加還流させた後、これをまた蒸留し、最終的に残留するアンモニアの含量をより減少させることができたが、最終的にアンモニアが残留することを確認することができ、還流と蒸留によるトリメチルエトキシシランの損失が発生した。
また、製造時間の面でも、実施例１および２は、それぞれ総５時間がかかり、それぞれ総２６時間および総２７時間がかかった比較例２および３に比べて、非常に短い時間がかかった。比較例１は、トリメチルエトキシシランの合成後、蒸留だけ行われて、製造時間は、総３時間に過ぎず、実施例１～３に比べて所要時間が短かったが、取得率が低く、最終的にアンモニア多量残留する点で、実施例１～３に比べてその効果が劣っていた。
Claims (11)
- （１）下記化学式１で表されるシラザン系化合物にアルコールを添加し反応させてアルコキシシラン化合物およびアンモニアを含む第１混合物を製造するステップと、
（２）前記第１混合物に下記化学式２で表される化合物およびアルコールを添加し反応させて追加のアルコキシシラン化合物とアンモニウム塩が生成された第２混合物を製造するステップと、
（３）前記第２混合物に水系溶媒を添加して前記アンモニウム塩を溶解させるステップと、
（４）前記アンモニウム塩が溶解された水層を分離、除去してアルコキシシラン化合物を取得するステップとを含む、アルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記シラザン系化合物は、ジアルキルジシラザン、テトラアルキルジシラザンおよびヘキサアルキルジシラザンからなる群から選択される１種以上を含む、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、グリセロール、エチレングリコールおよびジプロピレングリコールからなる群から選択される１種以上である、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記アルコキシシラン化合物は、モノアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物およびトリアルコキシシラン化合物からなる群から選択される１種以上を含む、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記アルコールは、下記化学式３で表される化合物であり、前記アルコキシシラン化合物は、下記化学式４で表される化合物である、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記化学式２で表される化合物は、前記第１混合物のアンモニアと同じ当量で添加される、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記第１混合物に前記化学式２で表される化合物を投入する前に、前記第１混合物に含まれたアンモニアの濃度を測定する過程をさらに含む、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記シラザン系化合物は、ヘキサメチルジシラザンであり、前記アルコールは、エタノールであり、前記アルコキシシランは、トリメチルエトキシシランである、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記化学式２で表される化合物は、トリメチルクロロシランである、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記ステップ（１）のシラザン系化合物とアルコールの反応は、酸触媒条件下で行われる、請求項１に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
- 前記酸触媒は、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸およびフッ酸からなる群から選択される１種以上を含む、請求項１０に記載のアルコキシシラン化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200096158A KR20220015744A (ko) | 2020-07-31 | 2020-07-31 | 알콕시실란 화합물의 제조방법 |
| KR10-2020-0096158 | 2020-07-31 | ||
| PCT/KR2021/009971 WO2022025702A1 (ko) | 2020-07-31 | 2021-07-30 | 알콕시실란 화합물의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023536863A true JP2023536863A (ja) | 2023-08-30 |
| JP7488957B2 JP7488957B2 (ja) | 2024-05-22 |
Family
ID=80035940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023506079A Active JP7488957B2 (ja) | 2020-07-31 | 2021-07-30 | アルコキシシラン化合物の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230287019A1 (ja) |
| EP (1) | EP4190794A4 (ja) |
| JP (1) | JP7488957B2 (ja) |
| KR (1) | KR20220015744A (ja) |
| CN (1) | CN116209666A (ja) |
| WO (1) | WO2022025702A1 (ja) |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19954635A1 (de) | 1999-11-13 | 2001-05-17 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen |
| US20110240907A1 (en) * | 2008-12-18 | 2011-10-06 | Neeraj Sharma | Hydropohobic aerogels |
| KR101047965B1 (ko) | 2009-06-11 | 2011-07-12 | 한국에너지기술연구원 | 에어로겔 매트, 이의 제조방법 및 제조장치 |
| KR101206796B1 (ko) * | 2010-08-20 | 2012-11-30 | 주식회사 화인텍 | 소수성 실리카 에어로젤의 제조방법 및 제조장치 |
| KR101310286B1 (ko) * | 2011-05-12 | 2013-09-24 | 인하대학교 산학협력단 | 구형 실리카 에어로겔 과립의 제조방법 |
| CN104513263A (zh) | 2013-10-08 | 2015-04-15 | 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司 | 烷氧基三甲基硅烷的制备方法 |
| KR101789371B1 (ko) | 2015-02-13 | 2017-10-23 | 주식회사 엘지화학 | 실리카 에어로겔 함유 블랑켓의 제조방법 및 이에 따라 제조된 실리카 에어로겔 함유 블랑켓 |
| WO2016167494A1 (ko) * | 2015-04-14 | 2016-10-20 | 주식회사 엘지화학 | 실리카 에어로겔 포함 블랑켓의 제조방법 및 이에 따라 제조된 실리카 에어로겔 포함 블랑켓 |
| KR102369331B1 (ko) * | 2017-07-14 | 2022-03-03 | 주식회사 엘지화학 | 소수성 실리카 에어로겔 제조방법 |
| KR102453982B1 (ko) | 2019-02-01 | 2022-10-14 | 주식회사 엘지화학 | 다환 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
| CN110817888B (zh) | 2019-11-27 | 2021-12-24 | 鑫创新材料科技(徐州)有限公司 | 一种气凝胶的制备方法及其应用 |
-
2020
- 2020-07-31 KR KR1020200096158A patent/KR20220015744A/ko not_active Application Discontinuation
-
2021
- 2021-07-30 JP JP2023506079A patent/JP7488957B2/ja active Active
- 2021-07-30 CN CN202180059565.5A patent/CN116209666A/zh active Pending
- 2021-07-30 US US18/018,092 patent/US20230287019A1/en active Pending
- 2021-07-30 EP EP21850175.7A patent/EP4190794A4/en active Pending
- 2021-07-30 WO PCT/KR2021/009971 patent/WO2022025702A1/ko active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7488957B2 (ja) | 2024-05-22 |
| CN116209666A (zh) | 2023-06-02 |
| WO2022025702A1 (ko) | 2022-02-03 |
| KR20220015744A (ko) | 2022-02-08 |
| US20230287019A1 (en) | 2023-09-14 |
| EP4190794A1 (en) | 2023-06-07 |
| EP4190794A4 (en) | 2024-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101091860B1 (ko) | 영구적 소수성을 갖는 에어로겔의 제조 방법 및 이로부터 제조된 영구적 소수성을 갖는 에어로겔 | |
| KR100785521B1 (ko) | 표면개질된 에어로겔 제조 방법 및 이로부터 제조된 표면개질된 에어로겔 | |
| KR20080084241A (ko) | 표면개질된 실리카겔의 제조 방법 | |
| WO2010080237A2 (en) | Hydrophobic aerogels | |
| JPH11514628A (ja) | アルコールを使用して有機変性したエーロゲルの製造法 | |
| JP2008208019A (ja) | 多孔質材及びその調製方法 | |
| JPH06792B2 (ja) | 水素シロキサンの製造方法 | |
| Moreau et al. | Nanostructuring organo-silicas: combination of intermolecular interactions and molecular recognition properties to generate self-assembled hybrids with phenylene or adenine⋯ thymine bridging units | |
| CN105143104B (zh) | 硅烷化合物或氯硅烷化合物的纯化方法、多晶硅的制造方法和弱碱性离子交换树脂的再生处理方法 | |
| Kim et al. | Catalytic performance of montmorillonite clay ion-exchanged with ionic liquids in the cycloaddition of carbon dioxide to allyl glycidyl ether | |
| JP2006160744A (ja) | シリカ又は金属ケイ酸塩膜のための前駆体 | |
| Harrison et al. | Preparation and characterization of octasilsesquioxane cage monomers | |
| JP2020193145A (ja) | 多孔質シリカ粒子 | |
| Meti et al. | Sorbitol cross-linked silica aerogels with improved textural and mechanical properties | |
| JP7488957B2 (ja) | アルコキシシラン化合物の製造方法 | |
| JP2023536864A (ja) | アルコキシシラン化合物の製造方法 | |
| KR20220015983A (ko) | 알콕시실란 화합물의 제조방법 | |
| JP2003212999A (ja) | 多孔質ゲルの製造方法およびそれを用いた断熱材 | |
| KR100808258B1 (ko) | 테트라알콕시실란의 제조방법 | |
| KR20120081615A (ko) | 유기 올리고실세스퀴옥산의 제조 방법 | |
| JPWO2005077960A1 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 | |
| JP2024510343A (ja) | 前加水分解されたポリシリケートの製造方法 | |
| EP4353770A1 (en) | Silica aerogel and silica aerogel blanket production method | |
| CN106967105A (zh) | 酪氨酸骨架型有序介孔有机硅材料合成的方法 | |
| KR100792617B1 (ko) | 이온성 액체를 이용한 일차원 보헤마이트/이온성 액체복합체와 일차원 메조포러스 감마 알루미나의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230127 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240109 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240311 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240507 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240510 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7488957 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |