JP2023534886A - 増加したチキソトロピー指数を有する硬化型熱伝導性ポリシロキサン組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
硬化型熱伝導性ポリシロキサン組成物は、電子産業において、熱源とヒートシンクとの間など、要素間の熱架橋を与えるのに有用である。熱グリースとは異なり、硬化型熱伝導性ポリシロキサン組成物は硬化性であり、これは、これらの組成物が反応して熱伝導性充填剤を含む架橋ポリシロキサンマトリックスを形成することができることを意味する。概して、硬化型熱伝導性ポリシロキサン組成物は、基材及び概ね少なくとも1つの他の要素と熱接触するように基材に適用され、次いで硬化されて、硬化組成物と接触している基材と任意の他の要素との間に熱架橋として機能する硬化組成物を形成する。
RxVi(3-x)SiO-(R2SiO)d-SiRyVi(3-y)(I)
式中、Rは、独立して、それぞれの場合で、1~6個の炭素原子を有するアルキル及びアリール基から選択され、Viは、ビニル基(-CH=CH2)であり、x及びyは、直鎖状ポリシロキサンの各末端の末端R基の平均数を示し、それぞれ独立して、0~2、好ましくは1~2の範囲の数から選択され、望ましくはx=yであり、(3-x)及び(3-y)は、直鎖状ポリシロキサンの各末端上の末端Vi基の平均数を示し、dは、直鎖状ポリシロキサン中の(R2SiO)基の平均数であり、典型的には10以上、好ましくは50以上、かつ1000以下、好ましくは500以下である。望ましくは、Rはそれぞれの場合でメチルである。同時に、x及びyはそれぞれ2であることが全般的に望ましい。
R3-hHhSiO-(HRSiO)a-(R2SiO)b-SiHh’R3-h’ (II)
[式中、Rは上記のとおりであり、Hは、水素であり、下付き文字h及びh’は、分子のそれぞれの末端の末端水素の平均数を指し、0、1、2、又は3の値(好ましくは、0、1、又は2、より好ましくは0又は1、最も好ましくは0)を有し、下付き文字aは、分子当たりの(HRSiO)基の平均数であり、全般的には、下付き文字bは、分子当たりの(R2SiO)基の平均数である。]下付き文字a又は下付き文字bは0であってもよいが、下付き文字a及びbが両方とも0であることはない。好ましくは、下付き文字aは、1以上であり、5以上、さらには10以上であってよく、同時に典型的には50以下であり、40以下、30以下、又はさらには20以下であってよい。下付き文字bは、望ましくは0以上であり、1以上、2以上、3以上、4以上、さらには5以上であってよく、同時に典型的には150以下、好ましくは100以下である。同時に、下付き文字aは、下付き文字aとbの合計の望ましくは5パーセント(%)以上、6%以上、7%以上、8%以上、9%以上、10%以上、15%以上、20%以上、25%以上、さらには30%以上であり、同時に典型的には50%以下、45%以下、40%以下、又は35%以下であり、30%以下、25%以下、20%以下、15%以下、さらには10%以下であってよい。シリルヒドリド官能性ポリシロキサンは、典型的には1000以上、1500以上、1900以上、2000以上、同時に典型的には5000以下、4000以下、3000以下、2500以下、又はさらには2000以下の分子量を有する。
(R30)3Si-(OSiR2)c-Si(OR3)3(III)
式中、Rは上記で定義したとおりであり(かつ好ましくはメチル)、下付き文字cは分子当たりの(OSiR2)シロキサン単位の平均数であり、概ね、13以上、20以上、30以上、40以上、50以上、75以上、100以上、150以上、200以上、300以上、400以上、500以上、600以上、さらには650以上の値を有し、同時に、概ね2000以下、1000以下、900以下、800以下、700以下、650以下、さらには645以下である。
(R30)3Si-R”-SiR2-(OSiR2)c-R”-Si(OR3)3 (IIIb)
式中、R、下付き文字cは、分子構造(III)について上記で定義したとおりであり、R”は、1~6個の炭素を有する二価炭化水素であり、好ましくは-CH2CH2-である。
R3SiO-(SiR2O)m-(SiRAO)n-SiR3 (IV)
式中、各Rは、独立して、上記で定義したとおりであり(かつ好ましくはメチル)、下付き文字mは、分子当たりの (SiR2O)の平均数であり、典型的には、分子構造(III)の下付き文字cについて述べた値を有し、下付き文字nは、分子当たりの(SiRAO)単位の平均数であり、2以上であり、好ましくは概ね分子構造(III)の下付き文字cについて述べた値を有し、Aは、以下の構造を有する。
-R”Si(OR3)
式中、Rは上記に述べたとおりであり(かつ好ましくはメチルである)、R”は、分子構造(IIIb)について上記で定義したとおりである。
Si[-(OSiR2)p-R”-Si(OR3)]4 (V)
式中、R及びR”は上記に述べたとおりであり、Rは好ましくはメチルであり、R’’は好ましくは-CH2CH2-であり、下付き文字pは、分子当たりの(OSiR2)シロキサン単位の平均数であり、典型的には20以上、25以上、30以上、35以上、40以上、45以上、さらに50以上であり、同時に、典型的には100以下、75以下、60以下、50以下、さらに40以下である。
R3SiO-(R2SiO)h-[(CH2)e((CH3)2SiO)f]g-(CH2)e-Si(OR2)3 (VI)
を有し、式中、R及びR2は各々独立して、各々の場合で、上記で定義されたとおりであり、下付き文字hは、分子当たりの(R2SiO)単位の平均数であり、典型的には10以上、15以上、20以上、25以上、さらには30以上の値を有し、かつ同時に、概ね150以下、140以下、130以下、120以下、110以下、100以下、90以下、80以下、70以下、60以下、50以下、45以下、40以下、35以下、又はさらには30以下であり、下付き文字eは独立して、それぞれの場合で0以上、1以上、さらには2以上の値を有し、かつ同時に通常、4以下、3以下、又はさらには2以下であり、下付き文字fは、典型的には0以上、1以上、2以上、3以上の値を有し、同時に概ね、6以下、5以下、4以下、3以下、又はさらには2以下であり、下付き文字gは、典型的には0以上、1以上、2以上、3以上、さらには4以上の値を有し、同時に概ね、6以下、さらには5以下、4以下、又は3以下の値を有する。
(CH3)3SiO-((CH3)2SiO)t-Si(OR2)3 (VII)
を有する。
SILASTICはDow Corning Corporationの商標である。
SILMERはThe Siltech Corporationの商標である。
90.82重量%のヒドロキシ末端ジメチルシロキサン(Aldrich)、9.1重量%のオルトケイ酸メチル(Aldrich)、及び0.08重量%の氷酢酸(Aldrich)を反応器(例えば、丸底フラスコ)に充填し、混合した後、120~130℃に加熱して4時間混合し続ける。真空下、150℃で5時間、酢酸、メタノール、及び過剰のオルトケイ酸メチルを除去する。得られた生成物はTM-PS1である。
100gのジメチル環状物を、テトラキス(ビニルジメチルシロキシ)シラン(0.9重量%のビニル含有量、Skyran Industrial Co.,Ltd.から入手可能なCAS316374-82-0)及び9.42gの1(-2-(トリメトキシシリル)エチル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン(Gleader Advanced Material Co.,Ltdから入手可能)と共に丸底フラスコに充填する。0.06gの白金触媒IIを添加する。90℃で3時間混合する。濾過により白金残渣を除去してTM-PS3を得る。
第1液(A液)と第2液(B液)を含む2液硬化型組成物として、試料組成物を調製する。
各A液試料の配合を表2に示す。VF-P成分を10LのTurelloミキサーの容器に充填し、0.4立方メートル/時の窒素流下、毎分20回転(RPM)で5分間混合する。TCF成分を添加し、15分間撹拌を続ける。混合物を真空下(約0.1メガパスカル)で120℃に1時間加熱する。22℃に冷却し、白金触媒I成分を添加し、窒素パージ下、750RPMで15分間混合する。
各B液試料の配合を表3に示す。VF-P成分、カーボンブラック、及びTA成分を10LのTurelloミキサーの容器に充填し、0.4立方メートル/時の窒素流下、20RPMで5分間混合する。TCF成分を添加し、15分間撹拌を続ける。混合物を真空下(約0.1メガパスカル)で120℃に1時間加熱する。22℃に冷却し、硬化阻害剤、SHF-P成分、及びTM-PS成分を添加し、窒素パージ下、750RPMで15分間混合する。
Claims (10)
- (a)ビニル官能性ポリシロキサンと、
(b)分子当たり平均で少なくとも2個のシリルヒドリド基を有する、シリルヒドリド官能性ポリシロキサンと、
(c)60~92重量パーセントの熱伝導性充填剤と、
(d)白金ヒドロシリル化触媒と、
(e)0.05~2.0重量パーセントのトリアルコキシ官能性ポリシロキサンと、を含む組成物であって、
前記トリアルコキシ官能性ポリシロキサンが、分子当たり2個以上のトリアルコキシ官能基及び1200以上の数平均分子量を有し、重量パーセントが前記組成物の重量に対するものである、組成物。 - 前記組成物が、別個の第1液と第2液とを含む2液組成物であり、
(a)前記第1液が、
(i)7~35重量パーセントのビニル官能性ポリシロキサンと、
(ii)60~92重量パーセントの熱伝導性充填剤と、
(iii)0.05~2.0重量パーセントのトリアルコキシ官能性ポリシロキサンと、
(iv)第1液100万重量部当たり、1~1000重量部の白金ヒドロシリル化触媒と、
(v)0.1~2.0重量パーセントの処理剤と、を含み、
(b)前記第2液が、
(i)10~15重量パーセントのビニル官能性ポリシロキサンと、
(ii)分子当たり平均で少なくとも2個のシリルヒドリド基を有する、2~5重量パーセントのシリルヒドリド官能性ポリシロキサンと、
(iii)60~92重量パーセントの熱伝導性充填剤と、
(iv)0.025~2.0重量パーセントのトリアルコキシ官能性ポリシロキサンと、
(v)0~1重量パーセントの顔料添加剤と、
(vi)0~0.01重量パーセントの白金硬化阻害剤と、を含み、
ただし、重量パーセントの値は、成分が存在する前記液の重量に対するものである、請求項1に記載の組成物。 - 前記トリアルコキシ官能性ポリシロキサンが、分子当たり1個以下のシリルヒドリド基を有する、請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記トリアルコキシ官能性ポリシロキサンの濃度が、前記組成物の重量の0.05~0.75重量パーセントの範囲である、請求項1~3のいずれか1項に記載の組成物。
- ポリエーテル、シリカ充填剤、及びシラノール官能性ポリジメチルシロキサンを含まない、請求項1~4のいずれか1項に記載の組成物。
- (a)請求項1~5のいずれか1項に記載の組成物の全ての成分を互いに加え合わせる工程と、(b)必要に応じて加熱する工程と、(c)前記ビニル官能性ポリシロキサンと前記シリルヒドリド官能性ポリシロキサンとをヒドロシリル化硬化させて硬化組成物を形成する工程と、を含む、プロセス。
- 工程(a)の後に前記組成物を基材に適用し、基材上に前記硬化組成物を含む物品を生成すること、をさらに含む、請求項6に記載のプロセス。
- 工程(a)の後でかつ工程(b)の前に、前記組成物を基材と第2の要素の両方と接触させて、前記プロセスに加熱が含まれる場合、基材と第2の要素との間に熱接触して前記硬化組成物を含む物品を形成すること、をさらに含む、請求項6に記載のプロセス。
- 請求項7又は8に従って調製された基材と接触している硬化組成物を含む、物品。
- 電子部品である、請求項9に記載の物品。
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