JP2023135275A - レーザ・アークハイブリッド溶接装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レーザ・アークハイブリッド溶接装置に関する。
レーザ・アークハイブリッド溶接装置を開示した先行技術文献として、特開2021-49562号公報(特許文献1)がある。特許文献1に記載されたレーザ・アークハイブリッド溶接装置は、レーザトーチと、溶接トーチとを備える。レーザトーチは、接合部に向けてレーザを照射するように構成されている。溶接トーチは、接合部との間にアークを発生させるように構成されている。レーザ照射およびアーク溶接による入熱によって接合部が溶接され、接合部の接合強度が確保される。
溶極式アーク溶接は、電極プラス極性および電極マイナス極性の極性比率を適宜変更して溶接を行なう。特許文献1に記載されたレーザ・アークハイブリッド溶接装置においては、アーク溶接の電極マイナス極性の極性比率を高くすると、溶接ワイヤの溶融量が増加するため、溶接の施工裕度を向上させることができる。一方、電極マイナス極性の極性比率を高くすると、電極プラス極性の極性比率が減少するため、被接合部の表面被膜の除去が不十分になる可能性がある。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、被接合部の表面被膜を除去しつつ、溶接の施工裕度を向上させることができる、レーザ・アークハイブリッド溶接装置を提供することを目的とする。
本発明に基づくレーザ・アークハイブリッド溶接装置は、レーザトーチと、溶接トーチとを備える。レーザトーチは、被接合部に向けてレーザを照射し、被接合部の表面被膜を除去する。溶接トーチは、被接合部との間にアークを発生させて被接合部を溶接する。溶接トーチは、電極プラス極性および電極マイナス極性の極性比率を変更可能に構成されている。レーザトーチによってレーザを被接合部に照射後に、溶接トーチにおける電極マイナス極性の極性比率が50%以上で被接合部が溶接される。
この場合、レーザの照射によって被接合部の表面被膜の除去作用を確保しつつ、アーク溶接における電極マイナス極性の極性比率を50%以上にすることによって、溶接ワイヤの溶融量を増加させることができるため、溶接の施工裕度を向上させることができる。
本発明の一形態においては、レーザトーチのレーザの出力は、電極マイナス極性の極性比率が増加するにしたがって高い。
この場合、電極プラス極性の極性比率の減少に伴い低下する表面被膜の除去作用をレーザの出力を上げることにより確保することができる。
本発明の一形態においては、溶接の進行方向に直交する方向におけるレーザの照射領域の幅は、電極マイナス極性の極性比率が増加するにしたがって広い。
これにより、レーザの照射による表面被膜の除去する幅を広くして、アーク溶接のハンピングを抑制することができる。
本発明の一形態においては、溶接の進行方向に直交する方向におけるレーザの照射領域の幅は、被接合部の脚長に対して1倍以上2倍以下である。
この場合、レーザを適切な幅で照射することにより、レーザの照射による表面被膜の除去作用を確保することができる。
本発明の一形態においては、溶接トーチは、電極マイナス極性の極性比率が70%以上で被接合部を溶接する。溶接トーチの溶接は、短絡溶接である。
この場合、表面被膜の除去および溶接の施工裕度を確保しつつ、短絡溶接によってスパッタの発生を抑制することができる。
本発明によれば、被接合部の表面被膜を除去しつつ、溶接の施工裕度を向上させることができる。
以下、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置について図面を参照して説明する。以下の実施の形態の説明においては、図中の同一または相当部分には同一符号を付して、その説明は繰り返さない。
なお、図面においては、溶接の進行方向をDR1方向、溶接の進行方向に直交し、かつ母材表面に並行する方向をDR2方向とする。
また、電極プラス極性とは、溶接電源から供給される電流経路における溶接トーチ側が陽極、かつ母材側が陰極の極性状態である。電極マイナス極性とは、溶接電源から供給される電流経路における母材側が陽極、かつ溶接トーチ側が陰極の極性状態である。上述の電極プラス極性をEP極性と称し、電極マイナス極性をEN極性と称する場合がある。さらに、電極プラス極性および電極マイナス極性の極性時間の合計に対して、電極プラス極性の極性比率をEP比率と称し、電極マイナス極性の極性比率をEN比率と称する場合がある。
図1は、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置の構成を示す概略図である。
図1に示すように、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1は、溶接トーチ10と、溶接電源装置30と、レーザトーチ40と、レーザ発振装置60とを備える。
レーザ・アークハイブリッド溶接装置1は、金属同士の接合に使用される。レーザ・アークハイブリッド溶接装置1によって、互いに接合される母材2の一方と他方とが、重ね隅肉溶接継手またはフレア溶接継手などにより被接合部3において接合される。
母材2は、たとえば、アルミニウムもしくはマグネシウム、またはこれらの合金により構成されている。母材2は、表面に形成される酸化被膜などの表面被膜の融点が母材2自体の融点よりも高く、さらに母材および表面被膜の融点の温度差が大きいものが好ましい。なお、母材2は、鉄もしくはチタン、またはこれらの合金によって構成されていてもよい。
溶接トーチ10および溶接電源装置30は、アーク溶接を行なうための機器である。溶接トーチ10は、母材2に向けて、溶接ワイヤ20および図示しないシールドガスを供給する。溶接トーチ10は、被接合部3との間にアーク25を発生させて被接合部3を溶接する。具体的には、溶接トーチ10は、溶接電源装置30から溶接電流の供給を受け、溶接ワイヤ20の先端と母材2との間にアーク25を発生させるとともに、母材2に向けてアルゴンガスまたは炭酸ガスなどのシールドガスを供給することによって、被接合部3を溶接する。
溶接電源装置30は、アーク溶接を行なうための溶接電圧および溶接電流を生成し、生成された溶接電圧および溶接電流を溶接トーチ10へ出力する。また、溶接電源装置30は、溶接トーチ10における溶接ワイヤ20の送り速度を制御する。
溶接トーチ10は、電極プラス極性(EP極性)および電極マイナス極性(EN極性)の溶接条件により母材2を溶接可能である。
EP極性のアーク溶接は、母材2側が溶接電流の陰極になることにより、母材2に電子放出の起点となる陰極点が集中することによって、母材2の表面被膜を除去する。このため、EP極性のアーク溶接は、母材2自体の融点に対して比較的融点が高い酸化被膜が形成される材料の溶接に適している。
EN極性のアーク溶接は、溶接トーチ10側が溶接電流の陰極になることによって、溶接ワイヤ20に陰極点が集中して、溶接ワイヤ20の溶融量が増加する。このため、EN極性のアーク溶接は、母材が薄板の場合に、母材が過剰に溶融しないため、薄板の溶接に適している。また、EN極性のアーク溶接は、母材の一方および他方が隙間を有する場合に、溶接ワイヤ20が当該隙間を埋めるため、溶接時の当該隙間を埋めるギャップ裕度を向上させる。すなわち、EN極性のアーク溶接は、溶接の施工裕度が高い。
溶接トーチ10は、電極プラス極性および電極マイナス極性の極性比率(EP比率およびEN比率)を変更可能に構成されている。EP比率およびEN比率は、インバータ制御により任意に設定することができる。仮に、交流アーク溶接を行なう場合には、インバータ制御によって任意に設定された極性比率でEP極性とEN極性とが交互に入れ替わりながら溶接が行なわれる。
EN比率を上げた場合、EP比率は、EN比率が高くなるにつれて低くなるため、表面被膜の除去効果が低下して表面被膜が除去されないままアーク溶接が行なわれることがある。この場合、アーク溶接においてハンピングが生じやすくなるため、アーク溶接を行なうことが困難になる可能性がある。このため、アルミニウムまたはマグネシウムなどの母材におけるアーク溶接においては、母材の融点と比較して高融点になる表面被膜を除去するために、EP比率を一定比率以上に保つことが望ましい。アルミニウムまたはマグネシウムなどの母材におけるアーク溶接では、たとえば、EN比率を20%~30%として溶接が行なわれる。
レーザトーチ40は、被接合部3に向けてレーザ50を照射し、被接合部3の表面被膜を除去する。レーザトーチ40およびレーザ発振装置60は、レーザ50による溶接を行なうための機器である。レーザトーチ40は、レーザ発振装置60からレーザ光の供給を受け、母材2の被接合部3に向けてレーザ50を照射することによって被接合部3の表面被膜を除去する。
本実施の形態において、被接合部3へレーザ50を照射する方法は限定されない。被接合部3へレーザ50を照射する方法は、たとえば、回折光学素子でレーザ50を回折させて集光することによって照射してもよいし、レーザトーチ40の内部でモータによりミラーを駆動させてレーザ50を走査することによって照射してもよいし、レーザ50をデフォーカスすることによって照射してもよい。
なお、レーザ50の照射は、母材2の表面被膜を除去するだけでなく、アーク溶接とともに母材2を溶融してもよい。特に、レーザ・アークハイブリッド溶接装置1におけるアーク溶接のEN比率を高くした場合、母材2と比較して溶接ワイヤ20が溶融しやすいため、レーザ50の照射によって母材2を溶融させて、母材2の溶融量を確保することができる。
図2は、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置によって母材が溶接されている状態を示す上面図である。図3は、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置の母材に対するレーザの照射範囲およびアーク溶接範囲を示す断面図である。図4は、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置によって溶接された母材の接合状態を示す断面図である。なお、図2においては、理解を容易にするため、溶接ワイヤ20、アーク25およびレーザ50を図示していない。
図2~図4に示すように、母材2は、第1母材4および第2母材5によって構成されている。第1母材4と第2母材5との間には、隙間Gがあいている。第1母材4および第2母材5の各々に、溶接進行方向(DR1方向)に沿ってアーク25による溶接およびレーザ50の照射が行なわれることによって、被接合部3において第1母材4と第2母材5とが互いに接合される。
レーザ50は、照射領域70の範囲に照射される。レーザ50の照射領域70は、溶接の進行方向に直交する方向(DR2方向)において幅Wを有している。溶接の進行方向に直交する方向(DR2方向)におけるレーザ50の照射領域70の幅Wは、被接合部3の脚長Lに対して1倍以上2倍以下である。レーザ50が照射領域70の範囲に照射されDR1方向に進行することによって、レーザ痕71が照射領域70の後方に形成される。
レーザトーチ40によってレーザ50を被接合部3に照射後に、溶接トーチ10における電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が50%以上で被接合部3を溶接する。アーク25は、第1母材4および第2母材5を溶融させる。これによって、DR1方向に沿って溶融池90を形成しつつ被接合部3が接合される。
溶接の進行方向に直交する方向(DR2方向)におけるレーザ50の照射領域70の幅Wは、電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が増加するにしたがって広い。これにより、レーザ50の照射領域70の幅WをEN比率と連動させて次第に増加させることによって、レーザ50の照射による表面被膜の除去範囲を広くして、EP比率が減少することによりアーク溶接の表面被膜の除去作用が低下しても、表面被膜の影響を抑制してアーク溶接を行なうことができる。
図5は、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置におけるアーク溶接の電極マイナス極性の極性比率とレーザの出力との関係を示すグラフである。
図5に示すように、レーザトーチ40のレーザ50の出力は、電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が増加するにしたがって高い。本実施の形態におけるレーザ50の出力は、EN比率が50%である場合、たとえば、0.5kWである。レーザ50の出力は、EN比率に比例して増加し、EN比率が100%である場合、たとえば、2.0kWである。これにより、EN比率が増加するにしたがって、レーザ50による母材2の表面被膜の除去作用は強くなる。なお、必要とするレーザ50の出力は、レーザ50のレーザプロファイル、溶接速度、母材の板厚および接手形状によって異なるため、図5において示すレーザ50の出力に限定されない。
ここで、本実施の形態におけるレーザ・アークハイブリッド溶接装置1を用いて母材に対してレーザ・アークハイブリッド溶接を行なった試験結果について説明する。
第1母材および第2母材の各々は、2mmの板厚を有するアルミニウム合金の重ね隅肉継手である。第1母材および第2母材の各々の間には、隙間が1mmあいている。溶接速度を1m/min、溶接電流を100Aおよびワイヤ送給速度を6m/minの条件下において、EN極性のアーク溶接を行った。その結果、母材が溶融せず、ハンピングが生じた。
次に、上記のアーク溶接に先行して平均出力1.0kWのレーザを照射するレーザ・アークハイブリッド溶接を行なった。その結果、溶接時にハンピングは発生せず、第1母材および第2母材は被接合部において良好に接合した。なお、EP極性のアーク溶接では、第1母材および第2母材の各々は、被接合部によって互いに接合することができず、良好な溶接結果を得ることができなかった。これにより、本実施の形態における条件下のレーザ・アークハイブリッド溶接を行なうことによって、隙間を有するアルミニウム合金の第1母材および第2母材を良好に接合することが可能であることを確認することができた。
本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1においては、レーザトーチ40によってレーザ50を被接合部3に照射後に、溶接トーチ10における電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が50%以上で被接合部3を溶接することによって、溶接ワイヤ20の溶融量を増加させることができるため、レーザ50の照射によって被接合部3の表面被膜の除去作用を確保しつつ、溶接の施工裕度を向上させることができる。
本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1においては、電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が増加するにしたがってレーザトーチ40のレーザ50の出力を高くすることにより、電極プラス極性の極性比率(EP比率)の減少に伴い低下する表面被膜の除去作用を確保することができる。
本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1においては、溶接の進行方向に直交する方向(DR2方向)におけるレーザ50の照射領域の幅Wを電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が増加するにしたがって広くすることによって、レーザ50の照射による表面被膜を十分な範囲で除去して、アーク溶接のハンピングを抑制することができる。
本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1においては、溶接の進行方向に直交する方向(DR2方向)におけるレーザ50の照射領域70の幅Wが、被接合部3の脚長Lに対して1倍以上2倍以下であることによって、レーザ50を適切な幅Wで照射することにより、レーザ50の照射による表面被膜の除去作用を確保することができる。
以下、本発明の一実施の形態の変形例に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置について説明する。本変形例に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置は、溶接トーチの溶接条件が本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1と異なるため、本発明の一実施の形態に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置1と同様である構成については説明を繰り返さない。
本発明の一実施の形態の変形例に係る溶接トーチは、電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が70%以上で被接合部を溶接する。EN比率が70%を超える場合、アーク溶接の陰極点が溶接ワイヤの先端および側面に生成されるため、溶接ワイヤの溶融時の溶滴の形成が不安定になる。アーク溶接がパルス溶接である場合には、パルス電流の周期が不安定になるため、溶接が不安定になってスパッタを生ずる可能性がある。
本変形例における溶接トーチの溶接は、短絡溶接である。短絡溶接によって、溶接ワイヤの溶滴を溶接ワイヤおよび母材に接触させつつ溶接することによって、パルス溶接と比較して、溶接中のスパッタの発生を防ぐことができる。
本発明の一実施の形態の変形例に係るレーザ・アークハイブリッド溶接装置においては、溶接トーチの電極マイナス極性の極性比率(EN比率)が70%以上で被接合部を溶接し、かつ、溶接トーチの溶接が短絡溶接であることによって、表面被膜の除去および溶接の施工裕度を確保しつつ、短絡溶接によってスパッタの発生を抑制することができる。
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本開示の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではない。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。上述した実施の形態の説明において、組み合わせ可能な構成を相互に組み合わせてもよい。
1 レーザ・アークハイブリッド溶接装置、3 被接合部、10 溶接トーチ、25 アーク、40 レーザトーチ、50 レーザ、70 照射領域、L 脚長、W 幅。
Claims (5)
- 被接合部に向けてレーザを照射し、前記被接合部の表面被膜を除去するレーザトーチと、
前記被接合部との間にアークを発生させて前記被接合部を溶接する溶接トーチとを備え、
前記溶接トーチは、電極プラス極性および電極マイナス極性の極性比率を変更可能に構成されており、
前記レーザトーチによって前記レーザを前記被接合部に照射後に、前記溶接トーチにおける前記電極マイナス極性の前記極性比率が50%以上で前記被接合部を溶接する、レーザ・アークハイブリッド溶接装置。 - 前記レーザトーチの前記レーザの出力は、前記電極マイナス極性の前記極性比率が増加するにしたがって高い、請求項1に記載のレーザ・アークハイブリッド溶接装置。
- 溶接の進行方向に直交する方向における前記レーザの照射領域の幅は、前記電極マイナス極性の前記極性比率が増加するにしたがって広い、請求項1または請求項2に記載のレーザ・アークハイブリッド溶接装置。
- 前記溶接の進行方向に直交する方向における前記レーザの照射領域の幅は、前記被接合部の脚長に対して1倍以上2倍以下である、請求項3に記載のレーザ・アークハイブリッド溶接装置。
- 前記溶接トーチは、前記電極マイナス極性の前記極性比率が70%以上で前記被接合部を溶接し、
前記溶接トーチの溶接は、短絡溶接である、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のレーザ・アークハイブリッド溶接装置。
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