CN115841826A - 盘装置 - Google Patents

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CN115841826A
CN115841826A CN202210132963.1A CN202210132963A CN115841826A CN 115841826 A CN115841826 A CN 115841826A CN 202210132963 A CN202210132963 A CN 202210132963A CN 115841826 A CN115841826 A CN 115841826A
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冢田伸治
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Toshiba Electronic Devices and Storage Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Devices and Storage Corp
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Abstract

本公开提供即使突出部被设定得薄也能够抑制斜坡的制造变得困难的盘装置。一个实施方式的盘装置具备磁盘、磁头、斜坡及悬架。所述悬架具有设置于负载梁的滑动部，在加载位置与卸载位置之间绕着第2旋转轴旋转。所述斜坡具有壁和突出部。所述壁具有在所述悬架位于所述卸载位置时支承所述滑动部的第1支承面。所述突出部具有在所述悬架位于所述卸载位置时朝向所述磁头的第2支承面和设置于所述壁与所述第2支承面之间的中间部。所述中间部具有第1部分和在第1旋转轴的轴向及所述第2旋转轴的径向上位于所述第1部分与所述第1支承面之间的第2部分。

Description

盘装置
本申请享受以日本专利申请2021-154721号(申请日：2021年9月22日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及盘装置。
背景技术
硬盘驱动器(HDD)这样的盘装置例如具有磁盘、磁头、悬架及斜坡。磁头保持于悬架。悬架在磁头位于磁盘的表面上的加载位置与该悬架保持于斜坡的卸载位置之间旋转。
斜坡例如具有壁和从该壁突出并且配置于卸载位置处的两个磁头之间的突出部。突出部抑制该两个磁头互相抵接。
发明内容
若在盘装置中磁盘的数量增加，则一般来说，相邻的磁盘之间的间隔变短。若根据该间隔而突出部的厚度被设定得薄，则斜坡的制造可能会变得困难。
本发明要解决的课题的一例是提供即使突出部被设定得薄也能够抑制斜坡的制造变得困难的盘装置。
一个实施方式的盘装置具备多个磁盘、磁头、斜坡及悬架。所述磁盘分别具有记录面，能够绕着与所述记录面交叉的第1旋转轴旋转。所述磁头构成为对所述记录面读写信息。所述斜坡与所述第1旋转轴间隔开。所述悬架具有在第2旋转轴的径向上延伸的负载梁、设置于所述第2旋转轴的径向的外侧的所述负载梁的端部的滑动部、安装于所述负载梁的挠性件及在所述第2旋转轴的径向上的所述滑动部与所述第2旋转轴之间设置于所述挠性件并且保持所述磁头的保持部，构成为在所述滑动部与所述斜坡间隔开并且所述磁头位于所述记录面上的加载位置与所述滑动部保持于所述斜坡的卸载位置之间绕着所述第2旋转轴旋转。所述斜坡具有壁和从所述壁向所述第2旋转轴的径向的内侧突出的突出部。所述壁具有在所述悬架位于所述卸载位置时支承所述滑动部的第1支承面。所述突出部具有在所述第1旋转轴的轴向上与所述第1支承面间隔开并且在所述悬架位于所述卸载位置时朝向所述磁头的第2支承面和在所述第2旋转轴的径向上设置于所述壁与所述第2支承面之间的中间部。在所述悬架位于所述卸载位置时，在所述第1旋转轴的轴向上，所述第2旋转轴的径向的外侧的所述挠性件的端部与所述突出部之间的距离比所述磁头与所述第2支承面之间的距离长。所述中间部具有在所述第1旋转轴的轴向上位于所述第1支承面与所述第2支承面之间的第1部分和在所述第1旋转轴的轴向上位于所述第1部分与所述第1支承面之间并且在所述第2旋转轴的径向上位于所述第1部分与所述第1支承面之间的第2部分。
附图说明
图1是示出一个实施方式的硬盘驱动器(HDD)的例示性的立体图。
图2是示出上述实施方式的致动器组件的一部分及斜坡加载机构的一部分的例示性的剖视图。
图3是示出上述实施方式的斜坡加载机构的例示性的立体图。
图4是示出上述实施方式的悬架的一部分及斜坡的一部分的例示性的剖视图。
附图标记说明
10…硬盘驱动器(HDD)，12…磁盘，12a…记录面，14…磁头，14b…流入端，14c…流出端，37…头悬架组件(悬架)，42…负载梁，43…挠性件，43a…端部，45…升降突片，46…万向节部，53…斜坡，61…升降器，62…限制器，71…保持面，71a…端缘，81…端面，82…承受面，82a、82b…端缘，83…承受面，84…中间部，87…斜面，87a…端缘，88…斜面，Ax1…第1旋转轴，Ax2…第2旋转轴，Do…外方向，Di…内方向，P1…第1部分，P2…第2部分，L1…间隔，L2…长度，L3…厚度，L4～L9…距离，θ…角度，VP…假想面。
具体实施方式
以下，关于一个实施方式，参照图1～图4来进行说明。此外，在本说明书中，实施方式的构成要素及该要素的说明有时用多个表述来记载。构成要素及其说明是一例，不由本说明书的表述来限定。构成要素也能够通过与本说明书中的名称不同的名称来确定。另外，构成要素也能够通过与本说明书的表述不同的表述来说明。
图1是示出一个实施方式的硬盘驱动器(HDD)10的例示性的立体图。HDD10是盘装置的一例，也能够被称作电子设备、存储装置、外部存储装置或磁盘装置。
如各附图所示，在本说明书中，为了方便而定义X轴、Y轴及Z轴。X轴、Y轴及Z轴互相正交。X轴沿着HDD10的宽度设置。Y轴沿着HDD10的长度设置。Z轴沿着HDD10的厚度设置。
而且，在本说明书中，定义X方向、Y方向及Z方向。X方向是沿着X轴的方向，包括X轴的箭头所示的+X方向和X轴的箭头的相反方向即-X方向。Y方向是沿着Y轴的方向，包括Y轴的箭头所示的+Y方向和Y轴的箭头的相反方向即-Y方向。Z方向是沿着Z轴的方向，包括Z轴的箭头所示的+Z方向和Z轴的箭头的相反方向即-Z方向。
如图1所示，HDD10具有壳体11、多个磁盘12、主轴马达13、多个磁头14、致动器组件15、音圈马达(VCM)16、斜坡加载机构17及柔性印制布线板(FPC)18。磁头14也能够被称作滑块。
壳体11形成为在Y方向上延伸并且向+Z方向开放的大致长方体的箱状。壳体11具有底壁21和周壁22。底壁21形成为沿着X-Y平面扩展的大致矩形(四边形)的板状。周壁22从底壁21的边缘向大致+Z方向突出，形成为大致矩形的框状。底壁21和周壁22例如由铝合金这样的金属材料制成，一体形成。
在壳体11的内部设置向+Z方向开放的内室25。内室25例如由底壁21和周壁22形成(规定、区划)。因而，周壁22包围着内室25。内室25例如由安装于壳体11的盖大致气密地堵住。
在内室25填充与空气不同的气体。例如，与空气相比密度低的低密度气体、反应性低的惰性气体等向内室25填充。在本实施方式中，氦向内室25填充。此外，也可以是其它的流体向内室25填充。另外，内室25也可以被保持为真空、接近真空的低压或比大气压低的负压。
多个磁盘12形成为沿着X-Y平面扩展的圆盘状。磁盘12的直径例如是3～4英寸。在本实施方式中，磁盘12的直径是约3.5英寸。此外，磁盘12的直径不限于该例子。多个磁盘12分别例如具有至少一个记录面12a和外缘12b。
记录面12a设置于磁盘12的上表面及下表面中的至少一方。换言之，多个记录面12a分别是朝向大致+Z方向的磁盘12的表面或朝向大致-Z方向的磁盘12的表面。
记录面12a是沿着X-Y平面扩展的大致平坦的面。在记录面12a设置磁盘12的磁记录层。此外，也可以在记录面12a的一部分不设置磁记录层。外缘12b是磁盘12的外周面。
多个磁盘12在Z方向上隔着间隔地重叠。主轴马达13具有支承多个磁盘12的轴毂。多个磁盘12例如由夹持弹簧保持于主轴马达13的轴毂。
图2是示出本实施方式的致动器组件15的一部分及斜坡加载机构17的一部分的例示性的剖视图。在本实施方式中，HDD10具有10张以上的磁盘12。如图2示意性地表示，多个磁盘12之间的间隔L1为1.482mm以下，且比0mm长。在本实施方式中，间隔L1为约1.482mm。此外，磁盘12的数量及间隔L1不限于该例子。
图1的主轴马达13使多个磁盘12绕着第1旋转轴Ax1旋转。第1旋转轴Ax1是在大致Z方向上延伸的假想的轴。即，第1旋转轴Ax1在与记录面12a正交(交叉)的方向上延伸。
第1旋转轴Ax1是主轴马达13的旋转的中心，也是磁盘12及主轴马达13的轴毂的中心轴。此外，磁盘12的中心轴及主轴马达13的轴毂的中心轴也可以与主轴马达13的旋转的中心不同。
磁头14对磁盘12的记录面12a进行信息的记录及再现。换言之，磁头14对磁盘12的记录面12a读写信息。磁头14搭载于致动器组件15。
致动器组件15以能够旋转的方式支承于配置在与磁盘12间隔开的位置的支承轴31。支承轴31例如从壳体11的底壁21向大致+Z方向延伸。
致动器组件15能够绕着与第1旋转轴Ax1间隔开的第2旋转轴Ax2旋转。第2旋转轴Ax2是在大致Z方向上延伸的假想的轴。因而，第1旋转轴Ax1和第2旋转轴Ax2大致平行地配置。第2旋转轴Ax2例如是致动器组件15的旋转的中心，也是支承轴31的中心轴。
在本说明书中，定义轴向、径向及周向。轴向是沿着第1旋转轴Ax1及第2旋转轴Ax2这样的假想的轴的方向，包括沿着该轴的一个方向及另一个方向。径向是与该轴正交的方向，包括与该轴正交的多个方向。周向是绕着该轴旋转的方向，包括绕着该轴顺时针旋转的方向和逆时针旋转的方向。
如上所述，第1旋转轴Ax1和第2旋转轴Ax2大致平行地在大致Z方向上延伸，相互间隔开。即，第1旋转轴Ax1的轴向及第2旋转轴Ax2的轴向是Z方向。第1旋转轴Ax1从第2旋转轴Ax2在该第2旋转轴Ax2的径向上间隔开。
VCM16使致动器组件15绕着第2旋转轴Ax2旋转，将致动器组件15配置于期望的位置。若通过由VCM16实现的致动器组件15的旋转而磁头14移动到磁盘12的最外周，则斜坡加载机构17将磁头14保持于与磁盘12间隔开的位置。
致动器组件15具有致动器块35、多个臂36及多个头悬架组件(悬架)37。悬架37也能够被称作头万向节组件(HGA)。
致动器块35例如经由轴承而以能够旋转的方式支承于支承轴31。多个臂36从致动器块35向第2旋转轴Ax2的径向突出。此外，也可以是，致动器组件15被分割，臂36从多个致动器块35的各致动器块35突出。
多个臂36在第2旋转轴Ax2的轴向上隔着间隔而配置。臂36分别形成为能够进入到相邻的磁盘12之间的间隙的板状。多个臂36大致平行地延伸。
致动器块35及多个臂36例如由铝一体形成。此外，致动器块35及臂36的材料不限于该例子。
在从致动器块35向臂36的相反侧突出的突起设置VCM16的音圈。VCM16具有一对磁轭、配置于该磁轭之间的音圈及设置于磁轭的磁铁。
如上所述，VCM16使致动器组件15绕着第2旋转轴Ax2旋转。换言之，VCM16使致动器块35、臂36及悬架37绕着第2旋转轴Ax2一体地旋转(移动)。
悬架37安装于对应的臂36的前端部分，从该臂36突出。由此，多个悬架37在第2旋转轴Ax2的轴向上隔着间隔而配置。多个悬架37分别具有基片41、负载梁42及挠性件43。
基片41及负载梁42例如由不锈钢制成。此外，基片41及负载梁42也可以由其它的材料制成，还可以由互相不同的材料制成。
基片41形成为板状，安装于臂36的前端部。负载梁42安装于基片41的前端部，从基片41向第2旋转轴Ax2的径向突出。换言之，负载梁42在第2旋转轴Ax2的径向上延伸。
负载梁42比基片41薄，形成为沿着X-Y平面扩展的板状。即，负载梁42呈悬臂梁状地支承于基片41，能够以安装于基片41的一方的端部为支点而挠曲。
如图2所示，定义内方向Di和外方向Do。内方向Di和外方向Do包含于径向。内方向Di是第2旋转轴的径向的内侧的一例。外方向Do是第2旋转轴的径向的外侧的一例。内方向Di是与第2旋转轴Ax2正交且朝向第2旋转轴Ax2的方向。外方向Do是内方向Di的相反方向。
负载梁42具有升降突片(lift tab)45。升降突片45是滑动部的一例。升降突片45设置于外方向Do的负载梁42的端部。另外，升降突片45位于外方向Do的致动器组件15的端部。因而，升降突片45从第2旋转轴Ax2向该第2旋转轴Ax2的径向间隔开。
挠性件43形成为细长的带状。此外，挠性件43的形状不限于该例子。挠性件43例如是具有不锈钢等金属板(衬里层)、形成在金属板上的绝缘层、形成在绝缘层上且具有多个布线(布线图案)的导电层及覆盖导电层的保护层(绝缘层)的层叠板。
挠性件43安装于基片41及负载梁42。挠性件43具有位于负载梁42上的万向节部(弹性支承部)46、第1安装部47及第2安装部48。万向节部46是保持部的一例。
万向节部46在Z方向上位于负载梁42与对应的磁盘12的记录面12a之间。在万向节部46搭载磁头14。换言之，万向节部46保持磁头14。挠性件43与磁头14电连接。
万向节部46例如以能够位移且能够摆动的方式支承于设置在负载梁42的大致半球状的突起49。因而，磁头14能够与万向节部46一起位移及摆动。
万向节部46在第2旋转轴Ax2的径向上的升降突片45与第2旋转轴Ax2之间设置于挠性件43。因而，磁头14也在第2旋转轴Ax2的径向上位于升降突片45与第2旋转轴Ax2之间。
若负载梁42挠曲以使得升降突片45在Z方向上位移，则万向节部46及磁头14也在Z方向上位移。此外，万向节部46及磁头14的位移也可以不完全跟随升降突片45的位移。例如，万向节部46及磁头14的位移也可以相对于升降突片45的位移延迟地产生。另外，例如，在升降突片45在预定的范围内位移的情况下，也可以不产生万向节部46及磁头14的位移。
第1安装部47在第2旋转轴Ax2的径向上位于万向节部46与第2旋转轴Ax2之间。第2安装部48在第2旋转轴Ax2的径向上位于升降突片45与万向节部46之间。第1安装部47及第2安装部48例如通过粘接剂而安装于负载梁42。
图1的FPC18的一方的端部连接于挠性件43。FPC18的另一方的端部例如经由设置于壳体11的连接器而连接于配置在壳体11的外部的基板。在该基板例如搭载控制HDD10的整体的控制器和连接于主机的接口连接器。该基板经由FPC18及挠性件43而与磁头14电连接。
斜坡加载机构17配置于从第1旋转轴Ax1向该第1旋转轴Ax1的径向间隔开的位置。而且，斜坡加载机构17从第2旋转轴Ax2向该第2旋转轴Ax2的径向间隔开。
图3是示出本实施方式的斜坡加载机构17的例示性的立体图。如图3所示，斜坡加载机构17具有基部51、安装部52及多个斜坡53。
基部51、安装部52及斜坡53由例如聚甲醛(POM)这样的合成树脂一体地制成。此外，基部51、安装部52及斜坡53也可以分别制成。
基部51形成为在第2旋转轴Ax2的周向上扩展的大致板状。基部51具有侧面51a。侧面51a在第2旋转轴Ax2的周向上延伸，朝向内方向Di。安装部52从基部51向外方向Do突出，例如安装于壳体11的底壁21。
多个斜坡53从基部51的侧面51a向内方向Di突出。多个斜坡53分别与向一个磁盘12的两个记录面12a读写信息的两个磁头14和使该磁头14移动的两个致动器组件15对应地设置。因而，多个斜坡53在Z方向上隔着间隔而排列。
斜坡53位于对应的磁盘12的外缘12b的附近。磁盘12的外缘12b例如向设置于斜坡53的槽55插入。因而，斜坡53覆盖对应的磁盘12的记录面12a的一部分。
斜坡53具有升降器(lifter)61和限制器62。升降器61是壁的一例。限制器62是突出部的一例。升降器61从基部51的侧面51a向内方向Di突出。如图2所示，升降器61具有两个保持面71、72和侧面73。保持面71是第1支承面的一例。
保持面71在第2旋转轴Ax2的周向上延伸，朝向大致+Z方向。保持面72位于保持面71的相反侧，朝向大致-Z方向。侧面73在内方向Di的保持面71的端缘71a与内方向Di的保持面72的端缘72a之间延伸。侧面73在第2旋转轴Ax2的周向上延伸，朝向内方向Di。此外，保持面71、72及侧面73不限于该例子。
保持面71、72能够在从外缘12b向第1旋转轴Ax1的径向间隔开的位置支承升降突片45。此外，保持面71、72也可以在第1旋转轴Ax1的径向上的外缘12b的内侧保持升降突片45。
在磁头14不对磁盘12读写信息时(卸载时)，如上所述，升降突片45支承于斜坡53的保持面71或保持面72。换言之，在卸载时，升降突片45配置于从磁盘12的外缘12b向第1旋转轴Ax1的径向间隔开的位置。此外，卸载时的升降突片45也可以位于第1旋转轴Ax1的径向上的外缘12b的内侧。换言之，卸载时的升降突片45也可以在第1旋转轴Ax1的轴向(Z方向)上与记录面12a重叠。
另一方面，在磁头14对磁盘12读写信息时(加载时)，升降突片45基本上与磁头14一起位于磁盘12的记录面12a上。换言之，在加载时，记录面12a隔着间隔而面对升降突片45。此外，也可以是，在加载时，升降突片45的至少一部分配置于从记录面12a向第1旋转轴Ax1的径向间隔开的位置。
升降突片45根据致动器组件15的转动而在记录面12a上的区域与保持于保持面71或保持面72的位置(原始位置)之间移动。在升降突片45保持于保持面71或保持面72时，磁头14在Z方向及第1旋转轴Ax1的径向上与磁盘12的记录面12a间隔开。此外，在升降突片45保持于保持面71或保持面72时，磁头14也可以在Z方向上与记录面12a重叠。
升降突片45根据致动器组件15的旋转而绕着第2旋转轴Ax2移动(旋转)。在本实施方式中，升降突片45的移动方向大体沿着第1旋转轴Ax1的径向。因而，升降突片45能够根据致动器组件15的转动而大体在第1旋转轴Ax1的径向上移动。
具体而言，升降突片45能够在第1旋转轴Ax1的附近与保持面71或保持面72上的位置之间在第2旋转轴Ax2的周向(第1旋转轴Ax1的径向)上移动。即，升降突片45能够在第2旋转轴Ax2的周向上向接近第1旋转轴Ax1且从保持面71或保持面72远离的方向和从第1旋转轴Ax1远离且接近保持面71或保持面72的方向移动。
包括悬架37的致动器组件15能够在加载位置与卸载位置之间绕着第2旋转轴Ax2旋转。加载位置及卸载位置是绕着第2旋转轴Ax2的角度(位置)。
在加载时，悬架37位于加载位置。即，在悬架37位于加载位置时，磁头14位于磁盘12的记录面12a上，升降突片45与保持面71、72间隔开。此外，在以下的说明中，悬架37位于加载位置时的磁头14的绕着第2旋转轴Ax2的位置也能够被称作加载位置。另外，加载位置不限于一个位置，包括磁头14位于记录面12a上的多个位置。
另一方面，在卸载时，悬架37位于卸载位置。即，在悬架37位于卸载位置时，升降突片45保持于斜坡53的保持面71或保持面72，以使得磁头14与记录面12a间隔开。在卸载位置处，升降突片45也可以向设置于保持面71、72的凹部嵌入，由斜坡53限制移动。此外，在以下的说明中，悬架37位于卸载位置的情况下的磁头14的绕着第2旋转轴Ax2的位置也能够被称作卸载位置。
卸载位置处的磁头14在Z方向上与记录面12a间隔开。在加载位置处的磁头14与记录面12a之间也可能产生间隙。但是，在Z方向上，卸载位置的磁头14比加载位置的磁头14与记录面12a远离。
如图3所示，限制器62从升降器61的侧面73向内方向Di突出。在Z方向上，限制器62位于升降器61的两个保持面71、72的大致中央。此外，限制器62的位置不限于该例子。
限制器62形成为在第2旋转轴Ax2的周向上延伸的板状。在第2旋转轴Ax2的周向上，限制器62比升降器61短。此外，限制器62的长度不限于该例子。
图4是示出本实施方式的悬架37的一部分及斜坡53的一部分的例示性的剖视图。图4所示的第2旋转轴Ax2的径向上的限制器62的长度L2为1.89mm以上且2.23mm以下。在本实施方式中，长度L2例如为约2.06mm。此外，长度L2不限于该例子。
限制器62具有端面81、两个承受面82、83及中间部84。端面81是第2旋转轴的径向的内侧的突出部的端缘的一例。承受面82是第2支承面的一例。承受面83是第3支承面的一例。
端面81设置于内方向Di的限制器62的端缘。端面81大体朝向内方向Di。此外，端面81也可以朝向其它方向。承受面82从+Z方向的端面81的端缘向外方向Do延伸。承受面83从-Z方向的端面81的端缘向外方向Do延伸。因而，承受面83位于承受面82的相反侧。
承受面82形成为大致平坦，朝向大致+Z方向。承受面82在Z方向上从保持面71向-Z方向间隔开。承受面82在对应的悬架37位于卸载位置时，隔着间隔而朝向对应的磁头14的ABS(air bearing surface：空气支承面)14a。ABS14a是在磁头14位于加载位置时朝向磁盘12的记录面12a的磁头14的表面。
承受面83形成为大致平坦，朝向大致-Z方向。如图2所示，承受面83在Z方向上从保持面72向+Z方向间隔开。承受面83在对应的悬架37位于卸载位置时，隔着间隔而朝向对应的磁头14的ABS14a。
承受面82和承受面83大致平行地延伸。在第2旋转轴Ax2的径向上，承受面82的长度和承受面83的长度大致相等。此外，承受面82、83不限于该例子。
图4所示的承受面82与承受面83之间的距离即厚度L3为0.1mm以上且0.55mm以下。在本实施方式中，厚度L3例如为约0.22mm。此外，厚度L3不限于该例子。
在悬架37位于卸载位置时，磁头14的流入端14b位于比端面81在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。流入端14b是内方向Di的磁头14的端缘。另外，在悬架37位于卸载位置时，流入端14b位于比内方向Di的承受面82的端缘82a及内方向Di的承受面83的端缘83a在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。
在悬架37位于卸载位置时，流入端14b与端面81之间的第2旋转轴Ax2的径向上的距离L4为0.15mm以上且0.19mm以下。在本实施方式中，距离L4例如为约0.17mm。此外，距离L4不限于该例子。
限制器62的端面81在第2旋转轴Ax2的径向上从磁盘12间隔开。在悬架37位于卸载位置时，在第2旋转轴Ax2的径向上，磁头14的流入端14b位于端面81与磁盘12之间。
如图2所示，限制器62配置于卸载位置的两个磁头14之间。在悬架37在Z方向上振动的情况下，承受面82、83有时会与对应的磁头14的ABS14a抵接。由此，限制器62能够抑制两个磁头14互相抵接。
ABS14a和承受面82、83形成为大致平坦，大致平行地配置。因而，ABS14a和承受面82、83能够在互相抵接时以更大的范围接触。
在悬架37振动的情况下，两个磁头14有时会以使流入端14b彼此接近的方式倾斜。限制器62被设定厚度L3及距离L4，以使得能够通过与磁头14抵接来抑制流入端14b彼此抵接。
如图4所示，端面81与承受面82的端缘82a的角部分被倒圆角，形成曲面85。另外，端面81与承受面83的端缘83a的角部分被倒圆角，形成曲面86。
曲面85、86在截面中形成大致圆弧状的边缘。形成有曲面85、86的限制器62能够抑制在与倾斜的磁头14抵接时损伤该磁头14。
在悬架37位于卸载位置时，磁头14的流出端14c位于比外方向Do的承受面82的端缘82b在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。流出端14c是外方向Do的磁头14的端缘。另外，在悬架37位于卸载位置时，磁头14的流出端14c位于比外方向Do的承受面83的端缘83b在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。
中间部84在第2旋转轴Ax2的径向上设置于升降器61与承受面82之间。中间部84具有两个斜面87、88。斜面87是第1倾斜面的一例。斜面88是第2倾斜面的一例。
斜面87连接于承受面82的端缘82b和升降器61的侧面73。斜面87相对于承受面82倾斜地延伸。具体而言，斜面87在外方向Do与对应的磁盘12的记录面12a朝向的方向(+Z方向)之间的方向上延伸。因而，在斜面87中，越是第2旋转轴Ax2的径向上的更靠外侧的部分，则在Z方向上距保持面71越近。
例如，斜面87具有第1部分P1和第2部分P2。第1部分P1是斜面87的一部分。因而，第1部分P1在Z方向上位于保持面71与承受面82之间。
第2部分P2是斜面87的另外的一部分。第2部分P2在第2旋转轴Ax2的径向上位于比第1部分P1靠外侧处。因而，在第2旋转轴Ax2的径向上，第2部分P2位于第1部分P1与保持面71之间。而且，第2部分P2在Z方向上位于第1部分P1与保持面71之间。
斜面88位于斜面87的相反侧。斜面88连接于承受面83的端缘83b和升降器61的侧面73。斜面88相对于承受面83倾斜地延伸。具体而言，斜面88在外方向Do与对应的磁盘12的记录面12a朝向的方向(-Z方向)之间的方向上延伸。因而，在斜面88中，越是第2旋转轴Ax2的径向上的更靠外侧的部分，则在Z方向上距保持面72越近。
斜面87和斜面88以朝向内方向Di变得尖细的方式延伸。换言之，斜面87和斜面88以朝向内方向Di互相接近的方式倾斜地延伸。
承受面82与斜面87之间的角度θ为170°以下，且为假想面VP与承受面82之间的角度以上。假想面VP是在保持面71的端缘71a与承受面82的端缘82b之间延伸的假想的平面。在本实施方式中，角度θ例如为约169°。此外，角度θ不限于该例子。
承受面83与斜面88之间的角度与角度θ大致相等。因而，限制器62在Z方向上形成为镜面对称。此外，承受面83与斜面88之间的角度也可以与角度θ不同。
在Z方向上，外方向Do的斜面87的端缘87a比承受面82距保持面71近。端缘87a是第2旋转轴的径向的外侧的中间部的端缘的一例。另外，在Z方向上，外方向Do的斜面88的端缘88a比承受面83距保持面72近。
根据以上，在限制器62中，升降器61和中间部84连接的部分处的截面积比限制器62的前端(端面81)处的截面积大。该截面积是与限制器62延伸的方向正交的截面的面积。换言之，限制器62中的与升降器61连接的一方的端部比另一方的端部粗。
中间部84也可以取代斜面87、88而具有能够具有第1部分及第2部分的其它的表面。例如，中间部84也可以取代斜面87、88而具有两级以上的台阶状的表面。第1部分位于台阶状的表面中的更低的级。第2部分位于台阶状的表面中的更高的级。
在Z方向上，斜面87的端缘87a与保持面71之间的距离L5比斜面87的端缘87a与承受面82之间的距离L6长。在本实施方式中，距离L5例如为约0.60mm。距离L6例如为约0.1875mm。由于限制器62的形状是镜面对称，所以Z方向上的中间部84的最大的厚度为约0.545mm。此外，距离L5、L6不限于该例子。
在悬架37位于卸载位置时，斜面87隔着间隔而朝向外方向Do的挠性件43的端部43a。端部43a也能够被称作TE限制器。
在悬架37位于卸载位置时，在Z方向上，挠性件43的端部43a与限制器62之间的距离L7比磁头14与承受面82之间的距离L8长。因而，在悬架37在Z方向上振动而磁头14与承受面82抵接时，挠性件43的端部43a从限制器62间隔开。
磁头14的流出端14c与承受面82的端缘82b之间的第2旋转轴Ax2的径向上的距离L9为0mm以上。在本实施方式中，距离L9例如为0.16mm。此外，距离L9不限于该例子。距离L9也是流出端14c与中间部84之间的第2旋转轴Ax2的径向上的距离。
在第2旋转轴Ax2的径向上，第2旋转轴Ax2与端面81之间的距离例如为约46.97mm。在第2旋转轴Ax2的径向上，第2旋转轴Ax2与承受面82的端缘82b之间的距离例如为约48.33mm。因而，端面81与承受面82的端缘82b之间的第2旋转轴Ax2上的距离为约1.36mm。在第2旋转轴Ax2上，第2旋转轴Ax2与侧面73之间的距离例如为49.03mm。此外，以上的尺寸是一例。
斜坡加载机构17例如通过注塑成型而制造。在注塑成型时，在模具的腔室中，材料从升降器61朝向限制器62的前端的端面81流动。即，材料从形成升降器61的宽广的空间向形成限制器62的狭窄的空间流动。
例如，在限制器62薄且具有一定的厚度的情况下，材料难以流入至形成限制器62的空间的深处。但是，在本实施方式中，中间部84从升降器61的侧面73以变得尖细的方式延伸。因而，中间部84容易使材料从形成升降器61的空间向形成中间部84的空间流入。
由于限制器62的一部分是中间部84，所以与限制器62的厚度一定的情况相比，材料容易流入至形成限制器62的空间的深处。因此，本实施方式的斜坡加载机构17能够抑制产生注塑成型中的制造不良。此外，斜坡加载机构17也可以通过其它的制造方法来制造。
在以上说明的本实施方式的HDD10中，悬架37具有负载梁42、升降突片45、挠性件43及万向节部46。负载梁42在第2旋转轴Ax2的径向上延伸。升降突片45设置于外方向Do的负载梁42的端部。挠性件43安装于负载梁42。万向节部46在第2旋转轴Ax2的径向上的升降突片45与第2旋转轴Ax2之间设置于挠性件43，并且保持磁头14。悬架37在升降突片45从斜坡53间隔开并且磁头14位于记录面12a上的加载位置与升降突片45保持于斜坡53的卸载位置之间绕着第2旋转轴Ax2旋转。斜坡53具有升降器61和从该升降器61向内方向Di突出的限制器62。升降器61具有在悬架37位于卸载位置时支承升降突片45的保持面71。限制器62具有承受面82和中间部84。承受面82在Z方向上从保持面71间隔开，并且在悬架37位于卸载位置时朝向磁头14。中间部84在第2旋转轴Ax2的径向上设置于升降器61与承受面82之间。在悬架37位于卸载位置时，在Z方向上，外方向Do的挠性件43的端部43a与限制器62之间的距离L7比磁头14与承受面82之间的距离L8长。在悬架37在Z方向上进行了振动的情况下，限制器62以承受面82与磁头14抵接，但难以与挠性件43的端部43a抵接。本实施方式的限制器62能够省略在悬架37进行了振动时接受挠性件43的端部43a的部分。因而，本实施方式的斜坡53能够减薄限制器62，进而，即使在多个磁盘12之间的间隔L1窄的情况下也能够具有限制器62。另一方面，在限制器62薄的情况下，例如在注塑成型中，可能会难以将材料供给至限制器62的前端(端面81)。但是，在本实施方式中，中间部84具有在Z方向上位于保持面71与承受面82之间的第1部分P1和在Z方向上位于第1部分P1与保持面71之间并且在第2旋转轴Ax2的径向上位于第1部分P1与保持面71之间的第2部分P2。即，中间部84朝向具有保持面71的升降器61逐渐地或逐级地变粗。因此，本实施方式的HDD10能够例如在注塑成型中将材料容易地供给至限制器62的前端，进而，即使限制器62被设定得薄，也能够抑制斜坡53的制造变得困难。
中间部84具有连接于承受面82并且相对于承受面82倾斜地延伸的斜面87。斜面87具有第1部分P1及第2部分P2。即，中间部84朝向具有保持面71的升降器61逐渐变粗。因此，例如在注塑成型中，材料能够容易地被供给至限制器62的前端，进而斜坡53的制造变得容易。
限制器62还具有位于承受面82的相反侧的承受面83和连接于承受面83并且相对于承受面83倾斜地延伸的斜面88。斜面87和斜面88朝向内方向Di变得尖细。即，斜面87及斜面88朝向限制器62的前端变得尖细。因此，例如在注塑成型中，材料能够容易地被供给至限制器62的前端，进而斜坡53的制造变得容易。
在悬架37位于卸载位置时，磁头14的流入端14b位于比限制器62的端面81在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。由此，能够抑制在悬架37在Z方向上进行了振动时磁头14的流入端14b与限制器62碰撞。而且，限制器62的长度变得比较短，限制器62能够容易地形成。
在悬架37位于卸载位置时，磁头14的流出端14c位于比外方向Do的承受面82的端缘82b在第2旋转轴Ax2的径向上靠内侧处。由此，能够抑制在悬架37在Z方向上进行了振动时磁头14的流出端14c与中间部84碰撞。
在Z方向上，外方向Do上的中间部84的端缘87a与保持面71之间的距离L5比外方向Do上的中间部84的端缘87a与承受面82之间的距离L6长。由此，Z方向上的中间部84的大小变得比较小，能够抑制中间部84与悬架37干涉。
在以上的说明中，抑制例如被定义为防止事件、作用或影响的发生或者使事件、作用或影响的程度降低。另外，在以上的说明中，限制例如被定义为防止移动或旋转、或者在预定的范围内容许移动或旋转并且防止超过了该预定的范围的移动或旋转。
虽然说明了本发明的一些实施方式，但这些实施方式作为例子而提示，未意图限定发明的范围。这些新颖的实施方式能够以其它各种各样的方式来实施，能够在不脱离发明的主旨的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式和/或其变形包含于发明的范围、主旨，并且包含于权利要求书所记载的发明及其等同的范围。

Claims (11)

1.一种盘装置，具备：
多个磁盘，各磁盘具有记录面，能够绕着与所述记录面交叉的第1旋转轴旋转；
磁头，构成为对所述记录面读写信息；
斜坡，与所述第1旋转轴间隔开；及
悬架，具有在第2旋转轴的径向上延伸的负载梁、设置于所述第2旋转轴的径向的外侧的所述负载梁的端部的滑动部、安装于所述负载梁的挠性件及在所述第2旋转轴的径向上的所述滑动部与所述第2旋转轴之间设置于所述挠性件并且保持所述磁头的保持部，构成为在所述滑动部与所述斜坡间隔开并且所述磁头位于所述记录面上的加载位置与所述滑动部保持于所述斜坡的卸载位置之间绕着所述第2旋转轴旋转，
所述斜坡具有壁和从所述壁向所述第2旋转轴的径向的内侧突出的突出部，
所述壁具有在所述悬架位于所述卸载位置时支承所述滑动部的第1支承面，
所述突出部具有在所述第1旋转轴的轴向上与所述第1支承面间隔开并且在所述悬架位于所述卸载位置时朝向所述磁头的第2支承面和在所述第2旋转轴的径向上设置于所述壁与所述第2支承面之间的中间部，
在所述悬架位于所述卸载位置时，在所述第1旋转轴的轴向上，所述第2旋转轴的径向的外侧的所述挠性件的端部与所述突出部之间的距离比所述磁头与所述第2支承面之间的距离长，
所述中间部具有在所述第1旋转轴的轴向上位于所述第1支承面与所述第2支承面之间的第1部分和在所述第1旋转轴的轴向上位于所述第1部分与所述第1支承面之间并且在所述第2旋转轴的径向上位于所述第1部分与所述第1支承面之间的第2部分。
2.根据权利要求1所述的盘装置，
所述中间部具有连接于所述第2支承面并且相对于所述第2支承面倾斜地延伸的第1倾斜面，
所述第1倾斜面具有所述第1部分及所述第2部分。
3.根据权利要求2所述的盘装置，
所述突出部还具有位于所述第2支承面的相反侧的第3支承面和连接于所述第3支承面并且相对于所述第3支承面倾斜地延伸的第2倾斜面，
所述第1倾斜面和所述第2倾斜面以朝向所述第2旋转轴的径向的内侧变得尖细的方式延伸。
4.根据权利要求3所述的盘装置，
所述多个磁盘之间的距离为1.482mm以下，
所述第2支承面与所述第3支承面之间的距离为0.1mm以上且0.55mm以下。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的盘装置，
所述第2支承面与所述第1倾斜面之间的角度为170°以下，且为假想面与所述第2支承面之间的角度以上，所述假想面在所述第2旋转轴的径向的内侧的所述第1支承面的端缘与所述第2旋转轴的径向的外侧的所述第2支承面的端缘之间延伸。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，
在所述悬架位于所述卸载位置时，所述第2旋转轴的径向的内侧的所述磁头的端缘位于比所述第2旋转轴的径向的内侧的所述突出部的端缘在所述第2旋转轴的径向上靠内侧处。
7.根据权利要求6所述的盘装置，
在所述悬架位于所述卸载位置时，所述第2旋转轴的径向的内侧的所述磁头的端缘与所述第2旋转轴的径向的内侧的所述突出部的端缘之间的所述第2旋转轴的径向上的距离为0.15mm以上且0.19mm以下。
8.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，
在所述悬架位于所述卸载位置时，所述第2旋转轴的径向的外侧的所述磁头的端缘位于比所述第2旋转轴的径向的外侧的所述第2支承面的端缘在所述第2旋转轴的径向上靠内侧处。
9.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，
在所述第1旋转轴的轴向上，所述第2旋转轴的径向的外侧的所述中间部的端缘与所述第1支承面之间的距离比所述第2旋转轴的径向的外侧的所述中间部的端缘与所述第2支承面之间的距离长。
10.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，
所述第2旋转轴的径向上的所述突出部的长度为1.89mm以上且2.23mm以下。
11.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，
在所述悬架位于所述卸载位置时，在所述第2旋转轴的径向上，所述第2旋转轴的径向的内侧的所述磁头的端缘位于所述第2旋转轴的径向的内侧的所述突出部的端缘与所述多个磁盘之间。
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