JP2023526778A - 殺真菌性化合物及びその調製プロセス - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の目的は、望ましくないハロアルカン不純物を実質的に含まない殺真菌性スルフェニルフタルイミド化合物を開発することである。
一態様では、本発明は、式(I)で表される殺真菌性スルフェニルフタルイミド化合物を調製することに関し、当該式(I)の化合物は、望ましくないハロアルカン不純物を実質的に含まない。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、式(II):
(b)当該式(II)のスルフェニル化合物を、ハロアルカン不純物を実質的に含まない式(I)の殺真菌性スルフェニルフタルイミド化合物に変換する工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成する工程と、
(b)芳香族炭化水素でスルフェニル化合物を処理してハロアルカン不純物を除去することによって、純粋なスルフェニル化合物を単離する工程と、
(c)式(II)のスルフェニル化合物をフタルイミド又はフタルイミド誘導体と反応させて、式(I)で表される純粋なスルフェニルフタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成する工程と、
(b)工程(a)のスルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去して、式(II)の純粋なスルフェニル化合物を得る工程と、
(c)式(II)のスルフェニル化合物をテトラヒドロフタルイミドと反応させて、式(I)純粋な3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成する工程と、
(b)工程(a)のスルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去して、式(II)の純粋なスルフェニル化合物を得る工程と、
(c)芳香族炭化水素中の式(II)のスルフェニル化合物をフタルイミドと反応させて、式(I)の純粋なN-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成する工程と、
(b)工程(a)のスルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去し、ハロアルカン不純物を実質的に含まない、式(II)の純粋なスルフェニル化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成し、芳香族炭化水素によりスルフェニル化合物を処理して、ハロアルカン不純物を除去して、式(II)の純粋なスルフェニル化合物を得る工程と、
(b)芳香族炭化水素中の式(II)のスルフェニル化合物をフタルイミド又はフタルイミド誘導体と反応させて、式(I)の純粋なスルフェニルフタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、粗スルフェニル化合物を得る工程と、
(b)工程(a)の粗スルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去し、式(II)のスルフェニル化合物を得る工程と、
(c)式(II)のスルフェニル化合物をフタルイミド又はフタルイミド誘導体と反応させて、式(I)のスルフェニルフタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、粗スルフェニル化合物を得る工程と、
(b)工程(a)の粗スルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去し、式(II)のスルフェニル化合物を得る工程と、
(c)芳香族炭化水素中で式(II)のスルフェニル化合物をテトラヒドロフタルイミドと反応させて、式(I)の3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、スルフェニル化合物を形成する工程と、
(b)工程(a)のスルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去し、式(II)のスルフェニル化合物を得る工程と、
(c)式(II)のスルフェニル化合物をフタルイミドと反応させて、式(I)のN-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
を含む。
(a)有機硫黄化合物を塩素と反応させて、粗スルフェニル化合物を得る工程と、
(b)工程(a)の粗スルフェニル化合物を芳香族炭化水素で処理して、ハロアルカン不純物を除去し、ハロアルカン不純物を実質的に含まない、式(II)のスルフェニル化合物を得る工程と、
を含む。
式(II)のスルフェニル化合物を、フタルイミド又はフタルイミド誘導体と反応させ、式(I)の殺真菌性スルフェニルフタルイミド化合物を得る工程を含む。
本願のプロセスに従って得られた式(II)のスルフェニル化合物をテトラヒドロフタルイミドと反応させ、ハロアルカン不純物を実質的に含まない式(II)の純粋な3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程を含む。
3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミドの合成
工程1:1664gの水に対して、974g(30%)のHCl水溶液及び380gの二硫化炭素を5~10℃で加え、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離し、有機塊を回収し、トルエン(210gm)を添加し、更なる有機層を250gmの水で2回洗浄した。905gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)トルエン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMトルエン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CTC)をトルエンと共に真空下で除去した。このようにして得られたPCMMトルエン溶液を、工程2のために更に取得した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(778.0g)。収率:77.0%、純度:92.61%、CTC-0.07%(GCによる)。
3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミドの合成
工程I:323.6gの水に対して、188.8g(30%)のHCl水溶液及び二硫化炭素(73.6g)を5~10℃で加え、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離した。クロロベンゼン(48.4gm)を有機塊に添加し、48.4gmの水で2回洗浄した。192.0gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)クロロベンゼン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMクロロベンゼン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CCl4)をクロロベンゼンと共に真空下で除去した。このようにして得られたPCMMクロロベンゼン溶液を、工程2のために更に取得した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(147.2g)。収率:72.0%、純度:88.10%、CTC-0.06%。
3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミドの合成
工程I:323.6gの水に対して、188.8g(30%)のHCl水溶液及び二硫化炭素(73.6g)を5~10℃で加え、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離した。キシレン(48.4gm)を有機塊に添加し、48.4gmの水で2回洗浄した。194.0gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)キシレン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMキシレン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CCl4)をキシレンと共に真空下で除去した。このようにして得られたPCMMキシレン溶液を、工程2のために更に取得した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(143.0g)。収率:70.40%、純度:88.70%、CTC-0.07%。
3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミドの合成
工程I:323.6gの水に対して、188.8g(30%)のHCl水溶液及び二硫化炭素(73.6g)を5~10℃で加え、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離した。エチルベンゼン(48.4gm)を有機塊に添加し、48.4gmの水で2回洗浄した。190.0gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)エチルベンゼン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMエチルベンゼン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CCl4)をエチルベンゼンと共に真空下で除去した。このようにして得られたPCMMエチルベンゼン溶液を、工程2のために更に取得した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(146.3g)。収率:71.80%、純度:88.40%w/w、CTC-0.06%。
1664gの水に対して、974g(30%)のHCl水溶液及び380gの二硫化炭素を5~10℃で加え、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離し、有機塊を回収し、トルエン(210gm)を添加し、更なる有機層を250gmの水で2回洗浄した。905gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)トルエン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMトルエン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CCl4)をトルエンと共に真空下で除去した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(778.0g)。収率:77.0%、純度:92.61%、CTC-0.07%。
工程1:1664gの水に対して、974g(30%)のHCl水溶液及び380gの二硫化炭素を5~10℃で装入し、塩素ガスを同じ温度で22~24時間パージした。反応の完了後、層を分離し、有機塊を回収し、トルエン(210gm)を添加し、更なる有機層を250gmの水で2回洗浄した。905gの粗ペルクロロメチルメルカプタン(PCMM)トルエン溶液を得た。3フィートの充填カラム上の粗PCMMトルエン溶液の蒸留を行って、低沸点物質及びハロアルカン不純物である、四塩化炭素(CCl4)をトルエンと共に真空下で除去した。このようにして得られたPCMMトルエン溶液を、工程2のために更に取得した。最終スルフェニル化合物(PCMM)仕様:残留PCMM:(778.0g)。収率:77.0%、純度:92.61%、CTC-0.07%。
Claims (26)
- 前記工程(a)を水性酸性媒体の存在下で実行し、前記スルフェニル化合物を芳香族炭化水素で更に処理し、ハロアルカン不純物を実質的に含まない、式(II)のスルフェニル化合物を得る、請求項1に記載のプロセス。
- 前記プロセスを、水性アルカリ媒体及び芳香族炭化水素の存在下で実行し、ハロアルカン不純物を実質的に含まない式(I)のスルフェニルフタルイミド化合物を得る、請求項3に記載のプロセス。
- 前記ハロアルカン不純物が、四塩化炭素及びジクロロ(クロロスルファニル)メタンスルホニルクロリド又はそれらの混合物から選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記有機硫黄化合物が、二硫化炭素、硫化カルボニル及びチオホスゲンから選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 酸性溶液に用いられる酸が、塩酸、リン酸及び硫酸から選択される、請求項2に記載のプロセス。
- アルカリ媒体に用いられるアルカリが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、及び炭酸カリウムから選択される、請求項4に記載のプロセス。
- 前記芳香族炭化水素が、トルエン、クロロベンゼン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン及びキシレンから選択される、請求項2又は4に記載のプロセス。
- 前記工程a)を、5~20℃の範囲の温度で実施する、請求項1に記載のプロセス。
- 前記工程b)を、0~10℃の範囲の温度で実施する、請求項1に記載のプロセス。
- 前記式(II)の化合物及び前記式(I)の化合物が、四塩化炭素不純物を実質的に含まない、請求項1に記載のプロセス。
- 前記四塩化炭素不純物が、前記プロセスにおいて0.05%未満に低減される、請求項13に記載のプロセス。
- 得られた前記式(II)の化合物及び前記式(I)の化合物が、純度約98%である、請求項1に記載のプロセス。
- 前記式(I)のスルフェニルフタルイミド化合物が、3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド又はN-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミドから選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物が、
(a)酸性水溶液の存在下で有機硫黄化合物を塩素と反応させて、粗ペルクロロメチルメルカプタンを得る工程と、
(b)芳香族炭化水素で粗ペルクロロメチルメルカプタンを処理することによって、ハロアルカン不純物を実質的に含まない純粋なペルクロロメチルメルカプタンを単離する工程と、
(c)純粋なペルクロロメチルメルカプタンを水性アルカリ媒体の存在下でテトラヒドロフタルイミドと反応させて、ハロアルカン不純物を実質的に含まない3a,4,7,7a-テトラヒドロ-N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
によって調製される、請求項16に記載のプロセス。 - 前記N-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物が、
(a)二硫化炭素を酸性水溶液中で塩素と反応させて、粗ペルクロロメチルメルカプタンを得る工程と、
(b)工程(a)で得られた粗ペルクロロメチルメルカプタンを芳香族炭化水素溶媒で処理することによって、ハロアルカン不純物を実質的に含まない純粋なペルクロロメチルメルカプタンを単離する工程と、
(c)芳香族炭化水素中の純粋なペルクロロメチルメルカプタンを、水性アルカリ媒体中のフタルイミド化合物と反応させて、ハロアルカン不純物を実質的に含まないN-(トリクロロメタンスルフェニル)フタルイミド化合物を得る工程と、
によって調製される、請求項16に記載のプロセス。 - ハロアルカン不純物が四塩化炭素である、請求項1~18のいずれか一項に記載のプロセス。
- 式(II)のスルフェニル化合物の調製プロセスであって、
(a)有機硫黄化合物を酸性水溶液中で塩素と反応させて、粗スルフェニル化合物を得る工程と、
(b)粗スルフェニル化合物を芳香族炭化水素溶媒で処理し、ハロアルカン不純物を実質的に含まない式(II)のスルフェニル化合物を単離する工程と、
を含む、式(II)のスルフェニル化合物の調製プロセス。 - 二硫化炭素を塩素と反応させて、ペルクロロメチルメルカプタンを得、前記ペルクロロメチルメルカプタンをトルエンで処理して、ハロアルカン不純物を実質的に含まないペルクロロメチルメルカプタンを得る工程を含む、請求項20に記載のプロセス。
- 前記式(I)の化合物が、ハロアルカン不純物を実質的に含まず、式(I)で表される粗化合物を芳香族炭化水素で処理することによって得られるものである、請求項22に記載の化合物。
- 粒径分布D50が約80μm未満であり、四塩化炭素不純物が0.05%未満である、請求項23に記載の化合物。
- 前記ハロアルカン不純物が四塩化炭素であり、その量が0.05%未満に低減されている、請求項25に記載の化合物。
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