JP2023524488A - 薄型基板ハンドリングにおける亀裂防止のための組合せ型コンタクトフィンガ - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 146
- 230000002265 prevention Effects 0.000 title 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 12
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000011143 downstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N beryllium copper Chemical compound [Be].[Cu] DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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Abstract
【解決手段】基板めっきシステムにおいて基板への接続を提供するコンタクトは、弓形状を有する本体を含む。本体の弓形状は、基板めっきシステムのリップシールおよびカップ状に配置された基板の少なくとも一部の形状と適合するように構成される。複数の第1のコンタクトフィンガは、本体から第1の距離伸びている。複数の第2のコンタクトフィンガは、本体から第2の距離伸びている。第1の距離は、第2の距離より大きい。【選択図】図5C
Description
[関連出願の相互参照]
本出願は、2020年4月30日に出願された、米国仮特許出願第63/018,039号の利益を主張する。上記の出願は、その開示の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、2020年4月30日に出願された、米国仮特許出願第63/018,039号の利益を主張する。上記の出願は、その開示の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、電気めっきシステムに関し、より詳しくは、電気めっきシステムのための組合せ型コンタクトフィンガに関する。
ここで提供される背景の説明は、本開示の内容を概ね提示することを目的とする。この背景技術のセクションで説明される範囲内における、現時点で名前を挙げられている発明者らによる研究、ならびに出願の時点で先行技術として別途みなされ得ない説明の態様は、明示または暗示を問わず、本開示に対抗する先行技術として認められない。
いくつかの応用分野では、下流の処理の前に、研削砥石を用いて、半導体ウェハなどの基板を所望の厚さまで薄くする。研削、その後に続くハンドリングおよび/または下流の処理において、基板を十分に支持できないほど、基板を薄くする場合もある。この場合、基板を、支持構造体として機能するキャリア基板に接合し、その後、処理が完了したときにキャリア基板から取り外す。キャリア基板によるさらなる支持があっても、下流の処理において、基板は亀裂およびチッピングを生じやすい。
基板めっきシステムにおいて基板への接続を提供するためのコンタクトは、弓形状を有する本体を含む。本体の弓形状は、基板めっきシステムのリップシールおよびカップの上に配置された基板の少なくとも一部の形状に適合するように構成される。複数の第1のコンタクトフィンガは、本体から第1の距離伸びている。複数の第2のコンタクトフィンガは、本体から第2の距離伸びている。第1の距離は、第2の距離よりも大きい。
他の特徴では、複数の第1のコンタクトフィンガは、めっき処理の間、キャリア基板に接合された基板の上に配置されたシード層に接触するように構成されている。複数の第2のコンタクトフィンガは、めっき処理の間、基板の径方向外縁部から外側の位置で、キャリア基板と接触するように構成されている。複数の第1のコンタクトフィンガのうちの1つが、複数の第2のコンタクトフィンガのうちの1つと交互になっている。複数の第1のコンタクトフィンガのうちP個が互いに直接隣接して配置され、複数の第2のコンタクトフィンガのうちQ個が互いに直接隣接して配置されている。PとQは、1以上の整数である。PとQは、1以上20未満である。Pは、Qより大きい。Qは、Pより大きい。
他の特徴では、複数の第3のコンタクトフィンガは、第1の距離および第2の距離とは異なる第3の距離伸びている。複数の「U」字型の切り欠き部が、複数の第1のコンタクトフィンガと複数の第2のコンタクトフィンガの間に配置される。複数の第1のコンタクトフィンガが、その径方向外側の端部で連結している。
他の特徴では、複数の第1のコンタクトフィンガのうちの少なくとも1つの径方向内側の端部が、「V」字型の外形を有する。第1の距離が0.6mm~4.2mmの範囲であり、第2の距離が0.2mm~1.0mmの範囲である。第1のコンタクトフィンガは0.001インチ~0.0045インチの範囲の厚さを有し、第2のコンタクトフィンガが0.0035インチ~0.007インチの範囲の厚さを有する。コンタクトの本体は、環状である。
他の特徴では、コンタクトはN個の本体を含み、N個はそれぞれ360°/Nにわたり、N個はリップシールの外周の周囲に連続して配置されている。めっきシステムは、コンタクト、カップ、およびカップの上に配置されたリップシールを含む。コンタクトは、めっき処理の間、リップシールと基板の間に配置される。
カップのリップシールの上に載置されるように構成されたコンタクトは、第1の本体から第1の距離伸びている複数の第1のコンタクトフィンガと、選択された複数の第1のコンタクトフィンガの間に配置された複数の第1の空間とを含む、弓形状を有する第1の本体を含む。第2の本体は弓形状を有し、第2の本体から第2の距離伸びている複数の第2のコンタクトフィンガと、選択された複数の第1のコンタクトフィンガの間に配置された複数の第2の空間とを含む。第2の距離は、第1の距離よりも大きい。第1の本体と第2の本体が、複数の第2の空間に整列した複数の第1のコンタクトフィンガと、複数の第1の空間に整列した複数の第2のコンタクトフィンガと重なるように構成されている。
他の特徴では、複数の第2のコンタクトフィンガは、キャリア基板に接合された基板のシード層に接触するように構成される。複数の第1のコンタクトフィンガは、基板から径方向外側で、キャリア基板に接触するように構成される。複数の第1のコンタクトフィンガは、基板の径方向外縁部から外側で、シード層に接触するように構成される。
めっきシステムは、コンタクト、カップ、およびカップの上に配置されたリップシールを含む。
基板めっきシステムにおいて基板への電気接続を提供するためのコンタクトは、第1の本体および第2の本体を含む。第1の本体は弓形状を有し、第1の本体から第1の距離伸びているN個の第1のコンタクトフィンガを含んでおり、Nは1より大きい整数である。第2の本体は弓形状を有し、第2の本体から第2の距離伸びているM個の第2のコンタクトフィンガを含んでおり、Mは1より大きい整数である。N:Mの比は1:Pであり、Pは正数である。第2の距離は、第1の距離よりも大きい。N個の第1のコンタクトフィンガおよびM個の第2のコンタクトフィンガは、同じ幅を有する。第1の本体および第2の本体は重なるように構成されており、N個の第1のコンタクトフィンガは、少なくとも複数のM個の第2のコンタクトフィンガと整列し、その上部に積層されている。
別の特徴では、P=1、P=2、またはP=3である。
別の特徴では、M個の第2のコンタクトフィンガは、キャリア基板に接合された基板のシード層に接触するように構成される。
別の特徴では、N個の第1のコンタクトフィンガは、基板から径方向外側で、キャリア基板に接触するように構成される。
別の特徴では、N個の第1のコンタクトフィンガは、基板の径方向外縁部から外側で、シード層に接触するように構成される。
本開示のさらなる適用範囲は、詳細な説明、特許請求の範囲、および図面から明らかになるであろう。詳細な説明と具体例は、例示の目的のみであり、本開示の範囲を限定することは意図していない。
本開示は、以下の詳細な説明および添付の図面から、より完全に理解されるだろう。
図面の中で、同様のおよび/または同一の要素を識別するために、参照番号を再使用する場合がある。
本開示は、めっきなどの基板処理の間に使用されるコンタクトに関する。本開示に係るコンタクトは、組合せ型コンタクトフィンガを含む。組合せ型コンタクトフィンガの第1の群は、キャリア基板に接合された基板の径方向外縁部に接触するように設計される。コンタクトフィンガの第1の群は、めっき処理の間、基板上のシード層への電気接続を提供する。組合せ型コンタクトフィンガの第2の群は、基板の径方向外側で、キャリア基板に接触するように設計される。コンタクトフィンガの第2の群は、リップシールによって基板に形成されたシールを破るのを助ける。
ここで図1A~1Fを参照すると、活性Siウェハなどの基板14を、キャリア基板10に取り付ける方法が示されている。図1Aでは、キャリア基板10の一方の面の第1の面に、接着層12を塗布する。図1Bでは、基板14の第1の面を、接着層12と接触させて配置する。図1Cでは、基板14の第2の面を研削砥石によって研磨し、基板18の厚さを所望の厚さに減少する。
図1Dでは、研磨の間およびその後に、薄くなった基板18をキャリア基板10によって支持し、ハンドリングまたは他の下流の処理の間の損傷を防止する。図1Eでは、ハンドリングならびに/または、堆積、エッチング、パターン形成、めっきおよび/もしくは他の基板処理を(通常は研磨されなかった基板の側面で)行う。図1Eでは、基板18を最終的にキャリア基板10から分離させ、薄くされ、処理された基板を製造する。
ここで図2A~2Dを参照すると、基板14をキャリア基板に取り付ける際に、いくつかの問題が生じ得る。図2Aの例では、接合基板アセンブリ200は、キャリア基板10ならびに、接着層12、基板210、およびシード層214を含む他の層204を含む。いくつかの例では、シード層214は銅(Cu)シード層である。いくつかの例では、キャリア基板10はガラスまたはケイ素でできており、400~700μmの範囲の厚さを有するが、他の厚さも使用可能である。いくつかの例では、研磨後の基板18の厚さは、10~150μmの範囲であるが、他の厚さも使用可能である。
図2Bでは、230に示されるように、シード層214はキャリア基板の一部を覆っていてもよい。図2Cでは、接着層12は基板210の下全体に伸びていない場合もあり、それによって基板に亀裂やひび割れが生じやすくなる可能性がある。図2Dでは、250に示されるように、接着層12が基板210を超えて伸びている場合もある。
ここで図3を参照すると、めっきアセンブリ300はカップ312とコーン314を含む。特定のアセンブリが考察のために例示されているが、他のタイプのアセンブリ、ハンドリング装置、または処理装置も使用可能である。カップ312は、天板310および支柱316により支持されている。通常、接合された基板320がカップ312の上に載置され、カップ312は基板を支持する。カップ312は開口部を含み、開口部を通してめっきセルからの電解液が、基板320に接触する。基板320は、めっき処理が行われるフロント/作業側322を有する。基板320の外周部は、カップ312のリップシール330上に載置される。スピンドル334は、コーン314をコーンシール336に対して押圧させ、基板320を固定して、基板320をリップシール330に対してシールさせる。コンタクトフィンガを含むコンタクトリング350を、リップシール330の上向き面と基板320の下向き面との間に配置する。コンタクトリング350は、めっき処理の間、基板320への電気接続を提供する。
ここで図4Aおよび4Bを参照すると、めっきまたは他の基板処理の間の、コンタクトのコンタクトフィンガが示される。図4Aでは、コンタクトフィンガ414が、カップ(図示せず)によって支持されたリップシール412上に載置される。コンタクトフィンガ414の径方向内側端部416は、接合基板418がリップシール412に対して押圧される際に、ばねとして機能する。図4Bでは、コンタクトフィンガ414の径方向内側端部416からの基板210に対する圧力により、基板210に亀裂、および/または204-1に示されるように、1つまたは複数の層のひび割れが生じる可能性がある。
コンタクトフィンガは、電源から基板への電気接続部としての役割を果たす。いくつかのコンタクトフィンガは、基板210上のシード層214と良好な電気的接触を形成する必要がある。一般に、より長く、より平坦なコンタクトフィンガにより、より良好な電気的接触が可能である。コンタクトは副次的な目的として、めっき処理後の基板に持ち上げる力を提供することにより、リップシール414に対する吸着から基板を解放する役割を果たす。より強いばね力を有する急角度のコンタクトは、より良好な持ち上げる力を提供することができ、より平坦なコンタクトでは、リップシール412に、より貼り付きやすい。コンタクトフィンガ(特に、強力な持ち上げる力を提供するもの)は、活性Siウェハなどの薄型基板へのウェハの亀裂/チッピングの重要な要因である。
本明細書に記載されたシステムおよび方法は、基板上のシード層と良好な電気的接触を形成し、めっき処理後にウェハがリップシールに貼り付くことを防ぐために、強力な持ち上げる力を提供し、また基板に亀裂や割れが生じないようにするための、コンタクトの設計を提供するものである。本開示は、前述の問題に対処する、組合せ型コンタクトフィンガおよび/または他の特徴を含むコンタクトに関する。いくつかの例では、組合せ型コンタクトフィンガは、1つの基板に接触するために使用される2つまたはそれ以上のタイプのコンタクトフィンガを含む。
ここで図5Aおよび5Bを参照すると、複数のコンタクトフィンガを含むコンタクト500が示される。図5Aでは、コンタクト500は、外側部分510と、外側部分510から径方向内側に伸びる内側部分514を有する。内側部分514は、径方向内側に突出するコンタクトフィンガを含む(図5B、5C、および6A~6Eに例を示す)。コンタクト500の内側部分514はコンタクトフィンガを含むが、コンタクトフィンガを外側部分510に配置してもよい。図5Bでは、コンタクトフィンガ530は、径方向内側に同じ距離伸びている。
図5Cおよび5Dでは、コンタクトフィンガが異なる長さを有し、組み合わせられている。第1のコンタクトフィンガ540は、第2のコンタクトフィンガ550よりも長く内側に伸びている。いくつかの例では、第1のコンタクトフィンガ540と第2のコンタクトフィンガ550が交互になっている。しかし、異なるパターンも使用できる。例えば、F個の第1のコンタクトフィンガ540をG個の第2のコンタクトフィンガの間に配置してもよく、FおよびGは1以上の整数である。
この組合せ型コンタクトフィンガの配置は、いくつかの利点を有する。第2のコンタクトフィンガ550は、通常は基板とではなく、キャリア基板との物理的な接触をつくり、それにより亀裂/チッピングのリスクを最小限にする。第2のコンタクトフィンガ550は、持ち上げる力を提供することにより、基板がリップシールに貼り付くのを防止する。
いくつかの例では、第2のコンタクトフィンガ550は、0.2mm~1.0mmの範囲(例えば0.4mm)の長さを有する。いくつかの例では、第2のコンタクトフィンガ550は、第1のコンタクトフィンガ540よりも急峻な角度を有する。いくつかの例では、基板に最も近い第2のコンタクトフィンガ550の第2の屈曲部の角度は45°~135°の範囲(例えば、105°)である。
いくつかの例では、第2のコンタクトフィンガ550は、第1のコンタクトフィンガ540よりも硬い。例えば、第2のコンタクトフィンガ550は、0.0035インチ~0.007インチの範囲(例えば、0.004インチ)の厚さを有する材料を使用してもよい。いくつかの例では、第2のコンタクトフィンガ550は、図2Bに示したように、シード層が基板を越えて伸びる場合は、シード層と電気的接触を形成してもよい。
第1のコンタクトフィンガ540は、基板と電気的接触を形成する。特徴としては、長いほど、電気的接触が良好になる。いくつかの例では、長さは0.6mm~4.2mmの範囲(例えば、1.3mm)である。いくつかの例では、第1のコンタクトフィンガ540の第2の屈曲部は、45°~135°の範囲(例えば、115°)のより浅い角度を有する。いくつかの例では、第1のコンタクトフィンガ540は、第2のコンタクトフィンガ550よりも薄い材料で作られている。いくつかの例では、第1のコンタクトフィンガ540の厚さは、薄型ウェハの亀裂およびチッピングを低減するため、0.001インチ~0.0045インチの範囲(例えば、0.002インチ)である。
いくつかの例では、第1のコンタクトフィンガ540および第2のコンタクトフィンガ550は、導電性材料で作られている。例えば、導電性材料としては、ステンレス鋼(SS)、白金被覆SS、Paliney(商標)7、ベリリウム銅、および/または他の合金もしくは金属が挙げられる。
本明細書に記載の組合せ型コンタクトフィンガは、図5Dに示すように、(より長いコンタクトフィンガを使用して)より浅く、より穏やかな電気的接触を可能にして亀裂のリスクを最小限にすると同時に、(より短いコンタクトフィンガを使用して)貼り付くリスクも低減する。
ここで図6A~6Eを参照すると、組合せ型コンタクトフィンガを含むコンタクトの他の例が示される。図6Aでは、コンタクト600が、外側部分606、およびそれぞれ漸増する長さを有するコンタクトフィンガ610、614、620を含む内側部分602を含んで示されている。コンタクト500は、交互の2つのタイプのコンタクトの代わりに、3つまたはそれ以上の径方向の長さ、周方向の幅、材料の厚さ、および/または材料の種類を含む。
図6B、6D、および6Eでは、コンタクトリング部630が、外側部分606、および同じ第1の長さを有し、互いに隣接して配置されるP個の群のコンタクトフィンガ634を含む内側部分608を含んで、示されている。コンタクトリング部分630は、同じ第2の長さを有し、互いに隣接して配置されるQ個の群のコンタクトフィンガ638を含み、第1の長さは第2の長さよりも短い。P個の群のコンタクトフィンガ634は、Q個の群のコンタクトフィンガ638に隣接して配置される。PおよびQは1以上の整数であり、少なくとも1つのPまたはQは1以上である。いくつかの例では、PおよびQは30、20、10、8、6、または4以下である。いくつかの例では、PとQは等しい。図6Bでは、コンタクトリング部分630においてP=Q=6である。図6Dでは、コンタクトリングフィンガ670において、P=1およびQ=2である。図6Eでは、コンタクトリングフィンガ680において、P=1およびQ=3である。特定の例が示されているが、他の組合せも企図される。
図6Cでは、コンタクトリング部分640が、第1のコンタクトフィンガ650および第2のコンタクトフィンガ654を画定する「U」字型の切り欠き部652を含む。2つまたはそれ以上の第2のコンタクトフィンガ654が連結され、第1のコンタクトフィンガ650よりもさらに伸びている。いくつかの例では、2つ、3つ、4つまたはそれ以上の第2のコンタクトフィンガ654が結合して、周方向により長いコンタクトを形成し、それによりシード層上の接触領域を最大限にする。いくつかの例では、さらなる切り欠き部(図示せず)を、選択した第2のコンタクトフィンガ654の間に作成して、第2のコンタクトフィンガ654を、所望の数の連結された第2のコンタクトフィンガ654に区切ってもよい。他の例では、すべての第2のコンタクトフィンガ654が結合したままである。このデザインは、薄型のシード層および/またはわずかに分散されたシード層に対して有益であり得る。
ここで図7A~7Dを参照すると、組合せ型コンタクトフィンガを含む、重畳型コンタクトが示される。図7Aでは、第1のコンタクト710が、外側部分712および内側部分714を含む。は内側に伸びており、空間718によって区切られている。第2のコンタクト720は、外側部分712および内側部分714を含む。コンタクトフィンガ724は径方向内側に伸びており、空間728によって区切られている。図7Cに見られるように、コンタクト710は第2のコンタクト720に重なるように配置され、コンタクトフィンガ716は空間728に整列し、コンタクトフィンガ724は空間718に整列している。重畳型コンタクトは、カップ中に組み込まれるとき、互いの上に重ねられ固定された、独立部品のままであってもよい。あるいは、重畳型の部品は、スポット溶接、接着、または他の手段を用いて恒久的に互いに付着させてもよい。
図7Dでは、コンタクトフィンガ724はシード層への電気的な接触を提供し、コンタクトフィンガ716はキャリア基板と接触して、めっき処理後にシールを破るのを助ける。図7A~7Cは、第1のコンタクト710のコンタクトフィンガ716のうちの1つが、第2のコンタクト720のそれぞれのコンタクトフィンガ724の間にあることを示す。他のパターンとして挙げられるのは、第1のコンタクトリングのC個のコンタクトフィンガの群が、互いに直接隣接して配置され、他の群により空間で区切られ、第2のコンタクトリングのD個のコンタクトフィンガの群が、互いに直接隣接して配置され、空間で区切られるもので、CおよびDは、1より大きい整数である。いくつかの例では、C=Dである。他の例では、C<>Dであり、幅は可変である。例えば、C=2およびD=1であり、D個のコンタクトフィンガの幅がC個のコンタクトフィンガの2倍である。
ここで図8A~8Dを参照すると、組合せ型コンタクトフィンガの形状のバリエーションが示されている。図8Aでは、コンタクトフィンガ810は、下方向の第1の屈曲部812、上方向の第2の屈曲部814、および径方向の内端部816を含む。図8Bでは、コンタクトフィンガ820は、下方向の第1の屈曲部822、上方向の第2の屈曲部824、および径方向の内端部826を含む。コンタクトフィンガ820の端部は、(図8Aと比較して)より丸みを帯びており、基板への食い込みによる基板への損傷、および/またはその後に続く亀裂を低減する。
図8Cでは、コンタクトフィンガ830は、下方向の第1の屈曲部832、上方向の第2の屈曲部834、下方向の第3の屈曲部835、および径方向の内端部816を含む。第3の屈曲部835は、同様に基板への食い込みによる基板への損傷、および/またはその後に続く亀裂を低減する、滑らかな接触面を提供する。図8Dでは、コンタクトフィンガ840は、下方向の第1の屈曲部842、上方向の第2の屈曲部844、および径方向の内端部816を含む。屈曲部の角度を変えることによって(特に第1の屈曲部842)、コンタクトフィンガの負荷および基板への圧力を変化させる。
ここで図9A~9Cを参照すると、組合せ型コンタクトフィンガの周方向の幅を変えて、コンタクトフィンガの負荷を調整できる。標準的な周方向の幅と比較して、周方向の幅がより大きくなると、負荷がより大きくなるが、より幅が小さいと、負荷がより小さくなる(同じ材料および厚さを想定した場合)。
ここで図10Aおよび10Bを参照すると、コンタクトフィンガの径方向の内端部の形状を変化できる。コンタクトフィンガ1020は、第1の屈曲部1022、第2の屈曲部1024、および径方向の内端部1026を含む。径方向の内端部1026は、「V」字型の形状を有する。「V」字型の外形の屈曲部により、基板への接触圧が増加する。
ここで図11A~11Cを参照すると、異なる組合せ型コンタクトフィンガの形状による影響および基板表面にかかる力が示されている。コンタクトフィンガの第2の屈曲部の位置および角度が、接触力への大きな影響を有し得る。図11Aでは、カップ1110は底面1112およびリップシール1114を含む。コンタクトフィンガ1120はリップシール1114上に支持され、第1の屈曲部1122、第2の屈曲部1124、および径方向の内端部1126を含む。見られるように、コンタクトフィンガ1120は、コンタクトフィンガ1120の第2の屈曲部1124から径方向の内端部1126の有効長L1を有するばねとして機能する。
図11Bでは、コンタクトフィンガ1140はリップシール1114上に支持され、第1の屈曲部1142、第2の屈曲部1144、および径方向の内端部1146を含む。見られるように、コンタクトフィンガ1140は、コンタクトフィンガ1140の第2の屈曲部1144から径方向の内端部1146の有効長L2を有するばねとして作用する。見られるように、ばねの有効長は、基板への衝撃力を変化させる。より具体的には、コンタクトフィンガの第2の屈曲部の位置および角度は、接触力を変化させる。
図11Cでは、コンタクトフィンガ1150は、カップ1154のリップシール1152上に支持される。コンタクトフィンガ1150は、第1の屈曲部1152、第2の屈曲部1154、および径方向の内端部1156を含む。コンタクトフィンガ1150が基板と電気的な接触を形成するとき、より平坦なコンタクト/第2の屈曲部1154のより浅い角度により、基板にかかる力が低減され、亀裂が生じる可能性を最小限にする。より平坦なコンタクトは、ウェハを固定するために必要な圧力が少なくなり、それによってウェハがリップシールに貼り付く傾向を低減する。
ここで図12A~12Cを参照すると、コンタクトの本体は、連続した環状リング、または組み合わせて環状リングを形成する、弓状部分の群であってもよい。他の例では、コンタクトリングは、それぞれ360°/AにわたるA個の部分に区分されてもよく、Aは1以上の整数である。図12Bでは、A=2であり、コンタクトリング部分は180°にわたる。図12Cでは、A=4であり、コンタクトリング部分は90°にわたる。他の例では、A=3でコンタクトリング部分は120°にわたり、A=5でコンタクトリング部分は72°にわたる、などである。
ここで図13A~14Cを参照すると、積層型コンタクトフィンガを含むコンタクトのさらなる構成が示される。図13A~13Cでは、より短いコンタクトフィンガ716は、より長いコンタクトフィンガ530よりも数が少なく、一部のより長いコンタクトフィンガ530のみと整列し、またその上部に積層されている。図14A~14Cでは、より短いコンタクトフィンガ716は、より長いコンタクトフィンガ530と数が等しく、より長いコンタクトフィンガ530と整列し、またその上部に積層されている。
図13A~13Cにおいて、図13Aは図7Aと同様であり、図13Bは図5Bと同様である。図13Aでは、第1のコンタクト710は、外側部分712および内側部分714を含む。コンタクトフィンガ716は内側に伸びており、空間718によって区切られている。図13Bでは、第2のコンタクト500は、外側部分510と、外側部分510から径方向内側に伸びている内側部分514を含む。内側部分514は、径方向内側に突出しているコンタクトフィンガ530を含む。第2のコンタクト500の内側部分514はコンタクトフィンガ530を含むが、コンタクトフィンガ530を外側部分510に配置してもよい。コンタクトフィンガ716は、コンタクトフィンガ530よりも長さが短い。コンタクトフィンガ716と530は、同じ幅を有する。コンタクトフィンガ716の数は、コンタクトフィンガ530の数よりも少ない。例えば、コンタクトフィンガ716の数とコンタクトフィンガ530の数の比は、1:2、1:3などであってもよい。
図13Cでは、コンタクトフィンガ716と530の間の比1:Nに応じて(Nは1より大きい整数である)、より短いコンタクトフィンガ716が、より長いコンタクトフィンガ530の一部のみと整列し、またその上部に積層されている。第1のコンタクト710が第2のコンタクト500の上に重なる形で配置されており、コンタクトフィンガ716が、より長いコンタクトフィンガ530と整列し、またその上部に積層されている。
図14A~14Cにおいて、図14Aは、第1のコンタクト711が、空間718によって区切られていないコンタクトフィンガ716を含む点で、図13Aと異なっている。その他のすべての点では、第1のコンタクト711は第1のコンタクト710と同様である。図14Bは図13Bと同様であるので、簡潔にするため再び説明はしない。より短いコンタクトフィンガ716は、より長いコンタクトフィンガ530よりも、やはり長さが短い。コンタクトフィンガ716および530は、やはり同じ幅を有する。しかし、コンタクトフィンガ716の数は、コンタクトフィンガ530の数と等しい。すなわち、コンタクトフィンガ716の数とコンタクトフィンガ530の数との比は1:1である。
図14Cでは、それぞれ、より短いコンタクトフィンガ716がより長いコンタクトフィンガ530と整列し、またその上部に積層されている。それぞれ、第1のコンタクト711が第2のコンタクト500の上に重なる形で配置されており、コンタクトフィンガ716が、より長いコンタクトフィンガ530と整列し、またその上部に積層されている。
図15は、図7Dと類似しているが、コンタクトフィンガ530がシード層214に電気的接触を提供し、コンタクトフィンガ716がキャリア基板418と接触して、めっき処理の後にシールを破るのを助ける。図7Dを参照して上に記載したように、重畳型コンタクトは、カップ中に組み込まれるとき、互いの上に重ねられ固定された、独立部品のままであってもよい。あるいは、重畳型の部品は、スポット溶接、接着、または他の手段を用いて恒久的に互いに付着させてもよい。
前述の説明は、本質的に単に例示的であり、本開示、その適用、または使用を限定する意図は全くない。本開示の広範な教示は、様々な形態で実施可能である。したがって、本開示は具体的な例を含むが、図面、明細書、および以下の特許請求の範囲を検討すると他の変更態様が明白となるので、本開示の真の範囲は、そのような例に限定されるべきでない。方法における1つまたは複数のステップは、本開示の原理を変更することなく、異なる順序で(または同時に)実行してもよいことを理解されたい。さらに、各実施形態は特定の特徴を有するものとして上記に説明されているが、本開示のいずれかの実施形態に関して説明したこれらの特徴のいずれか1つまたは複数を、他の実施形態において実施すること、および/または、他の実施形態のいずれかの特徴と組み合わせることが(たとえそのような組み合わせが明示的に説明されていなくても)可能である。言い換えれば、説明された実施形態は相互に排他的ではなく、1つまたは複数の実施形態を互いに入れ替えることは本開示の範囲に含まれる。
要素間(例えば、モジュール間、回路要素間、半導体層間など)の空間的および機能的関係は、「連結された」、「係合された」、「結合した」、「隣接した」、「隣に」、「上部に」、「上に」、「下に」、および「配置された」などの様々な用語を使用して説明される。また、上記開示において、第1の要素と第2の要素との間の関係が説明されるとき、「直接」であると明示的に説明されない限り、その関係は、第1の要素と第2の要素との間に他の介在要素が存在しない直接的な関係の可能性がある。ただし、第1の要素と第2の要素との間に1つまたは複数の介在要素が(空間的または機能的に)存在する間接的な関係の可能性もある。本明細書で使用する場合、A、B、およびCの少なくとも1つという表現は、非排他的論理ORを使用した論理(AまたはBまたはC)の意味で解釈されるべきであり、「Aの少なくとも1つ、Bの少なくとも1つ、およびCの少なくとも1つ」の意味で解釈されるべきではない。
Claims (20)
- 基板めっきシステムにおいて基板への電気接続を提供するコンタクトであって、
弓形状を有する本体であって、前記本体の弓形状は、前記基板めっきシステムのリップシールおよびカップの上に配置された基板の少なくとも一部の形状に適合するよう構成されている本体と、
前記本体から第1の距離伸びている複数の第1のコンタクトフィンガと、
前記本体から第2の距離伸びている複数の第2のコンタクトフィンガと
を備え、
前記第1の距離は、前記第2の距離よりも大きい、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガは、めっき処理の間、キャリア基板に接合された基板の上に配置されたシード層に接触するように構成されている、コンタクト。 - 請求項2に記載のコンタクトであって、
前記複数の第2のコンタクトフィンガは、めっき処理の間、前記基板の径方向外縁部から外側の位置で、前記キャリア基板と接触するように構成されている、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガのうちの1つは、前記複数の第2のコンタクトフィンガのうちの1つと交互になっている、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガのうちP個が互いに直接隣接して配置され、前記複数の第2のコンタクトフィンガのうちQ個が互いに直接隣接して配置されており、
PとQは、1以上の整数である、コンタクト。 - 請求項5に記載のコンタクトであって、
PとQは、1以上20未満である、コンタクト。 - 請求項5に記載のコンタクトであって、
Pは、Qより大きい、コンタクト。 - 請求項5に記載のコンタクトであって、
Qは、Pより大きい、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記第1の距離および前記第2の距離とは異なる第3の距離伸びている、複数の第3のコンタクトフィンガを、さらに備える、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガと前記複数の第2のコンタクトフィンガの間に配置される、複数の「U」字型の切り欠き部を、さらに備える、コンタクト。 - 請求項10に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガは、その径方向外側の端部で連結している、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガのうちの少なくとも1つの径方向内側の端部は、「V」字型の外形を有する、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記第1の距離は、0.6mm~4.2mmの範囲であり、
前記第2の距離は、0.2mm~1.0mmの範囲である、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記第1のコンタクトフィンガは、0.001インチ~0.0045インチの範囲の厚さを有し、
前記第2のコンタクトフィンガは、0.0035インチ~0.007インチの範囲の厚さを有する、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
前記コンタクトの本体は、環状である、コンタクト。 - 請求項1に記載のコンタクトであって、
N個の前記本体を備え、
前記N個は、それぞれ360°/Nにわたり、
前記N個は、前記リップシールの外周の周囲に連続して配置されている、コンタクト。 - 基板めっきシステムにおいて基板への電気接続を提供するコンタクトであって、
弓形状を有する第1の本体であって、
前記第1の本体から第1の距離伸びている複数の第1のコンタクトフィンガと、
選択された前記複数の第1のコンタクトフィンガの間に配置された複数の第1の空間と
を含む第1の本体と、
弓形状を有する第2の本体であって、
前記第2の本体から第2の距離伸びている複数の第2のコンタクトフィンガと、
選択された前記複数の第1のコンタクトフィンガの間に配置された複数の第2の空間と
を含む第2の本体と、を備え、
前記第2の距離は、前記第1の距離よりも大きく、
前記第1の本体と前記第2の本体とは、前記複数の第2の空間に整列した前記複数の第1のコンタクトフィンガと、前記複数の第1の空間に整列した前記複数の第2のコンタクトフィンガと重なるように構成されている、コンタクト。 - 請求項17に記載のコンタクトであって、
前記複数の第2のコンタクトフィンガは、キャリア基板に接合された基板のシード層に接触するように構成されている、コンタクト。 - 請求項18に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガは、前記基板から径方向外側で、前記キャリア基板に接触するように構成されている、コンタクト。 - 請求項17に記載のコンタクトであって、
前記複数の第1のコンタクトフィンガは、前記基板の径方向外縁部から外側で、シード層に接触するように構成されている、コンタクト。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202063018039P | 2020-04-30 | 2020-04-30 | |
US63/018,039 | 2020-04-30 | ||
PCT/US2021/026782 WO2021221887A1 (en) | 2020-04-30 | 2021-04-12 | Blended contact fingers for preventing cracks during thin substrate handling |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023524488A true JP2023524488A (ja) | 2023-06-12 |
Family
ID=78373849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022566326A Pending JP2023524488A (ja) | 2020-04-30 | 2021-04-12 | 薄型基板ハンドリングにおける亀裂防止のための組合せ型コンタクトフィンガ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230175161A1 (ja) |
JP (1) | JP2023524488A (ja) |
KR (1) | KR20230005910A (ja) |
CN (1) | CN115485421A (ja) |
TW (1) | TW202208698A (ja) |
WO (1) | WO2021221887A1 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6802947B2 (en) * | 2001-10-16 | 2004-10-12 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for electro chemical plating using backside electrical contacts |
JP5237924B2 (ja) * | 2008-12-10 | 2013-07-17 | ノベルス・システムズ・インコーポレーテッド | ベースプレート、及び電気メッキ装置 |
CN104272438B (zh) * | 2012-03-28 | 2018-01-12 | 诺发系统公司 | 用于清洁电镀衬底保持器的方法和装置 |
US10113245B2 (en) * | 2016-03-24 | 2018-10-30 | Applied Materials, Inc. | Electroplating contact ring with radially offset contact fingers |
CN208869693U (zh) * | 2018-08-22 | 2019-05-17 | 深圳市创智成功科技有限公司 | 导电环、基于其的供电装置及基于供电装置的电镀治具 |
-
2021
- 2021-04-12 KR KR1020227041431A patent/KR20230005910A/ko active Search and Examination
- 2021-04-12 JP JP2022566326A patent/JP2023524488A/ja active Pending
- 2021-04-12 WO PCT/US2021/026782 patent/WO2021221887A1/en active Application Filing
- 2021-04-12 US US17/921,930 patent/US20230175161A1/en active Pending
- 2021-04-12 CN CN202180032145.8A patent/CN115485421A/zh active Pending
- 2021-04-30 TW TW110115709A patent/TW202208698A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202208698A (zh) | 2022-03-01 |
WO2021221887A1 (en) | 2021-11-04 |
CN115485421A (zh) | 2022-12-16 |
WO2021221887A9 (en) | 2022-12-01 |
KR20230005910A (ko) | 2023-01-10 |
US20230175161A1 (en) | 2023-06-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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