JP2023148120A - はみ出し部除去機構及びエキスパンド装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ダイアタッチフィルムがデバイスに付着することを抑制することができるとともに、拡張後のシートの弛みを除去することができること。【解決手段】はみ出し部除去機構60は、ウェーハユニット200を保持する保持ユニット61と、保持ユニット61で保持されたウェーハユニット200のはみ出し部212に粘着層が積層された剥離テープ300を送り出す送り出しユニット63と、送り出しユニット63で送り出されてはみ出し部212のDAF202が粘着層に貼着した剥離テープ300を巻き取る巻き取りユニット64と、剥離テープ300の移動方向の送り出しユニット63と巻き取りユニット64との間に配置され、剥離テープ300の粘着層側をはみ出し部212に押しつけながら転動することではみ出し部212をシート203から剥離して剥離テープ300の粘着層に貼着させる剥離用ローラ622と、を備える。【選択図】図3

Description

本発明は、ダイアタッチフィルムを介してウェーハがシートに貼着されたウェーハユニットからダイアタッチフィルムのはみ出し部を除去するはみ出し部除去機構、及びウェーハユニットのシートを拡張するエキスパンド装置に関する。
実装基板にデバイスチップを実装する際にダイアタッチ材が広く利用されており、シート上にダイアタッチフィルムが形成されたツーインワン(2in1)と呼ばれるシートが販売されている。
シートに積層されたダイアタッチフィルム上にウェーハを位置づけて貼着する際の位置ずれを考慮してダイアタッチフィルムの直径はウェーハの直径よりも大きく形成されており、ウェーハが貼着された状態ではウェーハの外周にダイアタッチフィルムのはみ出し部が形成される。
そして、シートを拡張してダイアタッチフィルムを破断する際に、このはみ出し部のダイアタッチフィルムがシートから剥離し、ウェーハが分割されて形成されたチップの表面に付着する。半導体デバイスウェーハではデバイスの表面にダイアタッチフィルムが付着するとデバイスを損傷したり後の実装工程で実装不良の要因となるため、問題となる。
そこで、はみ出し部のダイアタッチフィルムを押止して飛散を防止するエキスパンド装置も提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2009-272502号公報
しかし、押止部材に貼着されたダイアタッチフィルムがエキスパンド装置内で浮遊してデバイス上に付着する等、完全にダイアタッチフィルムの破片の飛散を防止することが難しかった。また、エキスパンダの装置内に破断したはみ出し部のダイアタッチフィルムが付着すると意図しないタイミングで落下してエキスパンド装置内で浮遊しデバイスへの付着のおそれがあるため、改善が切望されていた。
一方、上記の如く予めウェーハユニットがフレームに装着されている場合はシートの拡張後にウェーハの外周とフレームの内周との間に拡張によって生成された弛みを除去するためにシートを加熱して収縮させている。
しかし、ダイアタッチフィルムは一般に熱硬化性樹脂からなり、はみ出し部がシート上に存在している状態で加熱してもはみ出し部の領域のシートが収縮せず、弛みが残存した状態ではウェーハが分割されたチップ同士が接触して損傷するおそれがある。
本発明の目的は、ダイアタッチフィルムがデバイスに付着することを抑制することができるとともに、拡張後のシートの弛みを除去することができるはみ出し部除去機構及びエキスパンド装置を提供することである。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のはみ出し部除去機構は、ウェーハと、該ウェーハの裏面側に積層された該ウェーハよりも大きいサイズのダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介して該ウェーハが貼着されたシートと、からなるウェーハユニットにおいて該ウェーハの外周側にはみ出したダイアタッチフィルムのはみ出し部を該ウェーハユニットから除去するはみ出し部除去機構であって、ウェーハユニットを保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持されたウェーハユニットの該はみ出し部に対して、表面に粘着層が積層された剥離テープを送り出す送り出しユニットと、該送り出しユニットで送り出されて該はみ出し部のダイアタッチフィルムが該粘着層に貼着した該剥離テープを巻き取る巻き取りユニットと、該送り出しユニットと該巻き取りユニットとの間に配置され、該剥離テープの該粘着層側を該ウェーハユニットの該はみ出し部に押しつけながら該ウェーハユニットに対して相対的に転動することで該はみ出し部のダイアタッチフィルムを該シートから剥離して該剥離テープの該粘着層に貼着させる剥離用ローラと、を備えたことを特徴とする。
本発明のエキスパンド装置は、ウェーハと、該ウェーハの裏面側に積層された該ウェーハよりも大きいサイズのダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介して該ウェーハが貼着されたシートと、からなるウェーハユニットの該シートをエキスパンドするエキスパンド装置であって、該シートを拡張する拡張ユニットと、該シートを拡張する前にはみ出し部を該ウェーハユニットから除去するはみ出し部除去機構と、該はみ出し部除去機構で該はみ出し部が除去された該ウェーハユニットを該拡張ユニットへと搬送する搬送ユニットと、を備え、該はみ出し部除去機構は、該ウェーハユニットを保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された該ウェーハユニットに対して、表面に粘着層が積層された剥離テープを送り出す送り出しユニットと、該送り出しユニットで送り出されて該はみ出し部のダイアタッチフィルムが該粘着層に貼着した該剥離テープを巻き取る巻き取りユニットと、該送り出しユニットと該巻き取りユニットとの間に配置され、該剥離テープの該粘着層側を該ウェーハユニットの該はみ出し部に押しつけながら該はみ出し部上を転動することで該はみ出し部のダイアタッチフィルムを該剥離テープの該粘着層に貼着させて該シートから剥離する剥離用ローラと、を備えたことを特徴とする。
前記エキスパンド装置において、該剥離用ローラは、該ウェーハの半径方向に転動することを該ウェーハの円周方向に繰り返すことで該シートから該はみ出し部のダイアタッチフィルムを剥離しても良い。
本発明は、ダイアタッチフィルムがデバイスに付着することを抑制することができるとともに、拡張後のシートの弛みを除去することができるという効果を奏する。
図1は、実施形態1に係るエキスパンド装置の構成例を示す斜視図である。 図2は、実施形態1に係るエキスパンド装置の加工対象のウェーハユニットの一例を示す斜視図である。 図3は、実施形態1に係るはみ出し部除去機構の構成を模式的に一部断面で示す側面図である。 図4は、図3中のIV部を拡大して示す図である。 図5は、図3に示されたはみ出し部除去機構がウェーハユニットのはみ出し部を除去する状態を模式的に示す側面図である。 図6は、図5中のVI部を拡大して示す図である。 図7は、図3に示されたはみ出し部除去機構がウェーハユニットのはみ出し部を除去する際に、最初にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。 図8は、図7に示されたはみ出し部除去機構が最初にはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。 図9は、図8に示されたはみ出し部除去機構が次にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。 図10は、図9に示されたはみ出し部除去機構がはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。 図11は、図10に示されたはみ出し部除去機構が次にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。 図12は、図10に示されたはみ出し部除去機構がはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るエキスパンド装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るエキスパンド装置の構成例を示す斜視図である。図2は、実施形態1に係るエキスパンド装置の加工対象のウェーハユニットの一例を示す斜視図である。
実施形態1に係る図1に示すエキスパンド装置1は、図2に示すウェーハユニット200のシート203を拡張する(エキスパンドするともいう)装置である。ウェーハユニット200は、図2に示すように、ウェーハ201と、ダイアタッチフィルム(以下、DAFと記す)202と、シート203と、フレーム204とからなる。
実施形態1では、ウェーハ201は、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素又はSiC(炭化ケイ素)などを基板とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等である。ウェーハ201は、図2に示すように、表面205の互いに交差する複数の分割予定ライン206で区画された各領域にそれぞれデバイス207が形成されている。デバイス207は、例えば、IC(Integrated Circuit)、又はLSI(Large Scale Integration)等の集積回路、CCD(Charge Coupled Device)、又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサ、又はメモリ(半導体記憶装置)である。
ウェーハ201は、表面205の裏側の裏面208側から基板に対して透過性を有する波長のレーザ光線が分割予定ライン206に沿って照射されて、基板の内部に分割予定ライン206に沿って分割起点である改質層209(図2中に点線で示す)が形成されている。ウェーハ201は、改質層209を起点に個々のチップ210に分割される。なお、チップ210は、分割予定ライン206に沿って分割された基板の一部と、基板の表面に形成されたデバイス207とを備え、基板の裏面208に分割されたDAF202の一部が貼着されている。
なお、改質層209とは、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲のそれとは異なる状態になった領域のことを意味し、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域、及びこれらの領域が混在した領域等を例示できる。改質層209の機械的な強度は、基板の他の位置の機械的な強度よりも低い。
DAF202は、個々に分割されたチップ210を他のチップ又は基板等に固定するためのダイボンディング用の接着フィルムである。DAF202は、ウェーハ201の直径よりも大きい直径(サイズに相当)の円板状に形成されている。DAF202は、ウェーハ201の裏面208側に積層されている。また,DAF202は、ウェーハ201よりも大きい直径に形成されて、ウェーハ201の外周側にはみ出したはみ出し部212をウェーハ201の全周に亘って設けられている。
シート203は、DAF202を介してウェーハ201が貼着されている。シート203は、伸縮性を有する樹脂から構成され、加熱されると収縮する熱収縮性を有する。シート203は、ウェーハ201及びDAF202の直径よりもおおきい直径の円板状に形成され、かつ、伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された基材層と、基材層上に積層されかつウェーハ201に貼着するとともに伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された粘着層とを備える。
粘着層の表面は、DAF202が貼着され、DAF202を介してウェーハ201の裏面208が貼着される被貼着面である。実施形態1では、粘着層は、紫外線が照射されることで、硬化し、粘着力が低下する合成樹脂により構成されている。
実施形態1では、シート203は、予め被貼着面にDAF202が貼着されており、DAF202にウェーハ201の裏面208に貼着されることで、ウェーハ201の裏面208にDAF202を介して貼着される、所謂2in1と呼ばれるテープである。
フレーム204は、ウェーハ201及びDAF202の直径よりの内径が大きな円環状に形成されかつシート203の外周が貼着されている。
前述した構成のウェーハユニット200は、シート203の被貼着面に貼着されたDAF202にウェーハ201の裏面208が貼着され、シート203の外周にフレーム204が貼着されるなどして構成される。
図1に示す実施形態1に係るエキスパンド装置1は、ウェーハユニット200のシート203を拡張して、分割起点として改質層209が形成されたウェーハ201を分割予定ライン206に沿って個々のチップ210に分割するとともに、DAF202をチップ210毎に分割する装置である。エキスパンド装置1は、図1に示すように、装置本体2に設けられたカセットエレベータ3と、拡張ユニット10と、ヒートシュリンクユニット20と、洗浄ユニット30と、紫外線照射ユニット40と、搬送ユニット50と、ウェーハユニット200においてウェーハ201の外周側にはみ出したDAF202のはみ出し部212をウェーハユニット200から除去するはみ出し部除去機構60と、制御手段である制御ユニット100とを備える。
カセットエレベータ3は、装置本体2の水平方向と平行なY軸方向の一端に配置され、ウェーハユニット200を複数収容するカセット4が着脱自在に載置される。カセット4は、複数のウェーハユニット200を鉛直方向と平行なZ軸方向に間隔をあけて収容する。カセット4は、ウェーハユニット200を出し入れ自在な開口5を装置本体2のY軸方向の中央部に向けてカセットエレベータ3上に載置される。カセットエレベータ3は、カセット4をZ軸方向に昇降させる。
また、エキスパンド装置1は、カセット4に出し入れされるウェーハユニット200が仮置きされる一対の第1ガイドレール6と、一対の第2ガイドレール7とを備える。一対の第1ガイドレール6は、Y軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつY軸方向と直交するX軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第1ガイドレール6は、カセットエレベータ3に載置されるカセット4の開口5のX軸方向の両端とY軸方向に並ぶように、装置本体2のY軸方向の中央に配置されている。一対の第1ガイドレール6は、図示しない駆動機構によりX軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第1ガイドレール6は、カセット4に出し入れされるウェーハユニット200が載置され、駆動機構により互いに近付くとウェーハユニット200をX軸方向に位置決めする。
一対の第2ガイドレール7は、第1ガイドレール6から搬送ユニット50により搬送されてきたウェーハユニット200等が仮置きされるものである。一対の第2ガイドレール7は、Y軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつX軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第2ガイドレール7は、装置本体2のY軸方向の中央に配置され、第1ガイドレール6のX軸方向の隣りに配置されている。一対の第2ガイドレール7は、図示しない駆動機構によりX軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第2ガイドレール7は、第1ガイドレール6から搬送されてきたウェーハユニット200等が載置され、駆動機構により互いに近付くとウェーハユニット200をX軸方向に位置決めする。
搬送ユニット50は、カセット4と第1ガイドレール6上との間、第1ガイドレール6上と紫外線照射ユニット40との間、及び第1ガイドレール6上とはみ出し部除去機構60との間でウェーハユニット200を搬送する第1搬送ユニット51と、第1ガイドレール6と第2ガイドレール7との間及び第2ガイドレール7とヒートシュリンクユニット20と、ヒートシュリンクユニット20と洗浄ユニット30との間、洗浄ユニット30と第1ガイドレール6上との間でウェーハユニット200を搬送する第2搬送ユニット52と、第2ガイドレール7と拡張ユニット10との間でウェーハユニット200を搬送する第3搬送ユニット53とを備える。搬送ユニット50は、第1搬送ユニット51と第2搬送ユニット52と第3搬送ユニット53とを備えることにより、はみ出し部除去機構60によりはみ出し部212が除去されたウェーハユニット200を拡張ユニット10へと搬送することとなる。
拡張ユニット10は、一対の第2ガイドレール7のY軸方向の一方側の隣に配置されている。拡張ユニット10は、紫外線照射ユニット40によりシート203に紫外線が照射され、はみ出し部除去機構60によりDAF202のはみ出し部212が除去されたウェーハユニット200のシート203を拡張して、改質層209を起点にウェーハ201を個々のチップ210に分割するものである。拡張ユニット10は、装置本体2の一対の第2ガイドレール7のY軸方向の一方側の隣に配置された内側が冷却される冷却チャンバー14(図1に示す)内に収容されている。
ヒートシュリンクユニット20は、一対の第2ガイドレール7のY軸方向の他方側の隣に配置されている。ヒートシュリンクユニット20は、拡張ユニット10により拡張されることでシート203のウェーハ201の外周とフレーム204の内周との間に生じた弛みを加熱、収縮させるものである。
洗浄ユニット30は、拡張ユニット10によりシート203が拡張され、ヒートシュリンクユニット20により弛みが加熱、収縮されたウェーハユニット200の主にウェーハ201を洗浄するものである。洗浄ユニット30は、一対の第1ガイドレール6の下方に配置されかつウェーハユニット200のシート203を介してウェーハ201を吸引保持するスピンナーテーブル31と、スピンナーテーブル31に吸引保持されたウェーハ201の表面205に洗浄水を供給する図示しない洗浄水供給ノズルとを備える。
洗浄ユニット30は、一対の第1ガイドレール6同士が離れると、第2搬送ユニット52によりヒートシュリンクユニット20により弛みが加熱され、収縮されたウェーハユニット200がスピンナーテーブル31上に載置される。洗浄ユニット30は、スピンナーテーブル31をZ軸方向と平行な軸心回りに回転しながら洗浄水供給ノズルから洗浄水をウェーハ201の表面205に供給して、ウェーハ201を洗浄する。
紫外線照射ユニット40は、カセット4から搬出され、シート203が拡張される前のウェーハユニット200のシート203に紫外線を照射して、粘着層を硬化させて、粘着層の粘着力を低下させるものである。紫外線照射ユニット40は、装置本体2のY軸方向の他端に配置され、第1ガイドレール6のY軸方向の一方側の隣に配置されている。
紫外線照射ユニット40は、第1搬送ユニット51により第1ガイドレール6上のウェーハユニット200が搬入され、搬入されてきたウェーハユニット200のシート203に所定時間紫外線を照射する。紫外線照射ユニット40は、第1搬送ユニット51により紫外線を照射したウェーハユニット200が第1ガイドレール6上に搬出される。
また、紫外線照射ユニット40は、装置本体2に設けられたエレベータ8によりZ軸方向に昇降させる。紫外線照射ユニット40は、エレベータ8により昇降されるケース41内に収容される。ケース41は、図示しない搬入出口を通してウェーハユニット200が搬入出される。
はみ出し部除去機構60は、拡張ユニット10によりシート203を拡張する前に、DAF202のはみ出し部212を紫外線照射ユニット40によりシート203に紫外線が照射されたウェーハユニット200から除去するものである。実施形態1では、はみ出し部除去機構60は、紫外線照射ユニット40を収容しかつエレベータ8により昇降されるケース41上に設置されている。次に、実施形態1に係るはみ出し部除去機構60を図面に基づいて説明する。
図3は、実施形態1に係るはみ出し部除去機構の構成を模式的に一部断面で示す側面図である。図4は、図3中のIV部を拡大して示す図である。図5は、図3に示されたはみ出し部除去機構がウェーハユニットのはみ出し部を除去する状態を模式的に示す側面図である。図6は、図5中のVI部を拡大して示す図である。図7は、図3に示されたはみ出し部除去機構がウェーハユニットのはみ出し部を除去する際に、最初にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。図8は、図7に示されたはみ出し部除去機構が最初にはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。図9は、図8に示されたはみ出し部除去機構が次にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。図10は、図9に示されたはみ出し部除去機構がはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。図11は、図10に示されたはみ出し部除去機構が次にはみ出し部の一部を除去する状態を模式的に示す平面図である。図12は、図10に示されたはみ出し部除去機構がはみ出し部の一部を除去した状態を模式的に示す平面図である。
はみ出し部除去機構60は、図1及び図3に示すように、保持ユニット61と、はみ出し部212をウェーハユニット200から除去する除去ユニット62と、昇降ユニット65と、回動ユニット66と、水平移動ユニット67とを備える。
保持ユニット61は、ケース41の上面に設置され、シート203が拡張される前のウェーハユニット200を保持するものである。保持ユニット61は、フレーム204の外形よりも直径が大径な円板形状であり、ステンレス鋼等の金属からなる円板状の枠体611と、ポーラスセラミック等の多孔質材で構成されかつ枠体611により囲繞された円板状の吸着部612とを備える。
枠体611と吸着部612の上面は、同一平面上に配置されて、ウェーハユニット200を吸引保持する保持面613を構成している。吸着部612は、フレーム204の外径と同径である。吸着部612は、枠体611等に形成された吸引路614を介してエジェクタ等の図示しない吸引源に接続されている。
保持ユニット61は、保持面613に第1搬送ユニット51によりシート203が拡張される前でかつ紫外線照射ユニット40によりシート203に紫外線が照射されたウェーハユニット200のシート203を介してウェーハ201の裏面208側が載置される。保持ユニット61は、吸引源により保持面613の吸着部612が吸引されることで、ウェーハ201の裏面208側を保持面613に吸引保持する。
除去ユニット62は、図3に示すように、ユニット本体621と、送り出しユニット63と、巻き取りユニット64と、剥離用ローラ622と、複数の案内ローラ623とを備える。ユニット本体621は、両表面がZ軸方向と平行でかつ一方の表面が保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の径方向と平行に配置されている。
送り出しユニット63は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200に対して剥離テープ300を送り出すものである。なお、送り出しユニット63によりウェーハユニット200に対して送り出される剥離テープ300は、帯状に形成され、幅がウェーハユニット200のウェーハ201の直径よりも小さく形成されている。剥離テープ300は、図4に示すように、可撓性を有し非粘着性の合成樹脂により構成された基材層301と、基材層301の表面に積層されかつ可撓性と粘着性の合成樹脂により構成された粘着層302とを備える。このように、剥離テープ300は、基材層301の表面に粘着層302が積層されている。
送り出しユニット63は、実施形態1では、ユニット本体621の上端部に配置され、外周面に剥離テープ300を巻き付けた送り出しローラ631を備える。送り出しローラ631は、粘着層302を外周側に位置付けて、剥離テープ300を巻き付けている。送り出しローラ631は、ユニット本体621の一方の表面上に回転自在に配置され、外観が円柱状に形成され、図示しないモータにより軸心回りに回転される。送り出しローラ631の軸心は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の外縁の接線方向と平行である。送り出しユニット63は、送り出しローラ631が軸心回りに回転することで、剥離テープ300を保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200に対して剥離テープ300を送り出す。
巻き取りユニット64は、送り出しユニット63で送り出されて、はみ出し部212のDAF202が粘着層302に貼着した剥離テープ300を巻き取るものである。巻き取りユニット64は、実施形態1では、送り出しユニット63よりも下方でかつユニット本体621の上端部に配置され、外周面にはみ出し部212のDAF202が粘着層302に貼着した剥離テープ300を巻き付ける巻き取りローラ641を備える。
巻き取りローラ641は、粘着層302を外周側に位置付けて、剥離テープ300を巻き付ける。巻き取りローラ641は、ユニット本体621の一方の表面上に回転自在に配置され、外観が円柱状に形成され、図示しないモータにより軸心回りに回転される。巻き取りローラ641の軸心は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の外縁の接線方向及び送り出しローラ631の軸心と平行である。巻き取りユニット64は、巻き取りローラ641が軸心回りに回転することで、送りユニットから保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200に対して送り出された剥離テープ300を巻き取る。
剥離用ローラ622は、剥離テープ300の移動方向における送り出しユニット63と巻き取りユニット64との間に配置されている。実施形態1では、剥離用ローラ622は、図5に示すように、ユニット本体621の下端部でかつ保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の外周側のDAF202のはみ出し部212とZ軸方向に対向する位置に配置されている。
剥離用ローラ622が、ユニット本体621の一方の表面上に回転自在に配置され、外観が円柱状に形成され、軸心回りに回転自在にユニット本体621に支持されている。剥離用ローラ622の軸心は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の外縁の接線方向、送り出しローラ631の軸心及び巻き取りローラ641の軸心と平行である。剥離用ローラ622は、送り出しユニット63から送り出されて巻き取りユニット64により巻き取られる剥離テープ300を下方に通している。
剥離用ローラ622は、ユニット本体621が下降されることで、図5に示すように、送り出しユニット63から送り出されて巻き取りユニット64により巻き取られる剥離テープ300の粘着層302を保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のDAF202のはみ出し部212に押しつけられる。剥離用ローラ622は、水平移動ユニット67により保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の径方向に移動されることで、ウェーハユニット200に対して相対的にははみ出し部212上を転動する。
剥離用ローラ622は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のDAF202のはみ出し部212に押しつけられ、ウェーハユニット200に対して相対的にはみ出し部212上を転動されることにより、図6に示すように、はみ出し部212のDAF202をシート203から剥離して剥離テープ300の粘着層302に貼着させて、粘着層302にDAF202のはみ出し部212が貼着した剥離テープ300が巻き取りユニット64の巻き取りローラ641に巻き取らせる。
複数の案内ローラ623は、剥離テープ300の移動方向における送り出しユニット63と巻き取りユニット64との間に配置されている。実施形態1では、案内ローラ623は、剥離テープ300の移動方向における送り出しユニット63と剥離用ローラ622との間に2つ、剥離テープ300の移動方向における剥離用ローラ622と巻き取りユニット64との間に1つ設けられている。案内ローラ623は、ユニット本体621の一方の表面上に回転自在に配置され、外観が円柱状に形成され、軸心回りに回転自在にユニット本体621に支持されている。案内ローラ623の軸心は、保持ユニット61に吸引保持されたウェーハユニット200のウェーハ201の外縁の接線方向、送り出しローラ631の軸心、巻き取りローラ641の軸心及び剥離用ローラ622の軸心と平行である。案内ローラ623は、外周面に剥離テープ300の基材層301を接触させて、剥離テープ300に張力を付与している。
昇降ユニット65は、除去ユニット62をZ軸方向に沿って昇降させる。回動ユニット66は、昇降ユニット65毎、除去ユニット62を保持ユニット61のZ軸方向と平行な軸心回りに回転させる。水平移動ユニット67は、除去ユニット62を保持ユニット61の保持面613の径方向に移動させる。
前述した構成のはみ出し部除去機構60は、保持ユニット61の保持面613に紫外線照射ユニット40によりシート203に紫外線が照射され、シート203が拡張される前のウェーハユニット200が載置される。はみ出し部除去機構60は、保持ユニット61の保持面613にウェーハユニット200を吸引保持する。はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を下降させて、図5及び図7に示すように、剥離用ローラ622の外周面に当接した剥離テープ300の粘着層をはみ出し部212のウェーハ201寄りの内縁部に押し付ける。
はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を保持面613の径方向の外周側に移動させて、剥離用ローラ622をはみ出し部212上で転動させ、除去ユニット62の径方向の移動に連動して送り出しローラ631を剥離テープ300を送り出す方向に回転させるとともに巻き取りローラ641を剥離テープ300を巻き取る方向に回転する。はみ出し部除去機構60は、剥離用ローラ622の転動によりはみ出し部212を剥離テープ300の粘着層302に貼着してシート203から除去するとともに、送り出しローラ631及び巻き取りローラ641の回転により粘着層302にはみ出し部212を貼着した剥離テープ300を巻き取りローラ641に巻き取る。
はみ出し部除去機構60は、図8に示すように、剥離用ローラ622がはみ出し部212の外縁部上に位置すると、除去ユニット62の径方向の移動を停止する。こうして、はみ出し部除去機構60は、剥離用ローラ622が上方で転動したはみ出し部212の一部を除去する。はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を上昇させ、除去ユニット62を軸心回りに回転させて、除去ユニット62を剥離用ローラ622の長さ程ウェーハユニット200に対して周方向に移動させて、除去ユニット62を径方向の内周側に移動させる。
はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を下降させて、図9に示すように、剥離用ローラ622の外周面に当接した剥離テープ300の粘着層をはみ出し部212のウェーハ201寄りの内縁部に押し付ける。はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を保持面613の径方向の外周側に移動させて、図10に示すように、剥離用ローラ622をはみ出し部212上で転動させ、先程と同様に、剥離用ローラ622が上方で転動したはみ出し部212の一部を除去する。
はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を上昇させ、除去ユニット62を軸心回りに回転させて、除去ユニット62を剥離用ローラ622の長さ程ウェーハユニット200に対して周方向に移動させて、除去ユニット62を径方向の内周側に移動させる。はみ出し部除去機構60は、除去ユニット62を下降させて、図11に示すように、剥離用ローラ622の外周面に当接した剥離テープ300の粘着層をはみ出し部212のウェーハ201寄りの内縁部に押し付け、除去ユニット62を保持面613の径方向の外周側に移動させて、図12に示すように、剥離用ローラ622をはみ出し部212上で転動させ、先程と同様に、剥離用ローラ622が上方で転動したはみ出し部212の一部を除去する。こうして、はみ出し部除去機構60は、剥離用ローラ622が保持面613即ちウェーハ201の径方向に転動することをウェーハ201の周方向に複数繰り返すことでシート203からはみ出し部212のDAF202を剥離する。
制御ユニット100は、エキスパンド装置1の上述した構成要素、即ち、少なくとも加熱手段38等を制御して、ウェーハ201に対する加工動作をエキスパンド装置1に実施させるものである。なお、制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、エキスパンド装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してエキスパンド装置1の上述した構成要素に出力する。
制御ユニット100は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される図示しない表示ユニットと、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる図示しない入力ユニットとに接続されている。入力ユニットは、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。
以上説明したように、実施形態1に係るはみ出し部除去機構60及びエキスパンド装置1は、シート203が拡張される前にウェーハユニット200のDAF202のはみ出し部212をシート203上から除去するために、シート203を拡張する際に、DAF202のはみ出し部212がシート203から剥離することを抑制できる。また、実施形態1に係るはみ出し部除去機構60及びエキスパンド装置1は、シート203が拡張される前にウェーハユニット200のDAF202のはみ出し部212をシート203上から除去するために、拡張後のシート203の弛みを加熱する際に、DAF202のはみ出し部212シート203の収縮を妨げることを抑制することができる。その結果、実施形態1に係るはみ出し部除去機構60及びエキスパンド装置1は、DAF202がデバイス207に付着することを抑制することができるとともに、拡張後のシート203の弛みを除去することができるという効果を奏する。
なお、仮に、剥離用ローラ622の軸心をウェーハ201の半径方向に位置づけて、剥離用ローラ622をウェーハ201の外周縁に沿って転動させることではみ出し部212を除去しようとすると、はみ出し部212の幅に応じて剥離用ローラ622や剥離テープ300の幅を設定する必要があり、幅の異なる複数の剥離用ローラ622や剥離テープ300を準備、管理する手間が生じる。また、剥離用ローラ622をウェーハ201の外周縁に沿って転動させることではみ出し部212を除去しようとすると、剥離用ローラ622の内側と外側で移動距離が異なることから剥離時にDAF202に撚れが生じて上手く剥離ができない。しかしながら、実施形態1に係るはみ出し部除去機構60及びエキスパンド装置1は、剥離用ローラ622が保持面613即ちウェーハ201の径方向に転動することをウェーハ201の周方向に複数繰り返すことでシート203からはみ出し部212のDAF202を剥離するので、幅の異なる複数の剥離用ローラ622や剥離テープ300を準備、管理する手間が生じないとともに、DAF202に撚れが生じることなくはみ出し部212を除去することができる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態1では、分割起点として改質層209を形成したが、本発明では、これに限定されることなく、分割起点としてレーザ加工溝又は切削溝を形成しても良い。また、本発明では、カセット4内に予め紫外線が照射されたウェーハユニット200を収容しておき、エキスパンド装置1が、紫外線照射ユニット40を備えていなくても良い。
実施形態1では、はみ出し部除去機構60及びエキスパンド装置1は、モータでローラ631,641を回転しているが、本発明では、これに限定することなく、モータを用いることなく、送り出しローラ631と巻き取りローラ641を歯車とベルト等の連動機構を用いて互いに連動して回転させる構成としても良い。この場合、例えば、連動機構は、送り出しローラ631と巻き取りローラ641それぞれの軸心に歯車を取り付け、これら歯車の外周にベルトを掛け渡して、送り出しローラ631が剥離テープ300を送り出すとともに巻き取りローラ641が剥離テープ300を巻き取る方向にこれらのローラ631,641を連動して回転させる。この場合、はみ出し部除去機構60は、剥離用ローラ622が剥離テープ300の粘着層302側をはみ出し部212に押しつけながらはみ出し部212の内縁から外縁に向かって径方向に外周側に移動されることで、はみ出し部212を貼着しながら転動する。そして、はみ出し部除去機構60は、転動する剥離用ローラ622が剥離テープ300を送り出しローラ631から引っ張ることで送り出しローラ631が剥離テープ300を送り出す方向に回転し、その回転力が歯車及びベルト等の連動機構を介して巻き取りローラ641を回転させて、DAF202のはみ出し部212が貼着された剥離テープ300を巻き取りローラ641が巻き取る。
1 エキスパンド装置
10 拡張ユニット
50 搬送ユニット
60 はみ出し部除去機構
61 保持ユニット
63 送り出しユニット
64 巻き取りユニット
200 ウェーハユニット
201 ウェーハ
202 DAF(ダイアタッチフィルム)
203 シート
208 裏面
212 はみ出し部
300 剥離テープ
302 粘着層
622 剥離用ローラ

Claims (3)

  1. ウェーハと、該ウェーハの裏面側に積層された該ウェーハよりも大きいサイズのダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介して該ウェーハが貼着されたシートと、からなるウェーハユニットにおいて該ウェーハの外周側にはみ出したダイアタッチフィルムのはみ出し部を該ウェーハユニットから除去するはみ出し部除去機構であって、
    ウェーハユニットを保持する保持ユニットと、
    該保持ユニットで保持されたウェーハユニットの該はみ出し部に対して、表面に粘着層が積層された剥離テープを送り出す送り出しユニットと、
    該送り出しユニットで送り出されて該はみ出し部のダイアタッチフィルムが該粘着層に貼着した該剥離テープを巻き取る巻き取りユニットと、
    該送り出しユニットと該巻き取りユニットとの間に配置され、該剥離テープの該粘着層側を該ウェーハユニットの該はみ出し部に押しつけながら該ウェーハユニットに対して相対的に転動することで該はみ出し部のダイアタッチフィルムを該シートから剥離して該剥離テープの該粘着層に貼着させる剥離用ローラと、を備えたはみ出し部除去機構。
  2. ウェーハと、該ウェーハの裏面側に積層された該ウェーハよりも大きいサイズのダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介して該ウェーハが貼着されたシートと、からなるウェーハユニットの該シートをエキスパンドするエキスパンド装置であって、
    該シートを拡張する拡張ユニットと、
    該シートを拡張する前にはみ出し部を該ウェーハユニットから除去するはみ出し部除去機構と、
    該はみ出し部除去機構で該はみ出し部が除去された該ウェーハユニットを該拡張ユニットへと搬送する搬送ユニットと、を備え、
    該はみ出し部除去機構は、
    該ウェーハユニットを保持する保持ユニットと、
    該保持ユニットで保持された該ウェーハユニットに対して、表面に粘着層が積層された剥離テープを送り出す送り出しユニットと、
    該送り出しユニットで送り出されて該はみ出し部のダイアタッチフィルムが該粘着層に貼着した該剥離テープを巻き取る巻き取りユニットと、
    該送り出しユニットと該巻き取りユニットとの間に配置され、該剥離テープの該粘着層側を該ウェーハユニットの該はみ出し部に押しつけながら該はみ出し部上を転動することで該はみ出し部のダイアタッチフィルムを該剥離テープの該粘着層に貼着させて該シートから剥離する剥離用ローラと、を備えたエキスパンド装置。
  3. 該剥離用ローラは、該ウェーハの半径方向に転動することを該ウェーハの円周方向に繰り返すことで該シートから該はみ出し部のダイアタッチフィルムを剥離する、請求項2に記載のエキスパンド装置。
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