JP2023047306A - 耐熱磁性体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記耐熱磁性体の結晶粒界は主相、R元素シェル層、遷移金属元素シェル層、及び前記主相、前記R元素シェル層、前記遷移金属元素シェル層で囲まれる三角領域を含み、
前記R元素シェル層は、Nd、Prの少なくとも一つ、及びHо、Gdの少なくとも一つであり、前記遷移金属元素シェル層はCu、Al、Gaの少なくとも一つであり、前記三角領域の3つのポイントスキャン成分は成分1、成分2及び/又は成分3を含み、
前記成分1は、NdaFebRcMdで示され、RはPr、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも三つであり、Ndの重量百分率aは30%≦a≦70%、Feの重量百分率bは5%≦b≦40%、Rの重量百分率cは5%≦c≦35%、Mの重量百分率dは0%≦d≦15%であり、
前記成分2は、NdeFefRg、Hh、Ki、Mjで示され、RはPr、HはDy、Tbの少なくとも一つ、KはHo、Gdの少なくとも一つ、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも三つであり、Ndの重量百分率eは25%≦e≦65%、Feの重量百分率fは5%≦f≦35%、Rの重量百分率gは5%≦g≦30%、Hの重量百分率hは5%≦h≦30%、Kの重量百分率iは1%≦i≦12%、Mの重量百分率jは0%≦j≦10%であり、
前記成分3は、NdkFelRm、Dn、Moで示され、RはPr、DはAl、Cu、Gaの少なくとも一つ、MはTi、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも一つであり、Ndの重量百分率kは30%≦k≦70%、Feの重量百分率lは5%≦l≦35%、Rの重量百分率mは5%≦m≦35%、Dの重量百分率nは5%≦n≦25%、Mの重量百分率oは0%≦o≦10%である、ことを特徴とする。
(ステップ1)Nd-Fe-B系合金の原料を溶錬、ストリップキャスト法を用いてNd-Fe-B系合金薄片を作成し、前記Nd-Fe-B系合金薄片を150~400μmの合金薄片に粉砕し、
前記Nd-Fe-B系合金の原料成分及び重量百分率は、28%≦R≦30%、0.8%≦B≦1.2%、0%≦M≦3%、残部はFeであり、RはNd、Pr、Hoの少なくとも一つ、MはCo、Tiの少なくとも一つであり、
(ステップ2)粉砕後の前記合金薄片と、低融点合金の粉体及び潤滑剤を撹拌混合し、水素化処理炉内に投入して水素吸着処理及び脱水素処理を行い、ジェットミルによって粒子径3~5μmmのNd-Fe-B系合金粉末を作成し、
前記低融点合金は、NdCu、NdAl、NdGaの少なくとも一つを含み、重量百分率は0%≦NdCu≦3%、0%≦NdAl≦3%、0%≦NdGa≦3%、前記低融点合金の前記粉末の粒子径は200nm~4μmであり、
(ステップ3)前記Nd-Fe-B系合金粉末を押圧成型し、焼結、時効処理してNd-Fe-B系磁性体とし、
(ステップ4)焼結後の前記Nd-Fe-B系磁性体を所望の形状に機械加工し、前記Nd-Fe-B系磁性体のC軸方向に垂直又は平行な面に重希土類拡散源膜を形成し、
前記重希土類拡散源膜の成分は、R1xR2yHzM1-x-y-zで示され、R1はNd、Prの少なくとも一つ、R1の重量百分率xは15%<x<50%、R2はHo、Gdの少なくとも一つ、R2の重量百分率yは0%<y≦10%、前記HはTb、Dyの少なくとも一つ、Hの重量百分率zは40%≦z≦70%、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも一つ、Mの重量百分率は100%-x-y-zであり、
(ステップ5)拡散処理及び時効処理を行う、ことを特徴とする。
(1)本願発明の磁性体は、結晶粒界を低融点合金とし、拡散源にHo又はGdを用いて拡散処理を行い、特有な結晶粒界構造を有する重希土類元素であるTb、Dyの含有量が少ない安価なNd-Fe-B系磁性体であり、磁性体の成分及び拡散源をコントロールすることで、保磁力の大幅な向上を実現できる。
実施例1は拡散源としてPrHоDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは200μm、水素吸着温度は100℃、脱水素温度は450℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.23kGs降下し、Hcjは10.61kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.500%であった。
一方、比較例1は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例1と同じである。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは10.21kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.530%であり、実施例1よりも明らかに劣っている。
実施例2は拡散源としてPrHоDyCuTiを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは150μm、水素吸着温度は120℃、脱水素温度は400℃、酸素含有量は500ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は800nm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.21kGs降下し、Hcjは9.08kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.500%であった。
一方、比較例2は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例2と同じである。拡散前と対比して、Brは0.24kGs降下し、Hcjは8.78kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例2よりも明らかに劣っている。
実施例3は拡散源としてPrHоDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは260μm、水素吸着温度は200℃、脱水素温度は520℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は200nm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.24kGs降下し、Hcjは8.08kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.450%であった。
一方、比較例3は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例3と同じである。拡散前と対比して、Brは0.22kGs降下し、Hcjは7.58kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例3よりも明らかに劣っている。
実施例4は拡散源としてPrHоTbCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは280μm、水素吸着温度は150℃、脱水素温度は500℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は2μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.21kGs降下し、Hcjは12.02kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.425%であった。
一方、比較例4は拡散源としてPrTbCuを用いた以外、その他の条件は実施例4と同じである。拡散前と対比して、Brは0.24kGs降下し、Hcjは11.52kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.440%であり、実施例4よりも明らかに劣っている。
実施例5は拡散源としてNdHоDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは290μm、水素吸着温度は180℃、脱水素温度は520℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は2.5μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.27kGs降下し、Hcjは10.11kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.490%であった。
一方、比較例5は拡散源としてNdDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例5と同じである。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは9.51kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例5よりも明らかに劣っている。
実施例6は拡散源としてNdHоDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは300μm、水素吸着温度は300℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は800ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は4μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは8.71kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.492%であった。
一方、比較例6は拡散源としてNdDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例6と同じである。拡散前と対比して、Brは0.23kGs降下し、Hcjは8.31kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.520%であり、実施例6よりも明らかに劣っている。
実施例7は拡散源としてNdHоDyCoを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは270μm、水素吸着温度は200℃、脱水素温度は600℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3.5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは9.32kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.480%であった。
一方、比較例7は拡散源としてNdDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例7と同じである。拡散前と対比して、Brは0.22kGs降下し、Hcjは8.82kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.515%であり、実施例7よりも明らかに劣っている。
実施例8は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは280μm、水素吸着温度は220℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は800nm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.26kGs降下し、Hcjは9.85kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.490%であった。
一方、比較例8は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例8と同じである。拡散前と対比して、Brは0.21kGs降下し、Hcjは9.35kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例8よりも明らかに劣っている。
実施例9は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは300μm、水素吸着温度は150℃、脱水素温度は450℃、酸素含有量は800ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3.5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.24kGs降下し、Hcjは9.75kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.470%であった。
一方、比較例9は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例9と同じである。拡散前と対比して、Brは0.24kGs降下し、Hcjは9.35kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.500%であり、実施例9よりも明らかに劣っている。
実施例10は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは270μm、水素吸着温度は180℃、脱水素温度は400℃、酸素含有量は900ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は2μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.27kGs降下し、Hcjは10.88kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.480%であった。
一方、比較例10は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例10と同じである。拡散前と対比して、Brは0.22kGs降下し、Hcjは9.88kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.515%であり、実施例10よりも明らかに劣っている。
実施例11は拡散源としてPrGdTbCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは210μm、水素吸着温度は270℃、脱水素温度は600℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.21kGs降下し、Hcjは11.74kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.435%であった。
一方、比較例11は拡散源としてPrTbCuを用いた以外、その他の条件は実施例1と同じである。拡散前と対比して、Brは0.21kGs降下し、Hcjは11.24kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.450%であり、実施例11よりも明らかに劣っている。
実施例12は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは300μm、水素吸着温度は230℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は900ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.27kGs降下し、Hcjは8.10kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.457%であった。
一方、比較例12は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例12と同じである。拡散前と対比して、Brは0.22kGs降下し、Hcjは7.60kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例12よりも明らかに劣っている。
実施例13は拡散源としてPrHoDyCuGaを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは400μm、水素吸着温度は170℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は1000ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は2μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは7.90kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.460%であった。
一方、比較例13は拡散源としてPrDyCuGaを用いた以外、その他の条件は実施例13と同じである。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは7.60kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例13よりも明らかに劣っている。
実施例14は拡散源としてPrHoDyCuGaを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは260μm、水素吸着温度は200℃、脱水素温度は450℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は3μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.27kGs降下し、Hcjは8.85kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.470%であった。
一方、比較例14は拡散源としてPrDyCuGaを用いた以外、その他の条件は実施例14と同じである。拡散前と対比して、Brは0.22kGs降下し、Hcjは8.25kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.520%であり、実施例14よりも明らかに劣っている。
実施例15は拡散源としてPrHoDyCuZnを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは230μm、水素吸着温度は150℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.23kGs降下し、Hcjは9.48kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.460%であった。
一方、比較例15は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例15と同じである。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは8.98kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.505%であり、実施例15よりも明らかに劣っている。
実施例16は拡散源としてPrHoDyCuAlを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは230μm、水素吸着温度は150℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.26kGs降下し、Hcjは9.44kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.470%であった。
一方、比較例16は拡散源としてPrDyCuAlを用いた以外、その他の条件は実施例16と同じである。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは10.21kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例16よりも明らかに劣っている。
実施例17は拡散源としてPrHoDyCuAlを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは260μm、水素吸着温度は200℃、脱水素温度は560℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は2μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは8.77kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.480%であった。
一方、比較例17は拡散源としてPrDyCuAlを用いた以外、その他の条件は実施例17と同じである。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは10.21kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.520%であり、実施例17よりも明らかに劣っている。
実施例18は拡散源としてPrHoDyCuAlを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは250μm、水素吸着温度は150℃、脱水素温度は480℃、酸素含有量は800ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.28kGs降下し、Hcjは9.10kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.490%であった。
一方、比較例18は拡散源としてPrDyCuAlを用いた以外、その他の条件は実施例18と同じである。拡散前と対比して、Brは0.26kGs降下し、Hcjは8.60kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.505%であり、実施例18よりも明らかに劣っている。
実施例19は拡散源としてPrGdDyCuSnを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは280μm、水素吸着温度は220℃、脱水素温度は500℃、酸素含有量は600ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は1.5μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は4μmであった。拡散前と対比して、Brは0.28kGs降下し、Hcjは9.10kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.470%であった。
一方、比較例19は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例19と同じである。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは8.50kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.495%であり、実施例19よりも明らかに劣っている。
実施例20は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは260μm、水素吸着温度は170℃、脱水素温度は450℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は4μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは7.70kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.475%であった。
一方、比較例20は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例20と同じである。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは7.50kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.500%であり、実施例20よりも明らかに劣っている。
実施例21は拡散源としてPrGdDyCuを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは290μm、水素吸着温度は200℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50はμm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は3μmであった。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは9.80kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.460%であった。
一方、比較例21は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例21と同じである。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは9.50kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例21よりも明らかに劣っている。
実施例22は拡散源としてPrGdDyMgを用いた。Nd-Fe-B系合金薄片の平均サイズは240μm、水素吸着温度は190℃、脱水素温度は550℃、酸素含有量は700ppm、低融点粉体の平均粒子径D50は4μm、ジェットミル粉砕後の合金粉末の平均粒子径D50は5μmであった。拡散前と対比して、Brは0.25kGs降下し、Hcjは8.00kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.455%であった。
一方、比較例22は拡散源としてPrDyCuを用いた以外、その他の条件は実施例22と同じである。拡散前と対比して、Brは0.20kGs降下し、Hcjは7.50kОe増加した。且つ150℃における磁性体の保磁力の耐熱係数は-0.510%であり、実施例22よりも明らかに劣っている。
Claims (8)
- 耐熱磁性体であって、
前記耐熱磁性体の結晶粒界は主相、R元素シェル層、遷移金属元素シェル層、及び前記主相、前記R元素シェル層、前記遷移金属元素シェル層で囲まれる三角領域を含み、
前記R元素シェル層は、Nd、Prの少なくとも一つ、及びHо、Gdの少なくとも一つであり、前記遷移金属元素シェル層はCu、Al、Gaの少なくとも一つであり、前記三角領域の3つのポイントスキャン成分は成分1、成分2及び/又は成分3を含み、
前記成分1は、NdaFebRcMdで示され、RはPr、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも三つ、Ndの重量百分率aは30%≦a≦70%、Feの重量百分率bは5%≦b≦40%、Rの重量百分率cは5%≦c≦35%、Mの重量百分率dは0%≦d≦15%であり、
前記成分2は、NdeFefRg、Hh、Ki、Mjで示され、RはPr、HはDy、Tbの少なくとも一つ、KはHo、Gdの少なくとも一つ、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも三つであり、Ndの重量百分率eは25%≦e≦65%、Feの重量百分率fは5%≦f≦35%、Rの重量百分率gは5%≦g≦30%、Hの重量百分率hは5%≦h≦30%、Kの重量百分率iは1%≦i≦12%、Mの重量百分率jは0%≦j≦10%であり、
前記成分3は、NdkFelRm、Dn、Moで示され、RはPr、DはAl、Cu、Gaの少なくとも一つ、MはTi、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも一つであり、Ndの重量百分率kは30%≦k≦70%、Feの重量百分率lは5%≦l≦35%、Rの重量百分率mは5%≦m≦35%、Dの重量百分率nは5%≦n≦25%、Mの重量百分率oは0%≦o≦10%である、
ことを特徴とする耐熱磁性体。 - 前記耐熱磁性体の厚さは0.3~6mmである、
ことを特徴とする請求項1に記載の耐熱磁性体。 - 請求項1又は2に記載の耐熱磁性体の製造方法であって、
(ステップ1)Nd-Fe-B系合金の原料を溶錬、ストリップキャスト法を用いてNd-Fe-B系合金薄片を作成し、前記Nd-Fe-B系合金薄片を150~400μmの合金薄片に粉砕し、
前記Nd-Fe-B系合金の原料成分及び重量百分率は、28%≦R≦30%、0.8%≦B≦1.2%、0%≦M≦3%、残部はFeであり、RはNd、Pr、Hoの少なくとも一つ、MはCo、Tiの少なくとも一つであり、
(ステップ2)粉砕後の前記合金薄片と、低融点合金の粉体及び潤滑剤を撹拌混合し、水素化処理炉内に投入して水素吸着処理及び脱水素処理を行い、ジェットミルによって粒子径3~5μmmのNd-Fe-B系合金粉末を作成し、
前記低融点合金は、NdCu、NdAl、NdGaの少なくとも一つを含み、重量百分率は0%≦NdCu≦3%、0%≦NdAl≦3%、0%≦NdGa≦3%、前記低融点合金の前記粉末の粒子径は200nm~4μmであり、
(ステップ3)前記Nd-Fe-B系合金粉末を押圧成型し、焼結、時効処理してNd-Fe-B系磁性体とし、
(ステップ4)焼結後の前記Nd-Fe-B系磁性体を所望の形状に機械加工し、前記Nd-Fe-B系磁性体のC軸方向に垂直又は平行な面に重希土類拡散源膜を形成し、
前記重希土類拡散源膜の成分は、R1xR2yHzM1-x-y-zで示され、R1はNd、Prの少なくとも一つ、R1の重量百分率xは15%<x<50%、R2はHo、Gdの少なくとも一つ、R2の重量百分率yは0%<y≦10%、前記HはTb、Dyの少なくとも一つ、Hの重量百分率zは40%≦z≦70%、MはAl、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Snの少なくとも一つ、Mの重量百分率は100%-x-y-zであり、
(ステップ5)拡散処理及び時効処理を行う、
ことを特徴とする耐熱磁性体の製造方法。 - 前記重希土類拡散源膜は噴霧製粉、アモルファスストリップ又はインゴットにより形成する、
ことを特徴とする請求項3に記載の耐熱磁性体の製造方法。 - 前記(ステップ2)における前記脱水素温度は、400~600℃である、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載の耐熱磁性体の製造方法。 - 前記(ステップ3)において、焼結完了後、Arガスで冷却し、その後第1次時効処理及び第2次時効処理を行い、焼結温度は980~1060℃、焼結時間は6~15時間であり、前記第1次時効処理の温度は850℃、時効時間は3時間、前記第2次時効処理の温度は450~660℃、時効時間は3時間である、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載の耐熱磁性体の製造方法。 - 前記(ステップ5)において、前記拡散処理の温度は850~930℃、拡散時間は6~30時間であり、前記時効処理の温度は420~680℃、時効時間は3~10時間である、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載の耐熱磁性体の製造方法。 - 前記第1次時効処理及び前記第2次時効処理の昇温速度は1~5℃/分、降温速度は5~20℃/分である、
ことを特徴とする請求項6に記載の耐熱磁性体の製造方法。
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