JP2023046037A - ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】突出部が薄く設定されてもランプの製造が困難になることを抑制できるディスク装置を提供する。【解決手段】一つの実施形態に係るディスク装置は、磁気ディスクと、磁気ヘッドと、ランプと、サスペンションとを備える。前記サスペンションは、ロードビームに設けられた摺動部を有し、ロード位置とアンロード位置との間で第２の回転軸まわりに回転する。前記ランプは、壁と突出部とを有する。前記壁は、前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記摺動部を支持する第１の支持面を有する。前記突出部は、前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記磁気ヘッドに向く第２の支持面と、前記壁と前記第２の支持面との間に設けられた中間部と、を有する。前記中間部は、第１の部分と、第１の回転軸の軸方向及び前記第２の回転軸の径方向において前記第１の部分と前記第１の支持面との間に位置する第２の部分と、を有する。【選択図】図４

Description

本発明の実施形態は、ディスク装置に関する。

ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）のようなディスク装置は、例えば、磁気ディスクと、磁気ヘッドと、サスペンションと、ランプとを有する。磁気ヘッドは、サスペンションに保持される。サスペンションは、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面上に位置するロード位置と、当該サスペンションがランプに保持されるアンロード位置と、の間で回転する。

ランプは、例えば、壁と、当該壁から突出するとともにアンロード位置における二つの磁気ヘッドの間に配置される突出部と、を有する。突出部は、当該二つの磁気ヘッドが互いに当接することを抑制する。

米国特許第９１９６２７５号明細書

ディスク装置において磁気ディスクの数が増やされると、一般的に、隣り合う磁気ディスクの間の間隔が短くなる。当該間隔に応じて突出部の厚さが薄く設定されると、ランプの製造が困難になる虞がある。

本発明が解決する課題の一例は、突出部が薄く設定されてもランプの製造が困難になることを抑制できるディスク装置を提供することである。

一つの実施形態に係るディスク装置は、複数の磁気ディスクと、磁気ヘッドと、ランプと、サスペンションとを備える。前記磁気ディスクは、それぞれが記録面を有し、前記記録面と交差する第１の回転軸まわりに回転可能である。前記磁気ヘッドは、前記記録面に対して情報を読み書きするよう構成される。前記ランプは、前記第１の回転軸から離間している。前記サスペンションは、第２の回転軸の径方向に延びるロードビームと、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記ロードビームの端部に設けられた摺動部と、前記ロードビームに取り付けられたフレキシャと、前記第２の回転軸の径方向における前記摺動部と前記第２の回転軸との間で前記フレキシャに設けられるとともに前記磁気ヘッドを保持する保持部と、を有し、前記摺動部が前記ランプから離間するとともに前記磁気ヘッドが前記記録面上に位置するロード位置と、前記摺動部が前記ランプに保持されるアンロード位置と、の間で前記第２の回転軸まわりに回転するよう構成される。前記ランプは、壁と、前記壁から前記第２の回転軸の径方向の内側に突出する突出部と、を有する。前記壁は、前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記摺動部を支持する第１の支持面を有する。前記突出部は、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の支持面から離間するとともに前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記磁気ヘッドに向く第２の支持面と、前記第２の回転軸の径方向において前記壁と前記第２の支持面との間に設けられた中間部と、を有する。前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第１の回転軸の軸方向において、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記フレキシャの端部と前記突出部との間の距離は、前記磁気ヘッドと前記第２の支持面との間の距離よりも長い。前記中間部は、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の支持面と前記第２の支持面との間に位置する第１の部分と、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の部分と前記第１の支持面との間に位置するとともに前記第２の回転軸の径方向において前記第１の部分と前記第１の支持面との間に位置する第２の部分と、を有する。

図１は、一つの実施形態に係るハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を示す例示的な斜視図である。 図２は、上記実施形態のアクチュエータアセンブリの一部及びランプロード機構の一部を示す例示的な断面図である。 図３は、上記実施形態のランプロード機構を示す例示的な斜視図である。 図４は、上記実施形態のサスペンションの一部及びランプの一部を示す例示的な断面図である。

以下に、一つの実施形態について、図１乃至図４を参照して説明する。なお、本明細書において、実施形態に係る構成要素及び当該要素の説明が、複数の表現で記載されることがある。構成要素及びその説明は、一例であり、本明細書の表現によって限定されない。構成要素は、本明細書におけるものとは異なる名称でも特定され得る。また、構成要素は、本明細書の表現とは異なる表現によっても説明され得る。

図１は、一つの実施形態に係るハードディスクドライブ（ＨＤＤ）１０を示す例示的な斜視図である。ＨＤＤ１０は、ディスク装置の一例であり、電子機器、記憶装置、外部記憶装置、又は磁気ディスク装置とも称され得る。

各図面に示されるように、本明細書において、便宜上、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸が定義される。Ｘ軸とＹ軸とＺ軸とは、互いに直交する。Ｘ軸は、ＨＤＤ１０の幅に沿って設けられる。Ｙ軸は、ＨＤＤ１０の長さに沿って設けられる。Ｚ軸は、ＨＤＤ１０の厚さに沿って設けられる。

さらに、本明細書において、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向が定義される。Ｘ方向は、Ｘ軸に沿う方向であって、Ｘ軸の矢印が示す＋Ｘ方向と、Ｘ軸の矢印の反対方向である－Ｘ方向とを含む。Ｙ方向は、Ｙ軸に沿う方向であって、Ｙ軸の矢印が示す＋Ｙ方向と、Ｙ軸の矢印の反対方向である－Ｙ方向とを含む。Ｚ方向は、Ｚ軸に沿う方向であって、Ｚ軸の矢印が示す＋Ｚ方向と、Ｚ軸の矢印の反対方向である－Ｚ方向とを含む。

図１に示すように、ＨＤＤ１０は、筐体１１と、複数の磁気ディスク１２と、スピンドルモータ１３と、複数の磁気ヘッド１４と、アクチュエータアセンブリ１５と、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）１６と、ランプロード機構１７と、フレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）１８とを有する。磁気ヘッド１４は、スライダとも称され得る。

筐体１１は、Ｙ方向に延びるとともに、＋Ｚ方向に開放された略直方体の箱状に形成される。筐体１１は、底壁２１と周壁２２とを有する。底壁２１は、Ｘ－Ｙ平面に沿って広がる略矩形（四角形）の板状に形成される。周壁２２は、底壁２１の縁から略＋Ｚ方向に突出し、略矩形の枠状に形成される。底壁２１と周壁２２とは、例えば、アルミニウム合金のような金属材料によって作られ、一体に形成されている。

筐体１１の内部に、＋Ｚ方向に開放された内室２５が設けられる。内室２５は、例えば、底壁２１と周壁２２とにより形成（規定、区画）される。このため、周壁２２は内室２５を囲んでいる。内室２５は、例えば、筐体１１に取り付けられるカバーによって略気密に塞がれる。

内室２５に、空気とは異なる気体が充填される。例えば、空気よりも密度が低い低密度ガスや、反応性の低い不活性ガス等が、内室２５に充填される。本実施形態では、ヘリウムが内室２５に充填される。なお、他の流体が内室２５に充填されても良い。また、内室２５は、真空、真空に近い低圧、又は大気圧よりも低い陰圧に保たれても良い。

複数の磁気ディスク１２は、Ｘ－Ｙ平面に沿って広がる円盤状に形成される。磁気ディスク１２の直径は、例えば、３～４インチである。本実施形態において、磁気ディスク１２の直径は、約３．５インチである。なお、磁気ディスク１２の直径は、この例に限られない。複数の磁気ディスク１２はそれぞれ、例えば、少なくとも一つの記録面１２ａと、外縁１２ｂと、を有する。

記録面１２ａは、磁気ディスク１２の上面及び下面の少なくとも一方に設けられる。言い換えると、複数の記録面１２ａはそれぞれ、略＋Ｚ方向に向く磁気ディスク１２の表面、又は略－Ｚ方向に向く磁気ディスク１２の表面である。

記録面１２ａは、Ｘ－Ｙ平面に沿って広がる略平坦な面である。記録面１２ａに、磁気ディスク１２の磁気記録層が設けられる。なお、記録面１２ａの一部に、磁気記録層が設けられなくても良い。外縁１２ｂは、磁気ディスク１２の外周面である。

複数の磁気ディスク１２は、Ｚ方向に間隔を介して重ねられる。スピンドルモータ１３は、複数の磁気ディスク１２を支持するハブを有する。複数の磁気ディスク１２は、例えば、クランプバネによってスピンドルモータ１３のハブに保持される。

図２は、本実施形態のアクチュエータアセンブリ１５の一部及びランプロード機構１７の一部を示す例示的な断面図である。本実施形態において、ＨＤＤ１０は、１０枚以上の磁気ディスク１２を有する。図２に模式的に示すように、複数の磁気ディスク１２の間の間隔Ｌ１は、１．４８２ｍｍ以下であり、且つ０ｍｍより長いである。本実施形態において、間隔Ｌ１は、約１．４８２ｍｍである。なお、磁気ディスク１２の数及び間隔Ｌ１は、この例に限られない。

図１のスピンドルモータ１３は、複数の磁気ディスク１２を、第１の回転軸Ａｘ１まわりに回転させる。第１の回転軸Ａｘ１は、略Ｚ方向に延びる仮想的な軸である。すなわち、第１の回転軸Ａｘ１は、記録面１２ａと直交（交差）する方向に延びている。

第１の回転軸Ａｘ１は、スピンドルモータ１３による回転の中心であり、磁気ディスク１２及びスピンドルモータ１３のハブの中心軸でもある。なお、磁気ディスク１２の中心軸及びスピンドルモータ１３のハブの中心軸は、スピンドルモータ１３による回転の中心と異なっても良い。

磁気ヘッド１４は、磁気ディスク１２の記録面１２ａに対して、情報の記録及び再生を行う。言い換えると、磁気ヘッド１４は、磁気ディスク１２の記録面１２ａに対して情報を読み書きする。磁気ヘッド１４は、アクチュエータアセンブリ１５に搭載される。

アクチュエータアセンブリ１５は、磁気ディスク１２から離間した位置に配置された支持軸３１に、回転可能に支持される。支持軸３１は、例えば、筐体１１の底壁２１から略＋Ｚ方向に延びている。

アクチュエータアセンブリ１５は、第１の回転軸Ａｘ１から離間した第２の回転軸Ａｘ２まわりに回転することができる。第２の回転軸Ａｘ２は、略Ｚ方向に延びる仮想的な軸である。このため、第１の回転軸Ａｘ１と第２の回転軸Ａｘ２とは、略平行に配置される。第２の回転軸Ａｘ２は、例えば、アクチュエータアセンブリ１５の回転の中心であり、支持軸３１の中心軸でもある。

本明細書において、軸方向、径方向及び周方向が定義される。軸方向は、第１の回転軸Ａｘ１及び第２の回転軸Ａｘ２のような仮想的な軸に沿う方向であり、当該軸に沿う一方向及び他方向を含む。径方向は、当該軸と直交する方向であり、当該軸と直交する複数の方向を含む。周方向は、当該軸まわりに回転する方向であり、当該軸まわりに時計回りに回転する方向と反時計回りに回転する方向とを含む。

上述のように、第１の回転軸Ａｘ１と第２の回転軸Ａｘ２とは、略平行に略Ｚ方向に延び、互いに離間している。すなわち、第１の回転軸Ａｘ１の軸方向及び第２の回転軸Ａｘ２の軸方向は、Ｚ方向である。第１の回転軸Ａｘ１は、第２の回転軸Ａｘ２から、当該第２の回転軸Ａｘ２の径方向に離間している。

ＶＣＭ１６は、アクチュエータアセンブリ１５を第２の回転軸Ａｘ２まわりに回転させ、所望の位置に配置する。ＶＣＭ１６によるアクチュエータアセンブリ１５の回転により磁気ヘッド１４が磁気ディスク１２の最外周に移動すると、ランプロード機構１７は、磁気ディスク１２から離間した位置に磁気ヘッド１４を保持する。

アクチュエータアセンブリ１５は、アクチュエータブロック３５と、複数のアーム３６と、複数のヘッドサスペンションアセンブリ（サスペンション）３７とを有する。サスペンション３７は、ヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）とも称され得る。

アクチュエータブロック３５は、例えば、軸受を介して、支持軸３１に回転可能に支持される。複数のアーム３６は、アクチュエータブロック３５から、第２の回転軸Ａｘ２の径方向に突出している。なお、アクチュエータアセンブリ１５が分割され、複数のアクチュエータブロック３５のそれぞれからアーム３６が突出しても良い。

複数のアーム３６は、第２の回転軸Ａｘ２の軸方向に、間隔を介して配置される。アーム３６はそれぞれ、隣り合う磁気ディスク１２の間の隙間に進入可能な板状に形成される。複数のアーム３６は、略平行に延びている。

アクチュエータブロック３５及び複数のアーム３６は、例えばアルミニウムにより一体に形成される。なお、アクチュエータブロック３５及びアーム３６の材料は、この例に限られない。

アクチュエータブロック３５からアーム３６の反対側に突出した突起に、ＶＣＭ１６のボイスコイルが設けられる。ＶＣＭ１６は、一対のヨークと、当該ヨークの間に配置されたボイスコイルと、ヨークに設けられた磁石と、を有する。

上述のように、ＶＣＭ１６は、アクチュエータアセンブリ１５を第２の回転軸Ａｘ２まわりに回転させる。言い換えると、ＶＣＭ１６は、アクチュエータブロック３５、アーム３６、及びサスペンション３７を、第２の回転軸Ａｘ２まわりに一体的に回転（移動）させる。

サスペンション３７は、対応するアーム３６の先端部分に取り付けられ、当該アーム３６から突出する。これにより、複数のサスペンション３７は、第２の回転軸Ａｘ２の軸方向に、間隔を介して配置される。複数のサスペンション３７はそれぞれ、ベースプレート４１と、ロードビーム４２と、フレキシャ４３とを有する。

ベースプレート４１及びロードビーム４２は、例えば、ステンレスにより作られる。なお、ベースプレート４１及びロードビーム４２は、他の材料により作られても良いし、互いに異なる材料で作られても良い。

ベースプレート４１は、板状に形成され、アーム３６の先端部に取り付けられる。ロードビーム４２は、ベースプレート４１の先端部に取り付けられ、ベースプレート４１から第２の回転軸Ａｘ２の径方向に突出している。言い換えると、ロードビーム４２は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向に延びている。

ロードビーム４２は、ベースプレート４１よりも薄く、Ｘ－Ｙ平面に沿って広がる板状に形成される。すなわち、ロードビーム４２は、ベースプレート４１に片持ち梁状に支持されており、ベースプレート４１に取り付けられた一方の端部を支点として撓むことができる。

図２に示すように、内方向Ｄｉと外方向Ｄｏとが定義される。内方向Ｄｉと外方向Ｄｏとは、径方向に含まれる。内方向Ｄｉは、第２の回転軸の径方向の内側の一例である。外方向Ｄｏは、第２の回転軸の径方向の外側の一例である。内方向Ｄｉは、第２の回転軸Ａｘ２と直交し、第２の回転軸Ａｘ２へ向かう方向である。外方向Ｄｏは、内方向Ｄｉの反対方向である。

ロードビーム４２は、リフトタブ４５を有する。リフトタブ４５は、摺動部の一例である。リフトタブ４５は、外方向Ｄｏにおけるロードビーム４２の端部に設けられる。また、リフトタブ４５は、外方向Ｄｏにおけるアクチュエータアセンブリ１５の端部に位置する。このため、リフトタブ４５は、第２の回転軸Ａｘ２から、当該第２の回転軸Ａｘ２の径方向に離間している。

フレキシャ４３は、細長い帯状に形成される。なお、フレキシャ４３の形状は、この例に限られない。フレキシャ４３は、例えば、ステンレス等の金属板（裏打ち層）と、金属板上に形成された絶縁層と、絶縁層上に形成され複数の配線（配線パターン）を有する導電層と、導電層を覆う保護層（絶縁層）と、を有する積層板である。

フレキシャ４３は、ベースプレート４１及びロードビーム４２に取り付けられる。フレキシャ４３は、ロードビーム４２上に位置するジンバル部（弾性支持部）４６、第１の取付部４７、及び第２の取付部４８を有する。ジンバル部４６は、保持部の一例である。

ジンバル部４６は、Ｚ方向において、ロードビーム４２と、対応する磁気ディスク１２の記録面１２ａと、の間に位置する。ジンバル部４６に、磁気ヘッド１４が搭載される。言い換えると、ジンバル部４６は、磁気ヘッド１４を保持する。フレキシャ４３は、磁気ヘッド１４に電気的に接続される。

ジンバル部４６は、例えば、ロードビーム４２に設けられた略半球状の突起４９に、変位可能且つ揺動可能に支持される。このため、磁気ヘッド１４は、ジンバル部４６とともに変位及び揺動することができる。

ジンバル部４６は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向におけるリフトタブ４５と第２の回転軸Ａｘ２との間でフレキシャ４３に設けられる。このため、磁気ヘッド１４も、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、リフトタブ４５と第２の回転軸Ａｘ２との間に位置する。

リフトタブ４５がＺ方向に変位するようにロードビーム４２が撓むと、ジンバル部４６及び磁気ヘッド１４もＺ方向に変位する。なお、ジンバル部４６及び磁気ヘッド１４の変位は、リフトタブ４５の変位に完全に追従しなくても良い。例えば、ジンバル部４６及び磁気ヘッド１４の変位は、リフトタブ４５の変位から遅れて生じても良い。また、例えば、リフトタブ４５が所定の範囲内で変位する場合、ジンバル部４６及び磁気ヘッド１４の変位が生じなくても良い。

第１の取付部４７は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、ジンバル部４６と第２の回転軸Ａｘ２との間に位置する。第２の取付部４８は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、リフトタブ４５とジンバル部４６との間に位置する。第１の取付部４７及び第２の取付部４８は、ロードビーム４２に例えば接着剤により取り付けられる。

図１のＦＰＣ１８の一方の端部は、フレキシャ４３に接続される。ＦＰＣ１８の他方の端部は、例えば、筐体１１に設けられたコネクタを介して、筐体１１の外部に配置された基板に接続される。当該基板に、例えば、ＨＤＤ１０の全体を制御するコントローラと、ホストコンピュータに接続されるインターフェースコネクタとが搭載される。当該基板は、ＦＰＣ１８及びフレキシャ４３を介して、磁気ヘッド１４に電気的に接続される。

ランプロード機構１７は、第１の回転軸Ａｘ１から、当該第１の回転軸Ａｘ１の径方向に離間した位置に配置される。さらに、ランプロード機構１７は、第２の回転軸Ａｘ２から、当該第２の回転軸Ａｘ２の径方向に離間している。

図３は、本実施形態のランプロード機構１７を示す例示的な斜視図である。図３に示すように、ランプロード機構１７は、基部５１と、取付部５２と、複数のランプ５３とを有する。

基部５１、取付部５２、及びランプ５３は、例えばポリアセタール（ＰＯＭ）のような合成樹脂により一体的に作られる。なお、基部５１、取付部５２、及びランプ５３は、個別に作られても良い。

基部５１は、第２の回転軸Ａｘ２の周方向に広がる略板状に形成される。基部５１は、側面５１ａを有する。側面５１ａは、第２の回転軸Ａｘ２の周方向に延び、内方向Ｄｉに向く。取付部５２は、基部５１から外方向Ｄｏに突出し、例えば筐体１１の底壁２１に取り付けられる。

複数のランプ５３は、基部５１の側面５１ａから内方向Ｄｉに突出している。複数のランプ５３はそれぞれ、一つの磁気ディスク１２の二つの記録面１２ａに情報を読み書きする二つの磁気ヘッド１４と、当該磁気ヘッド１４を移動させる二つのアクチュエータアセンブリ１５と、に対応して設けられる。このため、複数のランプ５３は、Ｚ方向に間隔を介して並べられる。

ランプ５３は、対応する磁気ディスク１２の外縁１２ｂの近傍に位置する。磁気ディスク１２の外縁１２ｂは、例えば、ランプ５３に設けられた溝５５に挿入される。このため、ランプ５３は、対応する磁気ディスク１２の記録面１２ａの一部を覆う。

ランプ５３は、リフタ６１と、リミッタ６２とを有する。リフタ６１は、壁の一例である。リミッタ６２は、突出部の一例である。リフタ６１は、基部５１の側面５１ａから内方向Ｄｉに突出している。図２に示すように、リフタ６１は、二つの保持面７１，７２と、側面７３とを有する。保持面７１は、第１の支持面の一例である。

保持面７１は、第２の回転軸Ａｘ２の周方向に延び、略＋Ｚ方向に向く。保持面７２は、保持面７１の反対側に位置し、略－Ｚ方向に向く。側面７３は、内方向Ｄｉにおける保持面７１の端７１ａと、内方向Ｄｉにおける保持面７２の端７２ａとの間で延びている。側面７３は、第２の回転軸Ａｘ２の周方向に延び、内方向Ｄｉに向く。なお、保持面７１，７２及び側面７３は、この例に限られない。

保持面７１，７２は、外縁１２ｂから第１の回転軸Ａｘ１の径方向に離間した位置で、リフトタブ４５を支持することができる。なお、保持面７１，７２は、第１の回転軸Ａｘ１の径方向における外縁１２ｂの内側で、リフトタブ４５を保持しても良い。

リフトタブ４５は、磁気ヘッド１４が磁気ディスク１２に対して情報を読み書きしないとき（アンロード時）には、上述のように、ランプ５３の保持面７１又は保持面７２に支持される。言い換えると、アンロード時において、リフトタブ４５は、磁気ディスク１２の外縁１２ｂから第１の回転軸Ａｘ１の径方向に離間した位置に配置される。なお、アンロード時におけるリフトタブ４５は、第１の回転軸Ａｘ１の径方向における外縁１２ｂの内側に位置しても良い。言い換えると、アンロード時におけるリフトタブ４５は、第１の回転軸Ａｘ１の軸方向（Ｚ方向）に記録面１２ａと重なっていても良い。

一方、リフトタブ４５は、磁気ヘッド１４が磁気ディスク１２に対して情報を読み書きするとき（ロード時）には、基本的に、磁気ヘッド１４とともに磁気ディスク１２の記録面１２ａの上に位置する。言い換えると、ロード時において、記録面１２ａは、間隔を介してリフトタブ４５に面する。なお、ロード時において、リフトタブ４５の少なくとも一部が、記録面１２ａから第１の回転軸Ａｘ１の径方向に離間した位置に配置されても良い。

リフトタブ４５は、アクチュエータアセンブリ１５の回動に応じて、記録面１２ａの上の領域と、保持面７１又は保持面７２に保持される位置（ホームポジション）と、の間で移動する。リフトタブ４５が保持面７１又は保持面７２に保持されるとき、磁気ヘッド１４は、Ｚ方向及び第１の回転軸Ａｘ１の径方向において、磁気ディスク１２の記録面１２ａから離間している。なお、リフトタブ４５が保持面７１又は保持面７２に保持されるとき、磁気ヘッド１４は、Ｚ方向に記録面１２ａと重なっていても良い。

リフトタブ４５は、アクチュエータアセンブリ１５の回転に応じて、第２の回転軸Ａｘ２まわりに移動（回転）する。本実施形態では、リフトタブ４５の移動方向は、おおよそ第１の回転軸Ａｘ１の径方向に沿っている。このため、リフトタブ４５は、アクチュエータアセンブリ１５の回動に応じて、おおよそ第１の回転軸Ａｘ１の径方向に移動することができる。

具体的には、リフトタブ４５は、第１の回転軸Ａｘ１の近傍と、保持面７１又は保持面７２上の位置と、の間で第２の回転軸Ａｘ２の周方向（第１の回転軸Ａｘ１の径方向）に移動することができる。すなわち、リフトタブ４５は、第２の回転軸Ａｘ２の周方向において、第１の回転軸Ａｘ１に近づいて保持面７１又は保持面７２から遠ざかる方向と、第１の回転軸Ａｘ１から遠ざかり保持面７１又は保持面７２に近づく方向と、に移動可能である。

サスペンション３７を含むアクチュエータアセンブリ１５は、ロード位置と、アンロード位置と、の間で第２の回転軸Ａｘ２まわりに回転する。ロード位置及びアンロード位置は、第２の回転軸Ａｘ２まわりの角度（位置）である。

ロード時において、サスペンション３７はロード位置に位置する。すなわち、サスペンション３７がロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４が磁気ディスク１２の記録面１２ａ上に位置し、リフトタブ４５が保持面７１，７２から離間している。なお、以下の説明において、サスペンション３７がロード位置に位置するときの、磁気ヘッド１４の第２の回転軸Ａｘ２まわりの位置も、ロード位置と称され得る。また、ロード位置は、一つの位置に限られず、磁気ヘッド１４が記録面１２ａ上に位置する複数の位置を含む。

一方、アンロード時において、サスペンション３７は、アンロード位置に位置する。すなわち、サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４が記録面１２ａから離間するように、リフトタブ４５がランプ５３の保持面７１又は保持面７２に保持される。アンロード位置において、リフトタブ４５は、保持面７１，７２に設けられた凹部に嵌り、移動することをランプ５３によって制限されても良い。なお、以下の説明において、サスペンション３７がアンロード位置に位置する場合の、磁気ヘッド１４の第２の回転軸Ａｘ２まわりの位置も、アンロード位置と称され得る。

アンロード位置における磁気ヘッド１４は、Ｚ方向において、記録面１２ａから離間している。ロード位置における磁気ヘッド１４と記録面１２ａとの間にも、隙間が生じ得る。しかし、Ｚ方向において、アンロード位置の磁気ヘッド１４は、ロード位置の磁気ヘッド１４よりも、記録面１２ａから離間している。

図３に示すように、リミッタ６２は、リフタ６１の側面７３から、内方向Ｄｉに突出している。Ｚ方向において、リミッタ６２は、リフタ６１の二つの保持面７１，７２の略中央に位置する。なお、リミッタ６２の位置は、この例に限られない。

リミッタ６２は、第２の回転軸Ａｘ２の周方向に延びる板状に形成される。第２の回転軸Ａｘ２の周方向において、リミッタ６２は、リフタ６１よりも短い。なお、リミッタ６２の長さは、この例に限られない。

図４は、本実施形態のサスペンション３７の一部及びランプ５３の一部を示す例示的な断面図である。図４に示す第２の回転軸Ａｘ２の径方向におけるリミッタ６２の長さＬ２は、１．８９ｍｍ以上且つ２．２３ｍｍ以下である。本実施形態において、長さＬ２は、例えば約２．０６ｍｍである。なお、長さＬ２は、この例に限られない。

リミッタ６２は、端面８１と、二つの受け面８２，８３と、中間部８４とを有する。端面８１は、第２の回転軸の径方向の内側における突出部の端の一例である。受け面８２は、第２の支持面の一例である。受け面８３は、第３の支持面の一例である。

端面８１は、内方向Ｄｉにおけるリミッタ６２の端に設けられる。端面８１は、おおよそ内方向Ｄｉに向く。なお、端面８１は、他の方向に向いても良い。＋Ｚ方向における端面８１の端から、受け面８２が外方向Ｄｏに延びている。－Ｚ方向における端面８１の端から、受け面８３が外方向Ｄｏに延びている。このため、受け面８３は、受け面８２の反対側に位置する。

受け面８２は、略平坦に形成され、略＋Ｚ方向に向く。受け面８２は、Ｚ方向において、保持面７１から－Ｚ方向に離間している。受け面８２は、対応するサスペンション３７がアンロード位置に位置するときに、間隔を介して対応する磁気ヘッド１４のＡＢＳ（ａｉｒ ｂｅａｒｉｎｇ ｓｕｒｆａｃｅ）１４ａに向く。ＡＢＳ１４ａは、磁気ヘッド１４がロード位置に位置するときに磁気ディスク１２の記録面１２ａに向く磁気ヘッド１４の表面である。

受け面８３は、略平坦に形成され、略－Ｚ方向に向く。図２に示すように、受け面８３は、Ｚ方向において、保持面７２から＋Ｚ方向に離間している。受け面８３は、対応するサスペンション３７がアンロード位置に位置するときに、間隔を介して対応する磁気ヘッド１４のＡＢＳ１４ａに向く。

受け面８２と受け面８３とは、略平行に延びている。第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、受け面８２の長さと、受け面８３の長さとは、略等しい。なお、受け面８２，８３は、この例に限られない。

図４に示す受け面８２と受け面８３との間の距離である厚さＬ３は、０．１ｍｍ以上且つ０．５５ｍｍ以下である。本実施形態において、厚さＬ３は、例えば約０．２２ｍｍである。なお、厚さＬ３は、この例に限られない。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４の流入端１４ｂは、端面８１よりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。流入端１４ｂは、内方向Ｄｉにおける磁気ヘッド１４の端である。また、サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、流入端１４ｂは、内方向Ｄｉにおける受け面８２の端８２ａ及び内方向Ｄｉにおける受け面８３の端８３ａよりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、流入端１４ｂと端面８１との間の第２の回転軸Ａｘ２の径方向における距離Ｌ４は、０．１５ｍｍ以上且つ０．１９ｍｍ以下である。本実施形態において、距離Ｌ４は、例えば約０．１７ｍｍである。なお、距離Ｌ４は、この例に限られない。

リミッタ６２の端面８１は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、磁気ディスク１２から離間している。サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、磁気ヘッド１４の流入端１４ｂは、端面８１と磁気ディスク１２との間に位置する。

図２に示すように、リミッタ６２は、アンロード位置の二つの磁気ヘッド１４の間に配置される。サスペンション３７がＺ方向に振動する場合、受け面８２，８３が、対応する磁気ヘッド１４のＡＢＳ１４ａに当接することがある。これにより、リミッタ６２は、二つの磁気ヘッド１４が互いに当接することを抑制できる。

ＡＢＳ１４ａと、受け面８２，８３とは、略平坦に形成され、略平行に配置される。このため、ＡＢＳ１４ａと、受け面８２，８３とは、互いに当接するときにより広い範囲で接触することができる。

サスペンション３７が振動する場合、二つの磁気ヘッド１４は、流入端１４ｂ同士が近づくように傾くことがある。リミッタ６２は、磁気ヘッド１４に当接することで流入端１４ｂ同士が当接することを抑制できるように、厚さＬ３及び距離Ｌ４を設定される。

図４に示すように、端面８１と受け面８２の端８２ａとの角部分は、Ｒ面取りされ、曲面８５が形成される。また、端面８１と受け面８３の端８３ａとの角部分は、Ｒ面取りされ、曲面８６が形成される。

曲面８５，８６は、断面において略円弧状の縁を形成する。曲面８５，８６が形成されたリミッタ６２は、傾いた磁気ヘッド１４に当接したときに当該磁気ヘッド１４を損傷することを抑制できる。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４の流出端１４ｃは、外方向Ｄｏにおける受け面８２の端８２ｂよりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。流出端１４ｃは、外方向Ｄｏにおける磁気ヘッド１４の端である。また、サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４の流出端１４ｃは、外方向Ｄｏにおける受け面８３の端８３ｂよりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。

中間部８４は、第２の回転軸Ａｘ２径方向において、リフタ６１と受け面８２との間に設けられる。中間部８４は、二つの斜面８７，８８を有する。斜面８７は、第１の傾斜面の一例である。斜面８８は、第２の傾斜面の一例である。

斜面８７は、受け面８２の端８２ｂと、リフタ６１の側面７３と、に接続される。斜面８７は、受け面８２に対して斜めに延びている。具体的には、斜面８７は、外方向Ｄｏと、対応する磁気ディスク１２の記録面１２ａが向く方向（＋Ｚ方向）との間の方向に延びている。このため、斜面８７において、第２の回転軸Ａｘ２の径方向におけるより外側の部分ほど、Ｚ方向において保持面７１に近い。

例えば、斜面８７は、第１の部分Ｐ１と、第２の部分Ｐ２とを有する。第１の部分Ｐ１は、斜面８７の一部である。このため、第１の部分Ｐ１は、Ｚ方向において保持面７１と受け面８２との間に位置する。

第２の部分Ｐ２は、斜面８７の他の一部である。第２の部分Ｐ２は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において第１の部分Ｐ１よりも外側に位置する。このため、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、第２の部分Ｐ２は、第１の部分Ｐ１と保持面７１との間に位置する。さらに、第２の部分Ｐ２は、Ｚ方向において、第１の部分Ｐ１と保持面７１との間に位置する。

斜面８８は、斜面８７の反対側に位置する。斜面８８は、受け面８３の端８３ｂと、リフタ６１の側面７３と、に接続される。斜面８８は、受け面８３に対して斜めに延びている。具体的には、斜面８８は、外方向Ｄｏと、対応する磁気ディスク１２の記録面１２ａが向く方向（－Ｚ方向）との間の方向に延びている。このため、斜面８８において、第２の回転軸Ａｘ２の径方向におけるより外側の部分ほど、Ｚ方向において保持面７２に近い。

斜面８７と斜面８８とは、内方向Ｄｉに向かって先細るように延びている。言い換えると、斜面８７と斜面８８とは、内方向Ｄｉに向かって互いに近づくように斜めに延びている。

受け面８２と斜面８７との間の角度θは、１７０°以下であり、且つ、仮想面ＶＰと受け面８２との間の角度以上である。仮想面ＶＰは、保持面７１の端７１ａと、受け面８２の端８２ｂとの間で延びる仮想的な平面である。本実施形態において、角度θは、例えば約１６９°である。なお、角度θは、この例に限られない。

受け面８３と斜面８８との間の角度は、角度θと略等しい。このため、リミッタ６２は、Ｚ方向に鏡面対称に形成される。なお、受け面８３と斜面８８との間の角度は、角度θと異なっても良い。

Ｚ方向において、外方向Ｄｏにおける斜面８７の端８７ａは、受け面８２よりも、保持面７１に近い。端８７ａは、第２の回転軸の径方向の外側における中間部の端の一例である。また、Ｚ方向において、外方向Ｄｏにおける斜面８８の端８８ａは、受け面８３よりも、保持面７２に近い。

以上より、リミッタ６２において、リフタ６１と中間部８４とが接続された部分における断面積は、リミッタ６２の先端（端面８１）における断面積よりも大きい。当該断面積は、リミッタ６２が延びる方向と直交する断面の面積である。言い換えると、リミッタ６２のうちリフタ６１に接続される一方の端部は、他方の端部よりも太い。

中間部８４は、斜面８７，８８の代わりに、第１の部分及び第２の部分を有し得る他の表面を有しても良い。例えば、中間部８４は、斜面８７，８８の代わりに、二段以上の階段状の表面を有しても良い。第１の部分は、階段状の表面のうち、より低い段に位置する。第２の部分は、階段状の表面のうち、より高い段に位置する。

Ｚ方向において、斜面８７の端８７ａと保持面７１との間の距離Ｌ５は、斜面８７の端８７ａと受け面８２との間の距離Ｌ６よりも長い。本実施形態において、距離Ｌ５は、例えば約０．６０ｍｍである。距離Ｌ６は、例えば約０．１８７５ｍｍである。リミッタ６２の形状は鏡面対称であるため、Ｚ方向における中間部８４の最大の厚さは、約０．５４５ｍｍである。なお、距離Ｌ５，Ｌ６は、この例に限られない。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、斜面８７は、間隔を介して、外方向Ｄｏにおけるフレキシャ４３の端部４３ａに向く。端部４３ａは、ＴＥリミッタとも称され得る。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、Ｚ方向において、フレキシャ４３の端部４３ａとリミッタ６２との間の距離Ｌ７は、磁気ヘッド１４と受け面８２との間の距離Ｌ８よりも長い。このため、サスペンション３７がＺ方向に振動し、磁気ヘッド１４が受け面８２に当接したとき、フレキシャ４３の端部４３ａはリミッタ６２から離間している。

磁気ヘッド１４の流出端１４ｃと、受け面８２の端８２ｂと、の間の第２の回転軸Ａｘ２の径方向における距離Ｌ９は、０ｍｍ以上である。本実施形態において、距離Ｌ９は、例えば０．１６ｍｍである。なお、距離Ｌ９は、この例に限られない。距離Ｌ９は、流出端１４ｃと中間部８４との間の第２の回転軸Ａｘ２の径方向における距離でもある。

第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、第２の回転軸Ａｘ２と端面８１との間の距離は、例えば、約４６．９７ｍｍである。第２の回転軸Ａｘ２の径方向において、第２の回転軸Ａｘ２と受け面８２の端８２ｂとの間の距離は、例えば、約４８．３３ｍｍである。このため、端面８１と受け面８２の端８２ｂとの間の第２の回転軸Ａｘ２における距離は、約１．３６ｍｍである。第２の回転軸Ａｘ２において、第２の回転軸Ａｘ２と側面７３との間の距離は、例えば、４９．０３ｍｍである。なお、以上の寸法は、一例である。

ランプロード機構１７は、例えば、射出成型により製造される。射出成型時、金型のキャビティにおいて、材料がリフタ６１からリミッタ６２の先端の端面８１に向かって流れる。すなわち、材料は、リフタ６１を形成する広い空間から、リミッタ６２を形成する狭い空間へ流れる。

例えば、リミッタ６２が薄く且つ一定の厚さを有する場合、材料は、リミッタ６２を形成する空間の奥まで流入し難い。しかし、本実施形態において、中間部８４は、リフタ６１の側面７３から、先細るように延びている。このため、中間部８４は、リフタ６１を形成する空間から中間部８４を形成する空間へ材料を流入しやすくする。

リミッタ６２の一部が中間部８４であるため、リミッタ６２の厚さが一定である場合に比べ、リミッタ６２を形成する空間の奥まで材料が流入しやすい。従って、本実施形態のランプロード機構１７は、射出成型における製造不良を生じることを抑制できる。なお、ランプロード機構１７は、他の製造方法により製造されても良い。

以上説明された本実施形態に係るＨＤＤ１０において、サスペンション３７は、ロードビーム４２と、リフトタブ４５と、フレキシャ４３と、ジンバル部４６と、を有する。ロードビーム４２は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向に延びている。リフトタブ４５は、外方向Ｄｏにおけるロードビーム４２の端部に設けられる。フレキシャ４３は、ロードビーム４２に取り付けられる。ジンバル部４６は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向におけるリフトタブ４５と第２の回転軸Ａｘ２との間でフレキシャ４３に設けられるとともに、磁気ヘッド１４を保持する。サスペンション３７は、リフトタブ４５がランプ５３から離間するとともに磁気ヘッド１４が記録面１２ａ上に位置するロード位置と、リフトタブ４５がランプ５３に保持されるアンロード位置と、の間で第２の回転軸Ａｘ２まわりに回転する。ランプ５３は、リフタ６１と、当該リフタ６１から内方向Ｄｉに突出するリミッタ６２と、を有する。リフタ６１は、サスペンション３７がアンロード位置に位置するときにリフトタブ４５を支持する保持面７１を有する。リミッタ６２は、受け面８２と、中間部８４と、を有する。受け面８２は、Ｚ方向において保持面７１から離間するとともに、サスペンション３７がアンロード位置に位置するときに磁気ヘッド１４に向く。中間部８４は、第２の回転軸Ａｘ２の径方向においてリフタ６１と受け面８２との間に設けられる。サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、Ｚ方向において、外方向Ｄｏにおけるフレキシャ４３の端部４３ａとリミッタ６２との間の距離Ｌ７は、磁気ヘッド１４と受け面８２との間の距離Ｌ８よりも長い。サスペンション３７がＺ方向に振動した場合、リミッタ６２は、受け面８２で磁気ヘッド１４に当接するが、フレキシャ４３の端部４３ａには当接し難い。本実施形態のリミッタ６２は、サスペンション３７が振動したときにフレキシャ４３の端部４３ａを受ける部分を省略できる。このため、本実施形態のランプ５３は、リミッタ６２を薄くすることができ、ひいては複数の磁気ディスク１２の間の間隔Ｌ１が狭い場合でもリミッタ６２を有することができる。一方、リミッタ６２が薄い場合、例えば射出成型において、リミッタ６２の先端（端面８１）まで材料を供給することが困難になる虞がある。しかし、本実施形態において、中間部８４は、Ｚ方向において保持面７１と受け面８２との間に位置する第１の部分Ｐ１と、Ｚ方向において第１の部分Ｐ１と保持面７１との間に位置するとともに第２の回転軸Ａｘ２の径方向において第１の部分Ｐ１と保持面７１との間に位置する第２の部分Ｐ２と、を有する。すなわち、中間部８４は、保持面７１を有するリフタ６１に向かって徐々に又は段階的に太くなる。従って、本実施形態のＨＤＤ１０は、例えば射出成型において材料をリミッタ６２の先端まで容易に供給することができ、ひいてはリミッタ６２が薄く設定されてもランプ５３の製造が困難になることを抑制できる。

中間部８４は、受け面８２に接続されるとともに受け面８２に対して斜めに延びる斜面８７を有する。斜面８７は、第１の部分Ｐ１及び第２の部分Ｐ２を有する。すなわち、中間部８４は、保持面７１を有するリフタ６１に向かって徐々に太くなる。従って、例えば射出成型において、材料がリミッタ６２の先端まで容易に供給されることができ、ひいてはランプ５３の製造が容易となる。

リミッタ６２は、受け面８２の反対側に位置する受け面８３と、受け面８３に接続されるとともに受け面８３に対して斜めに延びる斜面８８と、をさらに有する。斜面８７と斜面８８とは、内方向Ｄｉに向かって先細る。すなわち、斜面８７及び斜面８８は、リミッタ６２の先端に向かって先細る。従って、例えば射出成型において、材料がリミッタ６２の先端まで容易に供給されることができ、ひいてはランプ５３の製造が容易となる。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４の流入端１４ｂは、リミッタ６２の端面８１よりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。これにより、サスペンション３７がＺ方向に振動したときに、磁気ヘッド１４の流入端１４ｂは、リミッタ６２に衝突することを抑制できる。さらに、リミッタ６２の長さが比較的に短くなり、リミッタ６２が容易に形成されることができる。

サスペンション３７がアンロード位置に位置するとき、磁気ヘッド１４の流出端１４ｃは、外方向Ｄｏにおける受け面８２の端８２ｂよりも、第２の回転軸Ａｘ２の径方向において内側に位置する。これにより、サスペンション３７がＺ方向に振動したときに、磁気ヘッド１４の流出端１４ｃは、中間部８４に衝突することを抑制できる。

Ｚ方向において、外方向Ｄｏにおける中間部８４の端８７ａと保持面７１との間の距離Ｌ５は、外方向Ｄｏにおける中間部８４の端８７ａと受け面８２との間の距離Ｌ６よりも長い。これにより、Ｚ方向における中間部８４の大きさが比較的小さくなり、中間部８４は、サスペンション３７に干渉することを抑制できる。

以上の説明において、抑制は、例えば、事象、作用、若しくは影響の発生を防ぐこと、又は事象、作用、若しくは影響の度合いを低減させること、として定義される。また、以上の説明において、制限は、例えば、移動若しくは回転を防ぐこと、又は移動若しくは回転を所定の範囲内で許容するとともに当該所定の範囲を超えた移動若しくは回転を防ぐこと、として定義される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０…ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）、１２…磁気ディスク、１２ａ…記録面、１４…磁気ヘッド、１４ｂ…流入端、１４ｃ…流出端、３７…ヘッドサスペンションアセンブリ（サスペンション）、４２…ロードビーム、４３…フレキシャ、４３ａ…端部、４５…リフトタブ、４６…ジンバル部、５３…ランプ、６１…リフタ、６２…リミッタ、７１…保持面、７１ａ…端、８１…端面、８２…受け面、８２ａ，８２ｂ…端、８３…受け面、８４…中間部、８７…斜面、８７ａ…端、８８…斜面、Ａｘ１…第１の回転軸、Ａｘ２…第２の回転軸、Ｄｏ…外方向、Ｄｉ…内方向、Ｐ１…第１の部分、Ｐ２…第２の部分、Ｌ１…間隔、Ｌ２…長さ、Ｌ３…厚さ、Ｌ４～Ｌ９…距離、θ…角度、ＶＰ…仮想面。

Claims (11)

1. それぞれが記録面を有し、前記記録面と交差する第１の回転軸まわりに回転可能な複数の磁気ディスクと、
   前記記録面に対して情報を読み書きするよう構成された磁気ヘッドと、
   前記第１の回転軸から離間したランプと、
   第２の回転軸の径方向に延びるロードビームと、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記ロードビームの端部に設けられた摺動部と、前記ロードビームに取り付けられたフレキシャと、前記第２の回転軸の径方向における前記摺動部と前記第２の回転軸との間で前記フレキシャに設けられるとともに前記磁気ヘッドを保持する保持部と、を有し、前記摺動部が前記ランプから離間するとともに前記磁気ヘッドが前記記録面上に位置するロード位置と、前記摺動部が前記ランプに保持されるアンロード位置と、の間で前記第２の回転軸まわりに回転するよう構成された、サスペンションと、
   を具備し、
   前記ランプは、壁と、前記壁から前記第２の回転軸の径方向の内側に突出する突出部と、を有し、
   前記壁は、前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記摺動部を支持する第１の支持面を有し、
   前記突出部は、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の支持面から離間するとともに前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するときに前記磁気ヘッドに向く第２の支持面と、前記第２の回転軸の径方向において前記壁と前記第２の支持面との間に設けられた中間部と、を有し、
   前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第１の回転軸の軸方向において、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記フレキシャの端部と前記突出部との間の距離は、前記磁気ヘッドと前記第２の支持面との間の距離よりも長く、
   前記中間部は、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の支持面と前記第２の支持面との間に位置する第１の部分と、前記第１の回転軸の軸方向において前記第１の部分と前記第１の支持面との間に位置するとともに前記第２の回転軸の径方向において前記第１の部分と前記第１の支持面との間に位置する第２の部分と、を有する、
   ディスク装置。
2. 前記中間部は、前記第２の支持面に接続されるとともに前記第２の支持面に対して斜めに延びる第１の傾斜面を有し、
   前記第１の傾斜面は、前記第１の部分及び前記第２の部分を有する、
   請求項１のディスク装置。
3. 前記突出部は、前記第２の支持面の反対側に位置する第３の支持面と、前記第３の支持面に接続されるとともに前記第３の支持面に対して斜めに延びる第２の傾斜面と、をさらに有し、
   前記第１の傾斜面と前記第２の傾斜面とは、前記第２の回転軸の径方向の内側に向かって先細るように延びる、
   請求項２のディスク装置。
4. 前記複数の磁気ディスクの間の距離は、１．４８２ｍｍ以下であり、
   前記第２の支持面と前記第３の支持面との間の距離は、０．１ｍｍ以上且つ０．５５ｍｍ以下である、
   請求項３のディスク装置。
5. 前記第２の支持面と前記第１の傾斜面との間の角度は、１７０°以下であり、且つ、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記第１の支持面の端と、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記第２の支持面の端と、の間で延びる仮想面と前記第２の支持面との間の角度以上である、請求項２乃至請求項４のいずれか一つのディスク装置。
6. 前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記磁気ヘッドの端は、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記突出部の端よりも、前記第２の回転軸の径方向において内側に位置する、請求項１乃至請求項５のいずれか一つのディスク装置。
7. 前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記磁気ヘッドの端と、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記突出部の端と、の間の前記第２の回転軸の径方向における距離は、０．１５ｍｍ以上且つ０．１９ｍｍ以下である、請求項６のディスク装置。
8. 前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記磁気ヘッドの端は、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記第２の支持面の端よりも、前記第２の回転軸の径方向において内側に位置する、請求項１乃至請求項７のいずれか一つのディスク装置。
9. 前記第１の回転軸の軸方向において、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記中間部の端と前記第１の支持面との間の距離は、前記第２の回転軸の径方向の外側における前記中間部の端と前記第２の支持面との間の距離よりも長い、請求項１乃至請求項８のいずれか一つのディスク装置。
10. 前記第２の回転軸の径方向における前記突出部の長さは、１．８９ｍｍ以上且つ２．２３ｍｍ以下である、請求項１乃至請求項９のいずれか一つのディスク装置。
11. 前記サスペンションが前記アンロード位置に位置するとき、前記第２の回転軸の径方向において、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記磁気ヘッドの端は、前記第２の回転軸の径方向の内側における前記突出部の端と、前記複数の磁気ディスクと、の間に位置する、請求項１乃至請求項１０のいずれか一つのディスク装置。
    

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