JP2023068040A - 磁気記録媒体及びカートリッジ - Google Patents
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Abstract
Description
本技術は、磁気記録媒体等の技術に関する。
近年、電子データのバックアップなどの用途で磁気記録媒体が広く利用されている。磁気記録媒体の一つとして、磁性層を有する磁気記録媒体が広く普及している。
磁気記録媒体の磁性層には、複数の記録トラックを含むデータバンドが設けられており、この記録トラックに対してデータが記録される。また、磁性層においては、幅方向でデータバンドを挟み込む位置にサーボバンドが設けられ、このサーボバンドにサーボ信号が記録される。磁気ヘッドは、サーボバンドに記録されたサーボ信号を読み取ることで、記録トラックに対して位置合わせを行う。
磁気記録媒体への記録方式としては、磁性層内の磁性粒子を水平方向に磁化させてデータを記録する水平磁気記録方式と、磁性層内の磁性粒子を垂直方向に磁化させてデータを記録する垂直磁気記録方式とが知られている。垂直磁気記録方式は、水平磁気記録方式に比べて高密度にデータを記録することができる。
近年においては、記録すべきデータ量の増加から、さらなる高密度記録化が要請されおり、データの記録密度をさらに向上させることができる技術が求められている。
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、データの記録密度をさらに向上させることができる技術を提供することにある。
本技術に係る磁気記録媒体は、磁性層を有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体であって、前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、前記基材の厚さが、4.2μm以下である。
これにより、データの記録密度をさらに向上させることができる。
上記磁気記録媒体において、前記孤立波形の半値幅が180nm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記孤立波形の半値幅が160nm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記孤立波形の半値幅が140nm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記孤立波形の半値幅が120nm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記垂直配向度が70%以上であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記垂直配向度が75%以上であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記垂直配向度が80%以上であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、サーボ信号記録パターンは、前記幅方向に対して所定のアジマス角を持って傾斜する複数のストライプを含み、前記複数のストライプうち、任意のストライプ上の任意の点をP1とし、前記P1に対して、前記幅方向で前記記録トラック幅分、離れた位置にある前記任意のストライプ上の点をP2としたとき、前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.08μm以上であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.62μm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁性層は、長手配向度が35%以下であってもよい。
上記磁気記録媒体は、長手方向の保磁力が2000Oe以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁性層の表面全体の面積に対する前記サーボバンドの面積の比率が、4.0%以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁性層は、磁性粉を含み、前記磁性粉の粒子体積が2300nm3以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、データバンドの本数が4n(nは、2以上の整数)であり、サーボバンドの本数が、4n+1であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記サーボバンドの幅が、95μm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、前記記録トラック幅は、2.0μm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記データバンドに記録されるデータ信号における前記長手方向の1ビット長が、48nm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁性層は、六方晶フェライト、ε酸化鉄、又はコバルト含有フェライトの磁性粉を含んでいてもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体の長手方向の引張試験において、前記磁気記録媒体における伸び率0.5%のときの荷重をσ0.5とし、磁気記録媒体における伸び率1.5%のときの荷重をσ1.5としたとき、σ1.5-σ0.5の値が、0.6N以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体は、60℃で72時間保管されたとき、前記長手方向の収縮率が0.1%以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体の厚さが5.6μm以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記基材の厚さをTB、前記磁気記録媒体の厚さをTLとしたとき、(TL-TB)/TBの値が、0.41以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体の長手方向のヤング率は、8.5GPa以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記基材の長手方向のヤング率は、8.0GPa以下であってもよい。
上記磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体は、前記長手方向におけるテンションを増減させることで前記磁気記録媒体の幅が調整されてもよい。
本技術に係るカートリッジは、基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体を含むカートリッジであって、前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、前記基材の厚さが、4.2μm以下である。
以上のように、本技術によれば、データの記録密度をさらに向上させることができる技術を提供することができる。
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
<磁気記録媒体の構成>
まず、磁気記録媒体1における基本的な構成について説明する。図1は、磁気記録媒体1を側方から見た模式図である。
まず、磁気記録媒体1における基本的な構成について説明する。図1は、磁気記録媒体1を側方から見た模式図である。
図1及び図2に示すように、磁気記録媒体1は、長手方向(X軸方向)に長く、幅方向(Y軸方向)に短く、厚さ方向(Z軸方向)に薄いテープ状に構成されている。なお、本明細書(及び図面)においては、磁気記録媒体1を基準とした座標系をXYZ座標系で表すこととする。
磁気記録媒体1は、好ましくは96nm以下、より好ましくは75nm以下、さらにより好ましくは60nm以下、特に好ましくは50nm以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成されている。磁気記録媒体1は、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備えるデータ記録装置に用いられることが好ましい。
図1を参照して、磁気記録媒体1は、長手方向(X軸方向)に長いテープ状の基材11と、基材11の一方の主面上に設けられた非磁性層12と、非磁性層12上に設けられた磁性層13と、基材11の他方の主面上に設けられたバック層14とを含む。なお、バック層14は、必要に応じて設けられればよく、このバック層14は省略されてもよい。
[基材]
基材11は、非磁性層12および磁性層13を支持する非磁性支持体である。基材11は、長尺のフィルム状を有する。基材11の平均厚みの上限値は、好ましくは4.2μm以下、より好ましくは3.8μm以下、さらにより好ましくは3.4μm以下である。基材11の平均厚みの上限値が4.2μm以下であると、1つのカートリッジ21(図5参照)内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。
基材11は、非磁性層12および磁性層13を支持する非磁性支持体である。基材11は、長尺のフィルム状を有する。基材11の平均厚みの上限値は、好ましくは4.2μm以下、より好ましくは3.8μm以下、さらにより好ましくは3.4μm以下である。基材11の平均厚みの上限値が4.2μm以下であると、1つのカートリッジ21(図5参照)内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。
基材11の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、1/2インチ幅の磁気記録媒体1を準備し、それを250mmの長さに切り出し、サンプルを作製する。続いて、サンプルの基材11以外の層(すなわち非磁性層12、磁性層13およびバック層14)をMEK(メチルエチルケトン)または希塩酸等の溶剤で除去する。次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプル(基材11)の厚みを5点以上の位置で測定し、それらの測定値を単純に平均(算術平均)して、基材11の平均厚みを算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。
基材11は、例えば、ポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、およびその他の高分子樹脂のうちの少なくとも1種を含む。基材11が上記材料のうちの2種以上を含む場合、それらの2種以上の材料は混合されていてもよいし、共重合されていてもよいし、積層されていてもよい。
ポリエステル類は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PBN(ポリブチレンナフタレート)、PCT(ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、PEB(ポリエチレン-p-オキシベンゾエート)およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも1種を含む。
ポリオレフィン類は、例えば、PE(ポリエチレン)およびPP(ポリプロピレン)のうちの少なくとも1種を含む。セルロース誘導体は、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、CAB(セルロースアセテートブチレート)およびCAP(セルロースアセテートプロピオネート)のうちの少なくとも1種を含む。ビニル系樹脂は、例えば、PVC(ポリ塩化ビニル)およびPVDC(ポリ塩化ビニリデン)のうちの少なくとも1種を含む。
その他の高分子樹脂は、例えば、PA(ポリアミド、ナイロン)、芳香族PA(芳香族ポリアミド、アラミド)、PI(ポリイミド)、芳香族PI(芳香族ポリイミド)、PAI(ポリアミドイミド)、芳香族PAI(芳香族ポリアミドイミド)、PBO(ポリベンゾオキサゾール、例えばザイロン(登録商標))、ポリエーテル、PEK(ポリエーテルケトン)、ポリエーテルエステル、PES(ポリエーテルサルフォン)、PEI(ポリエーテルイミド)、PSF(ポリスルフォン)、PPS(ポリフェニレンスルフィド)、PC(ポリカーボネート)、PAR(ポリアリレート)およびPU(ポリウレタン)のうちの少なくとも1種を含む。
[磁性層]
磁性層13は、データ信号を記録するための記録層である。磁性粉、結着剤、導電性粒子等を含む。磁性層13は、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、防錆剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。磁性層13は、多数の孔部が設けられた表面を有している。これらの多数の孔部には、潤滑剤が蓄えられている。多数の孔部は、磁性層の表面に対して垂直方向に延設されていることが好ましい。
磁性層13は、データ信号を記録するための記録層である。磁性粉、結着剤、導電性粒子等を含む。磁性層13は、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、防錆剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。磁性層13は、多数の孔部が設けられた表面を有している。これらの多数の孔部には、潤滑剤が蓄えられている。多数の孔部は、磁性層の表面に対して垂直方向に延設されていることが好ましい。
磁性層13の垂直配向度(反磁界補正なし:以下同様)は、典型的には、65%以上とされる。また、磁性層13の長手配向度は、典型的には、35%以下とされる。
磁性層13の厚さは、典型的には、35nm以上90nm以下とされる。このように、磁性層13の厚さを35nm以上90nm以下とすることで、電磁変換特性を向上させることができる。さらに、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅(後述)の観点からすると、磁性層13の厚さは、好ましくは90nm以下、より好ましくは80nm以下、より好ましくは60nm以下、さらにより好ましくは40nm以下とされる。磁性層13の厚さが90nm以下とされることで、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅を狭くして(195nm以下)、サーボ信号の再生波形のピークを鋭くすることができる。これにより、サーボ信号の読み取り精度が向上するため、記録トラック数を増加させてデータの記録密度を向上させることができる(詳細は後述)。
磁性層13の厚さは、例えば、以下の様にして求めることができる。まず、磁気記録媒体1を、その主面に対して垂直に薄く加工して試料片を作製し、その試験片の断面を透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)により、下記の条件で観察を行う。
装置:TEM(日立製作所製H9000NAR)
加速電圧:300kV
倍率:100,000倍
装置:TEM(日立製作所製H9000NAR)
加速電圧:300kV
倍率:100,000倍
次に、得られたTEM像を用い、磁気記録媒体10の長手方向で少なくとも10点以上の位置で磁性層13の厚さを測定した後、それらの測定値を単純に平均(算術平均)して磁性層13の厚さとする。なお、測定位置は、試験片から無作為に選ばれるものとする。
(磁性粉)
磁性粉は、ε酸化鉄を含有するナノ粒子(以下「ε酸化鉄粒子」という。)の粉末を含む。ε酸化鉄粒子は微粒子でも高保磁力を得ることができる。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、磁気記録媒体1の厚み方向(垂直方向)に優先的に結晶配向していることが好ましい。
磁性粉は、ε酸化鉄を含有するナノ粒子(以下「ε酸化鉄粒子」という。)の粉末を含む。ε酸化鉄粒子は微粒子でも高保磁力を得ることができる。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、磁気記録媒体1の厚み方向(垂直方向)に優先的に結晶配向していることが好ましい。
ε酸化鉄粒子は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子が上記のような形状を有しているため、磁性粒子としてε酸化鉄粒子を用いた場合、磁性粒子として六角板状のバリウムフェライト粒子を用いた場合に比べて、磁気記録媒体1の厚み方向における粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、磁性粉の分散性を高め、より良好なSNR(Signal-to-Noise Ratio)を得ることができる。
ε酸化鉄粒子は、コアシェル型構造を有する。具体的には、ε酸化鉄粒子は、コア部と、このコア部の周囲に設けられた2層構造のシェル部とを備える。2層構造のシェル部は、コア部上に設けられた第1シェル部と、第1シェル部上に設けられた第2シェル部とを備える。
コア部は、ε酸化鉄を含む。コア部に含まれるε酸化鉄は、ε-Fe2O3結晶を主相とするものが好ましく、単相のε-Fe2O3からなるものがより好ましい。
第1シェル部は、コア部の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、第1シェル部は、コア部の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部の周囲全体を覆っていてもよい。コア部と第1シェル部の交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部21の表面全体を覆っていることが好ましい。
第1シェル部は、いわゆる軟磁性層であり、例えば、α-Fe、Ni-Fe合金またはFe-Si-Al合金等の軟磁性体を含む。α-Feは、コア部21に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られるものであってもよい。
第2シェル部は、酸化防止層としての酸化被膜である。第2シェル部は、α酸化鉄、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素を含む。α酸化鉄は、例えばFe3O4、Fe2O3およびFeOのうちの少なくとも1種の酸化鉄を含む。第1シェル部がα-Fe(軟磁性体)を含む場合には、α酸化鉄は、第1シェル部22aに含まれるα-Feを酸化することにより得られるものであってもよい。
ε酸化鉄粒子が、上述のように第1シェル部を有することで、熱安定性を確保するためにコア部単体の保磁力Hcを大きな値に保ちつつ、ε酸化鉄粒子(コアシェル粒子)全体としての保磁力Hcを記録に適した保磁力Hcに調整できる。また、ε酸化鉄粒子が、上述のように第2シェル部を有することで、磁気記録媒体の製造工程およびその工程前において、ε酸化鉄粒子が空気中に暴露されて、粒子表面に錆び等が発生することにより、ε酸化鉄粒子の特性が低下することを抑制することができる。したがって、磁気記録媒体1の特性劣化を抑制することができる。
磁性粉の平均粒子サイズ(平均最大粒子サイズ)は、好ましくは22nm以下、より好ましくは8nm以上22nm以下、さらにより好ましくは12nm以上22nm以下である。
磁性粉の平均アスペクト比が、好ましくは1以上2.5以下、より好ましくは1以上2.1以下、さらにより好ましくは1以上1.8以下である。磁性粉の平均アスペクト比が1以上2.5以下の範囲内であると、磁性粉の凝集を抑制することができ、また、磁性層13の形成工程において磁性粉を垂直配向させる際に、磁性粉に加わる抵抗を抑制することができる。したがって、磁性粉の垂直配向性を向上させることができる。
磁性粉の平均体積Vave(粒子体積)は、好ましくは2300nm3以下、より好ましくは2200nm3以下、より好ましくは2100nm3以下、より好ましくは1950nm3以下、より好ましくは1600nm3以下、さらにより好ましくは1300nm3以下である。磁性粉の平均体積Vaveが2300nm3以下であると、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅を狭くして(195nm以下)、サーボ信号の再生波形のピークを鋭くすることができる。これにより、サーボ信号の読み取り精度が向上するため、記録トラック数を増加させてデータの記録密度を向上させることができる(詳細は後述)。なお、磁性粉の平均体積Vaveは、小さければ小さいほど良いので体積の下限値については特に限定されないが、例えば、下限値は、1000nm3以上とされる。
上記の磁性粉の平均粒子サイズ、平均アスペクト比及び平均体積Vaveは、以下のようにして求められる(例えば、磁性粉がε酸化鉄粒子のような球体等の形状を有している場合)。まず、測定対象となる磁気記録媒体1をFIB(Focused Ion Beam)法等により加工して薄片を作製し、TEMにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したTEM写真から50個の磁性粉を無作為に選び出し、各磁性粉の長軸長DLと短軸長DSを測定する。ここで、長軸長DLとは、磁性粉の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた2本の平行線間の距離のうち最大のもの(いわゆる最大フェレ径)を意味する。一方、短軸長DSとは、磁性粉の長軸と直交する方向における磁性粉の長さのうち最大のものを意味する。
続いて、測定した50個の磁性粉の長軸長DLを単純に平均(算術平均)して平均長軸長DLaveを求める。そして、このようにして求めた平均長軸長DLaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。また、測定した50個の磁性粉の短軸長DSを単純に平均(算術平均)して平均短軸長DSaveを求める。次に、平均長軸長DLaveおよび平均短軸長DSaveから磁性粉の平均アスペクト比(DLave/DSave)を求める。
次に、平均長軸長DLaveを用いて以下の式から磁性粉の平均体積Vave(粒子体積)を求める。
Vave=π/6×DLave3
Vave=π/6×DLave3
ここでの説明では、ε酸化鉄粒子が2層構造のシェル部を有している場合について説明したが、ε酸化鉄粒子が単層構造のシェル部を有していてもよい。この場合、シェル部は、第1シェル部と同様の構成を有する。但し、ε酸化鉄粒子の特性劣化を抑制する観点からすると、上述したように、ε酸化鉄粒子が2層構造のシェル部を有していることが好ましい。
以上の説明では、ε酸化鉄粒子がコアシェル構造を有している場合について説明したが、ε酸化鉄粒子が、コアシェル構造に代えて添加剤を含んでいてもよいし、コアシェル構造を有すると共に添加剤を含んでいてもよい。この場合、ε酸化鉄粒子のFeの一部が添加剤で置換される。ε酸化鉄粒子が添加剤を含むことによっても、ε酸化鉄粒子全体としての保磁力Hcを記録に適した保磁力Hcに調整できるため、記録容易性を向上することができる。添加剤は、鉄以外の金属元素、好ましくは3価の金属元素、より好ましくはAl、GaおよびInのうちの少なくとも1種、さらにより好ましくはAlおよびGaのうちの少なくとも1種である。
具体的には、添加剤を含むε酸化鉄は、ε-Fe2-xMxO3結晶(但し、Mは鉄以外の金属元素、好ましくは3価の金属元素、より好ましくはAl、GaおよびInのうちの少なくとも1種、さらにより好ましくはAlおよびGaのうちの少なくとも1種である。xは、例えば0<x<1である。)である。
磁性粉は、六方晶フェライトを含有するナノ粒子(以下「六方晶フェライト粒子」という。)の粉末を含んでいてもよい。六方晶フェライト粒子は、例えば、六角板状またはほぼ六角板状を有する。六方晶フェライトは、好ましくはBa、Sr、PbおよびCaのうちの少なくとも1種、より好ましくはBaおよびSrのうちの少なくとも1種を含む。六方晶フェライトは、具体的には例えばバリウムフェライトまたはストロンチウムフェライトであってもよい。バリウムフェライトは、Ba以外にSr、PbおよびCaのうちの少なくとも1種をさらに含んでいてもよい。ストロンチウムフェライトは、Sr以外にBa、PbおよびCaのうちの少なくとも1種をさらに含んでいてもよい。
より具体的には、六方晶フェライトは、一般式MFe12O19で表される平均組成を有する。但し、Mは、例えばBa、Sr、PbおよびCaのうちの少なくとも1種の金属、好ましくはBaおよびSrのうちの少なくとも1種の金属である。Mが、Baと、Sr、PbおよびCaからなる群より選ばれる1種以上の金属との組み合わせであってもよい。また、Mが、Srと、Ba、PbおよびCaからなる群より選ばれる1種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてFeの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。
磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは50nm以下、より好ましくは10nm以上40nm以下、さらにより好ましくは15nm以上30nm以下である。磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比及び磁性粉の平均体積Vaveは上述したとおりである。
なお、磁性粉の平均粒子サイズ、平均アスペクト比および平均体積Vaveは以下のようにして求められる(例えば、磁性粉が六方晶フェライトのような板状の形状を有している場合)。まず、測定対象となる磁気記録媒体1をFIB法等により加工して薄片を作製し、TEMにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したTEM写真から、水平方向に対して75度以上の角度で配向した磁性粉を50個無作為に選び出し、各磁性粉の最大板厚DAを測定する。続いて、測定した50個の磁性粉の最大板厚DAを単純に平均(算術平均)して平均最大板厚DAaveを求める。
次に、磁気記録媒体1の磁性層13の表面をTEMにより観察を行う。次に、撮影したTEM写真から50個の磁性粉を無作為に選び出し、各磁性粉の最大板径DBを測定する。ここで、最大板径DBとは、磁性粉の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた2本の平行線間の距離のうち最大のもの(いわゆる最大フェレ径)を意味する。続いて、測定した50個の磁性粉の最大板径DBを単純に平均(算術平均)して平均最大板径DBaveを求める。そして、このようにして求めた平均最大板径DBaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。次に、平均最大板厚DAaveおよび平均最大板径DBaveから磁性粉の平均アスペクト比(DBave/DAave)を求める。
次に、平均最大板厚DAaveおよび平均最大板径DBaveを用いて以下の式から磁性粉の平均体積Vave(粒子体積)を求める。
Vave=3√3/8×DAave×DBave2
Vave=3√3/8×DAave×DBave2
磁性粉は、Co含有スピネルフェライトを含有するナノ粒子(以下「コバルトフェライト粒子」という。)の粉末を含んでいてもよい。コバルトフェライト粒子は、一軸異方性を有することが好ましい。コバルトフェライト粒子は、例えば、立方体状またはほぼ立方体状を有している。Co含有スピネルフェライトが、Co以外にNi、Mn、Al、CuおよびZnのうちの少なくとも1種をさらに含んでいてもよい。
Co含有スピネルフェライトは、例えば以下の式(1)で表される平均組成を有する。
CoxMyFe2OZ ・・・(1)
(但し、式(1)中、Mは、例えば、Ni、Mn、Al、CuおよびZnのうちの少なくとも1種の金属である。xは、0.4≦x≦1.0の範囲内の値である。yは、0≦y≦0.3の範囲内の値である。但し、x、yは(x+y)≦1.0の関係を満たす。zは3≦z≦4の範囲内の値である。Feの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。)
CoxMyFe2OZ ・・・(1)
(但し、式(1)中、Mは、例えば、Ni、Mn、Al、CuおよびZnのうちの少なくとも1種の金属である。xは、0.4≦x≦1.0の範囲内の値である。yは、0≦y≦0.3の範囲内の値である。但し、x、yは(x+y)≦1.0の関係を満たす。zは3≦z≦4の範囲内の値である。Feの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。)
磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは25nm以下、より好ましくは23nm以下である。磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比は上述の方法で求められ、磁性粉の平均体積Vaveは下記に示す方法で求められる。
なお、磁性粉がコバルトフェライト粒子のような立方体状の形状を有している場合、磁性粉の平均体積Vave(粒子体積)は、以下のようにして求めることができる。まず、磁気記録媒体1の磁性層13の表面をTEMにより観察し、次に、撮影したTEM写真から50個の磁性粉を無作為に選び出し、各磁性粉の辺の長さDCを測定する。続いて、測定した50個の磁性粉の辺の長さDCを単純に平均(算術平均)して平均辺長DCaveを求める。次に、平均辺長DCaveを用いて以下の式から磁性粉の平均体積Vave(粒子体積)を求める。
Vave=DCave3
Vave=DCave3
(結着剤)
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂等に架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体1に対して要求される物性等に応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体1において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂等に架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体1に対して要求される物性等に応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体1において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル-アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル-アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル-塩化ビニル-塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル-アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル-アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル-塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル-塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル-塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル-エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。
また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、-SO3M、-OSO3M、-COOM、P=O(OM)2等の極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Mは、水素原子、またはリチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属である。
さらに、極性官能基としては、-NR1R2、-NR1R2R3+X-の末端基を有する側鎖型のもの、>NR1R2+X-の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中R1、R2、R3は、水素原子、または炭化水素基であり、X-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、-OH、-SH、-CN、エポキシ基等も挙げられる。
(潤滑剤)
潤滑剤は、下記の一般式(1)で示される化合物、および下記の一般式(2)で示される化合物を含むことが好ましい。潤滑剤がこれらの化合物を含むことで、磁性層13の表面の動摩擦係数を特に低減することができる。したがって、磁気記録媒体1の走行性をさらに向上することができる。
CH3(CH2)nCOOH ・・・(1)
(但し、一般式(1)において、nは14以上22以下の範囲から選ばれる整数である。)
CH3(CH2)pCOO(CH2)qCH3 ・・・(2)
(但し、一般式(2)において、pは14以上22以下の範囲から選ばれる整数であり、qは2以上5以下の範囲から選ばれる整数である。)
潤滑剤は、下記の一般式(1)で示される化合物、および下記の一般式(2)で示される化合物を含むことが好ましい。潤滑剤がこれらの化合物を含むことで、磁性層13の表面の動摩擦係数を特に低減することができる。したがって、磁気記録媒体1の走行性をさらに向上することができる。
CH3(CH2)nCOOH ・・・(1)
(但し、一般式(1)において、nは14以上22以下の範囲から選ばれる整数である。)
CH3(CH2)pCOO(CH2)qCH3 ・・・(2)
(但し、一般式(2)において、pは14以上22以下の範囲から選ばれる整数であり、qは2以上5以下の範囲から選ばれる整数である。)
(添加剤)
磁性層13は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム(α、βまたはγアルミナ)、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン(ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン)等をさらに含んでいてもよい。
磁性層13は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム(α、βまたはγアルミナ)、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン(ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン)等をさらに含んでいてもよい。
[非磁性層12]
非磁性層12は、非磁性粉及び結着剤を含む。非磁性層12は、必要に応じて、電動性粒子、潤滑剤、硬化剤、防錆材などの添加剤を含んでいてもよい。
非磁性層12は、非磁性粉及び結着剤を含む。非磁性層12は、必要に応じて、電動性粒子、潤滑剤、硬化剤、防錆材などの添加剤を含んでいてもよい。
非磁性層12の厚さは、好ましくは0.6μm以上2.0μm以下、より好ましくは0.8μm以上1.4μm以下である。非磁性層12の厚さは、磁性層13の厚さを求める方法と同様の方法(例えば、TEM)により求めることができる。なお、TEM像の倍率は、非磁性層12の厚さに応じて適宜調整される。
(非磁性粉)
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも1種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素材料を含んでいてもよい。なお、1種の非磁性粉を単独で用いてもよいし、2種以上の非磁性粉を組み合わせて用いてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(結着剤)
結着剤は、上述の磁性層13と同様である。
(非磁性粉)
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも1種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素材料を含んでいてもよい。なお、1種の非磁性粉を単独で用いてもよいし、2種以上の非磁性粉を組み合わせて用いてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(結着剤)
結着剤は、上述の磁性層13と同様である。
[バック層14]
バック層14は、非磁性粉及び結着剤を含む。バック層14は、必要に応じて潤滑剤、硬化剤及び帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。非磁性粉、結着剤としては、上述の非磁性層12に用いられる材料と同様の材料が用いられる。
バック層14は、非磁性粉及び結着剤を含む。バック層14は、必要に応じて潤滑剤、硬化剤及び帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。非磁性粉、結着剤としては、上述の非磁性層12に用いられる材料と同様の材料が用いられる。
(非磁性粉)
非磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは10nm以上150nm以下、より好ましくは15nm以上110nm以下である。非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性粉の平均粒子サイズDと同様にして求められる。非磁性粉が、2以上の粒度分布を有する非磁性粉を含んでいてもよい。
非磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは10nm以上150nm以下、より好ましくは15nm以上110nm以下である。非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性粉の平均粒子サイズDと同様にして求められる。非磁性粉が、2以上の粒度分布を有する非磁性粉を含んでいてもよい。
バック層14の平均厚みの上限値は、好ましくは0.6μm以下である。バック層14の平均厚みの上限値が0.6μm以下であると、磁気記録媒体1の平均厚みが5.6μmである場合でも、非磁性層12や基材11の厚みを厚く保つことができるので、磁気記録媒体1の記録再生装置内での走行安定性を保つことができる。バック層14の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば0.2μm以上である。
バック層14の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、1/2インチ幅の磁気記録媒体1を準備し、それを250mmの長さに切り出し、サンプルを作製する。次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプルの厚みを5点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均(算術平均)して、磁気記録媒体1の平均値tT[μm]を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。続いて、サンプルのバック層14をMEK(メチルエチルケトン)または希塩酸等の溶剤で除去する。その後、再び上記のレーザーホロゲージを用いてサンプルの厚みを5点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均(算術平均)して、バック層14を除去した磁気記録媒体1の平均値tB[μm]を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。その後、以下の式よりバック層14の平均厚みtb[μm]を求める。
tb[μm]=tT[μm]-tB[μm]
tb[μm]=tT[μm]-tB[μm]
バック層14は、多数の突部が設けられた表面を有している。多数の突部は、磁気記録媒体1をロール状に巻き取った状態において、磁性層13の表面に多数の孔部を形成するためのものである。多数の孔部は、例えば、バック層14の表面から突出された多数の非磁性粒子により構成されている。
ここでの説明では、バック層14の表面に設けられた多数の突部を、磁性層13の表面に転写することにより、磁性層13の表面に多数の孔部を形成する場合について説明したが、多数の孔部の形成方法はこれに限定されるものではない。例えば、磁性層形成用塗料に含まれる溶剤の種類および磁性層形成用塗料の乾燥条件等を調整することで、磁性層13の表面に多数の孔部を形成するようにしてもよい。
[磁気記録媒体の平均厚み]
磁気記録媒体1の平均厚み(平均全厚)の上限値が、好ましくは5.6μm以下、より好ましくは5.0μm以下、より好ましくは、4.6μm以下、さらにより好ましくは4.4μm以下である。磁気記録媒体1の平均厚みが5.6μm以下であると、カートリッジ21内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。磁気記録媒体1の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば3.5μm以上である。
磁気記録媒体1の平均厚み(平均全厚)の上限値が、好ましくは5.6μm以下、より好ましくは5.0μm以下、より好ましくは、4.6μm以下、さらにより好ましくは4.4μm以下である。磁気記録媒体1の平均厚みが5.6μm以下であると、カートリッジ21内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。磁気記録媒体1の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば3.5μm以上である。
磁気記録媒体1の平均厚みは、上述のバック層14の平均厚みの求め方において説明した手順により求められる。
(保磁力Hc)
磁気記録媒体1の長手方向における保磁力Hcの上限値が、好ましくは2000Oe以下、より好ましくは1900Oe以下、さらにより好ましくは1800Oe以下である。
磁気記録媒体1の長手方向における保磁力Hcの上限値が、好ましくは2000Oe以下、より好ましくは1900Oe以下、さらにより好ましくは1800Oe以下である。
磁気記録媒体1の長手方向に測定した保磁力Hcの下限値が、好ましくは1000Oe以上、であると、記録ヘッドからの漏れ磁束による減磁を押さえることができる。
上記の保磁力Hcは以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体1が両面テープで3枚重ね合わされた後、φ6.39mmのパンチで打ち抜かれて、測定サンプルが作成される。そして、振動試料型磁力計(Vibrating Sample Magnetometer:VSM)を用いて磁気記録媒体1の長手方向((磁気記録媒体1の走行方向)に対応する測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループが測定される。次に、アセトンまたはエタノール等が用いられて塗膜(非磁性層12、磁性層13およびバック層14等)が払拭され、基材11のみが残される。そして、得られた基材11が両面テープで3枚重ね合わされた後、φ6.39mmのパンチで打ち抜かれて、バックグラウンド補正用のサンプル(以下、単に補正用サンプル)とされる。その後、VSMが用いられて基材11の長手方向(磁気記録媒体1の走行方向)に対応する補正用サンプル(基材11)のM-Hループが測定される。
測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループ、補正用サンプル(基材11)のM-Hループの測定においては、東英工業製の好感度振動試料型磁力計「VSM-P7-15型」が用いられる。測定条件は、測定モード:フルループ、最大磁界:15kOe、磁界ステップ:40bit、Time constant of Locking amp:0.3sec、Waiting time:1sec、MH平均数:20とされる。
2つのM-Hループが得られた後、測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループから補正用サンプル(基材11)のM-Hループが差し引かれることで、バックグラウンド補正が行われ、バックグラウンド補正後のM-Hループが得られる。このバックグラウンド補正の計算には、「VSM-P7-15型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。
得られたバックグラウンド補正後のM-Hループから保磁力Hcが求められる。なお、この計算には、「VSM-P7-15型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。なお、上記のM-Hループの測定はいずれも、25℃にて行われるものとする。また、M-Hループを磁気記録媒体1の長手方向に測定する際の"反磁界補正"は行わないものとする。
(配向度(角形比))
磁気記録媒体1の垂直方向(厚み方向)における配向度(垂直配向度)が、65%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上である。垂直配向度が65%以上であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたSNRを得ることができる。
磁気記録媒体1の垂直方向(厚み方向)における配向度(垂直配向度)が、65%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上である。垂直配向度が65%以上であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたSNRを得ることができる。
垂直配向度は以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体1が両面テープで3枚重ね合わされた後、φ6.39mmのパンチで打ち抜かれて、測定サンプルが作成される。そして、VSMを用いて磁気記録媒体1の垂直方向(厚み方向)に対応する測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループが測定される。次に、アセトンまたはエタノール等が用いられて塗膜(非磁性層12、磁性層13およびバック層14等)が払拭され、基材11のみが残される。そして、得られた基材11が両面テープで3枚重ね合わされた後、φ6.39mmのパンチで打ち抜かれて、バックグラウンド補正用のサンプル(以下、単に補正用サンプル)とされる。その後、VSMが用いられて基材11の垂直方向(磁気記録媒体1の垂直方向)に対応する補正用サンプル(基材11)のM-Hループが測定される。
測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループ、補正用サンプル(基材11)のM-Hループの測定においては、東英工業製の好感度振動試料型磁力計「VSM-P7-15型」が用いられる。測定条件は、測定モード:フルループ、最大磁界:15kOe、磁界ステップ:40bit、Time constant of Locking amp:0.3sec、Waiting time:1sec、MH平均数:20とされる。
2つのM-Hループが得られた後、測定サンプル(磁気記録媒体1全体)のM-Hループから補正用サンプル(基材11)のM-Hループが差し引かれることで、バックグラウンド補正が行われ、バックグラウンド補正後のM-Hループが得られる。このバックグラウンド補正の計算には、「VSM-P7-15型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。
得られたバックグラウンド補正後のM-Hループの飽和磁化Ms(emu)および残留磁化Mr(emu)が以下の式に代入されて、垂直配向度(%)が計算される。なお、上記のM-Hループの測定はいずれも、25℃にて行われるものとする。また、M-Hループを磁気記録媒体1の垂直方向に測定する際の"反磁界補正"は行わないものとする。なお、この計算には、「VSM-P7-15型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。
垂直配向度(%)=(Mr/Ms)×100
垂直配向度(%)=(Mr/Ms)×100
磁気記録媒体1の長手方向(走行方向)における配向度(長手配向度)が、好ましくは35%以下、より好ましくは30%以下、さらにより好ましくは25%以下である。長手配向度が35%以下であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたSNRを得ることができる。
長手配向度は、M-Hループを磁気記録媒体1および基材11の長手方向(走行方向)に測定すること以外は垂直配向度と同様にして求められる。
(動摩擦係数)
磁気記録媒体1に加わる張力が1.2Nであるときの磁性層13の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μAと、磁気記録媒体1に加わる張力が0.4Nであるときの磁性層13の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μB との比率(μB/μA)が、好ましくは1.0以上で2.0以下であると、走行時の張力変動による摩擦係数の変化を小さくできるためテープの走行を安定させることができる。
磁気記録媒体1に加わる張力が1.2Nであるときの磁性層13の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μAと、磁気記録媒体1に加わる張力が0.4Nであるときの磁性層13の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μB との比率(μB/μA)が、好ましくは1.0以上で2.0以下であると、走行時の張力変動による摩擦係数の変化を小さくできるためテープの走行を安定させることができる。
磁気記録媒体1に加わる張力が0.6Nであるときの磁性層13の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μAが走行5回目の値μ5と1000回目の値 μ1000との比率(μ1000/μ5)が、好ましくは1.0以上2.0以下、より好ましくは1.0以上1.5以下である。比率(μB/μA)が1.0以上で2.0以下であると、多数回走行による摩擦係数の変化を小さくできるためテープの走行を安定させることができる。
[データバンド及びサーボバンド]
図2は、磁気記録媒体1を上方から見た模式図である。図2を参照して、磁性層13は、データ信号が書き込まれる長手方向(X軸方向)に長い複数のデータバンドd(データバンドd0~d3)と、サーボ信号が書き込まれる長手方向に長い複数のサーボバンドs(サーボバンドs0~s4)とを有している。サーボバンドsは、幅方向(Y軸方向)で各データバンドdを挟み込む位置に配置される。
図2は、磁気記録媒体1を上方から見た模式図である。図2を参照して、磁性層13は、データ信号が書き込まれる長手方向(X軸方向)に長い複数のデータバンドd(データバンドd0~d3)と、サーボ信号が書き込まれる長手方向に長い複数のサーボバンドs(サーボバンドs0~s4)とを有している。サーボバンドsは、幅方向(Y軸方向)で各データバンドdを挟み込む位置に配置される。
本技術において、磁性層13の表面全体の面積に対するサーボバンドsの面積の比率は、典型的には、4.0%以下とされる。なお、サーボバンドsの幅は、典型的には、95μm以下とされる。磁性層13の表面全体の面積に対するサーボバンドsの面積の比率は、例えば、磁気記録媒体1を、フェリコロイド現像液等の現像液を用いて現像し、その後、現像した磁気記録媒体1を光学顕微鏡で観察することで測定することができる。
サーボバンドsは、データバンドdを挟み込む位置に配置されため、サーボバンドsの本数は、データバンドdの本数よりも1本多くなる。図2に示す例では、データバンドdの本数が4本とされ、サーボバンドsの本数が5本とされた場合の例が示されている(既存のシステムにおいては、この方式が採用されることが一般的)。
なお、データバンドdの本数、サーボバンドsの本数は、適宜変更することができ、これらの本数は、増やされてもよい。
この場合、サーボバンドsの数は、好ましくは5以上とされる。サーボバンドsの数が5以上であると、磁気記録媒体1の幅方向の寸法変化によるサーボ信号の読み取り精度への影響を抑制し、オフトラックが少ない安定した記録再生特性を確保できる。
また、データバンドdの本数が、8本、12本、・・(つまり、4n本(nは、2以上の整数))とされ、サーボバンドsの本数が、9本、13本、・・(つまり、4n+1本(nは、2以上の整数))とされてもよい。この場合、既存のシステムを変更することなく、データバンドdの本数、サーボバンドsの本数の変更に対応することができる。
データバンドdは、長手方向に長く、幅方向に整列された複数の記録トラック5を含む。データ信号は、この記録トラック5に沿って、記録トラック5内に記録される。なお、本技術において、データバンドdに記録されるデータ信号における長手方向の1ビット長は、典型的には、48nm以下とされる。サーボバンドsは、サーボ信号記録装置(不図示)によってサーボ信号が記録された所定パターンのサーボ信号記録パターン6を含む。
図3は、データバンドdにおける記録トラック5を示す拡大図である。図3に示すように、記録トラック5は、長手方向に長く、幅方向に整列され、また、幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅Wdを有している。この記録トラック幅Wdは、典型的には、2.0μm以下とされる。なお、このような記録トラック幅Wdは、例えば、磁気記録媒体1を、フェリコロイド現像液等の現像液を用いて現像し、その後、現像した磁気記録媒体1を光学顕微鏡で観察することで測定することができる。
1本のデータバンドdに含まれる記録トラック5の本数は、例えば、1000本から2000本程度とされる。
図4は、サーボバンドsにおけるサーボ信号記録パターン6を示す拡大図である。図4に示すように、サーボ信号記録パターン6は、幅方向(Y軸方向)に対して所定のアジマス角αを持って傾斜する複数のストライプ7を含む。この複数のストライプ7は、幅方向(Y軸方向)に対して時計回りに傾斜する第1のストライプ群8と、幅方向に対して反時計回りに傾斜する第2のストライプ群9とに分類される。なお、このようなストライプ7の形状などは、例えば、磁気記録媒体1を、フェリコロイド現像液等の現像液を用いて現像し、その後、現像した磁気記録媒体1を光学顕微鏡で観察することで測定することができる。
図4には、サーボ信号記録パターン6上をサーボリードヘッドによってトレースされるラインであるサーボトレースラインTが破線により示されている。サーボトレースラインTは、長手方向(X軸方向)に沿って設定され、また、幅方向に所定の間隔Psを開けて設定される。
1本のサーボバンドsあたりのサーボトレースラインTの本数は、例えば、30本から60本程度とされる。
隣接する2つのサーボトレースラインTの間隔Psは、記録トラック幅Wdの値と同じであり、例えば、2.0μm以下とされる。ここで、隣接する2つのサーボトレースラインTの間隔Psは、記録トラック幅Wdを決定付ける値とされている。つまり、サーボトレースラインTの間隔Psが狭められると、記録トラック幅Wdが小さくなり、1本のデータバンドdに含まれる記録トラック5の本数が増える。結果として、データの記録容量が増えることになる(間隔Psが広くなる場合は、その逆)。したがって、記録容量の増加を図るには記録トラック幅Wdを小さくする必要があるが、サーボトレースラインTの間隔Psも狭められることになる結果、隣接するサーボトレースラインを正確にトレースすることが困難になる。そこで本実施形態では、後述するように、サーボ信号記録パターン6の読取精度を高めることで、間隔Psの狭小化にも対応可能としている。
<データ記録装置20>
次に、磁気記録媒体1に対して、データ信号の記録及び再生を行うデータ記録装置20について説明する。図5は、データ記録装置20を示す模式図である。なお、本明細書(及び図面)においては、データ記録装置20を基準とした座標系をX'Y'Z'座標系で表すこととする。
次に、磁気記録媒体1に対して、データ信号の記録及び再生を行うデータ記録装置20について説明する。図5は、データ記録装置20を示す模式図である。なお、本明細書(及び図面)においては、データ記録装置20を基準とした座標系をX'Y'Z'座標系で表すこととする。
データ記録装置20は、磁気記録媒体1を収容したカートリッジ21を装填可能に構成されている。なお、ここでは、説明を容易にするため、データ記録装置20が1つのカートリッジ21を装填可能な場合について説明するが、データ記録装置20が複数のカートリッジ21を装填可能に構成されていてもよい。
図5に示すように、データ記録装置20は、スピンドル27と、リール22と、スピンドル駆動装置23と、リール駆動装置24と、複数のガイドローラ25と、ヘッドユニット30と、制御装置26とを含む。
スピンドル27は、カートリッジ21を装填可能に構成されている。カートリッジ21は、LTO(Linear Tape Open)規格に準拠しており、巻回された磁気記録媒体1を、ケースの内部において回転可能に収容している。リール22は、カートリッジ21から引き出された磁気記録媒体1の先端側を固定可能に構成されている。
スピンドル駆動装置23は、制御装置26からの指令に応じて、スピンドル27を回転させる。リール駆動装置24は、制御装置26からの指令に応じて、リール22を回転させる。磁気記録媒体1に対してデータ信号の記録/再生が行われるとき、スピンドル駆動装置23及びリール駆動装置24により、スピンドル27及びリール22が回転されて、磁気記録媒体1が走行される。ガイドローラ25は、磁気記録媒体1の走行をガイドするためのローラである。
制御装置26は、例えば、制御部、記憶部、通信部などを含む。制御部は、例えば、CPU(Central Processing Unit)等により構成されており、記憶部に記憶されたプログラムに従い、データ記録装置20の各部を統括的に制御する。
記憶部は、各種のデータや各種のプログラムが記録される不揮発性のメモリと、制御部の作業領域として用いられる揮発性のメモリとを含む。上記各種のプログラムは、光ディスク、半導体メモリ等の可搬性の記録媒体から読み取られてもよいし、ネットワーク上のサーバ装置からダウンロードされてもよい。通信部は、PC(Personal Computer)、サーバ装置等の他の装置との間で互いに通信可能に構成されている。
ヘッドユニット30は、制御装置26からの指令に応じて、磁気記録媒体1に対してデータ信号を記録することが可能に構成されている。また、ヘッドユニット30は、制御装置26からの指令に応じて、磁気記録媒体1に書き込まれたデータを再生することが可能に構成されている。
図6は、ヘッドユニット30を下側から見た図である。図6に示すように、ヘッドユニット30は、第1のヘッドユニット30aと、第2のヘッドユニット30bとを含む。第1のヘッドユニット30aと、第2のヘッドユニット30bとは、X'軸方向(磁気記録媒体1の走行方向)で対称に構成されている。この第1のヘッドユニット30a及び第2のヘッドユニット30bは、幅方向(Y'軸方向)に移動可能に構成されている。
第1のヘッドユニット30aは、磁気記録媒体1が順方向(カートリッジ21側から装置20側に流れる方向)に走行されているときに使用されるヘッドである。一方、第2のヘッドユニット30bは、磁気記録媒体1が逆方向(装置20側からカートリッジ21側に流れる方向)に走行されているときに使用されるヘッドである。
第1のヘッドユニット30a及び第2のヘッドユニット30bは、基本的に同様の構成であるため、第1のヘッドユニット30aについて代表的に説明する。
第1のヘッドユニット30aは、ユニット本体31と、2つのサーボリードヘッド32と、複数のデータライト/リードヘッド33とを有する。
サーボリードヘッド32は、磁気記録媒体1(サーボバンドs)に記録された磁気的情報から発生する磁束をMR素子(MR:Magneto Resistive)などにより読み取ることで、サーボ信号を再生可能に構成されている。つまり、サーボリードヘッド32により、サーボバンドs上に記録されたサーボ信号記録パターン6が読み取られることで、サーボ信号が再生される。サーボリードヘッド32は、ユニット本体31における幅方向(Y'軸方向)の両端側にそれぞれ1つずつ設けられる。2つのサーボリードヘッド32の幅方向(Y'軸方向)における間隔は、磁気記録媒体1における隣接するサーボバンドs間の距離と略同じとされている。
データライト/リードヘッド33は、幅方向(Y軸方向)に沿って、等間隔に配置されている。また、データライト/リードヘッド33は、2つのサーボリードヘッド32に挟み込まれる位置に配置されている。データライト/リードヘッド33の数は、例えば、20個~40個程度とされるが、この個数ついては特に限定されない。
データライト/リードヘッド33は、データライトヘッド34と、データリードヘッド35とを含む。データライトヘッド34は、磁気ギャップから発生する磁界によって、磁気記録媒体1に対してデータ信号を記録することが可能に構成されている。また、データリードヘッド35は、磁気記録媒体1(データバンドd)に記録された磁気的情報から発生する磁界をMR素子(MR:Magneto Resistive)などにより読み取ることで、データ信号を再生可能に構成されている。
第1のヘッドユニット30aにおいては、データライトヘッド34が、データリードヘッド35の左側(磁気記録媒体1が順方向に流れる場合の上流側)に配置される。一方、第2のヘッドユニット30bにおいては、データライトヘッド34が、データリードヘッド35の右側(磁気記録媒体1が逆方向に流れる場合の上流側)に配置される。なお、データリードヘッド35は、データライトヘッド34が磁気記録媒体1にデータ信号を書き込んだ直後に、このデータ信号を再生可能とされている。
図7は、第1のヘッドユニット30aがデータ信号の記録/再生を行っているときの様子を示す図である。なお、図7に示す例では、磁気記録媒体1が順方向(カートリッジ21側から装置20側に流れる方向)に走行されているときの様子が示されている。
図7に示すように、第1のヘッドユニット30aがデータ信号の記録/再生を行うとき、2つのサーボリードヘッド32のうち一方のサーボリードヘッド32は、隣接する2つのサーボバンドsのうち一方のサーボバンドs上に位置し、このサーボバンドs上のサーボ信号を読み取る。
また、2つのサーボリードヘッド32のうち他方のサーボリードヘッド32は、隣接する2つのサーボバンドsのうち他方のサーボバンドs上に位置し、このサーボバンドs上のサーボ信号を読み取る。
また、このとき、制御装置26は、サーボ信号記録パターンの再生波形に基づいて、サーボリードヘッド32が、目的とするサーボトレースラインT(図4参照)上を正確にトレースしているかどうかを判定する。
この原理について説明する。図4に示すように、サーボ信号記録パターン6における第1のストライプ群8と、第2のストライプ群9とでは、幅方向(Y軸方向)に対して傾斜する方向が逆となっている。このため、上側のサーボトレースラインTでは、第1のストライプ群8と、第2のストライプ群9との間の長手方向(X軸方向)での距離は、相対的に狭くなっている。一方、下側のサーボトレースラインT上では、第1のストライプ群8と、第2のストライプ群9との間の長手方向(X軸方向)での距離は、相対的に広くなっている。
このため、第1のストライプ群8の再生波形が検出された時刻と、第2のストライプ群9の再生波形が検出された時刻との差を求めれば、サーボリードヘッド32が磁気記録媒体1に対して幅方向(Y軸方向)で、現在どの位置に位置するかが分かる。
従って、制御装置26は、サーボ信号の再生波形に基づいて、目的とするサーボトレースラインT上をサーボリードヘッド32が正確にトレースしているかどうかを判定することができる。そして、制御装置26は、目的とするサーボトレースラインT上をサーボリードヘッド32が正確にトレースしていない場合には、ヘッドユニット30を幅方向(Y'軸方向)に移動させて、ヘッドユニット30の位置を調整する。
図7に戻り、データライト/リードヘッド33は、幅方向での位置が調整(ずれた場合)されながら、記録トラック5に沿って、記録トラック5内にデータ信号を記録する。
ここで、磁気記録媒体1がカートリッジ21から全て引き出されると、今度は、逆方向(装置20側からカートリッジ21側に流れる方向)に磁気記録媒体1が走行される。このとき、ヘッドユニット30として、第2のヘッドユニット30bが使用される。
また、このとき、サーボトレースラインTは、先ほどのサーボトレースラインTに隣接するサーボトレースラインTが使用される。この場合、ヘッドユニット30は、幅方向(Y'軸方向)において、サーボトレースラインTの間隔Ps分(=記録トラック幅Wd分)、移動される。
また、この場合、先ほどデータ信号が記録された記録トラック5に隣接する記録トラック5に対して、データ信号が記録される。
このように、磁気記録媒体1は、順方向及び逆方向に走行方向が変えられて何往復もされながら、記録トラック5に対してデータ信号が記録される。
ここで、例えば、サーボトレースラインTの本数が、50本であり、第1のヘッドユニット30a(あるいは、第2のヘッドユニット30b)に含まれるデータライト/リードヘッド33の数が32個の場合を想定する。この場合、1本のデータバンドdに含まれる記録トラック5の本数は、50×32で1600本であり、この記録トラック5すべてにデータ信号を記録するためには、磁気記録媒体1を25往復させる必要がある。
<本技術の基本的な考え方>
次に、本技術の基本的な考え方について説明する。本技術においては、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅(PW50)に着目している。まず、この孤立波形の半値幅について説明する。
次に、本技術の基本的な考え方について説明する。本技術においては、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅(PW50)に着目している。まず、この孤立波形の半値幅について説明する。
図8は、サーボ信号記録パターン6における1つのストライプ7を読み取ったときの再生波形を示す図である。図8に示すように、1つのストライプ7を読み取ったときの再生波形は、プラス側及びマイナス側に突出する。孤立波形は、基本的にいずれかの波形を指す。図8において、縦軸は強度(任意単位)、横軸は走行方向に沿った長さである(図9においても同様)。
図9は、孤立波形における半値幅を説明するための図である。図9に示すように、半値幅は、サーボ信号の再生波形における最大値(100%)の半分(50%)の高さにおける波形の幅である。
この半値幅は、サーボ信号の再生波形におけるピークの鋭さを示す値である。つまり、半値幅が狭くなるほど、再生波形におけるピークの鋭さが増し、逆に、半値幅が広くなるほど、再生波形におけるピークの鋭さが鈍くなる。
図10は、本技術の基本的な考え方を説明するための図であり、サーボ信号記録パターン6における2つのストライプ7を示す図である。
図10を参照して、サーボ信号記録パターン6の第1のストライプ群8に含まれる複数のストライプ7のうち、任意のストライプ7を第1のストライプ7aとする。また、サーボ信号記録パターン6の第2のストライプ群9に含まれる複数のストライプ7のうち、任意のストライプ7を第2のストライプ7bとする。
また、複数のサーボトレースラインTのうち任意のサーボトレースラインTを第1のサーボトレースラインT1とする。また、第1のサーボトレースラインT1に隣接するサーボトレースラインTを第2のサーボトレースラインT2とする。
また、第1のストライプ7aと、第1のサーボトレースラインT1との交点をP1とする。なお、このP1について、第1のストライプ7a上において、任意の点をP1としてもよい。
また、第1のストライプ7aと、第2のサーボトレースラインT2との交点をP2とする。なお、このP2について、P1に対して、幅方向(Y軸方向)で間隔Ps分(つまり、記録トラック幅Wd分)、離れた位置にある第1のストライプ7a上の点をP2としてもよい。
また、P1及びP2における長手方向(X軸方向)での距離を距離Dとする。
また、第2のストライプ7bと、第1のサーボトレースラインT1との交点をP3とし、第2のストライプ7bと、第2のサーボトレースラインT2との交点をP4とする。
第1のサーボトレースラインT1がトレースされているとき、P1において再生波形が検出された時刻と、P3において再生波形が検出された時刻との差を判断する必要がある。この差を第1の期間とする。
同様に、第2のトレースラインTがトレースされているとき、P2において再生波形が検出された時刻と、P4において再生波形が検出された時刻との差を判断する必要がある。この差を第2の期間とする。
次に、第1の期間と、第2の期間との差を考える。ここで、サーボトレースラインTの間隔Ps、及び記録トラック幅Wdが1.56μmであるとし、アジマス角αが12度であるとする。この場合、距離Dは、1.56×tan12°で、0.33μmとなる。P1及びP3の間の距離と、P2及びP4の間の距離との差は、距離Dの2倍なので、0.66μmである。
このとき、磁気記録媒体1の走行速度が5m/sであるとすると、0.66/5000000で、0.13μsとなる。これが、第1の期間と、第2の期間との差である。
つまり、第1のサーボトレースラインT1及び第2のサーボトレースラインT2を正確にトレースするためには、0.13μsの微小な差を正確に判断する必要がある(これができないと、隣の記録トラック5にデータ信号が記録されてしまう)。
しかしながら、サーボ信号の再生波形(図8参照)におけるピークの鋭さが鈍い場合、このような微小な差を正確に判断することはできない。特に、記録トラック5の本数を増やすために、記録トラック幅Wdを小さくし、サーボトレースラインTの間隔Psを小さくすると、距離Dがさらに狭まり、第1の期間と第2の期間との差がさらに小さくなる。
そこで、本技術においては、磁性層13の垂直配向度を一定の値以上とすることで、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅を一定の値以下としている。これにより、サーボ信号の再生波形におけるピークが鋭くなる。
より具体的には、磁性層13の垂直配向度を65%以上とすることで、孤立波形の半値幅を195nm以下とすることができる。これにより、上記のような微小な差(例えば、0.13μs)を識別可能な程度に、サーボ信号の再生波形におけるピークを鋭くすることができる(後述の各実施例参照)。
<各種実施例及び各種比較例>
次に、本技術における各種実施例及び各種比較例について説明する。図11は、各種実施例及び各種比較例を示す図である。
次に、本技術における各種実施例及び各種比較例について説明する。図11は、各種実施例及び各種比較例を示す図である。
まず、第1実施例に係る磁気記録媒体1が基準となる磁気記録媒体1として用意され、他の実施例及び他の比較例では、第1実施例に対して、垂直配向度等の各種の値が変化された。
図11に示すように、第1実施例では、磁性層13の垂直配向度が65%とされ、磁性層13の長手配向度が35%とされた。また、第1実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)に対する距離Dの比(図10参照)が、21.3%とされた。なお、この比は、アジマス角α(図4参照)と関係があり、tanαを%で表した値に等しい。なお、第1実施例では、アジマス角αは、12°とされた。
また、第1実施例では、距離D(図10参照)が、0.12μmとされ、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が0.56μmとされた。また、第1実施例では、磁性層13に含まれる磁性粉として、六角板状のバリウムフェライトが用いられた。
また、第1実施例では、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が、180nmであった。また、第1実施例では、磁性層13に含まれる磁性粉が、板状とされ、この磁性粉におけるアスペクト比が、2.8とされた。また、磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)は、1950nm3とされた。また、磁性層13の厚さは、80nmとされた。
なお、孤立波形の半値幅は、例えば、以下の様にして求めることができる。まず、デジタル・ストレージ・オシロスコープを用いて、例えば、サンプリング:500Ms/s(2nsec/point)、サンプリング数:50000ポイントの条件で、複数の孤立波形の平均化(同期加算平均)を行う。そして、得られた孤立再生波形から孤立波形の半値幅を算出する。なお、同期加算は、波形におけるピーク位置において位置合わせが行われる。
また、サーボ信号を読み取るサーボリードヘッド32として、TMR素子(TMR:Tunnel Magneto Resistive)を含むTMRヘッドが用いられる。このTMRヘッドにおけるサーボ信号の再生トラック幅(Y'軸方向:磁気記録媒体の幅方向)は、48nmとされる。また、ここで使用したTMRヘッドにおける2つのシールド間のスペーシング(X'軸方向:磁気記録媒体の搬送方向)は、40nmとされ、TMRヘッドにおけるバイアス電流は、2mA未満とされる。また、磁気記録媒体1の搬送速度は、2m/sとされる。
第2実施例では、第1実施例に対して、磁性層13の垂直配向度が上げられて、66%とされた。また、磁性層13の長手配向度が下げられ、31%とされた。第2実施例では、磁性層13の垂直配向度が第1実施例よりも上げられた(長手配向度が下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第1実施例よりも狭まっており、160nmであった。なお、その他の点については、第1実施例と同じである。
第3実施例では、第2実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、70%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、29%とされた。第3実施例では、磁性層13の垂直配向度が第2実施例よりもさらに上げられた(長手配向度がさらに下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第2実施例よりも狭まっており、150nmであった。なお、その他の点については、第1実施例と同じである。
第4実施例では、第3実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、71%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、25%とされた。第4実施例では、磁性層13の垂直配向度が第3実施例よりもさらに上げられた(長手配向度がさらに下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第3実施例よりも狭まっており、140nmであった。なお、その他の点については、第1実施例と同じである。
第5実施例では、磁性層13の垂直配向度が66%とされ、また、磁性層13の長手配向度が31%とされた。なお、第5実施例~第14実施例における垂直配向度及び長手配向度は、第2実施例と同様である。
また、第5実施例では、サーボ信号記録パターン6のアジマス角α(図4参照)が第1実施例~第4実施例とは異なっており、アジマス角αが24度とされている。この関係で、第5実施例では、距離D(図10参照)が、第1実施例~第4実施例とは異なっており、0.17μmとされている。また、第5実施形態では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)に対する距離Dの比(図10参照)が、第1実施例~第4実施例とは異なっており、44.5%とされている。
第5実施例では、垂直配向度、長手配向度が第2実施例と同じであるが、サーボ信号記録パターン6のアジマス角αが増やされた関係で、孤立波形の半値幅が第2実施例よりも増えており、180nmであった。なお、その他の点については、第1実施例と同様である。
第6実施例では、磁性層13の垂直配向度が66%とされ、また、磁性層13の長手配向度が31%とされた。また、第6実施例では、サーボ信号記録パターン6のアジマス角α(図4参照)が第1実施例~第5実施例とは異なっており、アジマス角αが18度とされている。
この関係で、第6実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)に対する距離Dの比(図10参照)が、第1実施例~第5実施例とは異なっており、32.5%とされている。
また、第6実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)も、第1実施例~第5実施例とは異なっており、0.52μmとされた。また、第6実施例では、距離D(図10参照)が0.17μmとされた。そして、第6実施例では、孤立波形の半値幅が、170μmであった。
第7実施例~第10実施例では、第2実施例で使用した磁気記録媒体1と同じ磁気記録媒体1を使用して、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)を変化させている。具体的には、第7実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が、2.91μmとされ、距離Dが0.62μmとされた。
また、第8実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が、1.55μmとされ、距離Dが0.33μmとされた。また、第9実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が、0.56μmとされ、距離Dが0.12μmとされた。また、第10実施例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が、0.38μmとされ、距離Dが0.08μmとされた。
なお、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が変えられても、垂直配向度、アジマス角α等が変わらなければ、孤立波形の半値幅は変わらない(第7~第10実施例の半値幅は、第2実施例と同じ160nm)。
第11実施例~第14実施例では、磁性層13に含まれる磁性粉の成分が、第2実施例と異なっているが、その他の点については、第2実施例と同様である。
第11実施例では、磁性粉として、六角板状のストロンチウムフェライトが用いられた。この磁性粉のアスペクト比は、3であった。第12実施例では、磁性粉として、球状のε酸化鉄粒子が用いられた。この磁性粉のアスペクト比は、1.1であった。
第13実施例では、磁性粉として、球状のガリウムフェライトが用いられた。この磁性粉のアスペクト比は、1であった。第14実施例では、磁性粉として、立方状のコバルト含有フェライトが用いられた。この磁性粉のアスペクト比は、1.7であった。
第11実施例~第14実施例(及び第2実施例)では、磁性層13に含まれる磁性粉の成分が、それぞれ異なっているが、垂直配向度(66%)、アジマス角(12°)等が同じであるので、孤立波形の半値幅が同じ値(160nm)となっている。
第1の比較例及び第2の比較例では、垂直配向度が低く(55%、61%)、長手配向度が高い(46%、40%)ことから、孤立波形の半値幅が広く、220nm、200nmとなっている。この第1の比較例、第2の比較例では、サーボ信号の再生波形におけるピークが鈍いことから、第1の期間と第2の期間の差が小さい(距離Dが小さい)ときに、この差(あるいは、距離D)を正確に判断することができないと考えられる。
これに対して、第1実施例~第18実施例では、垂直配向度が高く(65%以上)、長手配向度が低い(35%以下)ことから、孤立波形の半値幅が狭くなっている(195nm以下)。従って、第1実施例~第18実施例では、サーボ信号の再生波形におけるピークが鋭いことから、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)を正確に判断することができる。
一方、第3の比較例では、垂直配向度が高く(66%)、長手配向度が低い(31%)ことから、孤立波形の半値幅が狭く、160nmとなっている。しかしながら、第3の比較例では、記録トラック幅Wd(サーボトレースラインTの間隔Ps)が狭すぎて、距離Dの値が小さすぎ、第1の期間と第2の期間の差が小さすぎる。
このため、第3の比較例では、孤立波形の半値幅が適切な値となっているとしても、第1の期間と第2の期間の差が小さすぎる(距離Dが小さすぎる)ことから、この差(あるいは、距離D)を判断することができず、システムが破綻してしまっている。
このため、典型的には、距離Dの値は、0.08μm以上とされる。
図12は、さらに別の各種実施例及び各種比較例を示す図である。
第15実施例では、第4実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、75%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、23%とされた。なお、その他の点については、第4実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。第15実施例では、磁性層13の垂直配向度が第4実施例よりもさらに上げられた(長手配向度がさらに下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第4実施例よりも狭まっており、138nmであった。
第16実施例では、第15実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、80%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、21%とされた。なお、その他の点については、第19実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。第20実施例では、磁性層13の垂直配向度が第15実施例よりもさらに上げられた(長手配向度がさらに下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第15実施例よりも狭まっており、130nmであった。
第17実施例では、第16実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、85%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、18%とされた。なお、その他の点については、第16実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。第17実施例では、磁性層13の垂直配向度が第16実施例よりもさらに上げられた(長手配向度がさらに下げられた)ことにより、孤立波形の半値幅が、第16実施例よりも狭まっており、119nmであった。
第18実施例では、第1実施例よりも磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)が小さくされて1600nm3とされた。なお、その他の点については、第1実施例と同じである。第18実施例では、粒子体積が第1実施例よりも小さくされたことにより、孤立波形の半値幅が、第1実施例よりも小さくなっており、130nmであった。なお、磁性粉の粒子体積が小さくされると孤立波形の半値幅が狭まるのは、磁化遷移領域が狭くなるためである。
第19実施例では、第18実施例よりも磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)がさらに小さくされて1300nm3とされた。なお、その他の点については、第18実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。第19実施例では、粒子体積が第18実施例よりも小さくされたことにより、孤立波形の半値幅が、第18実施例よりもさらに狭まっており、125nmであった。
第20実施例では、第15実施例と同様に、磁性層13の垂直配向度が75%とされ、磁性層13の長手配向度が23%とされた。一方、第20実施例では、第15実施例よりも(第1実施例よりも)磁性層13の厚みが薄くされて60nmとされた。なお、その他の点については、第15実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。第20実施例では、磁性層13の厚みが第15実施例よりも薄くされたことにより、孤立波形の半値幅が、第15実施例よりも狭まっており、120nmであった。
第21実施例では、第20実施例よりも磁性層13の垂直配向度がさらに上げられて、80%とされた。また、磁性層13の長手配向度がさらに下げられ、21%とされた。さらに、第21実施例では、第20実施例よりも磁性層13の厚みがさらに薄くされて40nmとされた。なお、その他の点については、第20実施例と同じ(第1実施例と同じ)である。
ここで、第21実施例は、第16実施例と比べると、磁性層13の厚みが80nmから40nmに薄くされた点を除いて、それ以外の条件が同じである。第21実施例では、第16実施例と比べて、磁性層13の厚みが薄くされたことにより、孤立波形の半値幅が狭まって、100nmとなっている。
なお、磁性層13の厚みが90nm以下であれば、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅の値を小さくして(195nm以下)、再生波形におけるピークを鋭くすることができると考えられる。
第4比較例では、第1実施例よりも磁性粉の粒子体積が大きくされて、2500nm3とされた。なお、その他の点については、第1実施例と同じである。第4比較例では、第1実施例よりも磁性粉の粒子体積が大きくされたことにより、孤立波形の半値幅が、第1実施例よりも広がってしまっており、210nmであった。この半値幅の値(210nm)は、広くなってしまっており適切な範囲(195nm以下)に収まっていない。
第5比較例では、第4比較例よりも磁性粉の粒子体積がさらに大きくされて、2800nm3とされた。なお、その他の点については、第4比較例と同じ(第1実施例と同じ)である。第5比較例では、第4比較例よりも磁性粉の粒子体積がさらに大きくされたことにより、孤立波形の半値幅が、第4比較例よりもさらに広がってしまっており、220nmであった。この半値幅の値(220nm)は、広くなってしまっており適切な範囲(195nm以下)に収まっていない。
なお、磁性粉の粒子体積が2300nm3以下であれば、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅の値を小さくして(195nm以下)、再生波形におけるピークを鋭くすることができると考えられる。
<作用等>
以上説明したように、本技術においては、磁性層13の垂直配向度が65%以上とされ、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下とされている(第1実施例~第21実施例参照)。これにより、サーボ信号の再生波形におけるピークが鋭くなり、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)を正確に判断することができる。
以上説明したように、本技術においては、磁性層13の垂直配向度が65%以上とされ、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下とされている(第1実施例~第21実施例参照)。これにより、サーボ信号の再生波形におけるピークが鋭くなり、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)を正確に判断することができる。
このように、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)を正確に判断することができるので、サーボトレースラインTの間隔Psを小さくすることができ、記録トラック幅Wdを小さくすることができる。従って、1本のデータバンドdに含まれる記録トラック5の数を増やすことができ、これにより、データの記録密度をさらに向上させることができる。
ここで、孤立波形の半値幅が狭くなるほどサーボ信号の再生波形におけるピークが鋭くなり、サーボ信号の読み取りの精度が向上する。従って、孤立波形の半値幅は、180nm以下(第1実施例~第21実施例参照)、160nm以下(第2~4、7~21実施形態参照)、140nm以下(第4、15~21実施形態参照)、120nm以下(第17、20、21実施形態参照)などとされていてもよい。
また、磁性層13の垂直配向度が上がるほど、孤立波形の半値幅が狭くなる。従って、垂直配向度は、70%以上(第3~4、15~17、20~21実施例参照)、75%以上(第15~17、20~21実施例参照)、80%以上(第16~17、21実施例参照)などとされていてもよい。
また、本技術においては、距離D(P1及びP2における長さ方向での距離)が、0.08μm以上とされる(第1実施例~第21実施例:特に、第10実施例参照)。これにより、システムが破綻してしまうことを防止することができる。
なお、本技術においては、距離Dが小さく、距離Dが0.62μm以下とされるような場合に適用されると有利である(第1実施例~第21実施例:特に、第7実施例参照)。
また、磁性層13の長手配向度が35%以下(第1実施例~第21実施例:特に、第1実施例参照)とされることで、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)をさらに正確に判断することができる。
また、磁気記録媒体1の長手方向の保磁力が2000Oe以下とされることで、第1の期間と第2の期間の差が小さくても(距離Dが小さくても)、この差(あるいは、距離D)をさらに正確に判断することができる。
また、磁性層13の表面全体の面積に対するサーボバンドsの面積の比率が、4.0%以下とされることで、データバンドdの面積が広くなり、データの記録容量を向上させることができる。また、サーボバンドsの幅が、95μm以下とされることで、データバンドdの幅が広くなり、データの記録容量を向上させることができる。
また、記録トラック幅Wdが、2.0μm以下とされることで、1本のデータバンドdに含まれる記録トラック5の数を増やすことができ、これにより、データの記録密度をさらに向上させることができる。
また、データバンドdに記録されるデータ信号における長手方向の1ビット長が、48nm以下とされることで、データの記録密度をさらに向上させることができる。
また、磁性層13の厚さが、90nm以下とされることで、電磁変換特性を向上させることができる。また、磁性層13の厚さが90nm以下とされることで、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅を狭くして(195nm以下)、サーボ信号の再生波形のピークを鋭くすることができる(第1実施例~第21実施例参照)。これにより、サーボ信号の読み取り精度が向上するため、記録トラック数を増加させてデータの記録密度を向上させることができる。
また、磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)が2300nm3以下とされることで、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅を狭くして(195nm以下)、サーボ信号の再生波形のピークを鋭くすることができる(第1実施例~第21実施例参照)。これにより、サーボ信号の読み取り精度が向上するため、記録トラック数を増加させてデータの記録密度を向上させることができる。
<磁気記録媒体の伸縮性及びテンションコントロール>
次に、磁気記録媒体1の伸縮性及びデータ記録装置20による磁気記録媒体1のテンションコントロールについて説明する。LTO規格では、データの高密度記録化の要請により、記録トラック数が急激に増加している。このような場合、記録トラック幅が狭くなってしまい、磁気記録媒体1の幅(Y軸方向)のわずかな変動が問題となる場合がある。
次に、磁気記録媒体1の伸縮性及びデータ記録装置20による磁気記録媒体1のテンションコントロールについて説明する。LTO規格では、データの高密度記録化の要請により、記録トラック数が急激に増加している。このような場合、記録トラック幅が狭くなってしまい、磁気記録媒体1の幅(Y軸方向)のわずかな変動が問題となる場合がある。
例えば、データ記録装置20によって、磁気記録媒体1に所定のデータが記憶され、その後(例えば、一定期間保管後)、データ記録装置20により、磁気記録媒体1に記録されたデータが再生されるとする。このような場合、データ再生時の磁気記録媒体1の幅が、磁気記録媒体1のデータ記録時の幅に比べてわずかにでも変動してしまうと、オフトラック(データリードヘッド35が誤った記録トラック5上に位置してしまうこと)が発生してしまう場合がある。このため、磁気記録媒体1に記録されたデータが正確に再生できずにエラーが発生してしまう可能性がある。
磁気記録媒体1の幅の変動の原因としては、例えば、温度の変動、湿度の変動等が挙げられる。一般的には、磁気記録媒体1を伸縮しないように磁気記録媒体1を設計することで、磁気記録媒体1の幅の変動に対応するといった手法が用いられる。しかしながら、磁気記録媒体1を全く伸縮しないようにことは現実的には不可能である。
そこで、本実施形態では、磁気記録媒体1を伸縮し難くするのではなく、逆に、ある程度磁気記録媒体1を伸縮しやすくし、また、データ記録装置20側で磁気記録媒体1のテンション(X軸方向:磁気記録媒体1の搬送方向)をコントロールする(増減させる)といった手法が用いられる。
具体的には、データ記録装置20は、データ信号の再生時において、必要に応じて(磁気記録媒体1の幅が広がっている場合)、磁気記録媒体1の長手方向(X軸方向)のテンションを高くすることで磁気記録媒体1の幅(Y軸方向)を小さくする。また、データ記録装置20は、データ信号の再生時において、必要に応じて(磁気記録媒体1の幅が狭まっている場合)、磁気記録媒体1の長手方向のテンションを低くすることで磁気記録媒体1の幅を大きくする。なお、データ記録装置20は、データ信号の再生時だけでなく、データ信号の記録時においても磁気記録媒体1の長手方向のテンションをコントロールしてもよい。
このような方法によれば、例えば、温度等により磁気記録媒体1の幅が変動したしまったときに、必要に応じて磁気記録媒体1の幅を調整することで、磁気記録媒体1の幅を一定にすることが可能となる。従って、オフトラックを防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータを正確に再生することが可能であると考えられる。
図13及び図14は、各種実施例及び各種比較例を示す図である。図13及び図14に示す各種実施例及び各種比較例は、図11及び図12に示す各種実施例及び各種比較例に対応しており、同じ実施例、同じ比較例については同じ番号が付されている。例えば、図13に示される第1実施例は、図11に示される第1実施例と同じものであり、第1実施例における垂直配向度や、孤立波形の半値幅等は、図11に示されている通りである。
図13及び図14においては、最も左に、引張試験において、磁気記録媒体1を長手方向(X軸方向)に1%伸ばしたときの荷重[N](以下、単に、長手1%伸び荷重)が示されている。
この長手1%伸び荷重の測定方法について説明する。この測定においては、まず、テープ幅(Y軸方向)が12.65mmの磁気記録媒体1を100mmの長さ(X軸方向)に切断することで、幅12.65mm、長さ100mmの磁気記録媒体1のサンプルが用意された。そして、このサンプルが測定機にセットされ、測定機によりサンプルが長手方向(X軸方向)に伸ばされてそのときの荷重が測定された。測定機としては、島津製作所製のAUTO GRAPH AG-100Dが用いられた。また、測定温度は、室温とされ、引っ張り速度は10mm/minとされた。
図15は、長手方向の伸び率[%]と、荷重[N]との関係を示す図である。図15に示すように、伸び率と、荷重との関係は、サンプルがほとんど伸びていない場合には(伸び率が0に近いとき)非線形となっており、サンプルがある程度伸びた場合には線形に近くなっている。従って、長手1%伸び荷重の値は、非線形である箇所の値ではなく、線形に近い箇所の値が用いられる。
具体的には、磁気記録媒体1の長手方向の引張試験において、磁気記録媒体1の伸び率0.5%のときの荷重をσ0.5[N]とし、磁気記録媒体1の伸び率1.5%のときの荷重をσ1.5[N]としたとき、長手1%伸び荷重は、以下の式により表される。
長手1%伸び荷重[N]=σ1.5-σ0.5
長手1%伸び荷重[N]=σ1.5-σ0.5
この長手1%伸び荷重は、外力による磁気記録媒体1の長手方向(X軸方向)における伸縮のし難さを示す値であり、この値が大きいほど磁気記録媒体1は外力により長手方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気記録媒体1は外力により長手方向に伸縮しやすい。
なお、長手1%伸び荷重は、磁気記録媒体1の長手方向に関する値であるが、磁気記録媒体1の幅方向(Y軸方向)の伸縮のし難さとも相関がある。つまり、この長手1%伸び荷重の値が大きいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮しやすい。
本実施形態においては、磁気記録媒体1が幅方向に伸縮しやすい方がテンションコントロールにより磁気記録媒体1の幅を調整しやすいので、長手1%伸び荷重は、小さい方が有利である。
典型的には、長手1%伸び荷重は、0.6N以下とされる。なお、長手1%伸び荷重は、0.58N以下、0.55N以下、0.5N以下、0.45N以下などとされてもよい。
図13及び図14においては、左から2列目に、磁気記録媒体1の長手方向(X軸方向)の収縮率(以下、単に長手収縮率)が示されている。この長手収縮率の測定方法について説明する。この測定においては、まず、磁気記録媒体1が50mmの長さ(X軸方向)に切断されて磁気記録媒体1のサンプルが用意された。そして、このサンプルの磁性層13の表面において長手方向(X軸方向)に15mm離れた位置に針で2点の圧痕がつけられる。
次に、トプコン社製の測定顕微鏡TMU-220ES及び座標測定機CA-1Bが用いられて、2点の圧痕間の距離L1が室温で測定される。その後、サンプルに対して張力が掛からない状態(テンションフリー)で、60℃、10%RH状態の恒温槽内で72時間保管(エイジング)される。その後、サンプルが恒温槽から取り出されて室温環境で1時間放置され、上記と同様の方法で2点の圧痕間の距離L2が測定される。
そして、距離L1(エイジング前)と距離L2(エイジング後)とに基づいて、以下の式により長手収縮率[%]が求められる。
長手収縮率={(L1-L2)/L1}×100
長手収縮率={(L1-L2)/L1}×100
この長手収縮率は、テンションフリーの状態での熱による磁気記録媒体1の長手方向(X軸方向)における伸縮のし易さを示す値であり、この値が大きいほど熱により磁気記録媒体1は長手方向に伸縮し易く、この値が小さいほど熱により磁気記録媒体1は長手方向に伸縮しにくい。
なお、長手収縮率は、磁気記録媒体1の長手方向に関する値であるが、磁気記録媒体1の幅方向(Y軸方向)の伸縮のし易さとも相関がある。つまり、この長手収縮率の値が大きいほど磁気記録媒体1は熱により幅方向に伸縮し易く、この値が小さいほど熱により磁気記録媒体1は幅方向に伸縮し難い。
上述のように、テンションコントロールの観点からは、磁気記録媒体1は伸縮した方が有利である。一方、温度変化などの環境変化によって磁気記録媒体1が伸縮してしまうのはオフトラックを誘発してしまうため好ましくない。従って、長手収縮率は、小さい方が有利である。
典型的には、長手収縮率は、0.1%以下とされる。なお、長手収縮率は、0.09%以下、0.08%以下、0.07%以下、0.06%以下、0.05%以下等とされてもよい。
なお、本実施形態においては、磁気記録媒体1は、外力が加えられたとき(テンションコントロール)には、比較的に容易に伸縮するが、一方で、温度変動などの環境変化によって磁気記録媒体1が容易には伸縮しないように構成される。
図13及び図14において、左から3列目には、磁気記録媒体1の平均厚みTL(平均全厚)が示されている。この磁気記録媒体1の平均厚みの求め方については、上記した通りである。
磁気記録媒体1の平均厚みは、外力による磁気記録媒体1の伸縮しやすさと相関があり、磁気記録媒体1の平均厚みが薄くなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し易くなり、厚くなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し難くなる。従って、テンションコントロールの観点から、磁気記録媒体1の平均厚みは、薄い方が有利である。
上述のように、磁気記録媒体1の平均厚みは、典型的には、5.6μm以下とされる。また、上述のように、磁気記録媒体1の平均厚みは、5.0μm以下、4.6μm以下、4.4μm以下などとされてもよい。
図13及び図14において、左から4列目には、基材11の平均厚みTBが示されている。この基材11の平均厚みの求め方については、上記した通りである。基材11の厚さは、磁気記録媒体1の全体の厚さの半分以上を占めている。従って、この基材11の平均厚みは、外力による磁気記録媒体1の伸縮しやすさと相関があり、基材11の平均厚みが薄くなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し易くなり、厚くなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し難くなる。従って、テンションコントロールの観点から、基材11の平均厚みは、薄い方が有利である。
上述のように、基材11の平均厚みは、典型的には、4.2μm以下とされる。また、上述のように、基材11の平均厚みは、3.8μm以下、3.4μm以下などとされてもよい。
図13及び図14において、最も右の列には、(TL-TB)/TBが示されている。(TL-TB)/TBの分母は、基材11の平均厚みTBを表しており、分子は、塗膜(磁性層13、非磁性層12及びバック層14)の平均厚み(TL-TB)を表している。なお、塗膜の平均厚みは、磁気記録媒体1の平均厚みTLから基材11の平均厚みTBを引いた値とされている。つまり、(TL-TB)/TBは、基材11の平均厚みTBに対する、塗膜の平均厚み(TL-TB)の割合を意味している。ここで、塗膜は、基材11に比べると外力により伸縮し難い。仮に、基材11の平均厚みTBを固定して、塗膜の平均厚み(TL-TB)を大きくすると、(TL-TB)/TBの値は、大きくなるが、この場合、磁気記録媒体1は、伸縮し難くなることになる。
つまり、この(TL-TB)/TBの値は、外力による磁気記録媒体1の伸縮し難さと相関があり、この値が大きくなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し難くなり、この値が小さくなるほど外力により磁気記録媒体1が伸縮し易くなる。従って、テンションコントロールの観点から、(TL-TB)/TBの値は、小さい方が有利である。
典型的には、(TL-TB)/TBの値は、0.41以下とされる。なお、(TL-TB)/TBの値は、0.39以下、0.37以下、0.35以下などとされてもよい。
図13及び図14において、右から3列目には、磁気記録媒体1の長手方向(X軸方向)のヤング率が示されている。磁気記録媒体1の長手方向のヤング率は、外力による磁気記録媒体1の長手方向における伸縮のし難さを示す値であり、この値が大きいほど外力により磁気記録媒体1は長手方向に伸縮し難く、この値が小さいほど外力により磁気記録媒体1は長手方向に伸縮しやすい。
なお、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率は、磁気記録媒体1の長手方向に関する値であるが、磁気記録媒体1の幅方向(Y軸方向)の伸縮のし難さとも相関がある。つまり、この値が大きいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮しやすい。従って、テンションコントロールの観点から、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率は、小さい方が有利である。
典型的には、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率は、8.5GPa以下とされる。なお、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率は、8.3GPa以下、7.9GPa以下、7.5GPa以下、7.1GPa以下などとされてもよい。
ヤング率の測定には引っ張り試験機(島津製作所製、AG-100D)を用いて測定する。
例えば、テープ長手方向のヤング率を測定したい場合は、テープを180mmの長さにカットして測定サンプルを準備する。上記引っ張り試験機にテープの幅(1/2インチ)を固定できる冶具を取り付け、テープ幅の上下を固定する。
距離は100mmにする。テープサンプルをチャック後、サンプルを引っ張る方向に応力を徐々にかけていく。引っ張り速度は0.1mm/minとする。この時の応力の変化と伸び量から、以下の式を用いてヤング率を計算する。
E=(ΔN/S)/(Δx/L) ×10-3
ΔN…応力の変化(N)
S…試験片の断面積(mm2)
Δx…伸び量(mm)
L…つかみ治具間距離(mm)
応力の範囲としては0.5Nから1.0Nとし、この時の応力変化(ΔN)と伸び量(Δx)を計算に使用する。
例えば、テープ長手方向のヤング率を測定したい場合は、テープを180mmの長さにカットして測定サンプルを準備する。上記引っ張り試験機にテープの幅(1/2インチ)を固定できる冶具を取り付け、テープ幅の上下を固定する。
距離は100mmにする。テープサンプルをチャック後、サンプルを引っ張る方向に応力を徐々にかけていく。引っ張り速度は0.1mm/minとする。この時の応力の変化と伸び量から、以下の式を用いてヤング率を計算する。
E=(ΔN/S)/(Δx/L) ×10-3
ΔN…応力の変化(N)
S…試験片の断面積(mm2)
Δx…伸び量(mm)
L…つかみ治具間距離(mm)
応力の範囲としては0.5Nから1.0Nとし、この時の応力変化(ΔN)と伸び量(Δx)を計算に使用する。
図13及び図14において、右から2列目には、基材11の長手方向(X軸方向)のヤング率が示されている。基材11の厚さは、磁気記録媒体1の全体の厚さの半分以上を占めている。従って、基材11の長手方向のヤング率は、外力による磁気記録媒体1の伸縮し難さと相関があり、この値が大きいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮しやすい。
なお、基材11の長手方向のヤング率は、磁気記録媒体1の長手方向に関する値であるが、磁気記録媒体1の幅方向(Y軸方向)の伸縮のし難さとも相関がある。つまり、この値が大きいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気記録媒体1は外力により幅方向に伸縮しやすい。従って、テンションコントロールの観点から、基材11の長手方向のヤング率は、小さい方が有利である。
典型的には、基材11の長手方向のヤング率は、8.0GPa以下とされる。なお、基材11の長手方向のヤング率は、7.8GPa以下、7.4GPa以下、7.0GPa以下、6.4GPa以下などとされてもよい。
図13を参照して、第1実施例では、長手1%伸び荷重が、0.58Nであり、長手収縮率が0.09%であった。また、磁気記録媒体1の磁気記録媒体1の平均厚みTLは、5μmとされ、基材11の平均厚みTBは、3.6μmとされた。また、基材11の平均厚みTBに対する、塗膜の平均厚み(TL-TB)の割合((TL-TB)/TB)が0.39とされた。
また、第1実施例では、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率が8.3GPaであり、基材11の長手方向のヤング率が7.8GPaであった。なお、第1実施例の垂直配向度、孤立波形の半値幅などは、図11に示す通りである。
図13及び図14を参照して、第2実施例~第21実施例、第1比較例~第4比較例について、長手1%伸び荷重、長手収縮率、磁気記録媒体1の平均厚み、基材11の平均厚み、磁気記録媒体1のヤング率、基材11のヤング率、(TL-TB)/TBの値は、第1実施例と基本的に同じである。
但し、第12実施例~第14実施例については、長手1%伸び荷重が第1実施例よりも小さく、0.55Nであった(磁性層の含有元素が異なるため:図11参照)。また、第18実施例及び第19実施例についても長手1%伸び荷重が第1実施例よりも小さく、0.57Nであった。なお、長手1%伸び荷重が他の実施例よりも小さいことは、テンションコントロール時における伸縮性が他の実施例よりも良いことを意味している。
次に、更に別の実施例及び比較例について説明する。図16は、更に別の実施例及び比較例を示す図である。
第22実施例について、図16に17列で示される各種の値(垂直配向度、長手配向度、・・・・、(TL-TB)/TB)のうち、長手収縮率以外の値は、第1実施例と同じである(図11、図13参照)。具体的に、第22実施例は、長手収縮率が第1実施例(及び他の実施例)よりも小さく、0.07%であった。第22実施例では、長手収縮率が第1実施例よりも小さいので、第1実施例(及び他の実施例)よりも温度変動などの環境変化に強い(伸縮し難い)。
第23実施例は、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が180nmであった。また、第23実施例は、長手収縮率が第22実施例よりもさらに小さく、0.04%であった。なお、その他の点は、第22実施例と同じである。第23実施例では、長手収縮率が第22実施例よりもさらに小さいので、第22実施例(及び他の実施例)よりも、さらに温度変動などの環境変化に強い(さらに伸縮し難い)。
第24実施例は、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が180nmであった。また、第24実施例は、長手収縮率が第22実施例よりも大きく(第1実施例等とは同じ)、0.09%であったが、長手1%伸び荷重が第22実施例よりも小さく、0.50Nであった。
第24実施例は、長手収縮率が第22実施例よりも少し大きいので(第1実施例等とは同じ)、第22実施例に比べると温度変動などの環境変化には少し弱い。しかし、第24実施例は、長手1%伸び荷重が第22実施例よりも小さいので、テンションコントロール時における伸縮性が第22実施例(及び他の実施例)よりも良い。
また、第24実施例は、磁気記録媒体1の平均厚みTLが第22実施例よりも小さく、4.3μmとされ、基材11の平均厚みTBが第22実施例よりも小さく、3.2μmとされた。また、第24実施例は、(TL-TB)/TBの値が、第22実施例よりも小さく、0.34とされた。なお、その他の点は、第22実施例と同じである。
第24実施例では、磁気記録媒体1の平均厚みTL、基材11の平均厚みTB、(TL-TB)/TBの値がそれぞれ、第22実施例よりも小さいので、テンションコントロール時における伸縮性が第22実施例(及び他の実施例)よりも良い。
第25実施例は、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が180nmであった。また、第25実施例は、長手1%伸び荷重が第24実施例よりさらに小さく、0.43Nであった。第25実施例は、長手1%伸び荷重が第24実施例よりもさらに小さいので、テンションコントロール時における伸縮性が第24実施例(及び他の実施例)よりもさらに良い。
また、第25実施例では、基材11の平均厚みTBが第24実施例と同じ(3.2μm)とされつつ、磁気記録媒体1の平均厚みTLが第24実施例よりもさらに小さくされて4.2μmとされた。この関係で、第25実施例では、(TL-TB)/TBの値が、第24実施例よりも小さく、0.31とされた。
第25実施例では、磁気記録媒体1の平均厚みTL、(TL-TB)/TBの値がそれぞれ、第24実施例よりも小さいので、テンションコントロール時における磁気記録媒体1の伸縮性が第24実施例(及び他の実施例)よりもさらに良い。
また、第25実施例では、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率が第24実施例よりも小さく、7.4GPaであり、基材11の長手方向のヤング率も第24実施例よりも小さく、6.4GPaであった。その他の点については、第24実施例と同じである。
第25実施例では、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率、基材11の長手方向のヤング率がそれぞれ第24実施例よりも小さくため、テンションコントロール時における磁気記録媒体1の伸縮性が第24実施例(及び他の実施例)よりもさらに良い。
第6比較例では、磁性層13に含まれる磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)が、2800nm3とされた。この関係で、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が大きくなっており、220nmであった。この半値幅の値(220nm)は、適切な範囲(195nm以下)に収まっていない。
また、第6比較例では、長手収縮率が0.11%であった。この長手収縮率の値(0.11%)は、適切な範囲(0.1%以下)に収まっておらず、従って、温度変動などの環境変化に弱く、オフトラックが生じてしまう可能性が高くなってしまうと考えられる。
第7比較例では、第6比較例と同様に磁性粉の粒子体積(平均体積Vave)が、2800nm3とされた。この関係で、サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が220nmとなっており、半値幅の値が適切な範囲(195nm以下)に収まっていない。
また、第7比較例では、長手1%伸び荷重が、0.61Nであった。この値(0.61N)は、適切な範囲(0.6N以下)に収まっておらず、従って、テンションコントロール時における磁気記録媒体1の伸縮性が悪いと考えられる。
また、第7実施例では、(TL-TB)/TBの値が0.43であった。この値(0.43)は、適切な範囲(0.41以下)に収まっておらず、従って、テンションコントロール時における磁気記録媒体1の伸縮性が悪いと考えられる。
[磁気記録媒体1の伸縮性による作用]
以上説明したように、本実施形態においては、長手1%伸び荷重が、0.6N以下とされる。これにより、磁気記録媒体1の伸縮性が高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整が容易となる。従って、(例えば、45℃で一ヶ月のような加速劣化環境下で)温度等により磁気記録媒体1の幅が変動したしまったとしても、磁気記録媒体1の幅を調整することで、磁気記録媒体1の幅を一定にすることが可能となる。従って、オフトラックを防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータを正確に再生することが可能となる。
以上説明したように、本実施形態においては、長手1%伸び荷重が、0.6N以下とされる。これにより、磁気記録媒体1の伸縮性が高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整が容易となる。従って、(例えば、45℃で一ヶ月のような加速劣化環境下で)温度等により磁気記録媒体1の幅が変動したしまったとしても、磁気記録媒体1の幅を調整することで、磁気記録媒体1の幅を一定にすることが可能となる。従って、オフトラックを防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータを正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態では、磁気記録媒体1の幅のわずかな変動に対処することが可能となるので、結果として、磁気記録媒体1の記録トラック数を増やすことができ、データの高密度記録化を実現することができる。なお、上述のように、本実施形態では、磁性層13の垂直配向度(65%以上)、及びサーボ信号の孤立波形の半値幅(195nm以下)により、データの高密度記録化を実現しており、この効果との相乗効果で、さらなるデータの高密度記録化が実現可能となる。
また、本実施形態においては、長手収縮率が、0.1%以下とされる。これにより、温度等により磁気記録媒体1の幅が変動し難くなる(例えば、45℃で一ヶ月のような長期の加速劣化環境下でも)。従って、オフトラックを防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータを正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態においては、磁気記録媒体1の平均厚みTLが、5.6μm以下とされる。これにより、外力による磁気記録媒体1の伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整がさらに容易となる。従って、オフトラックをさらに適切に防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態においては、基材11の平均厚みTBが、4.2μm以下とされる。これにより、外力による磁気記録媒体1の伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整がさらに容易となる。従って、オフトラックをさらに適切に防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態においては、(TL-TB)/TBの値が、0.41以下とされる。これにより、外力による磁気記録媒体1の伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整がさらに容易となる。従って、オフトラックをさらに適切に防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態においては、磁気記録媒体1の長手方向のヤング率が、8.5GPa以下とされる。これにより、外力による磁気記録媒体1の伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整がさらに容易となる。従って、オフトラックをさらに適切に防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。
また、本実施形態においては、基材11の長手方向のヤング率が、8.0GPa以下とされる。これにより、外力による磁気記録媒体1の伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気記録媒体1の幅の調整がさらに容易となる。従って、オフトラックをさらに適切に防止することができ、磁気記録媒体1に記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。
<磁気記録媒体の製造方法>
次に、磁気記録媒体1の製造方法について説明する。まず、非磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、非磁性層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。次に、結着剤および非磁性粉等を溶剤に混練、分散させることにより、バック層形成用塗料を調製する。磁性層形成用塗料、非磁性層形成用塗料およびバック層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。
次に、磁気記録媒体1の製造方法について説明する。まず、非磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、非磁性層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。次に、結着剤および非磁性粉等を溶剤に混練、分散させることにより、バック層形成用塗料を調製する。磁性層形成用塗料、非磁性層形成用塗料およびバック層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。
上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2-エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。
上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等の混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル(例えばアイリッヒ社製「DCPミル」等)、ホモジナイザー、超音波分散機等の分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。
次に、非磁性層形成用塗料を基材11の一方の主面に塗布して乾燥させることにより、非磁性層12を形成する。続いて、この非磁性層12上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、磁性層13を非磁性層12上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基材11の厚み方向に磁場配向させることが好ましい。また、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基材11の走行方向(長手方向)に磁場配向させたのちに、基材11の厚み方向に磁場配向させるようにしてもよい。磁性層13の形成後、バック層形成用塗料を基材11の他方の主面に塗布して乾燥させることにより、バック層14を形成する。これにより、磁気記録媒体1が得られる。
その後、得られた磁気記録媒体1にカレンダー処理を行い、磁性層13の表面を平滑化する。次に、カレンダー処理が施された磁気記録媒体1をロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気記録媒体1に加熱処理を行うことにより、バック層14の表面の多数の突部14Aを磁性層13の表面に転写する。これにより、磁性層13の表面に多数の孔部13Aが形成される。
加熱処理の温度は、55℃以上75℃以下であることが好ましい。加熱処理の温度が55℃以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の温度が75℃以上であると、細孔量が多くなりすぎ、表面の潤滑剤が過多になってしまう。ここで、加熱処理の温度は、磁気記録媒体1を保持する雰囲気の温度である。
加熱処理の時間は、15時間以上40時間以下であることが好ましい。加熱処理の時間が15時間以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の時間が40時間以下であると、生産性の低下を抑制することができる。
最後に、磁気記録媒体1を所定の幅(例えば1/2インチ幅)に裁断する。以上により、目的とする磁気記録媒体1が得られる。
[磁性層形成用塗料の調製工程]
次に、磁性層形成用塗料の調整工程について説明する。まず、下記配合の第1組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第1組成物と、下記配合の第2組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。
次に、磁性層形成用塗料の調整工程について説明する。まず、下記配合の第1組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第1組成物と、下記配合の第2組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。
(第1組成物)
バリウムフェライト(BaFe12O19)粒子の粉末(六角板状、アスペクト比2.8、粒子体積1950nm3):100質量部
塩化ビニル系樹脂(シクロヘキサノン溶液30質量%):10質量部
(重合度300、Mn=10000、極性基としてOSO3K=0.07mmol/g、2級OH=0.3mmol/gを含有する。)
酸化アルミニウム粉末:5質量部
(α-Al2O3、平均粒径0.2μm)
カーボンブラック:2質量部
(東海カーボン社製、商品名:シーストTA)
バリウムフェライト(BaFe12O19)粒子の粉末(六角板状、アスペクト比2.8、粒子体積1950nm3):100質量部
塩化ビニル系樹脂(シクロヘキサノン溶液30質量%):10質量部
(重合度300、Mn=10000、極性基としてOSO3K=0.07mmol/g、2級OH=0.3mmol/gを含有する。)
酸化アルミニウム粉末:5質量部
(α-Al2O3、平均粒径0.2μm)
カーボンブラック:2質量部
(東海カーボン社製、商品名:シーストTA)
(第2組成物)
塩化ビニル系樹脂:1.1質量部
(樹脂溶液:樹脂分30質量%、シクロヘキサノン70質量%)
n-ブチルステアレート:2質量部
メチルエチルケトン:121.3質量部
トルエン:121.3質量部
シクロヘキサノン:60.7質量部
塩化ビニル系樹脂:1.1質量部
(樹脂溶液:樹脂分30質量%、シクロヘキサノン70質量%)
n-ブチルステアレート:2質量部
メチルエチルケトン:121.3質量部
トルエン:121.3質量部
シクロヘキサノン:60.7質量部
最後に、上述のようにして調製した磁性層形成用塗料に、硬化剤として、ポリイソシアネート(商品名:コロネートL、日本ポリウレタン社製):4質量部と、ミリスチン酸:2質量部とを添加した。
[非磁性層形成用塗料の調製工程]
次に、非磁性層形成用塗料の調整工程について説明する。まず、下記配合の第3組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第3組成物と、下記配合の第4組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、非磁性層形成用塗料を調製した。
次に、非磁性層形成用塗料の調整工程について説明する。まず、下記配合の第3組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第3組成物と、下記配合の第4組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、非磁性層形成用塗料を調製した。
(第3組成物)
針状酸化鉄粉末:100質量部
(α-Fe2O3、平均長軸長0.15μm)
塩化ビニル系樹脂:55.6質量部
(樹脂溶液:樹脂分30質量%、シクロヘキサノン70質量%)
カーボンブラック:10質量部
(平均粒径20nm)
針状酸化鉄粉末:100質量部
(α-Fe2O3、平均長軸長0.15μm)
塩化ビニル系樹脂:55.6質量部
(樹脂溶液:樹脂分30質量%、シクロヘキサノン70質量%)
カーボンブラック:10質量部
(平均粒径20nm)
(第4組成物)
ポリウレタン系樹脂UR8200(東洋紡績製):18.5質量部
n-ブチルステアレート:2質量部
メチルエチルケトン:108.2質量部
トルエン:108.2質量部
シクロヘキサノン:18.5質量部
ポリウレタン系樹脂UR8200(東洋紡績製):18.5質量部
n-ブチルステアレート:2質量部
メチルエチルケトン:108.2質量部
トルエン:108.2質量部
シクロヘキサノン:18.5質量部
最後に、上述のようにして調製した非磁性層形成用塗料に、硬化剤として、ポリイソシアネート(商品名:コロネートL、日本ポリウレタン社製):4質量部と、ミリスチン酸:2質量部とを添加した。
[バック層形成用塗料の調製工程]
次に、バック層形成用塗料の調整工程について説明する。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バック層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径20nm):90質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):10質量部
ポリエステルポリウレタン:100質量部
(日本ポリウレタン社製、商品名:N-2304)
メチルエチルケトン:500質量部
トルエン:400質量部
シクロヘキサノン:100質量部
次に、バック層形成用塗料の調整工程について説明する。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バック層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径20nm):90質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):10質量部
ポリエステルポリウレタン:100質量部
(日本ポリウレタン社製、商品名:N-2304)
メチルエチルケトン:500質量部
トルエン:400質量部
シクロヘキサノン:100質量部
なお、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更してもよい。
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径20nm):80質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):20質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径20nm):80質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):20質量部
また、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更してもよい。
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):100質量部
カーボンブラック粒子の粉末(平均粒径270nm):100質量部
[塗布工程]
上述のようにして調製した磁性層形成用塗料および非磁性層形成用塗料を用いて、非磁性支持体である長尺のポレエチレンナフタレートフィルム(以下「PENフィルム」という。)(例えば、平均厚み4.0μm)の一方の主面上に平均厚み1.0~1.1μmの非磁性層、および平均厚み40~100nmの磁性層を以下のようにして形成した。まず、PENフィルムの一方の主面上に非磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、非磁性層を形成した。次に、非磁性層上に磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、磁性層を形成した。なお、磁性層形成用塗料の乾燥の際に、ソレノイドコイルにより、磁性粉をフィルムの厚み方向に磁場配向させた。なお、ソレノイドコイルからの磁界の強さを調整したり(磁性粉の保持力の2~3倍)、磁性層形成用塗料の固形分を調整したり、磁性層形成用塗料の乾燥条件(乾燥温度および乾燥時間)の調整により、磁場中で磁性粉が配向するための条件を調整したりすることによって、磁気記録媒体の厚み方向(垂直方向)における配向度および長手方向における配向度を所定の値に設定した。続いて、PENフィルムの他方の主面上にバック層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、非磁性層を形成した。これにより、磁気記録媒体が得られた。なお、配向度を高くするためには、磁性層形成用塗料の分散状態を良くする必要がある。さらに、垂直配向度を高くするために、磁気記録媒体が配向装置内に入る前に、事前に磁性粉を磁化しておく方法も有効である。
上述のようにして調製した磁性層形成用塗料および非磁性層形成用塗料を用いて、非磁性支持体である長尺のポレエチレンナフタレートフィルム(以下「PENフィルム」という。)(例えば、平均厚み4.0μm)の一方の主面上に平均厚み1.0~1.1μmの非磁性層、および平均厚み40~100nmの磁性層を以下のようにして形成した。まず、PENフィルムの一方の主面上に非磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、非磁性層を形成した。次に、非磁性層上に磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、磁性層を形成した。なお、磁性層形成用塗料の乾燥の際に、ソレノイドコイルにより、磁性粉をフィルムの厚み方向に磁場配向させた。なお、ソレノイドコイルからの磁界の強さを調整したり(磁性粉の保持力の2~3倍)、磁性層形成用塗料の固形分を調整したり、磁性層形成用塗料の乾燥条件(乾燥温度および乾燥時間)の調整により、磁場中で磁性粉が配向するための条件を調整したりすることによって、磁気記録媒体の厚み方向(垂直方向)における配向度および長手方向における配向度を所定の値に設定した。続いて、PENフィルムの他方の主面上にバック層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、非磁性層を形成した。これにより、磁気記録媒体が得られた。なお、配向度を高くするためには、磁性層形成用塗料の分散状態を良くする必要がある。さらに、垂直配向度を高くするために、磁気記録媒体が配向装置内に入る前に、事前に磁性粉を磁化しておく方法も有効である。
[カレンダー工程、転写工程]
続いて、カレンダー処理を行い、磁性層の表面を平滑化した。次に、得られた磁気記録媒体をロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気記録媒体に60℃、10時間の加熱処理を2回行った。これにより、バック層の表面の多数の突部が磁性層の表面に転写され、磁性層の表面に多数の孔部が形成された。
続いて、カレンダー処理を行い、磁性層の表面を平滑化した。次に、得られた磁気記録媒体をロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気記録媒体に60℃、10時間の加熱処理を2回行った。これにより、バック層の表面の多数の突部が磁性層の表面に転写され、磁性層の表面に多数の孔部が形成された。
[裁断工程]
上述のようにして得られた磁気記録媒体を1/2インチ(12.65mm)幅に裁断した。これにより、目的とする長尺状の磁気記録媒体が得られた。
上述のようにして得られた磁気記録媒体を1/2インチ(12.65mm)幅に裁断した。これにより、目的とする長尺状の磁気記録媒体が得られた。
<各種変形例>
本技術は、以下の構成をとることもできる。
(1)基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
磁気記録媒体。
(2) 上記(1)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が180nm以下である
磁気記録媒体。
(3) 上記(2)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が160nm以下である
磁気記録媒体。
(4) 上記(3)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が140nm以下である
磁気記録媒体。
(5) 上記(4)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が120nm以下である
磁気記録媒体。
(6) 上記(1)~(5)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が70%以上である
磁気記録媒体。
(7) 上記(6)に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が75%以上である
磁気記録媒体。
(8) 上記(7)に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が80%以上である
磁気記録媒体。
(9) 上記(1)~(8)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
サーボ信号記録パターンは、前記幅方向に対して所定のアジマス角を持って傾斜する複数のストライプを含み、
前記複数のストライプうち、任意のストライプ上の任意の点をP1とし、前記P1に対して、前記幅方向で前記記録トラック幅分、離れた位置にある前記任意のストライプ上の点をP2としたとき、前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.08μm以上である
磁気記録媒体。
(10) 上記(9)に記載の磁気記録媒体であって、
前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.62μm以下である
磁気記録媒体。
(11) 上記(1)~(10)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、長手配向度が35%以下である
磁気記録媒体。
(12) 上記(1)~(11)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、長手方向の保磁力が2000Oe以下である
磁気記録媒体。
(13) 上記(1)~(12)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層の表面全体の面積に対する前記サーボバンドの面積の比率が、4.0%以下である
磁気記録媒体。
(14) 上記(1)~(13)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、前記磁性層は、磁性粉を含み、前記磁性粉の粒子体積が2300nm3以下である磁気記録媒体。
(15) 上記(1)~(14)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
データバンドの本数が4n(nは、2以上の整数)であり、サーボバンドの本数が、4n+1である
磁気記録媒体。
(16) 上記(1)~(15)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記サーボバンドの幅が、95μm以下である
磁気記録媒体。
(17) 上記(1)~(16)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
前記記録トラック幅は、2.0μm以下である
磁気記録媒体。
(18) 上記(1)~(17)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドに記録されるデータ信号における前記長手方向の1ビット長が、48nm以下である
磁気記録媒体。
(19) 上記(1)~(18)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、六方晶フェライト、ε酸化鉄、又はコバルト含有フェライトの磁性粉を含む
磁気記録媒体。
(20) 上記(1)~(19)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向の引張試験において、前記磁気記録媒体における伸び率0.5%のときの荷重をσ0.5とし、磁気記録媒体における伸び率1.5%のときの荷重をσ1.5としたとき、σ1.5-σ0.5の値が、0.6N以下である
磁気記録媒体。
(21) 上記(1)~(20)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、60℃で72時間保管されたとき、前記長手方向の収縮率が0.1%以下である
磁気記録媒体。
(22) 上記(1)~(21)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の厚さが5.6μm以下である
磁気記録媒体。
(23) 上記(1)~(22)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の厚さをTB、前記磁気記録媒体の厚さをTLとしたとき、(TL-TB)/TBの値が、0.41以下である
磁気記録媒体。
(24) 上記(1)~(23)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向のヤング率は、8.5GPa以下である
磁気記録媒体。
(25) 上記(1)~(24)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の長手方向のヤング率は、8.0GPa以下である
磁気記録媒体。
(26) 上記(1)~(25)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、前記長手方向におけるテンションがコントロールされることで前記磁気記録媒体の幅が調整される
磁気記録媒体。
(27)基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体を含むカートリッジであって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
カートリッジ。
本技術は、以下の構成をとることもできる。
(1)基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
磁気記録媒体。
(2) 上記(1)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が180nm以下である
磁気記録媒体。
(3) 上記(2)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が160nm以下である
磁気記録媒体。
(4) 上記(3)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が140nm以下である
磁気記録媒体。
(5) 上記(4)に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が120nm以下である
磁気記録媒体。
(6) 上記(1)~(5)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が70%以上である
磁気記録媒体。
(7) 上記(6)に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が75%以上である
磁気記録媒体。
(8) 上記(7)に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が80%以上である
磁気記録媒体。
(9) 上記(1)~(8)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
サーボ信号記録パターンは、前記幅方向に対して所定のアジマス角を持って傾斜する複数のストライプを含み、
前記複数のストライプうち、任意のストライプ上の任意の点をP1とし、前記P1に対して、前記幅方向で前記記録トラック幅分、離れた位置にある前記任意のストライプ上の点をP2としたとき、前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.08μm以上である
磁気記録媒体。
(10) 上記(9)に記載の磁気記録媒体であって、
前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.62μm以下である
磁気記録媒体。
(11) 上記(1)~(10)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、長手配向度が35%以下である
磁気記録媒体。
(12) 上記(1)~(11)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、長手方向の保磁力が2000Oe以下である
磁気記録媒体。
(13) 上記(1)~(12)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層の表面全体の面積に対する前記サーボバンドの面積の比率が、4.0%以下である
磁気記録媒体。
(14) 上記(1)~(13)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、前記磁性層は、磁性粉を含み、前記磁性粉の粒子体積が2300nm3以下である磁気記録媒体。
(15) 上記(1)~(14)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
データバンドの本数が4n(nは、2以上の整数)であり、サーボバンドの本数が、4n+1である
磁気記録媒体。
(16) 上記(1)~(15)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記サーボバンドの幅が、95μm以下である
磁気記録媒体。
(17) 上記(1)~(16)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
前記記録トラック幅は、2.0μm以下である
磁気記録媒体。
(18) 上記(1)~(17)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドに記録されるデータ信号における前記長手方向の1ビット長が、48nm以下である
磁気記録媒体。
(19) 上記(1)~(18)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、六方晶フェライト、ε酸化鉄、又はコバルト含有フェライトの磁性粉を含む
磁気記録媒体。
(20) 上記(1)~(19)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向の引張試験において、前記磁気記録媒体における伸び率0.5%のときの荷重をσ0.5とし、磁気記録媒体における伸び率1.5%のときの荷重をσ1.5としたとき、σ1.5-σ0.5の値が、0.6N以下である
磁気記録媒体。
(21) 上記(1)~(20)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、60℃で72時間保管されたとき、前記長手方向の収縮率が0.1%以下である
磁気記録媒体。
(22) 上記(1)~(21)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の厚さが5.6μm以下である
磁気記録媒体。
(23) 上記(1)~(22)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の厚さをTB、前記磁気記録媒体の厚さをTLとしたとき、(TL-TB)/TBの値が、0.41以下である
磁気記録媒体。
(24) 上記(1)~(23)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向のヤング率は、8.5GPa以下である
磁気記録媒体。
(25) 上記(1)~(24)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の長手方向のヤング率は、8.0GPa以下である
磁気記録媒体。
(26) 上記(1)~(25)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、前記長手方向におけるテンションがコントロールされることで前記磁気記録媒体の幅が調整される
磁気記録媒体。
(27)基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体を含むカートリッジであって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
カートリッジ。
d・・・データバンド
s・・・サーボバンド
5・・・記録トラック
6・・・サーボ信号記録パターン
7・・・ストライプ
1・・・磁気記録媒体
11・・基材
12・・非磁性層
13・・磁性層
14・・バック層
20・・データ記録装置
s・・・サーボバンド
5・・・記録トラック
6・・・サーボ信号記録パターン
7・・・ストライプ
1・・・磁気記録媒体
11・・基材
12・・非磁性層
13・・磁性層
14・・バック層
20・・データ記録装置
Claims (27)
- 基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が180nm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項2に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が160nm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項3に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が140nm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項4に記載の磁気記録媒体であって、
前記孤立波形の半値幅が120nm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が70%以上である
磁気記録媒体。 - 請求項6に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が75%以上である
磁気記録媒体。 - 請求項7に記載の磁気記録媒体であって、
前記垂直配向度が80%以上である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
サーボ信号記録パターンは、前記幅方向に対して所定のアジマス角を持って傾斜する複数のストライプを含み、
前記複数のストライプうち、任意のストライプ上の任意の点をP1とし、前記P1に対して、前記幅方向で前記記録トラック幅分、離れた位置にある前記任意のストライプ上の点をP2としたとき、前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.08μm以上である
磁気記録媒体。 - 請求項9に記載の磁気記録媒体であって、
前記P1及び前記P2における前記長さ方向での距離が、0.62μm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、長手配向度が35%以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、長手方向の保磁力が2000Oe以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層の表面全体の面積に対する前記サーボバンドの面積の比率が、4.0%以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、磁性粉を含み、
前記磁性粉の粒子体積が2300nm3以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
データバンドの本数が4n(nは、2以上の整数)であり、サーボバンドの本数が、4n+1である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記サーボバンドの幅が、95μm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドは、前記長手方向に長く、前記幅方向に整列され、前記幅方向でトラック毎に所定の記録トラック幅を有する複数の記録トラックを有し、
前記記録トラック幅は、2.0μm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記データバンドに記録されるデータ信号における前記長手方向の1ビット長が、48nm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、六方晶フェライト、ε酸化鉄、又はコバルト含有フェライトの磁性粉を含む
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向の引張試験において、前記磁気記録媒体における伸び率0.5%のときの荷重をσ0.5とし、磁気記録媒体における伸び率1.5%のときの荷重をσ1.5としたとき、σ1.5-σ0.5の値が、0.6N以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、60℃で72時間保管されたとき、前記長手方向の収縮率が0.1%以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の厚さが5.6μm以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の厚さをTB、前記磁気記録媒体の厚さをTLとしたとき、(TL-TB)/TBの値が、0.41以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体の長手方向のヤング率は、8.5GPa以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記基材の長手方向のヤング率は、8.0GPa以下である
磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体は、前記長手方向におけるテンションを増減させることで前記磁気記録媒体の幅が調整される
磁気記録媒体。 - 基材と磁性層とを有し、長手方向に長く、幅方向に短いテープ状の磁気記録媒体を含むカートリッジであって、
前記磁性層は、データ信号が書き込まれる前記長手方向に長いデータバンドと、サーボ信号が書き込まれる前記長手方向に長いサーボバンドとを含み、垂直配向度が65%以上であり、
前記サーボ信号の再生波形における孤立波形の半値幅が195nm以下であり、
前記磁性層の厚さが、90nm以下であり、
前記基材の厚さが、4.2μm以下である
カートリッジ。
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