JP2023109504A - 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびそれに用いる下引き層用塗布液 - Google Patents

Abstract

【課題】画像ムラを低減し得る電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびそれに用いる下引き層用塗布液を提供することを課題とする。【解決手段】導電性基体上に、少なくとも下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、前記下引き層が、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする電子写真感光体により、上記の課題を解決する。【選択図】図１

Description

本発明は、電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびそれに用いる下引き層用塗布液に関する。

近年、電子写真技術を用いて画像を形成する電子写真方式の画像形成装置（電子写真装置）は、複写機、プリンタ、ファクシミリ装置などに多用され、これに用いられる電子写真感光体（以下「感光体」ともいう）には、導電性支持体上に有機系光導電性材料を主成分として含有する感光層を備えた感光体（「有機感光体」ともいう）が広く用いられている。
そして、有機感光体には、導電性支持体および感光層との密着性の確保、感光層へのキャリア注入性の改良、干渉縞の抑制などのために、導電性支持体と感光層との間に、酸化チタンのような金属酸化物の顔料を樹脂中に分散した構成の下引き層が設けられている。

しかしながら、下引き層を形成する塗布液（以下「下引き層用塗布液」ともいう）において顔料の分散性が悪いと、沈降による局所的な固形分（顔料）変動や凝集による粒径増加が起こり、下引き層の膜厚が不均一になり、塗布面や画像に、感光体の致命的な欠陥となり得る濃度ムラや画像欠陥の増加が発生するという問題があった。また、分散した顔料粒子の沈降や凝集によって、塗布液（分散液）の塗料ライフが短くなるというも問題もあった。

そこで、下引き層用塗布液での顔料の分散状態を安定化する技術が提案されている。
例えば、特開平４－１７２３６２号公報（特許文献１）には、酸化チタンなどの金属酸化物粒子をチタネート系カップリング剤で表面処理することにより、下引き層中での金属酸化物粒子の分散性を改良する技術が提案されている。
また、国際公開第ＷＯ２０１０／０７１１１８号（特許文献２）には、バインダ樹脂のジカルボン酸含有量、酸価および塩基価を規定することにより、下引き層中での金属酸化物粒子の分散性を改良する技術が提案されている。
しかしながら、上記の特許文献１および２の技術では、塗布液の塗料ライフが十分ではなく、電気特性が悪化するという別の問題を惹き起こした。

また、特開２０１４－１８６２９６号公報（特許文献３）には、支持体（導電性支持体）上に、下引き層および感光層がこの順で形成され、下引き層が、シランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子、結着樹脂（バインダ樹脂）ならびに、ビスマス、亜鉛、コバルト、鉄、ニッケルおよび銅からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を有する有機酸金属塩を含有する感光体が提案されている。この技術によれば、特定の金属元素を有する有機酸金属塩が金属酸化物粒子の酸素欠損部への水分の吸着を抑制して、電子写真特性の低下を抑制できるとされている。

特開平４－１７２３６２号公報 国際公開第ＷＯ２０１０／０７１１１８号 特開２０１４－１８６２９６号公報

しかしながら、上記の特許文献３の技術は、シランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子および特定の有機金属塩を含有する下引き層を備えた感光体において、有機金属塩が金属酸化物粒子の酸素欠損部への水分の吸着を抑制して、電子写真特性の低下を抑制する技術であって、下引き層中の金属酸化物粒子の分散性を向上させる技術ではない。
そこで、本発明は、画像ムラを低減し得る電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびそれに用いる下引き層用塗布液を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、導電性支持体上に、下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、下引き層が、少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子を含有するか、少なくともバインダ樹脂、金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、合計含有量で特定量のＮａ元素、Ｋ元素を、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有する感光体が、下引き層内での金属酸化物粒子の分散状態が良好で、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして、本発明によれば、導電性基体上に、少なくとも下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、
前記下引き層が、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする電子写真感光体が提供される。

また、本発明によれば、上記の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像を現像してトナーによりトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体上に転写する転写手段とを少なくとも備えることを特徴とする画像形成装置が提供される。

さらに、本発明によれば、上記の電子写真感光体の製造方法であり、
（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有する下引き層用塗布液を用いて下引き層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法が提供される。

また、本発明によれば、上記の電子写真感光体の製造方法に用いる下引き層用塗布液であり、
（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする下引き層用塗布液が提供される。

本発明によれば、画像ムラを低減し得る電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびそれに用いる下引き層用塗布液を提供することができる。

本発明の感光体の要部の構成を示す概略断面図である。 本発明の画像形成装置の要部の構成を示す模式側面図である。

本発明の感光体は、導電性基体上に、少なくとも下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、
前記下引き層が、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする。

下引き層中に含まれるＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素（以下「特定４元素」ともいう）は、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムなどの金属酸化物由来のものと考えられ、これらは非常に強い正極の帯電性を有する。一方、下引き層中に含まれるシリカで被覆された金属酸化物およびシリカ粒子は、負極の帯電性を有し、正極の帯電性（正極性）の酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムなどの金属酸化物との接触帯電により、強く負帯電することで、金属酸化物粒子の被覆成分のシリカおよびシリカ粒子が電気的な斥力により反発し、凝集を防ぐことで良好な分散性および分散安定性が得られるもの、すなわち本発明の効果は、下引き層中のシリカ成分と特定４元素との作用により発現するものと本発明者らは考えている。

上記のことから、下引き層の含有成分の構成が（１）の場合には、シリカで被覆された金属酸化物粒子のシリカ成分と特定４元素との作用により、（２）の場合には、シリカ粒子のシリカ成分と特定４元素との作用により、（３）の場合には、シリカで被覆された金属酸化物粒子のシリカ成分およびシリカ粒子のシリカ成分と特定４元素との作用により、本発明の効果が発現することになる。

以下に、本発明の特徴となる構成要件、下引き層に含有する特定４元素、金属酸化物粒子およびシリカ粒子について説明し、その後で（１）感光体、（２）画像形成装置、（３）電子写真感光体の製造方法および（４）それに用いる電荷輸送層用塗布液について説明する。

＜Ｎａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素＞
本発明の感光体の下引き層は、合計含有量で１～２０ｐｐｍの特定４元素を含有する。
特定４元素の合計含有量が０．０１ｐｐｍ未満では、シリカで被覆された金属酸化物粒子および／またはシリカ粒子の分散性向上への寄与が得られないことがある。一方、特定４元素の合計含有量が２０ｐｐｍを超えると、シリカで被覆された金属酸化物粒子および／またはシリカ粒子の分散性は良好であるものの、下引き層内のトラップサイトとなりキャリア移動が阻害されるため、感光体の感度悪化につながることがある。
より好ましい特定４元素の合計含有量は、５～１５ｐｐｍである。
合計含有量が上記の範囲であれば、少なくとも１つの元素が０ｐｐｍ（測定限界以下）であってもよい。すなわち、特定４元素の内で含まれない元素があってもよい。
特定４元素の含有量については、例えば、感光体の下引き層をＩＣＰ発光分光分析装置(サーモフィッシャーサイエンティフィク社製、型式：ｉＣＡＰ－６５００）を用いて測定することができ、具体的には実施例において説明する。

特定４元素を下引き層中に含有させるためには、例えば、塗布法により下引き層を形成する場合、下引き層用塗布液にこれらの元素を含む化合物、具体的には上記のような金属酸化物を添加すればよい。
添加方法としては、例えば、これらの元素を含む化合物を含む粉砕用ビーズや器材を用いて塗布液を分散させて、器材の摩耗によりこれらの元素を含む化合物を塗布液に混入させる方法や、予め粉砕用ビーズと溶剤を撹拌することで摩耗粉を混入させた混合溶剤を調製し、これに下引き層の構成成分を添加して塗布液を調製する方法が挙げられる。
特定４元素の混入量は、塗布液の調製方法やその処理時間により調整すればよい。
粉砕用ビーズおよび器材の素材は、特定４元素が含まれるソーダ石灰ガラスが好ましい。
また、器材の素材の混入がない条件で調製した塗布液に、特定４元素を含む化合物、例えば、特定量のイオンクロマトグラフィー用標準液を添加してもよい。
下引き層中のシリカ含有量と特定４元素の含有量およびそれらの含有比率は、塗布液中の固形分の換算値と、形成した下引き層中の測定値とがほぼ等価であると見做される。

＜金属酸化物粒子＞
金属酸化物粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウムおよび酸化スズなどの粒子が挙げられる。これらの中でも、適度な電子輸送性を有し、電気特性が良好であるという点で、酸化チタンおよび酸化亜鉛が特に好ましい。酸化チタンの結晶形としては、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型の３種類があるが、いずれを用いてもよく、また混合体であってもよい。

（金属酸化物の粉体抵抗値）
酸化チタンおよび酸化亜鉛の体積抵抗値は、プレス圧力１００ｋｇ／ｃｍ²の圧粉体において、１０⁵～１０¹⁰Ω・ｃｍの範囲の高抵抗であることが望ましい（以下、ブレス圧力１００ｋｇ／ｃｍ²の圧粉体における体積抵抗値を、粉体抵抗値と称する）。
粉体抵抗値が１０⁵Ω・ｃｍ未満では、下引き層としての抵抗値が低下して電荷ブロッキング層として機能しなくなることがある。例えば、アンチモンドープした酸化スズ導電層などの導電処理を施した場合には、１０⁰～１０¹Ω・ｃｍと非常に粉体抵抗値が低く、これを用いた下引き層は感光体特性としての帯電性が悪化するので、使用することはできない。一方、粉体抵抗値が１０¹⁰Ω・ｃｍを超えると、バインダ樹脂の体積抵抗値と同等あるいはそれ以上になり、下引き層としての抵抗値が高過ぎて、光照射時に生成したキャリアの輸送が抑制阻止され、残留電位が上昇することがある。

（シリカで被覆された金属酸化物粒子の調製）
また、金属酸化物の表面はシリカによって被覆することで前述の効果を得て、分散性を向上させることができる。
金属酸化物粒子のシリカによる被覆（表面処理）方法としては、例えば、金属酸化物粒子を濃度５０～３５０ｇ／Ｌで水中に分散させた水性スラリーに、ケイ酸ナトリウムのような水溶性のケイ酸塩を添加し、その後、硫酸、硝酸、塩酸などの酸を添加して中和し、粒子の表面にシリカを析出させ、濾過、洗浄、乾燥を行い、所望のシリカで被覆（表面処理）された金属酸化物粒子を得る方法が挙げられる。
また、シリカ以外の表面処理、例えばアルミナによる表面処理を併用してもよい。

（シリカの被覆率）
シリカの被覆（表面処理）量は、ケイ酸塩の添加量で調整することができる。
シリカの被覆量は、金属酸化物粒子に対して、５～３０質量％であることが好ましい。
シリカの被覆量が５質量％未満では、分散性が悪く、均一な分散が困難になることがある。一方、シリカの被覆量が３０質量％を超えると、感光体の感度が悪化することがある。

シリカで被覆された金属酸化物粒子として、市販の酸化チタンおよび酸化亜鉛を用いることができる。
市販の酸化チタン粒子としては、例えば、テイカ株式会社の製品名：ＭＴ－１００ＷＰ、ＭＴ－０５、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－５００ＳＡ、ＭＴ－６００ＳＡ、堺化学株式会社の製品名：ＳＴＲ－１００Ｗ、ＳＴＲ－１００Ａが挙げられる。
また、市販の酸化亜鉛としては、堺化学株式会社の製品名：ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ、ＦＩＮＥＸ－３０Ｗ、ＦＩＮＥＸ－５０Ｗが挙げられる。

（金属酸化物粒子の平均一次粒子径）
金属酸化物粒子は、１５～３５ｎｍの平均一次粒子径を有することが好ましい。
ここで、「平均一次粒子径」とは、微粒子をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察によって１００００倍に拡大し、ランダムに１００個の粒子を一次粒子として観察し、画像解析によってフェレ方向平均径としての測定値である。
平均一次粒径が５．０ｎｍ未満では、下引き層中に金属酸化物粒子が均一に分散し難く、凝集粒子を形成し易く、均一な塗膜が形成できないことがある。一方、平均一次粒径が１００ｎｍを超えると、下引き層の表面に大きな凹凸が形成され易く、この凹凸を通して絶縁破壊や黒ポチが発生し易く、下引き層用塗布液中に金属酸化物粒子が沈澱し易く、凝集物が発生し易い。
より好ましい金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、２０～３０ｎｍである。

（金属酸化物粒子の含有量）
下引き層中の金属酸化物粒子の含有量は、５０～９０質量％であることが好ましい。
金属酸化物粒子の含有量が５０質量％未満では、低温低湿下の感度が悪く、画像濃度が薄くなり問題となることがある。一方、金属酸化物粒子の含有量が９０質量％を超えると、分散時にバインダ樹脂が粒子に十分に吸着できずに分散不良を起こし、下引き層の表面に大きな凹凸ができ、絶縁破壊や黒ポチが発生し易くなり、下引き層用塗布液の保存安定性も悪くなり、粒子が沈降することがある。
金属酸化物粒子Ｍとバインダ樹脂Ｒとの質量比率Ｍ／Ｒとしては、５０／５０～９０／１０であることが好ましく、より好ましくは６０／４０～８０／２０である。

（シリカ含有量に対する特定４元素の合計含有量の質量比率）
下引き層中のシリカ含有量に対する特定４元素の合計含有量の質量比率は、２×１０^-5～８×１０^-5であることが好ましい。
ここで、「下引き層中のシリカ含有量」とは、金属酸化物粒子を被覆するシリカのシリカ成分とシリカ粒子のシリカ成分との合計量を意味する。
特定４元素の合計含有量の質量比率が２×１０^-5未満では、分散性向上への寄与が小さくなることがある。一方、特定４元素の合計含有量の質量比率が８×１０^-5を超えると、感度の悪化が見られることがある。
より好ましい特定４元素の合計含有量の質量比率は、２×１０^-5～８×１０^-5である。

（シリカ含有量に対するＮａ元素の含有量の質量比率）
下引き層中のシリカ含有量に対するＮａ元素の含有量の質量比率は、１．３×１０^-5～３．８×１０^-5であるのが好ましい。
Ｎａ元素やＫ元素の電気陰性度は、Ｃａ元素やＭｇ元素より小さく、シリカおよび／またはシリカ粒子をより強く負帯電させることができ、Ｎａ元素は、Ｋ元素に比べてソーダ石灰ガラスなどに多く含まれており、下引き層用塗布液への添加が容易である。
シリカ含有量に対するＮａ元素の含有量の質量比率が上記の範囲内であれば、感光体の感度が大きく悪化せず、分散性が極めて良好になる。

＜シリカ粒子＞
下引き層には、シリカ成分として、金属酸化物と共にシリカ粒子を含有してもよい。
シリカ粒子が前述の効果により帯電し、均一に分散することにより、３次元網目構造を形成し、金属酸化物の分散安定性を補助することができる。
本発明において好適に用いられるシリカ粒子は、製法由来に限定されず、四塩化ケイ素を燃焼して得られるヒュームドシリカ、プラズマなどの高エネルギーによりシリカを気相中で微粒子化するアーク法シリカなどの乾式法シリカ粒子；ケイ酸ナトリウム水溶液を原料としてアルカリ条件で合成した沈降法シリカ、酸性条件で合成したゲル法シリカなどの湿式法シリカ粒子；酸性ケイ酸をアルカリ性にして重合することで得られるコロイダルシリカ粒子；有機シラン化合物の加水分解によって得られるゾルゲル法シリカ粒子などが挙げられる。これらの中でも、ヒュームドシリカは、液体中での粒子同士の相互作用が強く、３次元網目構造を作りやすく、金属酸化物の分散安定性の向上効果が大きく、好ましい。

（シリカ粒子の平均一次粒子径）
シリカ粒子は、１２～３０ｎｍの平均一次粒子径を有するのが好ましい。
シリカ粒子の平均一次粒子径が１２ｎｍ未満では、分散が困難であり、上述の分散安定性の向上効果を得ることが難しいことがある。一方、シリカ粒子の平均一次粒子径が３０ｎｍを超えると、下引き層中に生成する凝集構造が大きくなることより、塗布ムラなどの問題が発生し易くなることがある。
より好ましいシリカ粒子の平均一次粒子径は、１４～２０ｎｍである。

（シリカ粒子の表面処理）
シリカ粒子は、感光体の電気特性を向上させるために、表面処理剤で表面処理されているのが好ましい。
無機化合物微粒子がシリカ粒子である場合、その表面処理剤としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ－メチル－ヘキサメチルジシラザン、Ｎ－エチル－ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチル－Ｎ－プロピルジシラザン、ジメチルジクロロシラン、又はポリジメチルシロキサンが挙げられる。
これらの表面処理剤の中でも、シリカ粒子表面の水酸基との反応性が良好で、シリカ粒子表面の水酸基が少なさせ、その結果、水分（湿度）による感光体の電気特性の低下を抑制することができることから、ジメチルジクロロシランおよびヘキサメチルジシラザンが特に好ましい。

本発明においては、上記の表面処理剤で処理することにより得られたシリカ粒子を用いることができるが、表面処理剤で処理された市販のシリカ微粒子を用いることもできる。市販のシリカ微粒としては、例えば、日本アエロジル株式会社の製品名：Ｒ９７２、Ｒ９７４、ＲＸ５０、ＲＸ２００、ＮＸ１３０、ＮＸ９０Ｇ、ＮＸ９０Ｓ、ＮＡＸ－５０；キャボットジャパン株式会社の製品名：ＴＳ６１０、ＴＧ７０９Ｆ、ＴＧ６１１０Ｇ、株式会社アドマテックスの製品名：ＹＡ０１０Ｃが挙げられる。

（シリカの含有量）
下引き層中のシリカ含有量は、前述のように、金属酸化物粒子を被覆するシリカのシリカ成分とシリカ粒子のシリカ成分との合計量を意味し、４～２５質量％であることが好ましい。
シリカ含有量が４質量％未満では、シリカの分散性向上への寄与がやや小さくことがある。一方、シリカ含有量が２５質量％を超えると、感光体の電気特性が悪化することがある。
より好ましいシリカ含有量は、１４～２１質量％である。

（１）電子写真感光体
本発明の感光体は、導電性支持体上に、下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、下引き層が、上記のような特徴を有する。
感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光層、電荷発生物質と電荷輸送物質とを共に含有する単層型感光層のいずれであってもよいが、機能分離型の積層型感光層が好ましく、その電荷輸送層は、電荷発生層上に順次に積層される、第１電荷輸送層と表面保護層の機能を兼ねた第２電荷輸送層との２層型でもよい。
以下に図面を用いて、本発明の感光体について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。

図１は、本発明の感光体の要部の構成を示す概略断面図である。
感光体１は、導電性支持体１１上に、シリカ粒子１９を含有する下引き層１８が設けられ、その上に電荷発生物質１２を含有する電荷発生層１５と、電荷輸送物質１３およびそれを結着させるバインダ樹脂１７を含有する電荷輸送層１６とがこの順序で積層されてなる積層構造の積層型感光層（「機能分離型積層型感光層」ともいう）１４が設けられた積層型感光体（「機能分離型感光体」ともいう）である。
以下、感光体１の各構成について説明する。

＜導電性支持体１１＞
導電性支持体は、感光体の電極としての機能と支持部材としての機能を有し、その構成材料は、当該技術分野で用いられる材料であれば特に限定されない。
具体的には、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス鋼およびチタンなどの金属材料、ならびに表面に金属箔ラミネート、金属蒸着処理または導電性高分子、酸化スズ、酸化インジウムなどの導電性化合物の層を蒸着もしくは塗布した、ポリエチレンテレフタレート、ナイロンおよびポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙ならびにガラスなどが挙げられる。これらの中でも、加工の容易性の点からアルミニウムが好ましく、ＪＩＳ３００３系、ＪＩＳ５０００系およびＪＩＳ６０００系などのアルミニウム合金が特に好ましい。
導電性支持体の形状は、図３に示すような円筒状（ドラム状）に限定されず、シート状、円柱状、無端ベルト状などであってもよい。
また、導電性支持体の表面には、必要に応じて、画質に影響のない範囲内で、レーザ光による干渉縞防止のために、陽極酸化皮膜処理、薬品もしくは熱水などによる表面処理、着色処理、または表面を粗面化するなどの乱反射処理が施されていてもよい。

＜下引き層（「中間層」ともいう）１２＞
下引き層は、一般に、導電性支持体の表面の凸凹を被覆し均一にして、感光層、例えば、積層型感光層の場合には電荷発生層の成膜性を高め、感光層の導電性支持体からの剥離を抑え、導電性支持体と感光層との接着性を向上させる。具体的には、導電性支持体からの感光層への電荷の注入が防止され、感光層の帯電性の低下を防ぎ、画像のかぶり（いわゆる黒ぽち）を防止することができ、ライフを通じて、帯電性などの良好な電子写真特性を維持できる。

下引き層は、例えば、バインダ樹脂を適当な溶剤に溶解させ、これに金属酸化物粒子やシリカ粒子を分散させて下引き層用塗布液を調製し、この塗布液を導電性支持体の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成することができる。
バインダ樹脂、金属酸化物粒子およびシリカ粒子ならびに下引き層に対するそれらの含有割合は、上記のとおりである。

バインダ樹脂としては、特に限定されず、当該分野で公知の樹脂をいずれも使用でき、例えば、アセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラニン樹脂、ウレタン樹脂などの合成樹脂、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロースなどの天然高分子材料などが挙げられ、これらの１種または２種以上を使用できる。
バインダ樹脂は、下引き層上に感光体層を形成する際に用いられる溶剤に対して溶解や膨潤などが起こらないこと、導電性支持体との接着性に優れること、可撓性を有することなどの特性が要求されることから、上記のバインダ樹脂の中でも、ポリアミド樹脂が好ましく、特にアルコール可溶性ナイロン樹脂が好ましい。
アルコール可溶性ナイロン樹脂としては、例えば、６－ナイロン、６６－ナイロン、６１０－ナイロン、１１－ナイロンおよび１２－ナイロンなどの単独重合または共重合ナイロン、Ｎ－アルコキシメチル変性ナイロンのように、ナイロンを化学的に変性させた樹脂などが挙げられる。
また、バインダ樹脂を架橋する硬化剤を用いて、硬化膜としてもよい。硬化剤としては、塗液の保存安定性や電気特性の観点からブロック化イソシアネートが好ましい。ブロック化イソシアネートの市販品としては、例えば、Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＢＬ３１７５ＳＮ（Ｃｏｖｅｓｔｒｏ社製）が挙げられる。

バインダ樹脂を溶解させ、金属酸化物粒子やシリカ粒子を分散させる溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどのグライム類、ジクロロエタン、クロロホルムもしくはトリクロロエタンなどの塩素系溶剤、アセトン、ジオキソラン、これらの溶剤を２種以上混合した混合溶剤などが挙げられる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。

金属酸化物粒子やシリカ粒子を下引き層用塗布液に分散させるために、ボールミル、サンドミル、アトライタ、振動ミル、超音波分散機およびペイントシェーカなどの公知の装置を用いてもよい。

下引き層用塗布液の塗布方法は、塗布液の物性および生産性などを考慮に入れて最適な方法を適宜選択すればよく、例えば、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などが挙げられる。
これらの中でも、浸漬塗布法は、塗布液を満たした塗工槽に基体を浸漬した後、一定速度または逐次変化する速度で引上げることによって基体の表面に層を形成する方法であり、比較的簡単で、生産性および原価の点で優れているので、感光体の製造に好適に用いることができる。浸漬塗布法に用いる装置には、塗布液の分散性を安定させるために、超音波発生装置に代表される塗布液分散装置が設けられていてもよい。

自然乾燥により塗膜中の溶剤を除去してもよいが、加熱により強制的に塗膜中の溶剤を除去してもよい。
このような乾燥工程における温度は、使用した溶剤を除去し得る温度であれば特に限定されないが、５０～１４０℃程度が適当であり、８０～１３０℃程度が特に好ましい。
乾燥温度が５０℃未満では、乾燥時間が長くなることがあり、また溶剤が充分に蒸発せず感光体層中に残ることがある。また、乾燥温度が約１４０℃を超えると、感光体の繰り返し使用時の電気的特性が悪化して、得られる画像が劣化することがある。
このような温度条件は、下引き層のみならず後述する感光層などの層形成や他の処理においても共通する。

下引き層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．５～３０μｍ、より好ましくは１～２０μｍである。
下引き層の膜厚が０．０１μｍ未満では、高温高湿下の黒ポチ防止効果が十分に得られないことがある。一方、下引き層の膜厚が３０μｍを超えると、低温低湿下の連続印字した際の感度変化が大きく、画像濃度の変化が大きくなり問題となることがある。

＜電荷発生層１５＞
電荷発生層は、画像形成装置などにおいて半導体レーザ光などの照射された光を吸収することによって電荷を発生する機能を有し、電荷発生物質を主成分とし、必要に応じてバインダ樹脂や添加剤を含有する。

電荷発生物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用でき、具体的には、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系顔料およびトリスアゾ系顔料などのアゾ系顔料；インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ系顔料；ペリレンイミドおよびペリレン酸無水物などのペリレン系顔料；アントラキノンおよびピレンキノンなどの多環キノン系顔料；チタニルフタロシアニンなどの金属フタロシアニンおよび無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料；スクアリリウム色素、ピリリウム塩類、チオピリリウム塩類、トリフェニルメタン系色素などの有機光導電性材料；ならびにセレンおよび非晶質シリコンなどの無機光導電性材料などが挙げられ、露光波長域に感度を有するものを適宜選択して用いることができる。これらの電荷発生物質は１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの電荷発生物質の中でも、下記一般式（Ａ）：

（式中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、同一または異なって、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であり、ｒ、ｓ、ｙおよびｚは、同一または異なって０～４の整数である）
で表されるチタニルフタロシアニンを用いることが好ましい。
チタニルフタロシアニンは、現在一般的に用いられているレーザ光およびＬＥＤ光の発信波長域（近赤外光）で高い電荷発生効率と電荷注入効率とを有する電荷発生物質であり、光を吸収することにより多量の電荷を発生させると共に、発生した電荷をその内部に蓄積することなく電荷輸送物質に効率よく注入することができる。

一般式（Ａ）で表されるチタニルフタロシアニンは、例えば、Moser, Frank HおよびArthur L. ThomasによるPhthalocyanine Compounds、Reinhold Publishing Corp.、New York、1963に記載されている方法などの公知の製造方法によって製造することができる。
例えば、一般式（Ａ）で表されるチタニルフタロシアニン化合物のうち、ｒ、ｓ、ｙおよびｚが０である無置換のチタニルフタロシアニンの場合は、フタロニトリルと四塩化チタンとを、加熱融解するかまたはα－クロロナフタレンなどの適当な溶剤中で加熱反応させることによってジクロロチタニルフタロシアニンを合成した後、塩基または水で加水分解することによって得られる。
また、イソインドリンとテトラブトキシチタンなどのチタニウムテトラアルコキシドとを、Ｎ－メチルピロリドンなどの適当な溶剤中で加熱反応させることによっても、チタニルフタロシアニン組成物を製造することができる。

電荷発生層の形成方法としては、電荷発生物質を導電性支持体上に真空蒸着する方法、および溶剤中に電荷発生物質を分散して得られる電荷発生層用塗布液を導電性支持体上に塗布する方法などがある。これらの中でも、バインダ樹脂を溶剤中に混合して得られるバインダ樹脂溶液中に、電荷発生物質を従来公知の方法によって分散させ、電荷発生層用塗布液を導電性支持体上に塗布する方法が好ましい。以下、この方法について説明する。

バインダ樹脂としては、特に限定されず、当該分野で公知の樹脂をいずれも使用でき、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリフェノキシ、ポリビニルブチラールおよびポリビニルホルマールなどの樹脂、ならびにこれらの樹脂を構成する繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂などを挙げることができる。
共重合体樹脂としては、例えば、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸共重合体樹脂およびアクリロニトリル－スチレン共重合体樹脂などの絶縁性樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

溶剤としては、例えば、ジクロロメタンおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、アセトン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジオキサンなどのエーテル類、１，２－ジメトキシエタンなどのエチレングリコールのアルキルエーテル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類、またはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

電荷発生物質とバインダ樹脂との配合比率は、電荷発生物質の割合が１０～９９質量％の範囲にあることが好ましい。
電荷発生物質の割合が１０質量％未満であると、感度が低下することがある。一方、電荷発生物質の割合が９９質量％を超えると、電荷発生層の膜強度が低下するだけでなく、電荷発生物質の分散性が低下して粗大粒子が増大し、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷が減少して画像欠陥、特に白地にトナーが付着し微小な黒点が形成される黒ポチと呼ばれる画像のかぶりが多く発生することがある。

バインダ樹脂溶液中に電荷発生物質を分散させる前に、予め電荷発生物質を粉砕機によって粉砕処理してもよい。粉砕処理に用いられる粉砕機としては、ボールミル、サンドミル、アトライタ、振動ミルおよび超音波分散機などを挙げることができる。
電荷発生物質をバインダ樹脂溶液中に分散させる際に用いられる分散機としては、ペイントシェーカ、ボールミルまたはサンドミルなどを挙げることができる。このときの分散条件としては、用いる容器および分散機を構成する部材の摩耗などによる不純物の混入が起こらないように適当な条件を選択すればよい。
電荷発生層用塗布液の塗布方法としては、下引き層用塗布液の塗付方法と同様の方法が挙げられ、浸漬塗布法が特に好ましい。

電荷発生層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．０５～５μｍであり、より好ましくは０．１～１μｍである。
電荷発生層の膜厚が０．０５μｍ未満では、光吸収の効率が低下し、感光体の感度が低下することがある。一方、電荷発生層の膜厚が５μｍを超えると、電荷発生層内部での電荷移動が積層型感光層表面の電荷を消去する過程の律速段階となり感光体の感度が低下することがある。

＜電荷輸送層１６＞
電荷輸送層は、電荷発生物質で発生した電荷を受入れ感光体表面まで輸送する機能を有し、電荷輸送物質、バインダ樹脂およびシリカ粒子、必要に応じて添加剤を含有する。

電荷輸送物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用できる。
具体的には、カルバゾール誘導体、ピレン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、多環芳香族化合物、インドール誘導体、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、トリアリールメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体、ベンジジン誘導体、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマー（ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリ－１－ビニルピレン、エチルカルバゾール－ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポリマー、ポリ－９－ビニルアントラセンなど）、ポリシランなどが挙げられる。これらの電荷輸送物質は１種を単独でまたは２種以上を組み合せて使用することができる。

これらの種々の電荷輸送物質の中でも、電気特性、耐久性および化学的安定性において、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体およびこれらの化合物が複数種結合したものが好ましく、スチルベン誘導体がより好ましく、下記の一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅およびＲ₆は、同一または異なって、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアラルキル基であり、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、同一または異なって、０～３の整数であり、Ｒ₃およびＲ₄は、同一または異なって、水素原子またはアルキル基である。）
で表されるスチルベン化合物が，残留電位上昇、感度悪化が少なく、良好な電子写真特性を発現できる点で特に好ましい。

一般式（Ｉ）における置換基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅およびＲ₆について説明する。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、sec－ブチル、tert－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシルなどの炭素数１～６のアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、tert－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ、ｎ－ヘキシルオキシなどの炭素数が１～６のアルコキシ基が挙げられる。
アリール基としては、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、フルオレニル、ビフェニリル、ｏ－テルフェニルなどが挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、トリチルなどが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。

置換基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅およびＲ₆の指数を示すｍ、ｎ、ｐおよびｑは、同一または異なって、０～３の整数であり、この指数が２以上のとき、各置換基は互いに異なっていてもよい。
また、一般式（Ｉ）における置換基Ｒ₃およびＲ₄のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピルなどの炭素数１～３のアルキル基が挙げられる。
一般式（Ｉ）で表されるスチルベン化合物は、例えば、特許第３２７２２５７号公報に記載の方法により合成することができる。

一般式（Ｉ）で表されるスチルベン化合物としては、例えば、下記の化合物（１）～（３）が挙げられ、積層型感光層にした時の耐刷性の点で化合物（１）が特に好ましい。

電荷輸送層の形成方法としては、バインダ樹脂を溶剤中に混合して得られるバインダ樹脂溶液中に、電荷輸送物質および無機化合物微粒子を従来公知の方法によって分散させ、電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法が好ましい。以下、この方法について説明する。

バインダ樹脂としては、特に限定されず、当該分野で公知の樹脂をいずれも使用でき、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどのビニル重合体樹脂およびそれらの共重合体樹脂、ならびにポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリフェノキシ、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアリレート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリアクリルアミド、フェノール樹脂などの樹脂、これらの樹脂を部分的に架橋した熱硬化性樹脂などが挙げられる。これらのバインダ樹脂は１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。

これらの中でも、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレートおよびポリフェニレンオキサイドは、体積抵抗値が１０¹³Ω以上であって電気絶縁性に優れ、かつ成膜性、電位特性などにも優れるので好ましい。

電荷輸送物質（Ａ）とバインダ樹脂（Ｂ）との比率Ａ／Ｂは、好ましくは１０／１２～１０／３０で用いられる。
比率Ａ／Ｂが１０／３０未満でありバインダ樹脂の比率が高くなると、浸漬塗布法によって電荷輸送層を形成する場合、塗布液の粘度が増大するので、塗布速度低下を招き生産性が著しく悪くなる。また塗布液の粘度の増大を抑えるために塗布液中の溶剤の量を多くすると、ブラッシング現象が発生し、形成された電荷輸送層に白濁が発生することがある。一方、比率Ａ／Ｂが１０／１２を超えてバインダ樹脂の比率が低くなると、バインダ樹脂の比率が高いときに比べて耐刷性が低くなり、積層型感光層の摩耗量が増加することがある。

電荷輸送層は、成膜性、可撓性および表面平滑性を向上させるために、必要に応じて、可塑剤またはレベリング剤などの添加剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えばフタル酸エステルなどの二塩基酸エステル、脂肪酸エステル、リン酸エステル、塩素化パラフィンおよびエポキシ型可塑剤などが挙げられる。
レベリング剤としては、例えばシリコーン系レベリング剤などが挙げられる。
また、電荷輸送層は、機械的強度の増強や電気的特性の向上を図るために、無機化合物または有機化合物の微粒子を含有してもよい。

溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびモノクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタンおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ＴＨＦ、ジオキサンおよびジメトキシメチルエーテルなどのエーテル類、ならびにＮ,Ｎ－ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられる。また必要に応じてアルコール類、アセトニトリルまたはメチルエチルケトンなどの溶剤をさらに加えて使用することもできる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。これらの溶剤は１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。

電荷輸送層は、例えば、前述の電荷発生層を形成する場合と同様に、適当な溶剤中に電荷輸送物質およびバインダ樹脂、ならびに必要な場合には前述の添加剤を溶解または分散させて電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗布液をスプレイ法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法または浸漬塗布法などによって、電荷発生層１３上に塗布することによって形成される。これらの塗布方法の中でも、特に浸漬塗布法は、前述したように種々の点で優れているので、電荷輸送層を形成する場合にも多く利用されている。

電荷輸送層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは１８～４２μｍ、より好ましくは２５～３７μｍである。
電荷輸送層の膜厚が１８μｍ未満では、耐光性への効果が十分に発揮されないことがある。一方、電荷輸送層の膜厚が４２μｍを超えると、感光体の電気特性が悪化することがある。

（２）画像形成装置１００
本発明の画像形成装置は、本発明の感光体と、感光体を帯電させる帯電手段と、帯電された感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像を現像してトナーによりトナー像を形成する（可視像化する）現像手段と、トナー像を記録媒体上に転写する転写手段とを少なくとも備え、その他、転写されたトナー像を記録媒体上に定着して画像を形成する定着手段、感光体に残留するトナーを除去し回収するクリーニング手段、および感光体に残留する表面電荷を除電する除電手段から選択される手段を備えていてもよい。
以下、図面に基づいて本発明の画像形成装置およびその動作について説明するが、以下の記載内容に限定されるものではない。

図２は、本発明の画像形成装置の要部の構成を示す模式側面図である。
図２の画像形成装置（レーザプリンタ）１００は、本発明の感光体１と、露光手段（半導体レーザ）３１と、帯電手段（帯電器）３２と、現像手段（現像器）３３と、転写手段（転写帯電器）３４と、搬送ベルト（図示せず）と、定着手段（定着器）３５と、クリーニング手段（クリーナ）３６とを含んで構成される。符号５１は記録媒体（記録紙または転写紙）を示す。

感光体１は、画像形成装置１００本体に回転自在に支持され、図示しない駆動手段によって回転軸線４４回りに矢符４１方向に回転駆動される。駆動手段は、例えば電動機と減速歯車とを含んで構成され、その駆動力を感光体１の芯体を構成する導電性支持体に伝えることによって、感光体１を所定の周速度で回転駆動させる。帯電手段（帯電器）３２、露光手段３１、現像手段（現像器）３３、転写手段（転写帯電器）３４およびクリーニング手段（クリーナ）３６は、この順序で、感光体１の外周面に沿って、矢符４１で示される感光体１の回転方向上流側から下流側に向って設けられる。

帯電器３２は、感光体１の外周面を均一に所定の電位に帯電させる帯電手段である。
露光手段３１は、半導体レーザを光源として備え、光源から出力されるレーザビーム光を、帯電器３２と現像器３３との間の感光体１の表面に照射することによって、帯電された感光体１の外周面に対して画像情報に応じた露光を施す。光は、主走査方向である感光体１の回転軸線４４の延びる方向に繰返し走査され、これらが結像して感光体１の表面に静電潜像が順次形成される。すなわち、帯電器３２により均一に帯電された感光体１の帯電量がレーザビームの照射および非照射によって差異が生じて静電潜像が形成される。

現像器３３は、露光によって感光体１の表面に形成される静電潜像を、現像剤（トナー）によって現像する現像手段であり、感光体１を臨んで設けられ、感光体１の外周面にトナーを供給する現像ローラ３３ａと、現像ローラ３３ａを感光体１の回転軸線４４と平行な回転軸線まわりに回転可能に支持すると共にその内部空間にトナーを含む現像剤を収容するケーシング３３ｂとを備える。

転写帯電器３４は、現像によって感光体１の外周面に形成される可視像であるトナー像を、図示しない搬送手段によって矢符４２方向から感光体１と転写帯電器３４との間に供給される記録媒体である転写紙５１上に転写させる転写手段である。転写帯電器３４は、例えば、帯電手段を備え、転写紙５１にトナーと逆極性の電荷を与えることによってトナー像を転写紙５１上に転写させる接触式の転写手段である。

クリーナ３６は、転写帯電器３４による転写動作後に感光体１の外周面に残留するトナーを除去し回収する清掃手段であり、感光体１の外周面に残留するトナーを剥離させるクリーニングブレード３６ａと、クリーニングブレード３６ａによって剥離されたトナーを収容する回収用ケーシング３６ｂとを備える。また、このクリーナ３６は、図示しない除電ランプと共に設けられる。

また、画像形成装置１００には、感光体１と転写帯電器３４との間を通過した転写紙５１が搬送される下流側に、転写された画像を定着させる定着手段である定着器３５が設けられる。定着器３５は、図示しない加熱手段を有する加熱ローラ３５ａと、加熱ローラ３５ａに対向して設けられ、加熱ローラ３５ａに押圧されて当接部を形成する加圧ローラ３５ｂとを備える。
符号３７は、転写紙と感光体を分離する分離手段、符号３８は、画像形成装置の前記の各手段を収容するケーシングを示す。

この画像形成装置１００による画像形成動作は、次のようにして行われる。
まず、感光体１が駆動手段によって矢符４１方向に回転駆動されると、露光手段３１による光の結像点よりも感光体１の回転方向上流側に設けられる帯電器３２によって、感光体１の表面が正の所定電位に均一に帯電される。

次いで、露光手段３１から、感光体１の表面に対して画像情報に応じた光が照射される。感光体１は、この露光によって、光が照射された部分の表面電荷が除去され、光が照射された部分の表面電位と光が照射されなかった部分の表面電位とに差異が生じ、静電潜像が形成される。
露光手段３１による光の結像点よりも感光体１の回転方向下流側に設けられる現像器３３から、静電潜像の形成された感光体１の表面にトナーが供給されて静電潜像が現像され、トナー像が形成される。

感光体１に対する露光と同期して、感光体１と転写帯電器３４との間に、転写紙５１が供給される。転写帯電器３４によって、供給された転写紙５１にトナーと逆極性の電荷が与えられ、感光体１の表面に形成されたトナー像が、転写紙５１上に転写される。
トナー像の転写された転写紙５１は、搬送手段によって定着器３５に搬送され、定着器３５の加熱ローラ３５ａと加圧ローラ３５ｂとの当接部を通過する際に加熱および加圧され、トナー像が転写紙５１に定着されて堅牢な画像となる。このようにして画像が形成された転写紙５１は、搬送手段によって画像形成装置１００の外部へ排紙される。

一方、転写帯電器３４によるトナー像の転写後も感光体１の表面上に残留するトナーは、クリーナ３６によって感光体１の表面から剥離されて回収される。このようにしてトナーが除去された感光体１の表面の電荷は、除電ランプからの光によって除去され、感光体１の表面上の静電潜像が消失する。その後、感光体１はさらに回転駆動され、再度帯電から始まる一連の動作が繰返されて連続的に画像が形成される。

（３）電子写真感光体の製造方法
本発明の電子写真感光体の製造方法は、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有する下引き層用塗布液を用いて下引き層を形成する工程を含むことを特徴とする。
下引き層を含む各層を構成する材料、作製およびその条件などについては、（１）電子写真感光体に記載のとおりである。

（４）下引き層用塗布液
本発明の下引き層用塗布液は、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする。
本発明の下引き層用塗布液は、分散安定性に優れ、長期にわたって安定して均一な下引き層を形成し、感光体を製造することができる。
下引き層用塗布液の構成材料、それらの配合量などについては、（１）電子写真感光体に記載のとおりである。

以下に、図面に基づき実施例および比較例により本発明を具体的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定されるものではない。
なお、実施例および比較例において作製した感光体の下引き層中のＮａ、Ｋ、ＣａおよびＭｇ元素の含有量を、ＩＣＰ発光分光分析装置（サーモフィッシャーサイエンティフィク社製、型式：ｉＣＡＰ－６５００）を用いた分析により算出し、シリカ含有量に対する質量比率を算出した。

（実施例１）
下記の工程により、図１に示される感光体１を得た。
＜混合溶液Ａの調製＞
容量１Ｌのポリプロピレン（ＰＰ）容器に、ガラスビーズ（ソーダ石灰ガラス、粒径１ｍｍ、アズワン株式会社製、製品名：ＢＺ－１）１００ｇ、メチルアルコール３００ｇおよびテトラヒドロフラン３００ｇを入れ、ボールミル（エイシン株式会社製、型式：卓上ボールミルＢＭ－１５）を用いて１０時間撹拌処理し、ろ過によりガラスビーズを除去して、Ｋ元素、Ｎａ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有する混合溶剤Ａを得た（約５９８ｇ）。

＜下引き層＞
次いで、容量２ＬのＰＰ容器に、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）１４０ｇ、共重合ポリアミド（東レ株式会社製、製品名：ナイロン樹脂アミラン（登録商標）ＣＭ８０００）６０ｇ、メチルアルコール５００ｇ、テトラヒドロフラン５００ｇ、上記の混合溶剤Ａ１３５ｇおよびジルコニアビーズ（粒径０．６５ｍｍ、東レ株式会社製、製品名：トレセラム（登録商標））１５００ｇを入れ、ペイントシェーカ（株式会社セイワ技研製）を用いて５時間分散処理して、下引き層用塗布液１２０１ｇを調製した。

得られた下引き層用塗布液を２０℃で１日間および１ヵ月間静置し、静置後のそれぞれの塗布液を塗布槽に満たし、導電性支持体１１として直径３０ｍｍ、長さ２５５ｍｍのアルミニウム製のドラム状支持体を浸漬した後、引き上げ、得られた塗膜を自然乾燥させて、導電性支持体上に膜厚１．２μｍの下引き層１８を形成した。
静置した各下引き層用塗布液の分散性および分散安定性ならびに塗膜の状態を評価した。詳しくは、［評価］において詳述する。
なお、評価用の感光体には、１日間静置した下引き層用塗布液を用いて形成した下引き層を有する感光体を用いた。

＜電荷発生層＞
予め、電荷発生物質として使用する、下記構造式で表されるチタニルフタロシアニンを調製した。

ジイミノイソインドリン２９．２ｇおよびスルホラン２００ｍｌを混合し、さらにチタニウムテトライソプロポキシド１７．０ｇを加え、窒素雰囲気下、１４０℃で２時間反応させた。得られた反応混合物を放冷した後、析出物を濾取し、クロロホルムおよび２％の塩酸水溶液で順次洗浄し、さらに水およびメタノールで順次洗浄し、乾燥させて青紫色の結晶物２５．５ｇを得た。
得られた化合物の化学分析の結果、上記構造式で表されるチタニルフタロシアニンであることを確認した（収率８８．５％）。

容量２ＬのＰＰ容器に、得られたチタニルフタロシアニン１５ｇ、ブチラール樹脂（積水化学株式会社製、製品名：エスレックＢＭ－２）１５ｇ、メチルエチルケトン１０００ｇおよびジルコニアビーズ（粒径０．６５ｍｍ、東レ株式会社製、製品名：トレセラム（登録商標））１５００ｇを加え、ペイントシェーカ（株式会社セイワ技研製）を用いて、２時間分散処理して電荷発生層用塗布液９４７ｇを調製した。
得られた電荷発生層用塗布液を、下引き層形成の場合と同様の浸漬法で、下引き層１８上に塗布し、得られた塗膜を自然乾燥させて、膜厚０．３μｍの電荷発生層１５を形成した。

＜電荷輸送層＞
予め、電荷輸送物質として使用する、下記構造式で表される化合物（１）（スチルベン化合物）を、特許第３２７２２５７号公報に記載の方法に基づいて調製した。

容量２ＬのＰＰ容器に、得られた化合物（１）１２５ｇ、ポリカーボネート（帝人化成株式会社製、製品名：パンライト（登録商標）ＴＳ２０５０）１８８ｇおよびテトラヒドロフラン１２５０ｇを加え、混合し、ボールミル（エイシン株式会社製、型式：卓上ボールミルＢＭ－１５）を用いて、１５時間撹拌処理して、電荷輸送層用塗布液３リットルを調製した。
得られた電荷輸送層用塗布液を、下引き層形成の場合と同様の浸漬法で、電荷発生層１５上に塗布し、得られた塗膜を１２０℃で１時間乾燥させて、膜厚３４μｍの電荷輸送層１６を形成し、図１に示す感光体１を得た。

（実施例２）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化チタン（Ｘ線粒子径１６ｎｍ、ルチル１００％、含水シリカ処理、堺化学工業株式会社製、商品名：ＳＴＲ－１００Ｗ）を用いること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例３）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化亜鉛（一次粒子径３５ｎｍ、含水シリカ処理、堺化学工業株式会社製、商品名：超微粒子酸化亜鉛ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ）を用い、混合溶剤Ａ１３５ｇを３８ｇに変更すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例４～１１）
下引き層用塗布液の調製において、混合溶剤Ａ１３５ｇを、それぞれ１５ｇ、２７５ｇ、８１ｇ、１８９ｇ、６８ｇ、２１６ｇ、５４ｇおよび２３０ｇに変更すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例１２）
下引き層用塗布液の調製において、酸化亜鉛（一次粒子径３５ｎｍ、含水シリカ処理、堺化学工業株式会社製、商品名：超微粒子酸化亜鉛ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ）１４０ｇを１２０ｇに変更し、共重合ポリアミド（東レ株式会社製、製品名：ナイロン樹脂アミラン（登録商標）ＣＭ８０００）６０ｇを８０ｇに変更し、混合溶剤Ａ１３５ｇを８１ｇに変更すること以外は、実施例３と同様にして感光体１を得た。

（実施例１３）
下引き層用塗布液の調製において、混合溶剤Ａ１３５ｇを８１ｇに変更し、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）１４ｇをさらに添加すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例１４）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化亜鉛（一次粒子径３５ｎｍ、含水シリカ処理、堺化学工業株式会社製、商品名：超微粒子酸化亜鉛ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ）を用い、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）２８ｇをさらに添加すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例１５）
下引き層用塗布液の調製において、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）の代わりに、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径７ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＲＸ３００）を用いること以外は、実施例１４と同様にして感光体１を得た。

（実施例１６）
下引き層用塗布液の調製において、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）の代わりに、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径１２ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＲＸ２００）を用いること以外は、実施例１４と同様にして感光体１を得た。

（実施例１７）
下引き層用塗布液の調製において、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）の代わりに、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径３０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＡＸ５０）を用いること以外は、実施例１４と同様にして感光体１を得た。

（実施例１８）
下引き層用塗布液の調製において、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径２０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＮＸ９０Ｇ）の代わりに、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径４０ｎｍ、ヘキサメチルジシラザン処理（トリメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）ＲＸ５０）を用いること以外は、実施例１４と同様にして感光体１を得た。

（実施例１９）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化亜鉛（一次粒子径３５ｎｍ、含水シリカ処理、堺化学工業株式会社製、商品名：超微粒子酸化亜鉛ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ）を用い、ゾルゲル法シリカ粒子（平均一次粒子径１５ｎｍ、メチルトリメトキシシランおよびヘキサメチルジシラザン処理、信越化学工業株式会社製、製品名：ＱＳＧ－１０）２８ｇをさらに添加すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（実施例２０）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化チタン（Ｘ線粒子径１６ｎｍ、ルチル１００％、表面未処理、堺化学工業株式会社製、商品名：ＳＴＲ－１００Ｎ）を用い、ヒュームドシリカ粒子（平均一次粒子径１６ｎｍ、ジメチルジクロロシラン処理（ジメチルシリル基による表面修飾）、日本アエロジル株式会社製、製品名：ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ９７２）２８ｇをさらに添加すること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（比較例１）
混合溶剤Ａを用いないこと以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（比較例２）
下引き層用塗布液の調製において、酸化チタン（平均一次粒子径１５ｎｍ、Ｓｉ表面処理、テイカ株式会社製、製品名：微粒子酸化チタンＭＴ－１００ＷＰ）の代わりに、酸化チタン（Ｘ線粒子径１６ｎｍ、ルチル１００％、表面未処理、堺化学工業株式会社製、商品名：ＳＴＲ－１００Ｎ）を用いること以外は、実施例１と同様にして感光体１を得た。

（比較例３および４）
下引き層用塗布液の調製において、混合溶剤Ａ１３５ｇを、それぞれ１１ｇおよび２８９４ｇに変更すること以外は、実施例３と同様にして感光体１を得た。

［評価］
以下のようにして、実施例１～２０および比較例１～４において作製した各感光体の感度、ならびに実施例１～２０および比較例１～４において調製した下引き層用塗布液の分散性および分散安定性を評価した。

［感度］
評価対象の感光体を、試験用に改造したデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ－Ｂ４５５Ｗ）のユニットに装着し、デジタル複写機から現像器を取り外し、代わりに現像部位に表面電位計（トレック・ジャパン社製、型式：ＭＯＤＥＬ ３４４）を取り付けた。温度２５℃、相対湿度５０％の常温常湿（Ｎ／Ｎ）の環境下において、レーザ光による露光を施さなかった場合の感光体の表面電位を－６００Ｖに調整し、その状態で黒地部分の表面電位ＶＬ（－Ｖ）を測定した。
得られたＶＬから下記の基準で感度を評価した。表面電位ＶＬの絶対値が小さい程、高感度であると評価した。

＜評価基準＞
ＶＧ：｜ＶＬ｜＜８０
高感度を要求される高速の複合機もしくはプリンタにおいても問題なく使用可
Ｇ：８０≦｜ＶＬ｜＜１１０
中低速の複合機もしくはプリンタにおいては問題なく使用可
ＮＧ：１１０≦｜ＶＬ｜＜１４０
低速で安価な複合機もしくはプリンタの場合であれば、やや濃度は薄いものの問題なく使用可
Ｂ：１４０≦｜ＶＬ｜
感度が悪いため、濃度が薄く、実使用上問題あり

［分散性および分散安定性］
各感光体の作製において調製した下引き層用塗布液を容量１ＬのＰＰ容器に入れ、２０℃で１日間および１ヵ月間静置し、静置後の各塗布液の凝集・沈降状態およびそれらを用いて形成した下引き層の塗膜の状態を目視観察により評価した。
塗液については、沈殿（沈降）の発生有無およびその量、容器壁面への凝集物の付着を確認した。また、塗膜については、金属酸化物の凝集体の付着の有無や部分的に色目や光沢が違うなどの塗布ムラ発生状況を確認した。
１日間静置については分散性、１ヵ月間静置については分散安定性として評価した。
得られた結果から下記の基準で感度を評価した。

＜評価基準＞
ＶＧ：塗布液に凝集・沈降がなく、塗膜性状も均一で凝集体の付着はない
Ｇ：塗布液容器の壁面にやや凝集物の付着が見られるものの沈降はなく、塗膜性状は均一であるが、１、２ヵ所の凝集体の付着がある
ＮＢ：塗布液容器の壁面にやや凝集物の付着が見られ、沈降も若干みられ、塗膜性状は均一であるが、３～５ヵ所の凝集体の付着がある
Ｂ：塗布液容器の壁面に凝集物の付着が多く見られ、金属酸化物が沈降し、塗膜性状は、膜の光沢が所々違う箇所があり、１０ヵ所以上の凝集体の付着が見られる

＜総合評価＞
上記の評価結果に基づいて、下記の基準で総合評価した。
ＶＧ：全項目でＧ評価以上、２つ以上の項目でＶＧ評価、非常に良好
高画質な複合機およびプリンタにおいても循環ろ過しないでも問題なく使用可
Ｇ：全項目でＧ評価以上
高画質な複合機もしくはプリンタ以外の場合や塗布液を循環ろ過する場合には、問題なく使用可
ＮＢ：全項目でＮＢ評価以上
安価な複合機もしくはプリンタの場合や塗布液を撹拌しながら循環ろ過する場合には、問題なく使用可
Ｂ：Ｂ評価があり、実使用不可

作製した感光体の下引き層の主要構成材料および物性を表１に、形成した下引き層中の特定元素の含有量およびシリカ含有量に対する特定元素の含有量の質量比率を表２に、ならびに得られた評価結果を表３に示す。
表１における略号「ＦＳ」は「ヒュームドシリカ」を、「Ｍ／Ｒ」は「金属酸化物粒子Ｍ／バインダ樹脂Ｒ」の質量比率を意味する。
また、表２における特定元素の含有量およびその質量比率の表記「Ａ Ｅ－Ｂ」は「Ａ×１０^-B」を意味する。

表１および表２の結果から、次のことがわかる。
（１）バインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍの特定４元素を含有する下引き層を有する感光体（実施例１～２０）は、特定４元素をほとんど含有していない感光体（比較例１）、シリカを含有していない感光体（比較例２）、特定４元素の合計含有量が１ｐｐｍ未満の感光体（比較例３）、特定４元素の合計含有量が２０ｐｐｍを超える感光体（比較例４）に比べて、良好な電気特性を有し、かつ下引き層の形成に用いた下引き層用塗布液は、分散性および分散安定性に優れ、長期にわたって安定して均一な下引き層を製造できること

（２）特定４元素の合計含有量は、実施例４（１．１１ｐｐｍ）、実施例５（１９．０９ｐｐｍ）、比較例３（０．０９ｐｐｍ）および比較例４（２０．９７ｐｐｍ）の感光体の評価結果から、１～２０ｐｐｍがよく、１ｐｐｍ未満では、分散性および分散安定性が悪く、金属酸化物の凝集物により問題になり、２０ｐｐｍを超えると、感度が大きく悪化すること、ならびに実施例６（６．０４ｐｐｍ）および実施例７（１４．１７ｐｐｍ）の評価結果から、５～１５ｐｐｍがより好ましいこと

（３）下引き層中のシリカ含有量に対する特定４元素の合計含有量の質量比率は、実施例８（２．４×１０^-5）、実施例９（７．７×１０^-5）、実施例１０（１．９×１０^-5）および実施例１１（８．１×１０^-5）の感光体の評価結果から、２×１０^-5～８×１０^-5が好ましく、２×１０^-5未満では、若干分散安定性が悪化し、８×１０^-5を超えると、感度が悪化傾向にあること

（４）下引き層中のシリカ含有量に対するＮａ元素の含有量の質量比率は、実施例１（２．３×１０^-5）、実施例２（３．４×１０^-5）、実施例３（３．９×１０^-5）、実施例６（１．４×１０^-5）、実施例７（３．２×１０^-5）、実施例９（３．７×１０^-5）、実施例１１（３．９×１０^-5）および実施例１４（３．１×１０^-5）の評価結果から、１．３×１０^-5～３．８×１０^-5が好ましく、上記の質量比率であることで、感度が比較的良好で、分散性が極めて良好であること

（５）シリカ粒子の含有割合は、実施例１２（３質量％）および実施例１３（２６質量％）の評価結果から、４～２５質量％が好ましく、４質量％未満では、シリカの帯電による分散性向上効果が少なく、分散が悪くなり、２５質量％を超えると、感度が悪化傾向にあること

（６）実施例２０および比較例２の評価結果から、金属酸化物粒子がシリカで被覆されていなくても、下引き層がシリカ粒子を含有することで、分散性および分散安定性に対して効果があり、またゾルゲル法で作製されたシリカ粒子を含有する感光体（実施例１９）がヒュームドシリカ粒子を含有する感光体（実施例１８）に比べて、感度・分散性に劣ること

（７）シリカ粒子の平均一次粒子径は、実施例１４（２０ｎｍ）、実施例１５（７ｎｍ）、実施例１６（１２ｎｍ）、実施例１７（３０ｎｍ）および実施例１８（４０ｎｍ）の評価結果から、１２～３０ｎｍが好ましく、７ｎｍ未満では、分散困難で、若干凝集が見られ、３０ｎｍを超えると、一部の大きい凝集物による塗布ムラが見られること

１ 電子写真感光体
１１ 導電性支持体
１２ 電荷発生物質
１３ 電荷輸送物質
１４ 感光層（積層型感光層）
１５ 電荷発生層
１６ 電荷輸送層
１７ バインダ樹脂
１８ 下引き層（中間層）
１９ シリカで被覆された金属酸化物粒子

３１ 露光手段（半導体レーザ）
３２ 帯電手段（帯電器）
３３ 現像手段（現像器）
３３ａ 現像ローラ
３３ｂ ケーシング
３４ 転写手段（転写帯電器）
３５ 定着手段（定着器）
３５ａ 加熱ローラ
３５ｂ 加圧ローラ
３６ クリーニング手段（クリーナ）
３６ａ クリーニングブレード
３６ｂ 回収用ケーシング
３７ 分離手段
３８ ハウジング
４１、４２ 矢符
４４ 回転軸線
５１ 記録媒体（記録紙または転写紙）
１００ 画像形成装置（レーザプリンタ）

Claims (10)

1. 導電性基体上に、少なくとも下引き層と感光層とがこの順で積層された層構成を有し、
   前記下引き層が、（１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする電子写真感光体。
2. 前記下引き層中のシリカ含有量に対するＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素の合計含有量の質量比率が、２×１０^-5～８×１０^-5である請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記下引き層中のシリカ含有量に対するＮａ元素の含有量の質量比率が、１．３×１０^-5～３．８×１０^-5である請求項１または２に記載の電子写真感光体。
4. 前記下引き層中のシリカ含有量が、４～２５質量％である請求項１～３のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
5. 前記金属酸化物粒子が、酸化チタンおよび酸化亜鉛から選択される化合物の粒子である請求項１～４のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
6. 前記シリカ粒子が、ヒュームドシリカである請求項１～５のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
7. 前記シリカ粒子が、１２～３０ｎｍの平均一次粒子径を有する請求項１～６のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
8. 請求項１～７のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像を現像してトナーによりトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体上に転写する転写手段とを少なくとも備えることを特徴とする画像形成装置。
9. 請求項１～７のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法であり、
   （１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有する下引き層用塗布液を用いて下引き層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
10. 請求項９に記載の電子写真感光体の製造方法に用いる下引き層用塗布液であり、
    （１）少なくともバインダ樹脂およびシリカで被覆された金属酸化物粒子、（２）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆されていない金属酸化物粒子およびシリカ粒子、または（３）少なくともバインダ樹脂、シリカで被覆された金属酸化物粒子およびシリカ粒子を含有し、かつ合計含有量で１～２０ｐｐｍのＮａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素およびＭｇ元素を含有することを特徴とする下引き層用塗布液。