JP2023140839A - 液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド - Google Patents

Abstract

【課題】吐出信頼性が良好な液体吐出ヘッドを提供する。【解決手段】第１の面に開口する液体の供給口と、第１の面とは反対側の第２の面に開口する液体の吐出口と、供給口と吐出口とが第１の面及び第２の面と交差する方向に直線的に連通しないように供給口と吐出口とをつなぐ流路と、を備える基板を備えた液体吐出ヘッドの製造方法であって、基板の表面にパーフルオロポリエーテルからなる撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、撥液膜のうち第２の面に形成された撥液膜の表面を保護部材で覆うマスキング工程と、第１の面の側から流路を介して第２の面の側に向かってプラズマを発生させて撥液膜を除去するプラズマ処理工程と、を備え、プラズマ処理工程において、撥液膜のうちプラズマ処理工程後に基板の吐出口の内部に残る部分が、親水化される。【選択図】図１

Description

本発明は、複数の基板を接合させた基板接合体、および、吐出エネルギー発生素子を利用して、液体を吐出させて被記録媒体に記録を行う液体吐出ヘッドに関する。

シリコンを微細加工した構造体はＭＥＭＳ分野や電気機械の機能デバイスに幅広く用いられている。その一例として、液体を吐出する液体吐出ヘッドが挙げられる。その使用例としては、吐出液滴を被記録媒体に着弾させて記録を行う液体吐出記録方式の液体吐出ヘッドがある。液体吐出記録方式の液体吐出ヘッドは、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生させるエネルギー発生素子が設けられた基板と、基板に設けられた液体の供給口から供給されたインクを吐出する吐出口を備えている。

近年の液体吐出ヘッドにおいては、高解像度、高速印字といった印字性能の向上や製造における液体吐出ヘッドの小型化、高密度化が求められている。そのため、流路形成基板やノズル基板にシリコン基板を用いて、各基板を接着剤により接合して作製される。

液滴吐出ヘッドは、インク滴を吐出した際のインクミスト等の影響により、ノズル基板表面にインクが付着する場合がある。ノズル基板表面にインクが付着していると、吐出口からインク液滴を吐出したときに影響を受けて、インク液滴の吐出方向にばらつきが生じる可能性がある。そのため、一般的にはノズル基板表面に撥液膜を形成し、吐出口周辺へのインクの付着を防止することによりインク液滴の吐出特性を向上させている。

また、吐出口が開口されたノズル基板表面に撥水膜を形成する場合においては、ノズル内部にも撥水膜が付着してしまう。ノズル内部に撥水膜が形成されると、メニスカス位置がノズル内部で形成されるため、液滴体積や吐出方向が不安定になり印字品位が悪化する。そのため、ノズル内部に付着した撥水膜を除去する方法が検討されている。例えば、下記の特許文献１には、ノズル内部に回り込み付着した撥水膜を除去する方法として、ノズル基板表面上をフィルムで保護し、ノズル基板の裏面側からプラズマにより内部撥水膜を除去する方法が記載されている。

特開２０１５－１５０７６８号公報

特許文献１に記載されている方法は、プラズマ処理をしてから流路基板を接合することを前提としており、ノズル基板表面の吐出口と裏面側の開口部が基板厚み方向に直線状に貫通形成されている形態でノズル基板裏面側からプラズマ処理を行っている。また、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）からなる撥液膜は、除去効果が低いという課題が挙げられている。基板の接合等によって屈曲した液体流路をもつ構成の場合は、さらに除去が困難になる。屈曲した液体流路内を経由してノズル内部に付着したＰＦＰＥからなる撥水膜を除去することは、開口の中心軸が直線状に連通した構成と比較して除去効率が低下することが課題である。

本発明は、吐出信頼性が良好な液体吐出ヘッドを提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明における液体吐出ヘッドの製造方法は、
第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、前記第１の面に開口する液体の供給口と、前記第２の面に開口する液体の吐出口と、前記供給口と前記吐出口とが前記第１の面及び前記第２の面と交差する方向に直線的に連通しないように前記供給口と前記吐出口とをつなぐ流路と、を備える基板を備えた液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記基板の表面にパーフルオロポリエーテルからなる撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、
前記撥液膜のうち前記第２の面に形成された前記撥液膜の表面を保護部材で覆うマスキング工程と、
前記第１の面の側から前記流路を介して前記第２の面の側に向かってプラズマを発生させて前記撥液膜を除去するプラズマ処理工程と、
を備え、
前記プラズマ処理工程において、前記撥液膜のうち前記プラズマ処理工程の後に前記基板の前記吐出口の内部に残る部分が、親水化されることを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明における液体吐出ヘッドは、
第１の面と、
前記第１の面とは反対側の第２の面と、
前記第１の面に開口する液体の供給口と、
前記第２の面に開口する液体の吐出口と、
前記供給口と前記吐出口とが前記第１の面及び前記第２の面と交差する方向に直線的に連通しないように前記供給口と前記吐出口とをつなぐ流路と、
前記第２の面に形成された撥液膜と、
を備える基板を備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基板の前記吐出口の内部に形成されている膜が、前記撥液膜より高い親水性を有することを特徴とする。

本発明によれば、吐出信頼性が良好な液体吐出ヘッドを提供することができる。

本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッドの一例を示す断面模式図である。 本発明の実施形態の一例を示す概略模式図である。 本発明の実施形態の一例を示す概略模式図である。 酸素プラズマ処理時間と純水接触角及び表面組成の関係を示す表である。 アッシング時間に対する接触角及びＦ原子濃度のグラフである。 本発明の実施形態の液体吐出ヘッドを示す斜視図である。 本発明の実施形態の液体吐出ヘッドの部品構成を示す分解斜視図である。 本発明の実施形態の液体吐出ヘッドの内部構造を示す模式的断面図である。

以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。なお、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきものである。また、本実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。実施形態に記載されている構成要素はあくまで例示であり、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。

上述した課題を解決するため本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、次のような知見を得ることができた。すなわち、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）は、撥水膜の一部が
残っていても撥水性を低下させることができる。よって、吐出口の内部（内側）の撥水膜を完全に除去しなくとも、液滴吐出時のメニスカス位置を安定化させることができる。また、接合等による屈曲流路をもつ基板であっても、液体流路内を経由して吐出口内部に付着した撥水膜をプラズマ処理することができる。よって、接合等による流路基板を完成させた後に撥水成膜を行うことができる。

＜液体吐出ヘッドの概要説明＞
図６は、本発明の実施形態における、インク等の液体を吐出する液体吐出ヘッド１０１の組み立て後の状態を示し、図７は、図６の液体吐出ヘッド１０１の構成と組み立て前の分解図を示している。以下で説明する液体吐出ヘッド１０１は、画像記録装置としてのインクジェットプリンタ等において、記録材に対して画像記録用液体としてのインクを吐出することで、記録材上に所望の画像を記録するために用いられるインクジェット記録ヘッドとして構成される。ただし、本発明は、インクジェット記録ヘッド以外の用途にも好適に適用し得るものである。

まず、液体吐出ヘッド１０１の全体構成についての概略を説明する。図示される液体吐出ヘッド１０１は、記録用の液体として、例えば、黒色（ブラック）のインクと、黒色以外の６色のカラーインクを吐出するものである。黒色インク及びカラーインクを総称して記録液と称する場合がある。

液体吐出ヘッド１０１は、サブタンクユニット１１０、第一弾性部材１１１、ヘッド本体部１１２および記録素子ユニット１１４から構成される。このとき、第一弾性部材１１１をサブタンクユニット１１０とヘッド本体部１１２で挟持し、外周部をビス止めすることでシールしている。また、第二弾性部材１１３をヘッド本体部１１２と記録素子ユニット１１４で挟持し、外周部をビス止めすることでシールしている。記録素子ユニット１１４は、支持部材１３１、電気基板１３２、電気配線基板１３３、および記録素子１３０で構成される。

図８は、図６の液体吐出ヘッド１０１のＡ－Ａ断面を示しており、液体吐出ヘッド１０１の内部のインク供給経路を示している。インクは、外部に存在する不図示のインクタンク（例えば、プリンタ本体に設けられた液体収容部）から、ジョイント部１２１を介して液体吐出ヘッド１０１の内部に供給される。液体吐出ヘッド１０１の内部に供給されたインクは、インク室１２２、フィルター１２３を通過し、内部流路１２４を介し、記録素子ユニット１１４に到達する。

＜接合基板の形成工程＞
図１は、液体吐出ヘッド１０１における液体吐出素子である記録素子１３０を構成する基板部分であるノズルプレート１２の断面構成を示す模式的断面図である。

ノズルプレート１２は、流路基板１と、アクチュエータ基板２と、ノズル基板３と、を含み、各基板は接着剤４を介して接合される。ノズルプレート１２は、第１の面としての、流路基板１のアクチュエータ基板２との接合面とは反対側の面に、インクが供給される供給口１１を有している。また、ノズルプレート１２は、第１の面と反対側の第２の面としての、ノズル基板３のアクチュエータ基板２との接合面とは反対側の面に、インクを吐出するための吐出口７を有している。ノズルプレート１２は、供給口１１と吐出口７とをつなぐインクの流路として液体流路部６を有している。液体流路部６は、供給口１１と吐出口７とがノズルプレート１２の厚み方向（ノズルプレート１２の上記第１の面及び第２の面と交差する方向、典型的には直交する方向）において、直線的に連通しないように構成されている。すなわち、液体流路部６は、ノズルプレート１２の厚み方向と交差する方向、典型的には、ノズルプレート１２の上記第１の面及び第２の面に平行な方向に延びる
流路部分（液体流路部６２）を含む。よって、液体流路部６は、ノズルプレート１２の厚み方向（基板面に垂直な方向）に見たときに、供給口１１と吐出口７とが互いに重ならない流路構成となっている。

なお、ここで示す液体流路部６の流路構成はあくまで一例である。例えば、ノズルプレート１２の厚み方向と交差する方向（ノズルプレート１２の面に平行な方向）に延びる流路部分を複数備えるような流路構成であってもよい。また、複数の吐出口７に対してそれぞれ分岐するように延びる分岐流路を含む流路構成であってもよい。すなわち、後述するように、プラズマ処理においてイオンを利用した撥液膜の除去が困難な流路構成を備える基板が、本発明の適用対象として好適である。

アクチュエータ基板２は、その表面に、インクを吐出させる際のエネルギーを発生するエネルギー発生素子の一例としての圧電素子５が配置されている。圧電素子５としては、たとえば、ゾルゲル法またはスパッタ法によって形成されたＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）膜を適用することができる。このような圧電素子５は、金属酸化物結晶の焼結体からなる。圧電素子５は、アクチュエータ基板２において第２の液体流路部６２の形成のための凹部の形成によって薄肉化された領域である膜部２５に設けられる。

シリコン（Ｓｉ）からなる流路基板１は、キャビティ１５を形成する凹部によって圧電素子５を覆うように配置され、アクチュエータ基板２の表面に接着剤４を介して接合されている。また、アクチュエータ基板２の裏面に接着剤を介してノズル基板３が接合されている。流路基板１のアクチュエータ基板２との接合面とは反対側の面上には、液体収容部としてのインクタンク（不図示）が配置されており、供給口１１が開口している。流路基板１には、供給口１１を含み、流路基板１を貫通するように第１の液体流路部６１が形成されている。また、アクチュエータ基板２とノズル基板３との間には第２の液体流路部６２が形成されている。また、ノズル基板３には、ノズル基板３を貫通するように吐出口７が形成されている。ノズルプレート１２は、第１の液体流路部６１と第２の液体流路部６２からなる液体流路部６によって、インクタンク（不図示）から吐出口７へインクが供給される液体流路が形成される。すなわち、第１の液体流路部６１が、アクチュエータ基板２とノズル基板３との間に設けられた第２の液体流路部６２と連通し、ノズル基板３の吐出口７につながっている。インクタンク（不図示）から供給されるインクは、液体流路部６を通り、圧電素子５が発生するエネルギーを受けて吐出口７から吐出される。吐出口７から吐出されたインクは、吐出口７に対向して配置された記録材の画像記録面に付着し、記録材上に画像を形成する。

駆動ＩＣ（不図示）から圧電素子５に駆動電圧が印可されると、逆圧電効果によって、圧電素子５が変形する。Ｐｕｌｌ－Ｐｕｓｈ－Ｐｕｌｌ波形の駆動電圧を印可することによる圧電素子５の変形によって、アクチュエータ基板２において第２の液体流路部６２を形成する壁部の一部である膜部２５が弾性変形する。これにより、キャビティ１５内が膨張、収縮されることで液体流路部６の容積変化がもたらされ、液体流路内の液体が加圧されると吐出口７表面にメニスカスが張られる。その後、収縮することで加圧された液体が吐出口７から液滴となって吐出される。

ここで、ノズル内部が撥水していると、ノズル奥でメニスカスを張ることになるため、吐出口７から突出される流体の吐出体積や吐出方向が不安定になることがわかっている。

＜撥液膜の形成方法＞
図２（ａ）～図２（ｄ）は、本発明の実施形態に係る液滴吐出ヘッドの撥液膜の形成方法を工程順に示す模式的断面図であり、図１に示す領域Ａを拡大して示した図である。

撥液膜の形成は、接着剤を介して接合された基板に対する、次の工程により行われる。（１）液体流路部６内部の表面を含むノズルプレート１２の表面に、撥液膜としての撥水膜を形成する撥液膜形成工程
（２）ノズル基板３の表面（第２の面）に保護部材１０を形成する表面保護工程
（３）プラズマ処理により、撥水膜を保護部材１０に覆われた部分を残して除去するとともに、ノズル基板３の吐出口７内部に残る撥水膜を親水化させるプラズマ処理工程
（４）保護部材１０を剥離する保護部材剥離工程

（１）撥水膜形成工程
図２（ａ）に示すように、複数の吐出口７が形成されたノズル基板３にパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）からなる撥水膜８を形成する。ノズル基板３は、流路基板１及びアクチュエータ基板２が接合された状態のものを使用することが好ましい。撥水形成を行う前に、ノズル基板３の表面を洗浄してもよい。例えば、プラズマ処理やイオンビーム洗浄、ＵＶオゾン洗浄等を用いることができる。

撥水膜８の形成方法は、例えば、蒸着法などの物理的気相法で成膜できる。蒸着法では基板を真空室内に配置し、真空室内で撥水材料を気化させる方法である。また、ローラ塗布、ディッピング処理やスピンコート法による液相法で形成することもできる。

ここで、ノズル基板３には吐出口７が形成されているため、ノズル基板３の吐出口７の内部にも撥水膜８が形成される。メニスカスの安定のため、ノズル基板３の表面の撥水膜８は残し、吐出口７の内部に形成された撥水膜９は、除去、あるいは少なくとも親水化させる必要がある。

（２）保護部材形成工程（マスキング工程）
次に、図２（ｂ）に示すように、撥水膜８を残したい箇所に保護部材１０を形成する。

保護部材１０は、特に制限はなく、樹脂材料やテープなどを適宜選択することが可能である。なお、吐出口７周辺において保護部材１０が浮くと、後のプラズマ処理によってノズル基板３表面の撥水膜８が親水化されてしまう。この場合、この吐出口７はメニスカスが不安定になることで吐出不良になる。そのため、保護部材１０の浮きを防止するため、減圧下で保護部材１０を貼付することも可能である。

（３）プラズマ処理工程
次に、図２（ｃ）に示すように、流路基板１側からプラズマ処理することにより、ノズル基板３の吐出口７内部の撥水膜９（図２（ｂ））を親水化させ、撥水膜８よりも高い親水性を有する残存膜１１に変質させる。ここで、図３は、ノズルプレート１２全体、すなわち、液体流路部６全体で見たときのプラズマの経路を示す模式的断面図である。

プラズマ処理の方法の一例として、真空圧力室にノズルプレート１２をセットし、酸素原子を含むガスにより酸素プラズマを発生させる。プラズマは、図３に示すように、流路基板１からアクチュエータ基板２を経由し、吐出口７へと到達する。プラズマの発生には、マイクロ波方式の装置やリモートプラズマ方式の装置等を目的に応じて用いることが可能である。

プラズマにはイオンとラジカルが存在し、通常、イオンは、直進性が高く、反応率が高いこと、一方、ラジカルは、等方性を有し、反応率は温度に依存することが知られている。特許文献１の基板のように、液体流路の供給口と吐出口との間が直線的（基板面と交差する方向に真っすぐ）に連通する基板に対しては、流路内の撥水膜除去においてプラズマを直進させることが好ましいため、イオンを利用することが効率的である。一方、本実施
形態の基板のように、液体流路が屈曲した流路、すなわち、供給口と吐出口との間が直線的に連通しない流路である基板に対しては、直進するイオンでは流路内の撥水膜除去に十分な効果が期待できず、ラジカルの効果を用いることが好適となる。

また、イオンの効果を高める場合において、基板にバイアスをかけてエネルギーを上げる方法が用いられるが、屈曲流路のようにイオンによる撥水膜除去の効果が低い形態の基板に対して、バイアス印加による効果は見込めない。むしろ、基板にバイアスをかけると電荷によるダメージであったり、基板が昇温することによる弊害、例えば、半導体特性等の低下等が懸念される。

したがって、本実施形態の基板のように屈曲流路を経由するようにプラズマを発生させるプラズマ処理においては、基板へのバイアス印加をなくし、イオンアシストに頼らない条件が好ましい。それによってラジカルの反応を主体として等方的にラジカルを移動させることが可能になる。ラジカルの効果を得るための処理温度について、下限温度は、処理速度に関係するためスループットを考慮し、上限温度は、用いる保護部材１０の耐熱の観点から決定する。ラジカルを活性化させるための所定の処理温度として、例えば、５℃～７０℃程度が好ましく、１０℃～５０℃が好適である。

図４、図５に、発明者らの検討の結果得られた、基板印加バイアス０Ｗ、基板加熱温度１６℃、酸素流量３０ｓｃｃｍとしたときの、パーフルオロエーテルからなる撥水膜に対する、酸素プラズマ処理時間と純水接触角及び表面組成の関係を示す。図４、図５に示すように、表面のフッ素が一部残存していても十分に親水化させることが可能であることを見出した。これは、酸素アッシングによってパーフルオロエーテルのエーテル結合部が切れ、末端が－ＯＨ化したため、親水化したと想定される。撥水膜の接触角を変化させているため、撥水膜の下地膜自体の接触角によらずに接触角を制御することができる。

（４）保護フィルム剥離工程（マスキング除去工程）
最後に、図２（ｄ）に示すように、保護部材１０をノズル基板３から剥離する。そして、保護部材１０が剥離されたノズルプレート１２を用いて、液体吐出ヘッド１０１を作製する（図６～図８）。保護部材１０としてマイクロステープを用いた場合、テープを剥離する際に、６０℃程度の熱を付与することで離形性を向上させることができる。

（実施例１）
本発明の実施例として、図１に示すノズルプレート１２を製作した。図１に示すように、ノズルプレート１２は、シリコン基板からなる流路基板１、アクチュエータ基板２及びノズル基板３を、接着剤を介して接合して製作される。本実施例では、ノズル基板３の表面に複数の吐出口７が配列されている。各基板の加工は、ドライエッチングによって形成される。液体流路６及び吐出口７の形状は、ここに例示したものには限定されない。ノズル基板３表面は、撥水膜８との密着性を考慮し、蒸着法にてＳｉＯ_２を１０ｎｍ成膜した（不図示）。シリコン基板を熱酸化することによって得られる熱酸化シリコンや自然酸化膜を下地膜として使用してもよい。

次に、下地膜が形成されたノズル基板３に、蒸着法にてパーフルオロポリエーテルからなる撥水膜８を形成した。抵抗加熱法で２００Ａ、１分間成膜した。基板は無加熱、ガスは導入せず、真空度は３×１０^－３Ｐａになった時点で行った。撥水膜８を形成したノズルプレート１２は、常温（２５℃）２４時間静置し、定着させた。吐出口７内部の撥水膜９は、ノズル基板３表面側から奥の方向に向かってＦ濃度が下がっていく傾向がある。

次に、撥水膜８が形成されたノズル基板３表面に保護部材１０として保護テープを貼り付けた。次に、ノズルプレート１２の流路基板１側からプラズマ照射を行った。プラズマ
照射には、キヤノンマーケティングジャパン株式会社製プラズマ処理装置（ＭＡＳ－８２２０）を用いた。吐出口７内部に屈曲流路を経由してプラズマを晒す必要があるため、基板バイアスは特に必要としない。むしろ、アッシング処理時の基板温度が上昇しやすくなるため保護テープの剥離等の懸念があり、基板バイアスはないほうがが好ましい。今回、プラズマの処理方法としては、酸素プラズマを基板バイアスなし、１６℃とした。

吐出口７内部の撥水膜９を親水化させるために必要なアッシング処理時間は、純水接触角（協和界面化学社製接触角計にて純水を用いて測定）及びＸＰＳ法による表面分析を行った。得られた結果を図４の表に示す。

アッシング処理時間が１０分以上であれば、残存膜１１のＦ（フッ素）原子濃度は３％以下で、純水接触角は２５°以下と十分に親水化していることがわかる。一方、アッシング処理時間１分以上１０分以下の場合の残存膜１１では、Ｆ原子の一部残っているものの接触角が低下していることがわかる。これはパーフルオロエーテルのエーテル結合が切れ、撥水膜の末端が水酸基となったためと想定される。アッシング処理を行っていない撥水膜（撥水膜８）のＦ原子濃度を１とした場合、アッシング処理時間１分以上での残存膜１１のＦ原子濃度の比率は０．９以下となり、接触角は５０°以下となる。

吐出口７内部の接触角は、上記数値に限定されず、ノズル基板３表面側の接触角に対して十分親水化していればよく、インク種などにより適宜選択可能である。ただし、プラズマ照射時間が長くなると保護部材１０へのダメージが懸念され、保護部材１０の浮き等によるノズル基板３の表面の撥水膜を親水化させてしまう懸念がある。そのため処理時間はできるだけ短いほうが好ましい。

今回の検討結果により、プラズマ照射条件は、基板バイアスなし、基板温度１６℃の場合、１分が好適となる。以上の方法により製造された液体吐出ヘッドを用いて、インクを用いた吐出評価を行ったところ、吐出口表面でメニスカス位置が安定し、良好な印字品位を獲得することができた。

１…流路基板、２…アクチュエータ基板、３…ノズル基板、４…接着剤、５…エネルギー発生素子、６…液体流路部、７…液体吐出口、８…撥水膜、９…吐出口側壁部の撥水膜、１０…吐出口面の保護部材、１１…親水化した撥水膜、１２…ノズルプレート

Claims (13)

1. 第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、前記第１の面に開口する液体の供給口と、前記第２の面に開口する液体の吐出口と、前記供給口と前記吐出口とが前記第１の面及び前記第２の面と交差する方向に直線的に連通しないように前記供給口と前記吐出口とをつなぐ流路と、を備える基板を備えた液体吐出ヘッドの製造方法であって、
   前記基板の表面にパーフルオロポリエーテルからなる撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、
   前記撥液膜のうち前記第２の面に形成された前記撥液膜の表面を保護部材で覆うマスキング工程と、
   前記第１の面の側から前記流路を介して前記第２の面の側に向かってプラズマを発生させて前記撥液膜を除去するプラズマ処理工程と、
   を備え、
   前記プラズマ処理工程において、前記撥液膜のうち前記プラズマ処理工程の後に前記基板の前記吐出口の内部に残る部分が、親水化されることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
2. 前記プラズマ処理工程において、イオンの効果を高めるための前記基板に対するバイアス印加を行わないことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
3. 前記プラズマ処理工程において、酸素原子を含むガスによってプラズマを発生させることを特徴とする請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
4. 前記プラズマ処理工程において、ラジカルを活性化させるための所定の温度でプラズマを発生させることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
5. 前記プラズマ処理工程において、前記撥液膜のうち前記吐出口の内側に親水化されて残った部分のＦ原子濃度が、前記第２の面に形成された前記撥液膜のＦ原子濃度を１とした場合に、０．９以下であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
6. 前記流路は、前記第１の面及び前記第２の面に平行な方向に延びる部分を含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
7. 前記供給口と前記吐出口は、前記第１の面及び前記第２の面に垂直な方向に見たとき互いに重ならないことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
8. 前記保護部材を取り除くマスキング除去工程をさらに備える請求項１～７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
9. 第１の面と、
   前記第１の面とは反対側の第２の面と、
   前記第１の面に開口する液体の供給口と、
   前記第２の面に開口する液体の吐出口と、
   前記供給口と前記吐出口とが前記第１の面及び前記第２の面と交差する方向に直線的に連通しないように前記供給口と前記吐出口とをつなぐ流路と、
   前記第２の面に形成された撥液膜と、
   を備える基板を備えた液体吐出ヘッドであって、
   前記基板の前記吐出口の内部に形成されている膜が、前記撥液膜より高い親水性を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
10. 前記基板の前記吐出口の内側に形成されている膜は、前記撥液膜に連なって形成されていることを特徴とする請求項９に記載の液体吐出ヘッド。
11. 前記基板の前記吐出口の内側に形成されている膜のＦ原子濃度が、前記撥液膜のＦ原子濃度を１とした場合に、０．９以下であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の液体吐出ヘッド。
12. 前記流路は、前記第１の面及び前記第２の面に平行な方向に延びる部分を含むことを特徴とする請求項９～１１のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
13. 前記供給口と前記吐出口は、前記第１の面及び前記第２の面に垂直な方向に見たとき互いに重ならないことを特徴とする請求項９～１２のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
    

Images