JP2023112303A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置を実現する。【解決手段】表示領域10の内部には、複数の画素電極が設けられる。複数の画素電極と1対1で対応する複数の画素トランジスタ30が表示領域10の外側の領域に設けられる。各画素トランジスタ30は、それに対応する画素電極と画素配線11によって接続される。複数の画素トランジスタ30を駆動するための駆動信号群が入力される入力パッド群20がTFT基板5上に設けられる。ここで、複数の画素トランジスタ30は、TFT基板5上の領域のうち入力パッド群20と表示領域10との間の領域以外の領域のみに設けられる。【選択図】図1
Description
以下の開示は、液晶表示装置に関し、特に表示領域内の画素を個別に駆動する液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、表示部の背面に設けられたバックライトからの出射光を利用する透過型液晶表示装置と外光の反射光を利用する反射型液晶表示装置とに大別できる。なお、バックライトからの出射光および外光の反射光の双方を利用する半透過型液晶表示装置も知られている。反射型液晶表示装置は、バックライトを必要としないので、透過型液晶表示装置に比べて低消費電力化や薄型化を容易に実現することができる。また、近年、そのような反射型液晶表示装置の背面に有機EL表示装置を設けた2層構造の表示装置(以下、「2層ディスプレイ」という。)も開発されている。2層ディスプレイは典型的には腕時計に採用されており、例えば、高精細表示を行う際には有機EL表示装置による画像表示が行われ、文字情報の表示など簡易な表示を行う際には反射型液晶表示装置による画像表示が行われる。
ところで、反射型液晶表示装置については、外光の反射光を利用するため、表示領域の開口率が低いと充分な表示品位が得られない。それ故、できるだけ開口率を高くすることが好ましい。そこで、国際公開2011/027600号パンフレットには、開口率を低下させることなく低消費電力の効果が得られる画素回路の構成が開示されている。
また、近年、消費電力の低減を図るために、画素回路内にメモリ回路を備えた液晶表示装置が開発されている。これに関し、国際公開2020/255536号パンフレットには、システム制御回路を用いて極性信号を制御する信号を出力する仕組みを設けることによってメモリモード(メモリ回路に記録された信号を用いる駆動モード)時に映像信号制御回路の動作を停止することを可能にした液晶表示装置が開示されている。その液晶表示装置によれば、メモリモード時に映像信号制御回路の動作を停止することができるので、顕著な低消費電力化が実現される。
ところが、国際公開2011/027600号パンフレットに開示された構成によれば、表示領域内に画素トランジスタやメモリ回路が存在するため、充分な開口率が得られない。これに関し、表示領域内に設けられている構成要素の一部を表示領域外に設けることが考えられるが、額縁領域が広くなることが懸念される。近年、特に腕時計などのウェアラブル端末に関して小型化の要求が強いので、額縁領域の増大は好ましくない。
また、国際公開2020/255536号パンフレットに開示された構成によれば、入力パッド群と表示領域との間に駆動回路(映像信号出力部)が設けられているため(国際公開2020/255536号パンフレットの図1および図2を参照)、表示領域を基準として入力パッド群側の額縁領域が必然的に広くなる。
そこで、以下の開示は、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置を実現することを目的とする。
(1)本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、複数の画素電極を含む表示領域が設けられたパネル基板を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素電極と1対1で対応する、前記表示領域の外側の領域に設けられた複数の画素トランジスタと、
前記複数の画素電極と前記複数の画素トランジスタとをそれぞれ接続する複数の画素配線と、
前記複数の画素トランジスタを駆動するための駆動信号群が入力される、前記パネル基板上に設けられた入力パッド群と
を備え、
前記複数の画素トランジスタは、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域のみに設けられている。
前記複数の画素電極と1対1で対応する、前記表示領域の外側の領域に設けられた複数の画素トランジスタと、
前記複数の画素電極と前記複数の画素トランジスタとをそれぞれ接続する複数の画素配線と、
前記複数の画素トランジスタを駆動するための駆動信号群が入力される、前記パネル基板上に設けられた入力パッド群と
を備え、
前記複数の画素トランジスタは、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域のみに設けられている。
(2)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(1)の構成を含み、
前記パネル基板は、第1辺と、前記第1辺に対向する第2辺と、前記第1辺の一端と前記第2辺の一端とを結ぶ第3辺と、前記第1辺の他端と前記第2辺の他端とを結ぶ第4辺とからなる矩形の形状を有し、
前記入力パッド群は、前記パネル基板上において前記第1辺に沿った額縁領域に設けられ、
前記複数の画素トランジスタは、前記第1辺に沿った額縁領域には設けられず、前記第2辺に沿った額縁領域、前記第3辺に沿った額縁領域、および前記第4辺に沿った額縁領域の少なくともいずれかに設けられている。
前記パネル基板は、第1辺と、前記第1辺に対向する第2辺と、前記第1辺の一端と前記第2辺の一端とを結ぶ第3辺と、前記第1辺の他端と前記第2辺の他端とを結ぶ第4辺とからなる矩形の形状を有し、
前記入力パッド群は、前記パネル基板上において前記第1辺に沿った額縁領域に設けられ、
前記複数の画素トランジスタは、前記第1辺に沿った額縁領域には設けられず、前記第2辺に沿った額縁領域、前記第3辺に沿った額縁領域、および前記第4辺に沿った額縁領域の少なくともいずれかに設けられている。
(3)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(2)の構成を含み、
前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されている。
前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されている。
(4)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(3)の構成を含み、
前記複数の画素トランジスタは、前記第2辺に沿った額縁領域のみに設けられている。
前記複数の画素トランジスタは、前記第2辺に沿った額縁領域のみに設けられている。
(5)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(3)の構成を含み、
前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域または前記第4辺に沿った額縁領域のいずれか一方のみに設けられている。
前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域または前記第4辺に沿った額縁領域のいずれか一方のみに設けられている。
(6)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(2)の構成を含み、
前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域と前記第4辺に沿った額縁領域とに設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第3辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。
前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域と前記第4辺に沿った額縁領域とに設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第3辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。
(7)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(1)の構成を含み、
前記パネル基板は、円形の形状を有し、
前記表示領域と前記入力パッド群とを結ぶ最短の仮想的なラインである第1仮想ラインと前記表示領域との接続点を通過し前記第1仮想ラインに直交する仮想的なラインである第2仮想ラインを基準として、前記表示領域が存在する側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
前記パネル基板は、円形の形状を有し、
前記表示領域と前記入力パッド群とを結ぶ最短の仮想的なラインである第1仮想ラインと前記表示領域との接続点を通過し前記第1仮想ラインに直交する仮想的なラインである第2仮想ラインを基準として、前記表示領域が存在する側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
(8)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(7)の構成を含み、
前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されている。
前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されている。
(9)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(8)の構成を含み、
前記表示領域の中心を通過し前記第2仮想ラインに平行な仮想的なラインである第3仮想ラインを基準として、前記入力パッド群が存在しない側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
前記表示領域の中心を通過し前記第2仮想ラインに平行な仮想的なラインである第3仮想ラインを基準として、前記入力パッド群が存在しない側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
(10)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(8)の構成を含み、
前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられている。
(11)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(7)の構成を含み、
前記複数の画素トランジスタは、前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域および他方の側の額縁領域の双方に設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4仮想ラインを基準として他方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。
前記複数の画素トランジスタは、前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域および他方の側の額縁領域の双方に設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4仮想ラインを基準として他方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。
(12)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(6)または上記(11)の構成を含み、
前記複数の第1タイプの画素配線の本数と前記複数の第2タイプの画素配線の本数とが同じである。
前記複数の第1タイプの画素配線の本数と前記複数の第2タイプの画素配線の本数とが同じである。
(13)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(1)から上記(12)までのいずれかの構成に加え、
前記駆動信号群に基づいて前記複数の画素トランジスタを駆動する駆動回路を備え、
前記駆動回路は、前記複数の画素トランジスタが前記駆動回路と前記表示領域との間の領域に配置されるように、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域に設けられている。
前記駆動信号群に基づいて前記複数の画素トランジスタを駆動する駆動回路を備え、
前記駆動回路は、前記複数の画素トランジスタが前記駆動回路と前記表示領域との間の領域に配置されるように、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域に設けられている。
(14)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(13)の構成を含み、
前記駆動回路は、直列に接続された複数の単位回路からなるシフトレジスタを含み、
前記複数の単位回路は、順次にアクティブとなる複数の出力信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われる。
前記駆動回路は、直列に接続された複数の単位回路からなるシフトレジスタを含み、
前記複数の単位回路は、順次にアクティブとなる複数の出力信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われる。
(15)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(13)の構成を含み、
前記駆動回路は、複数の出力部を有する復号化回路を含み、
前記複数の出力部は、順次にアクティブとなる複数の復号化信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われる。
前記駆動回路は、複数の出力部を有する復号化回路を含み、
前記複数の出力部は、順次にアクティブとなる複数の復号化信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われる。
(16)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(14)または上記(15)の構成を含み、
Mを2以上の整数として、前記駆動回路は、1つのタイミング信号につきM個のラッチ回路を含み、
前記M個のラッチ回路は、対応するタイミング信号に基づいてM個のデータ信号を取り込み、その取り込んだM個のデータ信号を出力する。
Mを2以上の整数として、前記駆動回路は、1つのタイミング信号につきM個のラッチ回路を含み、
前記M個のラッチ回路は、対応するタイミング信号に基づいてM個のデータ信号を取り込み、その取り込んだM個のデータ信号を出力する。
(17)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(16)の構成に加え、
前記複数の画素電極に印加される電圧の極性を所定期間ごとに切り替えるための、前記複数の画素トランジスタを含む極性切替回路を備え、
前記極性切替回路は、前記複数の画素配線にそれぞれ対応する複数の極性制御部からなり、
各極性制御部は、対応するラッチ回路から出力されたデータ信号に基づいてオン/オフ状態が相反的に変化する第1画素トランジスタおよび第2画素トランジスタを含み、
各極性制御部には、第1レベルと第2レベルとの間で電圧レベルが前記所定期間ごとに相反的に変化する第1電圧および第2電圧が与えられ、
前記第1画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第1電圧が印加され、
前記第2画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第2電圧が印加される。
前記複数の画素電極に印加される電圧の極性を所定期間ごとに切り替えるための、前記複数の画素トランジスタを含む極性切替回路を備え、
前記極性切替回路は、前記複数の画素配線にそれぞれ対応する複数の極性制御部からなり、
各極性制御部は、対応するラッチ回路から出力されたデータ信号に基づいてオン/オフ状態が相反的に変化する第1画素トランジスタおよび第2画素トランジスタを含み、
各極性制御部には、第1レベルと第2レベルとの間で電圧レベルが前記所定期間ごとに相反的に変化する第1電圧および第2電圧が与えられ、
前記第1画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第1電圧が印加され、
前記第2画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第2電圧が印加される。
(18)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(14)または上記(15)の構成に加え、
前記複数の画素トランジスタを含むサンプリング回路を備え、
Kを2以上の整数として、K個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、対応するタイミング信号が与えられる制御端子と、対応するデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの制御端子には、同じタイミング信号が与えられ、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられる。
前記複数の画素トランジスタを含むサンプリング回路を備え、
Kを2以上の整数として、K個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、対応するタイミング信号が与えられる制御端子と、対応するデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの制御端子には、同じタイミング信号が与えられ、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられる。
(19)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(1)から上記(12)までのいずれかの構成を含み、
各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
前記複数の画素トランジスタの制御端子には、同じスイッチ制御信号が与えられ、
前記複数の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられる。
各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
前記複数の画素トランジスタの制御端子には、同じスイッチ制御信号が与えられ、
前記複数の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられる。
(20)また、本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置は、上記(1)から上記(12)までのいずれかの構成を含み、
Zを2以上の整数として、Z個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの制御端子には、前記スイッチ制御信号として互いに異なる信号が与えられ、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの第1導通端子には、1つのデータ信号が時分割で与えられる。
Zを2以上の整数として、Z個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの制御端子には、前記スイッチ制御信号として互いに異なる信号が与えられ、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの第1導通端子には、1つのデータ信号が時分割で与えられる。
本発明のいくつかの実施形態による液晶表示装置によれば、画素トランジスタは、表示領域の外側の領域に設けられる。すなわち、表示領域内に画素トランジスタは存在しない。これにより、表示領域において、充分な開口率が得られる。また、画素トランジスタは、パネル基板上の領域のうち入力パッド群と表示領域との間以外の領域のみに設けられる。これにより、入力パッド群と表示領域との間に画素トランジスタを設ける構成に比べて、全体として額縁領域のサイズを小さくすることができる。以上より、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
<0.全ての実施形態に関わる事項>
まず、全ての実施形態に関わる事項について説明する。
まず、全ての実施形態に関わる事項について説明する。
<0.1 表示装置の概略構成>
図2は、全ての実施形態における表示装置100の概略構成について説明するための模式図である。なお、この表示装置100は2つの表示パネルを備えた2層ディスプレイである。図2に示すように、この表示装置100は、偏光板140と位相差板130と液晶表示装置120と有機EL表示装置110とによって構成されている。それらの構成要素は、図2に示すように、視聴者側から偏光板140、位相差板130、液晶表示装置120、有機EL表示装置110の順で配置されている。偏光板140については、吸収型であっても良いし、反射型であっても良い。液晶表示装置120は反射型液晶表示装置であって、そのセル厚は一般的な透過型液晶表示装置に比べて約2分の1である。有機EL表示装置110は、反射層を有している。なお、位相差板130は光学補償や視野角拡大のために設けられているが、位相差板130を設けない構成を採用することもできる。
図2は、全ての実施形態における表示装置100の概略構成について説明するための模式図である。なお、この表示装置100は2つの表示パネルを備えた2層ディスプレイである。図2に示すように、この表示装置100は、偏光板140と位相差板130と液晶表示装置120と有機EL表示装置110とによって構成されている。それらの構成要素は、図2に示すように、視聴者側から偏光板140、位相差板130、液晶表示装置120、有機EL表示装置110の順で配置されている。偏光板140については、吸収型であっても良いし、反射型であっても良い。液晶表示装置120は反射型液晶表示装置であって、そのセル厚は一般的な透過型液晶表示装置に比べて約2分の1である。有機EL表示装置110は、反射層を有している。なお、位相差板130は光学補償や視野角拡大のために設けられているが、位相差板130を設けない構成を採用することもできる。
以上のような構成において、高精細表示を行う際には、液晶表示装置120の全ての画素を透過状態にして有機EL表示装置110による画像表示が行われる。一方、文字情報の表示など簡易な表示を行う際には、液晶表示装置120によって、有機EL表示装置110の反射層による外光の反射光を利用した画像表示が行われる。
なお、上述したように、本開示は、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率が得られる液晶表示装置を実現することを目的としている。そこで、以下においては、液晶表示装置120に関する説明のみを行う。
<0.2 TFT基板上の構成>
液晶表示装置120は、互いに対向する2枚の基板(TFT基板および対向基板)からなる。TFT基板には、画素電極、画素配線、画素トランジスタなどが形成される。対向基板には、全ての画素に共通の共通電極が形成される。以下、TFT基板上の構成について詳しく説明する。
液晶表示装置120は、互いに対向する2枚の基板(TFT基板および対向基板)からなる。TFT基板には、画素電極、画素配線、画素トランジスタなどが形成される。対向基板には、全ての画素に共通の共通電極が形成される。以下、TFT基板上の構成について詳しく説明する。
TFT基板上の構成(各構成要素の配置)に関し、各実施形態で採用され得る構成について説明する前に、参考例としての構成(図43参照)について説明する。参考例に係る構成では、TFT基板95上の表示領域910は複数の単位表示エリア919に分割されている。表示領域910には各単位表示エリア919に対応するように画素電極が形成されており、各画素電極に対応する画素トランジスタ930が表示領域910の外側に設けられている。より詳しくは、TFT基板95上において、表示領域910を形成する4辺のうちの1辺に沿って複数の画素トランジスタ930が設けられている。また、画素トランジスタ930とそれに対応する画素電極とを接続する画素配線911がTFT基板95上に形成されている。以上のような構成により、表示領域910内の画素は個別に駆動される。ここで、複数の画素トランジスタ930の近傍には、それら複数の画素トランジスタ930を駆動する駆動回路940が形成されている。また、駆動回路940の近傍には、複数の画素トランジスタ930を駆動するための駆動信号群が入力される入力パッド群920が設けられている。さらに、TFT基板95上には、入力パッド群920に入力された駆動信号群を駆動回路940に伝達するための信号配線群951が形成されている。なお、図43では、1つの入力パッドに符号921を付している。
以上のように、参考例に係る構成によれば、入力パッド群920と表示領域910との間に、駆動回路940と画素トランジスタ930とが設けられている。それ故、国際公開2020/255536号パンフレットに開示された構成と同様、表示領域910を基準として入力パッド群920側の額縁領域が必然的に広くなってしまう。そこで、以下、後述する実施形態で採用され得る構成(TFT基板95上における各構成要素の配置)について説明する。
<0.2.1 第1の例>
図1は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第1の例を示す図である。図1に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第1の例では、参考例と同様、TFT基板5上の表示領域10は複数の単位表示エリア19に分割されていて、表示領域10には各単位表示エリア19に対応するように画素電極が形成されている(後述する第2~第7の例も同様である)。また、参考例と同様、画素電極と画素トランジスタ30とを接続する画素配線11がTFT基板5上に形成されている。このような構成により、表示領域10内の画素は個別に駆動される。
図1は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第1の例を示す図である。図1に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第1の例では、参考例と同様、TFT基板5上の表示領域10は複数の単位表示エリア19に分割されていて、表示領域10には各単位表示エリア19に対応するように画素電極が形成されている(後述する第2~第7の例も同様である)。また、参考例と同様、画素電極と画素トランジスタ30とを接続する画素配線11がTFT基板5上に形成されている。このような構成により、表示領域10内の画素は個別に駆動される。
第1の例では、参考例とは異なり、画素トランジスタ30および駆動回路40と入力パッド群20とは表示領域10を挟んで互いに反対側の額縁領域に設けられている。ここで、以下、TFT基板5に関し、説明の便宜上、図面(図1など)上で下方に位置する辺を「第1辺」といい、図面上で上方に位置する辺(第1辺に対向する辺)を「第2辺」といい、図面上で左方に位置する辺(第1辺の一端と第2辺の一端とを結ぶ辺)を「第3辺」といい、図面上で右方に位置する辺(第1辺の他端と第2辺の他端とを結ぶ辺)を「第4辺」という。そうすると、第1の例では、入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第2辺に沿った額縁領域のみに設けられている。第2辺に沿った額縁領域に着目すると、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。
なお、図1では、入力パッド群20に入力された駆動信号群を駆動回路40に伝達するための信号配線群に符号51を付し、入力パッド群20に含まれる1つの入力パッドに符号21を付している(図3~図9も同様)。
ところで、第1の例では、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。換言すれば、複数の画素配線11の全てについて画素トランジスタ30から画素電極へと延びる方向が同じになるように、複数の画素トランジスタ30が配置されている。
<0.2.2 第2の例>
図3は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第2の例を示す図である。図3に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第2の例では、入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第4辺に沿った額縁領域のみに設けられている。第4辺に沿った額縁領域に着目すると、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。なお、画素トランジスタ30および駆動回路40が第3辺に沿った額縁領域のみに設けられていても良い。第1の例と同様、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。
図3は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第2の例を示す図である。図3に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第2の例では、入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第4辺に沿った額縁領域のみに設けられている。第4辺に沿った額縁領域に着目すると、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。なお、画素トランジスタ30および駆動回路40が第3辺に沿った額縁領域のみに設けられていても良い。第1の例と同様、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。
<0.2.3 第3の例>
図4は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第3の例を示す図である。図4に示すように、第1の例や第2の例とは異なり、TFT基板5は円形の形状を有している。第3の例では、入力パッド群20は図4における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図4における表示領域10の右方に設けられている。図4における表示領域10の右方に着目すると、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。第1の例や第2の例と同様、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。なお、画素トランジスタ30および駆動回路40が図4における表示領域10の左方に設けられていても良い。
図4は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第3の例を示す図である。図4に示すように、第1の例や第2の例とは異なり、TFT基板5は円形の形状を有している。第3の例では、入力パッド群20は図4における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図4における表示領域10の右方に設けられている。図4における表示領域10の右方に着目すると、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。第1の例や第2の例と同様、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。なお、画素トランジスタ30および駆動回路40が図4における表示領域10の左方に設けられていても良い。
図5を参照しつつ、入力パッド群20と画素トランジスタ30との位置関係について更に詳しく説明する。ここでは、表示領域10と入力パッド群20とを結ぶ最短の仮想的なラインを「第1仮想ライン」という。第1仮想ラインには符号53を付す。第1仮想ライン53と表示領域10との接続点には符号54を付す。また、第1仮想ライン53と表示領域10との接続点54を通過し第1仮想ライン53に直交する仮想的なライン(上記接続点54を通過する接線)を「第2仮想ライン」という。第2仮想ラインには符号55を付す。以上のような前提下、第2仮想ライン55を基準として表示領域10が存在する側の額縁領域のみに画素トランジスタ30が設けられている。
<0.2.4 第4の例>
図6は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第4の例を示す図である。図6に示すように、TFT基板5は円形の形状を有している。第4の例では、入力パッド群20は図6における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図6における表示領域10の上方に設けられている。詳しくは、表示領域10の中心を通過し上記第2仮想ライン55に平行な仮想的なラインを「第3仮想ライン」とすると(第3仮想ラインには符号56を付す)、第3仮想ライン56を基準として入力パッド群20が存在しない側の額縁領域(図6で符号57を付した範囲内の額縁領域)のみに画素トランジスタ30が設けられている。なお、この第4の例においても、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。また、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。
図6は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第4の例を示す図である。図6に示すように、TFT基板5は円形の形状を有している。第4の例では、入力パッド群20は図6における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図6における表示領域10の上方に設けられている。詳しくは、表示領域10の中心を通過し上記第2仮想ライン55に平行な仮想的なラインを「第3仮想ライン」とすると(第3仮想ラインには符号56を付す)、第3仮想ライン56を基準として入力パッド群20が存在しない側の額縁領域(図6で符号57を付した範囲内の額縁領域)のみに画素トランジスタ30が設けられている。なお、この第4の例においても、画素トランジスタ30は駆動回路40と表示領域10との間の領域に配置されている。また、「片側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。
<0.2.5 第5の例>
図7は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第5の例を示す図である。図7に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第5の例では、第1~第4の例とは異なり、「両側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第3辺に沿った額縁領域と第4辺に沿った額縁領域とに設けられている。例えば、全ての画素トランジスタ30のうちの半数の画素トランジスタ30が第3辺に沿った額縁領域に設けられ、残りの画素トランジスタ30が第4辺に沿った額縁領域に設けられている。このように画素トランジスタ30が第3辺に沿った額縁領域と第4辺に沿った額縁領域とに設けられていることから、画素電極から第3辺に沿った額縁領域へと延びる画素配線11と画素電極から第4辺に沿った額縁領域へと延びる画素配線11とが存在する。これらの画素配線11は、例えば櫛歯状に形成されている。
図7は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第5の例を示す図である。図7に示すように、TFT基板5は矩形の形状を有している。第5の例では、第1~第4の例とは異なり、「両側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第3辺に沿った額縁領域と第4辺に沿った額縁領域とに設けられている。例えば、全ての画素トランジスタ30のうちの半数の画素トランジスタ30が第3辺に沿った額縁領域に設けられ、残りの画素トランジスタ30が第4辺に沿った額縁領域に設けられている。このように画素トランジスタ30が第3辺に沿った額縁領域と第4辺に沿った額縁領域とに設けられていることから、画素電極から第3辺に沿った額縁領域へと延びる画素配線11と画素電極から第4辺に沿った額縁領域へと延びる画素配線11とが存在する。これらの画素配線11は、例えば櫛歯状に形成されている。
第5の例では、「両側駆動」と呼ばれる駆動を実現するために、表示領域10内の複数の画素電極にそれぞれ接続された複数の画素配線11は、第3辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタ30とそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、第4辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタ30とそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。複数の第1タイプの画素配線に接続された画素トランジスタ30は第3辺に沿った額縁領域のみに設けられ、複数の第2タイプの画素配線に接続された画素トランジスタ30は第4辺に沿った額縁領域のみに設けられている。
<0.2.6 第6の例>
図8は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第6の例を示す図である。図8に示すように、TFT基板5は円形の形状を有している。第6の例では、第5の例と同様、「両側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。入力パッド群20は図8における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図8における表示領域10の左方および表示領域10の右方の双方に設けられている。例えば、全ての画素トランジスタ30のうちの半数の画素トランジスタ30が表示領域10の左方の額縁領域に設けられ、残りの画素トランジスタ30が表示領域10の右方の額縁領域に設けられている。このように画素トランジスタ30が表示領域10の左方の額縁領域と表示領域10の右方の額縁領域とに設けられていることから、画素電極から表示領域10の左方の額縁領域へと延びる画素配線11と画素電極から表示領域10の右方の額縁領域へと延びる画素配線11とが存在する。これらの画素配線11は、例えば櫛歯状に形成されている。
図8は、TFT基板5上における各構成要素の配置に関する第6の例を示す図である。図8に示すように、TFT基板5は円形の形状を有している。第6の例では、第5の例と同様、「両側駆動」と呼ばれる駆動が行われるように、複数の画素トランジスタ30および複数の画素配線11が配置されている。入力パッド群20は図8における表示領域10の下方に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は図8における表示領域10の左方および表示領域10の右方の双方に設けられている。例えば、全ての画素トランジスタ30のうちの半数の画素トランジスタ30が表示領域10の左方の額縁領域に設けられ、残りの画素トランジスタ30が表示領域10の右方の額縁領域に設けられている。このように画素トランジスタ30が表示領域10の左方の額縁領域と表示領域10の右方の額縁領域とに設けられていることから、画素電極から表示領域10の左方の額縁領域へと延びる画素配線11と画素電極から表示領域10の右方の額縁領域へと延びる画素配線11とが存在する。これらの画素配線11は、例えば櫛歯状に形成されている。
なお、第3の例と同様、上述した第2仮想ライン55を基準として表示領域10が存在する側の額縁領域のみに画素トランジスタ30が設けられている。ここで、上述した第1仮想ライン53と表示領域10との接続点54(図5参照)と表示領域10の中心とを通過する仮想的なラインを「第4仮想ライン」とすると(第4仮想ラインには符号58を付す)、第3の例では、第4仮想ライン58を基準として一方の側の領域のみに画素トランジスタ30が設けられていた(図4参照)。これに対して、この第6の例では、第4仮想ライン58を基準として一方の側の額縁領域および他方の側の額縁領域の双方に画素トランジスタ30が設けられている。
第6の例では、「両側駆動」と呼ばれる駆動を実現するために、表示領域10内の複数の画素電極にそれぞれ接続された複数の画素配線11は、第4仮想ライン58を基準として一方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタ30とそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、第4仮想ライン58を基準として他方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタ30とそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなる。複数の第1タイプの画素配線に接続された画素トランジスタ30は第4仮想ライン58を基準として一方の側の額縁領域のみに設けられ、複数の第2タイプの画素配線に接続された画素トランジスタ30は第4仮想ライン58を基準として他方の側の額縁領域のみに設けられている。
<0.2.7 第7の例>
第1~第6の例では画素トランジスタ30を駆動するための駆動回路40がTFT基板5上に形成されていたが、これには限定されず、入力パッド群20に接続された基板(TFT基板5以外の基板)上に駆動回路が設けられていても良い。そこで、画素トランジスタ30を駆動するための駆動回路40がTFT基板5上に設けられていない構成を第7の例として説明する(図9参照)。第7の例では、入力パッド群20が第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60が第2辺に沿った額縁領域に設けられている。なお、図9に示した構成は第1の例に関して画素トランジスタ30および駆動回路40を画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60に置き換えた構成となっているが、第2~第6のそれぞれの例に関して画素トランジスタ30および駆動回路40を画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60に置き換えた構成を採用することもできる。
第1~第6の例では画素トランジスタ30を駆動するための駆動回路40がTFT基板5上に形成されていたが、これには限定されず、入力パッド群20に接続された基板(TFT基板5以外の基板)上に駆動回路が設けられていても良い。そこで、画素トランジスタ30を駆動するための駆動回路40がTFT基板5上に設けられていない構成を第7の例として説明する(図9参照)。第7の例では、入力パッド群20が第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60が第2辺に沿った額縁領域に設けられている。なお、図9に示した構成は第1の例に関して画素トランジスタ30および駆動回路40を画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60に置き換えた構成となっているが、第2~第6のそれぞれの例に関して画素トランジスタ30および駆動回路40を画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60に置き換えた構成を採用することもできる。
<0.2.8 まとめ>
以上のように、第1~第7の例のいずれについても、表示領域10内の複数の画素電極にそれぞれ対応する複数の画素トランジスタ30を駆動するための駆動信号群が入力される入力パッド群20がTFT基板(パネル基板)5上の一端部に設けられ、それら複数の画素トランジスタ30はTFT基板5(パネル基板)上の領域のうち入力パッド群20と表示領域10との間以外の領域のみに設けられている。
以上のように、第1~第7の例のいずれについても、表示領域10内の複数の画素電極にそれぞれ対応する複数の画素トランジスタ30を駆動するための駆動信号群が入力される入力パッド群20がTFT基板(パネル基板)5上の一端部に設けられ、それら複数の画素トランジスタ30はTFT基板5(パネル基板)上の領域のうち入力パッド群20と表示領域10との間以外の領域のみに設けられている。
<0.3 表示領域の構成>
次に、図10を参照しつつ、全ての実施形態における表示領域10の概略構成について説明する。表示領域10には、上述した複数の単位表示エリア19と1対1で対応するように複数の画素電極12が形成されている。なお、以下の各実施形態では、表示領域10に960個の画素電極12(32行×30列の画素電極12:図10参照)が形成されているものと仮定する。
次に、図10を参照しつつ、全ての実施形態における表示領域10の概略構成について説明する。表示領域10には、上述した複数の単位表示エリア19と1対1で対応するように複数の画素電極12が形成されている。なお、以下の各実施形態では、表示領域10に960個の画素電極12(32行×30列の画素電極12:図10参照)が形成されているものと仮定する。
一般的な液晶表示装置では表示領域内に画素トランジスタが設けられているが、ここで説明する全ての実施形態における液晶表示装置では画素トランジスタ30は表示領域10内には設けられず表示領域10の外側に設けられている。図10に示すように、表示領域10の外側に設けられた960個の画素トランジスタ30と表示領域10に形成された960個の画素電極12とを接続する960本の画素配線11がTFT基板5上に配設されている。
図11は、全ての実施形態における画素の構造を示す模式図である。図11に示すように、TFT基板5上に形成された画素電極12と対向基板上に形成された共通電極13とが対向しており、画素電極12と共通電極13とによって挟持されるように液晶層14が設けられている。共通電極13は全ての画素で共通的に用いられる1つの電極であって、液晶の劣化を抑制するために、電圧レベルがハイレベルとローレベルとの間で所定期間ごとに変化する共通電極駆動信号VCOMが共通電極13に与えられる。
<0.4 効果>
上記のような構成によれば、表示領域10内の複数の画素電極12にそれぞれ対応する複数の画素トランジスタ30は、TFT基板5上の領域のうち入力パッド群20と表示領域10との間以外の領域のみに設けられている。
上記のような構成によれば、表示領域10内の複数の画素電極12にそれぞれ対応する複数の画素トランジスタ30は、TFT基板5上の領域のうち入力パッド群20と表示領域10との間以外の領域のみに設けられている。
例えば、第1の例では、入力パッド群20は第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第2辺に沿った額縁領域のみに設けられている(図1参照)。参考例に係る構成(図43参照)と第1の例に係る構成とを比較すると、図12に示すように、第2辺に沿った額縁領域の幅(図面上での上下方向についての長さ)については参考例よりも第1の例の方がW1だけ長くなるが、第1辺に沿った額縁領域の幅(図面上での上下方向についての長さ)については参考例よりも第1の例の方がW2だけ短くなる。ここで、W2はW1よりも長い。それ故、第1の例によれば、全体として額縁領域のサイズを参考例よりも小さくすることができる。第4の例(図6参照)についても同様である。
また、例えば、第2の例では、入力パッド群20は、第1辺に沿った額縁領域に設けられ、画素トランジスタ30および駆動回路40は第4辺に沿った額縁領域のみに設けられている(図3参照)。参考例に係る構成と第2の例に係る構成とを比較すると、図13に示すように、第4辺に沿った額縁領域の幅(図面上での左右方向についての長さ)については参考例よりも第2の例の方がW3だけ長くなるが、図14に示すように、第1辺に沿った額縁領域の幅(図面上での上下方向についての長さ)については参考例よりも第2の例の方がW4だけ短くなる。ここで、W4はW3よりも長い。それ故、第2の例によれば、全体として額縁領域のサイズを参考例よりも小さくすることができる。第3の例(図4参照)、第5の例(図7参照)、および第6の例(図8参照)についても同様である。
さらに、第7の例(図9参照)によれば、画素トランジスタ30を駆動するための駆動回路40がTFT基板5上に設けられないので、額縁領域のサイズを参考例よりも顕著に小さくすることができる。
以上のように、表示領域10の外側に画素トランジスタ30を設けるという構成に関し、第1~第7の例のいずれについても参考例よりも額縁領域のサイズを小さくすることができる。また、表示領域10内には画素トランジスタ30は存在しないので、充分な開口率を得ることが可能となる。以上より、全ての実施形態において、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
<1.第1の実施形態>
第1の実施形態について説明する。本実施形態においては、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
第1の実施形態について説明する。本実施形態においては、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
<1.1 画素配線の駆動に関わる構成>
図15を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図15に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40と極性切替回路70とが設けられている。駆動回路40は、シフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されている。なお、画素トランジスタ30は極性切替回路70に含まれている。
図15を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図15に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40と極性切替回路70とが設けられている。駆動回路40は、シフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されている。なお、画素トランジスタ30は極性切替回路70に含まれている。
シフトレジスタ41には、信号配線群51を介して、制御クロック信号BCKと制御クロック信号BCKBとスタートパルス信号BSPと初期化信号INIとが与えられる。シフトレジスタ41の内部の状態は、初期化信号INIに基づいて初期化される。シフトレジスタ41は、制御クロック信号BCKと制御クロック信号BCKBとスタートパルス信号BSPとに基づいてシフト動作を行う。そして、そのシフト動作に基づいて、後述する各単位回路からの出力信号がデータ信号の取り込みタイミングを表すタイミング信号として出力される。
ラッチ部42には、信号配線群51を介して、バイナリデータを表すデータ信号BDAT<0:7>が与えられる。なお、データ信号BDAT<0:7>は、8ビットのデータである。ラッチ部42には複数のラッチ回路が含まれており、各ラッチ回路は、対応するタイミング信号(シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号)に基づいて対応するデータ信号を取り込み、その取り込んだデータ信号を出力する。
極性切替回路70には、信号配線群51を介して、白色表示用電圧VAと黒色表示用電圧VBとが与えられる。白色表示用電圧VAと黒色表示用電圧VBとに関し、それらの電圧レベルはハイレベル(第1レベル)とローレベル(第2レベル)との間で所定期間ごとに相反的に変化する。極性切替回路には表示領域10内の複数の画素配線11にそれぞれ対応する複数の極性制御部が含まれており、各極性制御部は、対応するラッチ回路から出力されたデータ信号に基づいて、白色表示用電圧VAまたは黒色表示用電圧VBのいずれかを対応する画素配線に印加する。なお、本実施形態においては、白色表示用電圧VAによって第1電圧が実現され、黒色表示用電圧VBによって第2電圧が実現されている。
以上のようにして各画素電極12にデータ信号BDAT<0:7>に応じた電圧(白色表示用電圧VAまたは黒色表示用電圧VB)が印加されることにより、表示領域10に所望の画像が表示される。
<1.2 駆動回路の詳細な構成>
図16は、シフトレジスタ41の詳細な構成を示す回路図である。図16に示すように、シフトレジスタ41は、直列に接続された120個の単位回路411(1)~411(120)と、リセット信号生成回路412と、複数のバッファ413とによって構成されている。各単位回路411は、フリップフロップ回路である。上述したように、シフトレジスタ41には、制御クロック信号BCKと制御クロック信号BCKBとスタートパルス信号BSPと初期化信号INIとが与えられる。単位回路411(1)~411(120)の状態は、初期化信号INIに基づいて初期化される。各単位回路411には、前段の単位回路411からの出力信号Qがセット信号SBとして与えられ、次段の単位回路411からの出力信号Qがリセット信号Rとして与えられる。但し、1段目の単位回路411(1)についてはスタートパルス信号BSPがセット信号SBとして与えられ、120段目の単位回路411(120)についてはリセット信号生成回路412によって生成された信号がリセット信号Rとして与えられる。各単位回路411では、セット信号SBがハイレベルになった後、制御クロック信号BCK,BCKBに基づいて出力信号Qがハイレベルとなる(すなわち、シフトパルスが出力される)。そして、リセット信号Rがハイレベルになることによって、出力信号Qはローレベルとなる。
図16は、シフトレジスタ41の詳細な構成を示す回路図である。図16に示すように、シフトレジスタ41は、直列に接続された120個の単位回路411(1)~411(120)と、リセット信号生成回路412と、複数のバッファ413とによって構成されている。各単位回路411は、フリップフロップ回路である。上述したように、シフトレジスタ41には、制御クロック信号BCKと制御クロック信号BCKBとスタートパルス信号BSPと初期化信号INIとが与えられる。単位回路411(1)~411(120)の状態は、初期化信号INIに基づいて初期化される。各単位回路411には、前段の単位回路411からの出力信号Qがセット信号SBとして与えられ、次段の単位回路411からの出力信号Qがリセット信号Rとして与えられる。但し、1段目の単位回路411(1)についてはスタートパルス信号BSPがセット信号SBとして与えられ、120段目の単位回路411(120)についてはリセット信号生成回路412によって生成された信号がリセット信号Rとして与えられる。各単位回路411では、セット信号SBがハイレベルになった後、制御クロック信号BCK,BCKBに基づいて出力信号Qがハイレベルとなる(すなわち、シフトパルスが出力される)。そして、リセット信号Rがハイレベルになることによって、出力信号Qはローレベルとなる。
単位回路411が上述のように動作するので、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCK,BCKBに基づいて、1段ずつ単位回路411からの出力信号Qがハイレベルとなる。すなわち、各単位回路411から出力されるハイレベルの出力信号Qがシフトパルスとして1段目から120段目へと順次に転送される。また、各単位回路411からの出力信号Qは、次段および前段の単位回路411に与えられる他、タイミング信号SRとしてラッチ回路に与えられる。以上より、図17に示すように、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCK,BCKBに基づいて、「タイミング信号SR(1)、タイミング信号SR(2)、・・・、タイミング信号SR(119)、タイミング信号SR(120)」の順序でタイミング信号が所定期間ずつハイレベル(アクティブ)となる。
図18は、ラッチ部42の構成を示すブロック図である。図18に示すように、ラッチ部42は、120個のラッチ回路群421(1)~421(120)によって構成されている。各ラッチ回路群421には8個のラッチ回路が含まれている。従って、全体では960個のラッチ回路が設けられている。各ラッチ回路群421には、データ信号BDAT<0:7>と、シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRとが与えられる。各ラッチ回路群421は、入力されたタイミング信号SRがローレベルからハイレベルに変化すると、データ信号BDAT<0:7>を取り込み、その取り込んだデータ信号を出力する。なお、ラッチ回路から出力されるデータ信号には符号BOUTを付している。タイミング信号は上述したように「タイミング信号SR(1)、タイミング信号SR(2)、・・・、タイミング信号SR(119)、タイミング信号SR(120)」の順序でハイレベルとなるので(図17参照)、「ラッチ回路群421(1)、ラッチ回路群421(2)、・・・、ラッチ回路群421(119)、ラッチ回路群421(120)」の順序でラッチ回路群でのデータ信号BDAT<0:7>の取り込みが行われる。
以上より、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルが反転する毎に、ラッチ回路群421によるデータ信号BDAT<0:7>の取り込みが行われる。すなわち、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルが1回反転すると、8ビット分のデータがラッチ回路群421に取り込まれる。従って、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルの反転が120回行われた時点で、全ての画素電極12に対応するデータについてのラッチ回路への取り込みが終了する。
図19は、1つのラッチ回路(1ビット分のデータに対応するラッチ回路)422の概略について説明するための図である。ラッチ回路422には、1ビット分のデータ信号BDATが入力信号INとして与えられ、シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRがイネーブル信号ENとして与えられる。そして、ラッチ回路422から出力される出力信号OUTは、データ信号BOUTとして極性切替回路70に与えられる。
図20は、1つのラッチ回路422の詳細な構成を示す回路図である。なお、ここで示す構成は一例であって、これには限定されない。ラッチ回路422は、インバータ481と、nチャネル型トランジスタとpチャネル型トランジスタとからなるCMOSスイッチ450と、pチャネル型トランジスタ461とpチャネル型トランジスタ462とnチャネル型トランジスタ463とnチャネル型トランジスタ464とからなるクロックドインバータ460と、pチャネル型トランジスタ471とnチャネル型トランジスタ472とからなるCMOSインバータ470と、インバータ482とによって構成されている。
ラッチ回路422に入力されたイネーブル信号ENは、CMOSスイッチ450を構成するnチャネル型トランジスタのゲート端子に与えられる。また、図20に示すようにインバータ481が設けられていることにより、反転イネーブル信号ENBがCMOSスイッチ450を構成するpチャネル型トランジスタのゲート端子に与えられる。以上より、イネーブル信号ENがハイレベルであれば、CMOSスイッチ450がオン状態となるので、入力信号INがクロックドインバータ460に与えられる。一方、イネーブル信号ENがローレベルであれば、CMOSスイッチ450がオフ状態となるので、入力信号INはクロックドインバータ460に与えられない。
クロックドインバータ460については、入力端子は節点484に接続され、出力端子は節点483に接続されている。CMOSインバータ470については、入力端子は節点483に接続され、出力端子は節点484に接続されている。また、イネーブル信号ENがローレベルであればpチャネル型トランジスタ461およびnチャネル型トランジスタ464の双方がオン状態となり、イネーブル信号ENがハイレベルであればpチャネル型トランジスタ461およびnチャネル型トランジスタ464の双方がオフ状態となる。以上より、イネーブル信号ENがハイレベルになっている時にこのラッチ回路422に入力された入力信号INの値は、次にイネーブル信号ENがハイレベルとなるまでの期間を通じて、クロックドインバータ460とCMOSインバータ470とによって保持される。ところで、入力信号INがハイレベルであれば、節点483の電位はハイレベルとなり、出力信号OUTもハイレベルとなる。一方、入力信号INがローレベルであれば、節点483の電位はローレベルとなり、出力信号OUTもローレベルとなる。
なお、上述したように、本実施形態においては、各ラッチ回路群421には8個のラッチ回路422が含まれている。すなわち、1つのタイミング信号につき8個のラッチ回路422が設けられている。しかしながら、これには限定されず、Mを2以上の整数として、駆動回路40が1つのタイミング信号につきM個のラッチ回路422を含むような構成を採用することもできる。この場合、それらM個のラッチ回路422は、対応するタイミング信号SRに基づいてM個のデータ信号(Mビット分のデータ)を取り込み、その取り込んだM個のデータ信号を出力する。
<1.3 極性切替回路の詳細な構成>
図21は、極性切替回路70の概略構成を示すブロック図である。図21に示すように、極性切替回路70は、960本の画素配線11にそれぞれ対応する960個の極性制御部71によって構成されている。各極性制御部71は、データ信号BOUTに基づいて、白色表示用電圧VAまたは黒色表示用電圧VBのいずれかを画素配線11に印加するデータ信号SLとして出力する。
図21は、極性切替回路70の概略構成を示すブロック図である。図21に示すように、極性切替回路70は、960本の画素配線11にそれぞれ対応する960個の極性制御部71によって構成されている。各極性制御部71は、データ信号BOUTに基づいて、白色表示用電圧VAまたは黒色表示用電圧VBのいずれかを画素配線11に印加するデータ信号SLとして出力する。
図22は、極性制御部71の概略構成を示す図である。図22に示すように、極性制御部71は、オン/オフ状態がデータ信号BOUTに基づいて制御される2つのスイッチ711,712を含んでいる。スイッチ711およびスイッチ712のオン/オフ状態は相反的に変化する。それら2つのスイッチ711,712は、画素トランジスタ30として機能する。例えば、データ信号BOUTがハイレベルになっている時にはスイッチ711がオフ状態かつスイッチ712がオン状態となり、データ信号BOUTがローレベルになっている時にはスイッチ711がオン状態かつスイッチ712がオフ状態となる。これにより、データ信号BOUTがハイレベルになっている時には黒色表示用電圧VBがデータ信号SLとして画素配線11に印加され、データ信号BOUTがローレベルになっている時には白色表示用電圧VAがデータ信号SLとして画素配線11に印加される。以下、極性制御部71のさらに詳しい構成に関する2つの例について説明する。
図23は、片チャネルのスイッチを用いた極性制御部71の詳細な構成を示す回路図である。図23に示すように、この極性制御部71は、nチャネル型トランジスタ713とnチャネル型トランジスタ714とインバータ715とによって構成されている。nチャネル型トランジスタ713およびnチャネル型トランジスタ714は画素トランジスタ30として機能する。インバータ715の入力端子にはデータ信号BOUTが与えられ、インバータ715の出力端子はnチャネル型トランジスタ713の制御端子に接続されている。nチャネル型トランジスタ714の制御端子にはデータ信号BOUTが与えられる。nチャネル型トランジスタ713の第1導通端子には白色表示用電圧VAが与えられ、nチャネル型トランジスタ713の第2導通端子は画素配線11に接続されている。nチャネル型トランジスタ714の第1導通端子には黒色表示用電圧VBが与えられ、nチャネル型トランジスタ714の第2導通端子は画素配線11に接続されている。
以上のような構成により、データ信号BOUTがハイレベルになっている時には、nチャネル型トランジスタ713がオフ状態かつnチャネル型トランジスタ714がオン状態となるので、黒色表示用電圧VBがデータ信号SLとして画素配線11に印加される。一方、データ信号BOUTがローレベルになっている時には、nチャネル型トランジスタ713がオン状態かつnチャネル型トランジスタ714がオフ状態となるので、白色表示用電圧VAがデータ信号SLとして画素配線11に印加される。
なお、この図23に示す例では、nチャネル型トランジスタ713によって第1画素トランジスタが実現され、nチャネル型トランジスタ714によって第2画素トランジスタが実現されている。
図24は、CMOSスイッチを用いた極性制御部71の詳細な構成を示す回路図である。図24に示すように、この極性制御部71は、CMOSスイッチ716とCMOSスイッチ717とインバータ718とによって構成されている。CMOSスイッチ716およびCMOSスイッチ717は画素トランジスタ30として機能する。インバータ718の入力端子にはデータ信号BOUTが与えられ、インバータ718の出力端子はCMOSスイッチ716を構成するnチャネル型トランジスタの制御端子とCMOSスイッチ717を構成するpチャネル型トランジスタの制御端子とに接続されている。CMOSスイッチ716を構成するpチャネル型トランジスタの制御端子とCMOSスイッチ717を構成するnチャネル型トランジスタの制御端子とにはデータ信号BOUTが与えられる。CMOSスイッチ716の入力端子には白色表示用電圧VAが与えられ、CMOSスイッチ716の出力端子は画素配線11に接続されている。CMOSスイッチ717の入力端子には黒色表示用電圧VBが与えられ、CMOSスイッチ717の出力端子は画素配線11に接続されている。
以上のような構成により、データ信号BOUTがハイレベルになっている時には、CMOSスイッチ716がオフ状態かつCMOSスイッチ717がオン状態となるので、黒色表示用電圧VBがデータ信号SLとして画素配線11に印加される。一方、データ信号BOUTがローレベルになっている時には、CMOSスイッチ716がオン状態かつCMOSスイッチ717がオフ状態となるので、白色表示用電圧VAがデータ信号SLとして画素配線11に印加される。
なお、この図24に示す例では、CMOSスイッチ716を構成するnチャネル型トランジスタおよびpチャネル型トランジスタによって第1画素トランジスタが実現され、CMOSスイッチ717を構成するnチャネル型トランジスタおよびpチャネル型トランジスタによって第2画素トランジスタが実現されている。
図25は、液晶印加電圧(液晶層14に印加される電圧)の極性の切り替えについて説明するための信号波形図である。図25に示すように、白色表示用電圧VAおよび黒色表示用電圧VBに関しては、それらの電圧レベルがハイレベルとローレベルとの間で所定期間ごとに相反的に変化する。また、共通電極13に印加される共通電極駆動信号VCOMについても、その電圧レベルがハイレベルとローレベルとの間で所定期間ごとに変化する。ここで、共通電極駆動信号VCOMの電圧レベルがローレベルになっている期間には、液晶層14に正極性の電圧が印加される。一方、共通電極駆動信号VCOMの電圧レベルがハイレベルになっている期間には、液晶層14に負極性の電圧が印加される。以上のようにして液晶印加電圧の極性が所定期間ごとに反転するので、液晶の劣化が抑制される。
<1.4 効果>
本実施形態によれば、画素配線11の駆動に関わる構成要素として極性切替回路70が設けられているので、液晶印加電圧の極性を考慮していないデータ信号が入力パッド群20に入力される場合であっても、液晶印加電圧の極性が所定期間ごとに反転することにより液晶の劣化が抑制される。また、TFT基板5上における各構成要素を上述した第1~第6の例のように配置することにより、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率が得られる。以上より、本実施形態によれば、液晶の劣化および額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
本実施形態によれば、画素配線11の駆動に関わる構成要素として極性切替回路70が設けられているので、液晶印加電圧の極性を考慮していないデータ信号が入力パッド群20に入力される場合であっても、液晶印加電圧の極性が所定期間ごとに反転することにより液晶の劣化が抑制される。また、TFT基板5上における各構成要素を上述した第1~第6の例のように配置することにより、額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率が得られる。以上より、本実施形態によれば、液晶の劣化および額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
<2.第2の実施形態>
第2の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。なお、以下においては、主に、第1の実施形態と異なる点について説明する。
第2の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。なお、以下においては、主に、第1の実施形態と異なる点について説明する。
<2.1 画素配線の駆動に関わる構成>
図26を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図26に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40とサンプリング回路80とが設けられている。第1の実施形態においては、駆動回路40はシフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されていたが、本実施形態においては、駆動回路40にはシフトレジスタ41のみが含まれている。なお、画素トランジスタ30はサンプリング回路80に含まれている。
図26を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図26に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40とサンプリング回路80とが設けられている。第1の実施形態においては、駆動回路40はシフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されていたが、本実施形態においては、駆動回路40にはシフトレジスタ41のみが含まれている。なお、画素トランジスタ30はサンプリング回路80に含まれている。
シフトレジスタ41からは、第1の実施形態と同様にして、データ信号の取り込みタイミングを表すタイミング信号が出力される。サンプリング回路80には、データ信号BDAT<0:7>が与えられる。サンプリング回路80では、シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号に基づき、データ信号BDAT<0:7>のサンプリングが行われる。そして、サンプリング回路80によってサンプリングされた各データ信号は、対応する画素配線11に印加される。これにより、各画素電極12にデータ信号が印加され、表示領域10に所望の画像が表示される。
<2.2 サンプリング回路の構成>
図27は、サンプリング回路80の構成を示すブロック図である。図27に示すように、サンプリング回路80は、120個の単位サンプリング部81(1)~81(120)によって構成されている。各単位サンプリング部81は、8本の画素配線11に対応しており、8個の画素トランジスタ30を含んでいる。各単位サンプリング部81には、データ信号BDAT<0:7>と、シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRとが与えられる。各単位サンプリング部81は、入力されたタイミング信号SRがローレベルからハイレベルに変化すると、データ信号BDAT<0:7>のサンプリングを行う。タイミング信号SRは図17に示したように「タイミング信号SR(1)、タイミング信号SR(2)、・・・、タイミング信号SR(119)、タイミング信号SR(120)」の順序でハイレベルとなるので、「単位サンプリング部81(1)、単位サンプリング部81(2)、・・・、単位サンプリング部81(119)、単位サンプリング部81(120)」の順序でデータ信号BDAT<0:7>のサンプリングが行われる。
図27は、サンプリング回路80の構成を示すブロック図である。図27に示すように、サンプリング回路80は、120個の単位サンプリング部81(1)~81(120)によって構成されている。各単位サンプリング部81は、8本の画素配線11に対応しており、8個の画素トランジスタ30を含んでいる。各単位サンプリング部81には、データ信号BDAT<0:7>と、シフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRとが与えられる。各単位サンプリング部81は、入力されたタイミング信号SRがローレベルからハイレベルに変化すると、データ信号BDAT<0:7>のサンプリングを行う。タイミング信号SRは図17に示したように「タイミング信号SR(1)、タイミング信号SR(2)、・・・、タイミング信号SR(119)、タイミング信号SR(120)」の順序でハイレベルとなるので、「単位サンプリング部81(1)、単位サンプリング部81(2)、・・・、単位サンプリング部81(119)、単位サンプリング部81(120)」の順序でデータ信号BDAT<0:7>のサンプリングが行われる。
以上より、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルが反転する毎に、単位サンプリング部81によるデータ信号BDAT<0:7>のサンプリングが行われる。すなわち、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルが1回反転すると、8ビット分のデータがサンプリングされる。従って、スタートパルス信号BSPのパルスの発生後、制御クロック信号BCKおよび制御信号BCKBの論理レベルの反転が120回行われた時点で、全ての画素電極12に対応するデータのサンプリングが終了する。
なお、本実施形態においては、8個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるよう960個の画素トランジスタ30がグループ化されている。それ故、全体で120個のグループが形成されている。pを0以上7以下の整数かつqを1以上120以下の整数として、図27ではq番目のグループのp番目の画素トランジスタ30に対応するデータ信号(画素配線11に印加されるデータ信号)に符号SLp(q)を付している。
図28は、単位サンプリング部81の詳細な構成を示す回路図である。なお、図28に示す単位サンプリング部81は、n番目(nは1以上120以下の整数)のグループに対応する単位サンプリング部81である。図28に示すように、単位サンプリング部81は8個の画素トランジスタ30(0)~30(7)を含んでいる。各画素トランジスタ30に関し、制御端子にはタイミング信号SR(n)が与えられ、第1導通端子には対応するデータ信号BDAT(1ビット分)が与えられ、第2導通端子は対応する画素配線11に接続されている。図28から把握されるように、同じグループを形成する8個の画素トランジスタ30(0)~30(7)の制御端子には同じタイミング信号SRが与えられ、同じグループを形成する8個の画素トランジスタ30(0)~30(7)の第1導通端子には互いに異なるデータ信号BDATが与えられる。
以上のような構成において、タイミング信号SR(n)がローレベルからハイレベルに変化すると、8個の画素トランジスタ30(0)~30(7)がオン状態となり、データ信号BDAT<0>~BDAT<7>がそれぞれデータ信号SL0(n)~SL7(n)として画素配線11(0)~11(7)に印加される。
なお、本実施形態においては8個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われているが、Kを2以上の整数として、K個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われても良い。
<2.3 効果>
本実施形態によれば、駆動回路40を構成するシフトレジスタ41と表示領域10との間の領域にはサンプリング回路80が設けられるだけであるので、第1の実施形態に比べて額縁領域のサイズを小さくすることができる。
本実施形態によれば、駆動回路40を構成するシフトレジスタ41と表示領域10との間の領域にはサンプリング回路80が設けられるだけであるので、第1の実施形態に比べて額縁領域のサイズを小さくすることができる。
<3.第3の実施形態>
第3の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
第3の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
<3.1 画素配線の駆動に関わる構成>
図29を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図29に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40と極性切替回路70とが設けられている。第1の実施形態においては、駆動回路40はシフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されていたが、本実施形態においては、駆動回路40はデコーダ(復号化回路)43とラッチ部42とによって構成されている。なお、画素トランジスタ30は極性切替回路70に含まれている。
図29を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図29に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40と極性切替回路70とが設けられている。第1の実施形態においては、駆動回路40はシフトレジスタ41とラッチ部42とによって構成されていたが、本実施形態においては、駆動回路40はデコーダ(復号化回路)43とラッチ部42とによって構成されている。なお、画素トランジスタ30は極性切替回路70に含まれている。
デコーダ43には、信号配線群51を介して、第1アドレス選択信号GEN<1:2>と第2アドレス選択信号GSEL<0:11>とが与えられる。第1アドレス選択信号GEN<1:2>は2ビットのデータであり、第2アドレス選択信号GSEL<0:11>は12ビットのデータである。デコーダ43は、第1アドレス選択信号GEN<1:2>と第2アドレス選択信号GSEL<0:11>を符号化されたデータとして受け取り、当該データの復号化を行う。復号化で得られたデータ(復号化信号)は、ラッチ部42に含まれる各ラッチ回路422でのデータ信号BDAT<0:7>の取り込みタイミングを表すタイミング信号としてデコーダ43から出力される。ラッチ部42および極性切替回路70の構成・動作については、第1の実施形態と同様である。
以上より、デコーダ43から出力されたタイミング信号に基づいて、ラッチ部42でデータ信号BDAT<0:7>の取り込みが行われる。そして、極性切替回路70により、ラッチ部42が取り込んだデータ信号BDAT<0:7>に応じた電圧(白色表示用電圧VAまたは黒色表示用電圧VB)が各画素電極12に印加される。これにより、表示領域10に所望の画像が表示される。
<3.2 デコーダ(復号化回路)>
図30は、デコーダ43の詳細な構成を示す回路図である。図31は、デコーダ43に関し、1出力分の詳細な構成を示す回路図である。図30に示すように、デコーダ43には、第1アドレス選択信号GEN<1:2>と第2アドレス選択信号GSEL<0:11>とが与えられる。デコーダ43には、1出力分につき、図31に示すように、NAND回路431とインバータ432とNOR回路433とNAND回路434とインバータ435と出力端子(出力部)440とが含まれている。図31に関し、節点436には第1アドレス選択信号GEN<1>~GEN<2>のいずれかが与えられ、節点437には第2アドレス選択信号GSEL<0>~GSEL<3>のいずれかが与えられ、節点438には第2アドレス選択信号GSEL<4>~GSEL<7>のいずれかが与えられ、節点439には第2アドレス選択信号GSEL<8>~GSEL<11>のいずれかが与えられる。出力端子440からは、復号化信号がタイミング信号DECとして出力される。
図30は、デコーダ43の詳細な構成を示す回路図である。図31は、デコーダ43に関し、1出力分の詳細な構成を示す回路図である。図30に示すように、デコーダ43には、第1アドレス選択信号GEN<1:2>と第2アドレス選択信号GSEL<0:11>とが与えられる。デコーダ43には、1出力分につき、図31に示すように、NAND回路431とインバータ432とNOR回路433とNAND回路434とインバータ435と出力端子(出力部)440とが含まれている。図31に関し、節点436には第1アドレス選択信号GEN<1>~GEN<2>のいずれかが与えられ、節点437には第2アドレス選択信号GSEL<0>~GSEL<3>のいずれかが与えられ、節点438には第2アドレス選択信号GSEL<4>~GSEL<7>のいずれかが与えられ、節点439には第2アドレス選択信号GSEL<8>~GSEL<11>のいずれかが与えられる。出力端子440からは、復号化信号がタイミング信号DECとして出力される。
図31に示す構成により、節点436に与えられる第1アドレス選択信号GENがローレベルの時には、NAND回路434からの出力がハイレベルとなるので、節点437~439に与えられる第2アドレス選択信号GSELに関わらず、出力端子440から出力されるタイミング信号DECはローレベルとなる。節点436に与えられる第1アドレス選択信号GENがハイレベルの時には、節点437~439に与えられる第2アドレス選択信号GSELに応じて次のように動作する。節点437~439に与えられる第2アドレス選択信号GSELの全てがハイレベルであれば、NAND回路431からの出力はローレベルかつインバータ432からの出力はローレベルとなるので、NOR回路433からの出力はハイレベルとなる。これにより、NAND回路434からの出力がローレベルとなるので、出力端子440から出力されるタイミング信号DECはハイレベルとなる。節点437~439に与えられる第2アドレス選択信号GSELの少なくとも1つがローレベルであれば、NAND回路431からの出力およびインバータ432からの出力の少なくとも一方はハイレベルとなるので、NOR回路433からの出力はローレベルとなる。これにより、NAND回路434からの出力がハイレベルとなるので、出力端子440から出力されるタイミング信号DECはローレベルとなる。
ところで、本実施形態においては、表示領域10に960個の画素電極12(32行×30列の画素電極12)が設けられているところ、ラッチ部42でのデータの取り込みが8ビットずつ行われるよう、デコーダ43からラッチ部42には120個のタイミング信号DECが送られる。それら120個のタイミング信号DECは互いに異なるタイミングで所定期間ずつ順次にハイレベルとなる必要がある。そこで、本実施形態においては、120個のアドレスを設定するためのアドレスマップが用いられる。これについて、以下に説明する。
模式的には図32に示すように、縦方向の32行を8行ずつまとめてアドレスの設定が行われる。従って、縦方向に連続する8個の画素電極12が1つのアドレスに対応する。また、デコーダ43の1出力分が1つのアドレスに対応し、このアドレスマップでの設定に基づいて、デコーダ43内における接続関係が決定される。
図33~図36は、アドレスマップの一例を示す図である。符号494を付した矢印で示す部分には、X-addressの値が記されている。なお、X-addressの値として0から31までの値が設定されているが、実際に使用されるのは1から30までの値である。符号491を付した矢印で示す部分には、第1アドレス選択信号GEN<1>の値および第1アドレス選択信号GEN<2>の値が記されている。図33~図36より、X-addressが1から15までの値であるアドレスは第1アドレス選択信号GEN<1>の値がH(ハイ)かつ第1アドレス選択信号GEN<2>の値がL(ロー)の時に選択され、X-addressが16から30までの値であるアドレスは第1アドレス選択信号GEN<1>の値がLかつ第1アドレス選択信号GEN<2>の値がHの時に選択されることが把握される。符号492を付した矢印で示す部分には、各アドレスが第2アドレス選択信号GSEL<8>~GSEL<11>のいずれに対応するのかが記され、符号493を付した矢印で示す部分には、各アドレスが第2アドレス選択信号GSEL<4>~GSEL<7>のいずれに対応するのかが記されている。また、符号495を付した矢印で示す部分には、各アドレスが第2アドレス選択信号GSEL<0>~GSEL<3>のいずれに対応するのかが記されている。
例えば、図33で符号497を付した矢印で示すアドレス部分に着目する。このアドレス部分に対応するデコーダ(1出力分:図31参照)には、次のように第1アドレス選択信号GENおよび第2アドレス選択信号GSELが与えられる。節点436には、第1アドレス選択信号GEN<1>が与えられる。節点437には、第2アドレス選択信号GSEL<2>が与えられる。節点438には、第2アドレス選択信号GSEL<5>が与えられる。節点439には、第2アドレス選択信号GSEL<9>が与えられる。
入力パッド群20に与える第1アドレス選択信号GEN<1:2>および第2アドレス選択信号GSEL<0:11>の値を以上のようなアドレスマップを考慮して変化させることにより、デコーダ43に含まれる120個の出力端子440から、所定期間ずつ順次にハイレベル(アクティブ)となる120個の復号化信号が120個のタイミング信号DECとして出力される。
<3.3 ラッチ部の構成>
図37は、ラッチ部42の構成を示すブロック図である。上述したように、本実施形態におけるラッチ部42は、第1の実施形態におけるラッチ部42と同様の構成を有している。但し、第1の実施形態においてはシフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRがラッチ部42に与えられていたのに対して、本実施形態においてはデコーダ43から出力されたタイミング信号DECがラッチ部42に与えられる。
図37は、ラッチ部42の構成を示すブロック図である。上述したように、本実施形態におけるラッチ部42は、第1の実施形態におけるラッチ部42と同様の構成を有している。但し、第1の実施形態においてはシフトレジスタ41から出力されたタイミング信号SRがラッチ部42に与えられていたのに対して、本実施形態においてはデコーダ43から出力されたタイミング信号DECがラッチ部42に与えられる。
図37に示すように、ラッチ部42は、120個のラッチ回路群421(1)~421(120)によって構成されている。各ラッチ回路群421には8個のラッチ回路422が含まれている。従って、全体では960個のラッチ回路422が設けられている。各ラッチ回路群421には、データ信号BDAT<0:7>と、デコーダ43から出力されたタイミング信号DECとが与えられる。各ラッチ回路群421は、入力されたタイミング信号DECがローレベルからハイレベルに変化すると、データ信号BDAT<0:7>を取り込み、その取り込んだデータ信号を出力する。120個のタイミング信号DECが順次に所定期間ずつハイレベルになるのに応じて、120個のラッチ回路群421で順次にデータ信号BDAT<0:7>の取り込みが行われる。
なお、ラッチ回路群421に含まれるラッチ回路422の構成および動作については、第1の実施形態と同様である(図19および図20を参照)。
<3.4 効果>
本実施形態によれば、第1の実施形態と同様、液晶の劣化および額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
本実施形態によれば、第1の実施形態と同様、液晶の劣化および額縁領域の増大を抑制しつつ充分な開口率を得ることのできる液晶表示装置が実現される。
<4.第4の実施形態>
第4の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
第4の実施形態について説明する。本実施形態においても、上記第1~第6の例のように、表示領域10と駆動回路40との間の領域に複数の画素トランジスタ30が設けられている。
<4.1 画素配線の駆動に関わる構成>
図38を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図38に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40とサンプリング回路80とが設けられている。駆動回路40にはデコーダ43が含まれている。図26と図38とから把握されるように、第2の実施形態におけるシフトレジスタ41をデコーダ43に置き換えた構成が本実施形態における構成である。なお、画素トランジスタ30はサンプリング回路80に含まれている。
図38を参照しつつ、画素配線11の駆動に関わる構成について説明する。図38に示すように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、表示領域10の外側の領域に駆動回路40とサンプリング回路80とが設けられている。駆動回路40にはデコーダ43が含まれている。図26と図38とから把握されるように、第2の実施形態におけるシフトレジスタ41をデコーダ43に置き換えた構成が本実施形態における構成である。なお、画素トランジスタ30はサンプリング回路80に含まれている。
デコーダ43の構成および動作については第3の実施形態と同様であり、サンプリング回路80の構成および動作については第2の実施形態と同様である。従って、サンプリング回路80では、デコーダ43から出力されたタイミング信号DECに基づき、データ信号BDAT<0:7>のサンプリングが行われる。そして、サンプリング回路80によってサンプリングされた各データ信号は、対応する画素配線11に印加される。これにより、各画素電極12にデータ信号が印加され、表示領域10に所望の画像が表示される。
<4.2 効果>
本実施形態によれば、駆動回路40を構成するデコーダ43と表示領域10との間の領域にはサンプリング回路80が設けられるだけであるので、第3の実施形態に比べて額縁領域のサイズを小さくすることができる。
本実施形態によれば、駆動回路40を構成するデコーダ43と表示領域10との間の領域にはサンプリング回路80が設けられるだけであるので、第3の実施形態に比べて額縁領域のサイズを小さくすることができる。
<5.第5の実施形態>
第5の実施形態について説明する。本実施形態においては、第1~第4の実施形態とは異なり、画素トランジスタ30を駆動する駆動回路40がTFT基板5上には形成されていない。本実施形態においては、上記第7の例のように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、複数の画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60がTFT基板5上に形成されている(図9参照)。
第5の実施形態について説明する。本実施形態においては、第1~第4の実施形態とは異なり、画素トランジスタ30を駆動する駆動回路40がTFT基板5上には形成されていない。本実施形態においては、上記第7の例のように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、複数の画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60がTFT基板5上に形成されている(図9参照)。
<5.1 サンプリング回路の構成>
図39は、本実施形態におけるサンプリング回路60の構成を示す回路図である。サンプリング回路60には、信号配線群51を介して、スイッチ制御信号ASWとデータ信号DATA(1)~DATA(960)とが与えられる。図39に示すように、サンプリング回路60は960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)を含んでいる。各画素トランジスタ30に関し、制御端子にはスイッチ制御信号ASWが与えられ、第1導通端子には対応するデータ信号DATAが与えられ、第2導通端子は対応する画素配線11に接続されている。図39から把握されるように、960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)の制御端子には1つの同じスイッチ制御信号ASWが与えられ、960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)の第1導通端子には互いに異なるデータ信号DATA(1)~DATA(960)が与えられる。
図39は、本実施形態におけるサンプリング回路60の構成を示す回路図である。サンプリング回路60には、信号配線群51を介して、スイッチ制御信号ASWとデータ信号DATA(1)~DATA(960)とが与えられる。図39に示すように、サンプリング回路60は960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)を含んでいる。各画素トランジスタ30に関し、制御端子にはスイッチ制御信号ASWが与えられ、第1導通端子には対応するデータ信号DATAが与えられ、第2導通端子は対応する画素配線11に接続されている。図39から把握されるように、960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)の制御端子には1つの同じスイッチ制御信号ASWが与えられ、960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)の第1導通端子には互いに異なるデータ信号DATA(1)~DATA(960)が与えられる。
以上のような構成において、図40に示すように時刻t01にスイッチ制御信号ASWがローレベルからハイレベルに変化すると、960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)がオフ状態からオン状態へと変化する。そして、図40で符号T1を付した期間にデータ信号DATA(1)~DATA(960)のサンプリングが行われ、サンプリングされたデータ信号DATA(1)~DATA(960)はそれぞれデータ信号SL(1)~SL(960)として画素配線11(1)~11(960)に印加される。本実施形態においては、このようにして表示領域10内の全ての画素電極12に一斉にデータ信号SLが与えられる。
<5.2 効果>
本実施形態によれば、画素配線11の駆動に関わる構成要素としてサンプリング回路60のみがTFT基板5上に形成される。従って、第1~第4の実施形態に比べて額縁領域のサイズを顕著に小さくすることができる。
本実施形態によれば、画素配線11の駆動に関わる構成要素としてサンプリング回路60のみがTFT基板5上に形成される。従って、第1~第4の実施形態に比べて額縁領域のサイズを顕著に小さくすることができる。
<6.第6の実施形態>
第6の実施形態について説明する。本実施形態においては、第5の実施形態と同様、画素トランジスタ30を駆動する駆動回路40はTFT基板5上には形成されていない。すなわち、上記第7の例のように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、複数の画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60がTFT基板5上に形成されている(図9参照)。
第6の実施形態について説明する。本実施形態においては、第5の実施形態と同様、画素トランジスタ30を駆動する駆動回路40はTFT基板5上には形成されていない。すなわち、上記第7の例のように、画素配線11の駆動に関わる構成要素として、複数の画素トランジスタ30を含むサンプリング回路60がTFT基板5上に形成されている(図9参照)。
<6.1 サンプリング回路の構成>
図41は、本実施形態におけるサンプリング回路60の構成を示す回路図である。サンプリング回路60には、信号配線群51を介して、スイッチ制御信号ASW1~ASW3とデータ信号DATA(1)~DATA(320)とが与えられる。図41に示すように、サンプリング回路60は960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)を含んでいる。図41から把握されるように、本実施形態においては、それら960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)は、3個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化されている。mを1以上320以下の整数として、画素トランジスタ30(3m-2)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW1が与えられ、画素トランジスタ30(3m-1)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW2が与えられ、画素トランジスタ30(3m)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW3が与えられる。このように、同じグループを形成する3個の画素トランジスタ30の制御端子には、スイッチ制御信号として互いに異なる信号が与えられる。また、各画素トランジスタ30に関し、第1導通端子には対応するデータ信号DATAが与えられ、第2導通端子は対応する画素配線11に接続されている。但し、同じグループを形成する3個の画素トランジスタ30の第1導通端子には、1つのデータ信号DATAが時分割で与えられる。なお、本実施形態においては3個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われているが、Zを2以上の整数として、Z個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われても良い。
図41は、本実施形態におけるサンプリング回路60の構成を示す回路図である。サンプリング回路60には、信号配線群51を介して、スイッチ制御信号ASW1~ASW3とデータ信号DATA(1)~DATA(320)とが与えられる。図41に示すように、サンプリング回路60は960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)を含んでいる。図41から把握されるように、本実施形態においては、それら960個の画素トランジスタ30(1)~30(960)は、3個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化されている。mを1以上320以下の整数として、画素トランジスタ30(3m-2)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW1が与えられ、画素トランジスタ30(3m-1)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW2が与えられ、画素トランジスタ30(3m)の制御端子にはスイッチ制御信号ASW3が与えられる。このように、同じグループを形成する3個の画素トランジスタ30の制御端子には、スイッチ制御信号として互いに異なる信号が与えられる。また、各画素トランジスタ30に関し、第1導通端子には対応するデータ信号DATAが与えられ、第2導通端子は対応する画素配線11に接続されている。但し、同じグループを形成する3個の画素トランジスタ30の第1導通端子には、1つのデータ信号DATAが時分割で与えられる。なお、本実施形態においては3個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われているが、Zを2以上の整数として、Z個の画素トランジスタ30によって1つのグループが形成されるようグループ化が行われても良い。
以上のような構成において、図42に示すように、3つのスイッチ制御信号ASW1~AWS3が所定期間ずつ順次にハイレベルとなる。まず、時刻t11にスイッチ制御信号ASW1がローレベルからハイレベルに変化すると、320個の画素トランジスタ30(3m-2)がオフ状態からオン状態へと変化する。そして、図42で符号T21を付した期間にデータ信号DATA(1)~DATA(320)のサンプリングが行われ、サンプリングされたデータ信号DATA(1)~DATA(320)はそれぞれデータ信号SL(1),SL(4),・・・,SL(955),SL(958)として画素配線11(1),11(4),・・・,11(955),11(958)に印加される。次に、時刻t12にスイッチ制御信号ASW2がローレベルからハイレベルに変化すると、320個の画素トランジスタ30(3m-1)がオフ状態からオン状態へと変化する。そして、図42で符号T22を付した期間にデータ信号DATA(1)~DATA(320)のサンプリングが行われ、サンプリングされたデータ信号DATA(1)~DATA(320)はそれぞれデータ信号SL(2),SL(5),・・・,SL(956),SL(959)として画素配線11(2),11(5),・・・,11(956),11(959)に印加される。最後に、時刻t13にスイッチ制御信号ASW3がローレベルからハイレベルに変化すると、320個の画素トランジスタ30(3m)がオフ状態からオン状態へと変化する。そして、図42で符号T23を付した期間にデータ信号DATA(1)~DATA(320)のサンプリングが行われ、サンプリングされたデータ信号DATA(1)~DATA(320)はそれぞれデータ信号SL(3),SL(6),・・・,SL(957),SL(960)として画素配線11(3),11(6),・・・,11(957),11(960)に印加される。
<6.2 効果>
本実施形態によれば、第5の実施形態と同様、画素配線11の駆動に関わる構成要素としてサンプリング回路60のみがTFT基板5上に形成されるので、第1~第4の実施形態に比べて額縁領域のサイズを顕著に小さくすることができる。また、画素配線11に印加するデータ信号DATAのサンプリングが時分割で行われるので、データ信号DATAを伝達するために必要な信号配線の本数が第5の実施形態に比べて少なくなる。従って、信号配線用の額縁領域のサイズを小さくすることができる。
本実施形態によれば、第5の実施形態と同様、画素配線11の駆動に関わる構成要素としてサンプリング回路60のみがTFT基板5上に形成されるので、第1~第4の実施形態に比べて額縁領域のサイズを顕著に小さくすることができる。また、画素配線11に印加するデータ信号DATAのサンプリングが時分割で行われるので、データ信号DATAを伝達するために必要な信号配線の本数が第5の実施形態に比べて少なくなる。従って、信号配線用の額縁領域のサイズを小さくすることができる。
<7.その他>
以上において本発明を詳細に説明したが、以上の説明は全ての面で例示的なものであって制限的なものではない。多数の他の変更や変形が本発明の範囲を逸脱することなく案出可能であると了解される。例えば、上記においては2層ディスプレイに含まれる液晶表示装置を例に挙げて説明したが、それ以外の液晶表示装置にも本発明を適用することができる。
以上において本発明を詳細に説明したが、以上の説明は全ての面で例示的なものであって制限的なものではない。多数の他の変更や変形が本発明の範囲を逸脱することなく案出可能であると了解される。例えば、上記においては2層ディスプレイに含まれる液晶表示装置を例に挙げて説明したが、それ以外の液晶表示装置にも本発明を適用することができる。
5…TFT基板
10…表示領域
11…画素配線
12…画素電極
20…入力パッド群
21…入力パッド
30…画素トランジスタ
40…駆動回路
41…シフトレジスタ
42…ラッチ部
43…デコーダ(復号化回路)
51…信号配線群
60,80…サンプリング回路
70…極性切替回路
71…極性制御部
81…単位サンプリング部
100…表示装置(2層ディスプレイ)
110…有機EL表示装置
120…液晶表示装置
130…位相差板
140…偏光板
422…ラッチ回路
10…表示領域
11…画素配線
12…画素電極
20…入力パッド群
21…入力パッド
30…画素トランジスタ
40…駆動回路
41…シフトレジスタ
42…ラッチ部
43…デコーダ(復号化回路)
51…信号配線群
60,80…サンプリング回路
70…極性切替回路
71…極性制御部
81…単位サンプリング部
100…表示装置(2層ディスプレイ)
110…有機EL表示装置
120…液晶表示装置
130…位相差板
140…偏光板
422…ラッチ回路
Claims (20)
- 複数の画素電極を含む表示領域が設けられたパネル基板を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素電極と1対1で対応する、前記表示領域の外側の領域に設けられた複数の画素トランジスタと、
前記複数の画素電極と前記複数の画素トランジスタとをそれぞれ接続する複数の画素配線と、
前記複数の画素トランジスタを駆動するための駆動信号群が入力される、前記パネル基板上に設けられた入力パッド群と
を備え、
前記複数の画素トランジスタは、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域のみに設けられていることを特徴とする、液晶表示装置。 - 前記パネル基板は、第1辺と、前記第1辺に対向する第2辺と、前記第1辺の一端と前記第2辺の一端とを結ぶ第3辺と、前記第1辺の他端と前記第2辺の他端とを結ぶ第4辺とからなる矩形の形状を有し、
前記入力パッド群は、前記パネル基板上において前記第1辺に沿った額縁領域に設けられ、
前記複数の画素トランジスタは、前記第1辺に沿った額縁領域には設けられず、前記第2辺に沿った額縁領域、前記第3辺に沿った額縁領域、および前記第4辺に沿った額縁領域の少なくともいずれかに設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されていることを特徴とする、請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記複数の画素トランジスタは、前記第2辺に沿った額縁領域のみに設けられていることを特徴とする、請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域または前記第4辺に沿った額縁領域のいずれか一方のみに設けられていることを特徴とする、請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記複数の画素トランジスタは、前記第3辺に沿った額縁領域と前記第4辺に沿った額縁領域とに設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第3辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4辺に沿った額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなることを特徴とする、請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記パネル基板は、円形の形状を有し、
前記表示領域と前記入力パッド群とを結ぶ最短の仮想的なラインである第1仮想ラインと前記表示領域との接続点を通過し前記第1仮想ラインに直交する仮想的なラインである第2仮想ラインを基準として、前記表示領域が存在する側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記複数の画素配線の全てについて画素トランジスタから画素電極へと延びる方向が同じになるように、前記複数の画素トランジスタが配置されていることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記表示領域の中心を通過し前記第2仮想ラインに平行な仮想的なラインである第3仮想ラインを基準として、前記入力パッド群が存在しない側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられていることを特徴とする、請求項8に記載の液晶表示装置。
- 前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域のみに前記複数の画素トランジスタが設けられていることを特徴とする、請求項8に記載の液晶表示装置。
- 前記複数の画素トランジスタは、前記第1仮想ラインと前記表示領域との接続点と前記表示領域の中心とを通過する仮想的なラインである第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域および他方の側の額縁領域の双方に設けられ、
前記複数の画素配線は、前記第4仮想ラインを基準として一方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第1タイプの画素配線と、前記第4仮想ラインを基準として他方の側の額縁領域に設けられた画素トランジスタとそれに対応する画素電極とを接続する複数の第2タイプの画素配線とからなることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。 - 前記複数の第1タイプの画素配線の本数と前記複数の第2タイプの画素配線の本数とが同じであることを特徴とする、請求項6または11に記載の液晶表示装置。
- 前記駆動信号群に基づいて前記複数の画素トランジスタを駆動する駆動回路を備え、
前記駆動回路は、前記複数の画素トランジスタが前記駆動回路と前記表示領域との間の領域に配置されるように、前記パネル基板上の領域のうち前記入力パッド群と前記表示領域との間以外の領域に設けられていることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - 前記駆動回路は、直列に接続された複数の単位回路からなるシフトレジスタを含み、
前記複数の単位回路は、順次にアクティブとなる複数の出力信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われることを特徴とする、請求項13に記載の液晶表示装置。 - 前記駆動回路は、複数の出力部を有する復号化回路を含み、
前記複数の出力部は、順次にアクティブとなる複数の復号化信号を、複数のタイミング信号として出力し、
前記複数のタイミング信号に基づいて、前記駆動信号群に含まれる複数のデータ信号の取り込みが行われることを特徴とする、請求項13に記載の液晶表示装置。 - Mを2以上の整数として、前記駆動回路は、1つのタイミング信号につきM個のラッチ回路を含み、
前記M個のラッチ回路は、対応するタイミング信号に基づいてM個のデータ信号を取り込み、その取り込んだM個のデータ信号を出力することを特徴とする、請求項14または15に記載の液晶表示装置。 - 前記複数の画素電極に印加される電圧の極性を所定期間ごとに切り替えるための、前記複数の画素トランジスタを含む極性切替回路を備え、
前記極性切替回路は、前記複数の画素配線にそれぞれ対応する複数の極性制御部からなり、
各極性制御部は、対応するラッチ回路から出力されたデータ信号に基づいてオン/オフ状態が相反的に変化する第1画素トランジスタおよび第2画素トランジスタを含み、
各極性制御部には、第1レベルと第2レベルとの間で電圧レベルが前記所定期間ごとに相反的に変化する第1電圧および第2電圧が与えられ、
前記第1画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第1電圧が印加され、
前記第2画素トランジスタがオン状態であれば、対応する画素配線を介して、対応する画素電極に前記第2電圧が印加されることを特徴とする、請求項16に記載の液晶表示装置。 - 前記複数の画素トランジスタを含むサンプリング回路を備え、
Kを2以上の整数として、K個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、対応するタイミング信号が与えられる制御端子と、対応するデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの制御端子には、同じタイミング信号が与えられ、
同じグループを形成するK個の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられることを特徴とする、請求項14または15に記載の液晶表示装置。 - 各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
前記複数の画素トランジスタの制御端子には、同じスイッチ制御信号が与えられ、
前記複数の画素トランジスタの第1導通端子には、互いに異なるデータ信号が与えられることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - Zを2以上の整数として、Z個の画素トランジスタによって1つのグループが形成されるよう前記複数の画素トランジスタはグループ化され、
各画素トランジスタは、前記駆動信号群に含まれるスイッチ制御信号が与えられる制御端子と、前記駆動信号群に含まれるデータ信号が与えられる第1導通端子と、対応する画素配線に接続された第2導通端子とを有し、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの制御端子には、前記スイッチ制御信号として互いに異なる信号が与えられ、
同じグループを形成するZ個の画素トランジスタの第1導通端子には、1つのデータ信号が時分割で与えられることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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