JP2022533790A - 局所パターン密度に対する荷電粒子ビーム露光を判定するための方法とシステム - Google Patents
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Abstract
Description
この出願は、2019年5月24日に出願された「METHOD AND SYSTEM FOR DETERMINING A CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE FOR A LOCAL PATTERN DENSITY」と題された米国非仮特許出願第16/422,269号の利益を主張するものであり、これは全目的のために参照により組み込まれる。
いくつかの実施形態では、人工的バックグラウンド線量が、別段では低い後方散乱の領域に導入されて、ピクセルまたはショット線量を低減し、したがって全体的な書き込み時間を短縮する。結果として、ピクセルまたはショットはPEC後の線量が低くなり、マスクまたはマスクのセクションのピクセルまたはショットの線量の最大値が減少し、ステージの移動速度が増加し、それによって全体的な書き込み時間が大幅に短縮される。
人工的バックグラウンド線量は、レジスト閾値を下回る特定の線量レベルまで安全に追加できる。マシンの書き込み時間は、PEC後の最大線量によって異なる。指定された書き込み時間を確保する1つの方法は、PEC後の最大線量を制限し、それを超えるいずれの線量も切り捨てることである。ただし、線量を切り捨てると、印刷エラーが発生する可能性がある。本実施形態では、動的最大線量(DMD)と呼ばれ得る方法が説明され、ここでは、目標のPEC後の最大線量が選択され、PEC前の最大線量を判定するために使用される。計算は、パターン密度に基づいて動的に実行され、結果として得られるPEC後の線量は、選択された(目標の)PEC後の最大線量を超えないため、線量を切り捨てる必要がなくなる。いくつかの実施形態では、目標のPEC後の最大線量が入力される。図11は、例示的なシナリオとして50%の密度(すなわち、値0.5)での線空間パターンを使用して、目標のPEC後の最大線量を満たすためにPEC前の最大線量を計算する例を示している。この実施形態では、1.5のPEC前の最大線量1110は、従来のPEC方法に従って、1.07のPEC後の最大線量1120をもたらす。PEC前の最大線量1110からのPEC後の最大線量1120のこの計算は、図11の下向きの矢印によって示されている。1.5のPEC前の線量は、通常、それらの所望のサイズよりも大きいフィーチャを印刷するであろうが、そのような線量は、直線性補正を実行する方法として、小さなフィーチャに対して望ましい場合がある。いくつかの実施形態によれば、使用者は、PEC後の線量1.07が、書き込まれるすべてのパターン密度に対して十分であると決定し得、目標のPEC後の最大線量として線量1120(線量値1.07)を選択し得る。その結果、他のパターン密度(例えば、10%、20%など)の場合、図11の上向き矢印によって示されるように、選択されたPEC後の最大線量(つまり、目標のPEC後の最大線量となるPEC前の線量)に基づいて、PEC前の最大線量が、次いで計算される。目標のPEC後の最大線量に基づいている、また本実施形態に開示されるように書かれているパターン密度に合わせて調整されるPEC前の線量を計算することは、当技術分野で企図されてきていないが、PEC前とPEC後の線量との間の計算は、従来のPEC方法を使用して実行され得る。
図15は、人工的バックグラウンド線量が追加されたときの線量マージン対パターン密度のグラフである。パターン密度が30%などの特定の閾値を下回る領域1510に人工的バックグラウンド線量を追加することにより、図15に示すように許容可能な線量マージンを達成することができる。すなわち、線量マージンは、図15の領域1510において一定であり、これは、図14の同じ領域における変化する線量マージン対パターン密度に対する改善である。いくつかの実施形態では、人工的バックグラウンド線量を追加して、局所パターン密度を所望の閾値、例えば30%まで上昇させ、十分な線量マージンで最大25%の最大の線量の減少を可能にする。さらに、PEC前の最大線量が、製造変動に対する回復力のその他の測定値の中でも、限界寸法の均一性(CDU)とラインエッジの粗さ(LER)を増強するために計算される。CDUとLERの改善には、線量マージンの強化とマスクのフィーチャ全体での線量マージンの均一性の改善が含まれる。線量マージン(エッジの傾き)の増強は、本願の譲受人が所有し、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第8,473,875号「Method and System for Forming High Accuracy Patterns Using Charged Particle Beam Lithography」に開示されている。
Claims (14)
- 荷電粒子ビームシステムを使用して表面上の領域においてパターンを露光するための方法であって、
前記領域の元の露光情報のセットを入力することと、
目標の近接効果補正(PEC)後の最大線量を入力することであって、前記目標のPEC後の最大線量は、最大書き込み時間に基づく、前記最大線量を入力することと、
前記元の露光情報のセットに基づいて、前記領域の局所パターン密度を判定することと、
前記局所パターン密度に対するPEC前の最大線量を、前記目標のPEC後の最大線量に基づいて判定することと、
前記元の露光情報のセットを、前記PEC前の最大線量で変更し、変更された露光情報のセットを作成することと、を含む、前記方法。 - 前記変更された露光情報のセットがPECによって改良され、前記目標のPEC後の最大線量よりも少ない、調整された線量が得られる、請求項1に記載の方法。
- 前記領域の人工的バックグラウンド線量を判定することをさらに含み、前記人工的バックグラウンド線量が、閾値以下の露光を伴う付加的なパターンを含み、前記付加的なパターンが、前記変更された露光情報のセットと組み合わされる、請求項1に記載の方法。
- 前記人工的バックグラウンド線量が、前記表面上の前記パターンのエッジから所定の距離を超えてのみ適用される、請求項3に記載の方法。
- 前記元の露光情報のセットが複数の露光パスの情報を含み、前記人工的バックグラウンド線量が露光パスにのみ追加される、請求項3に記載の方法。
- 前記元の露光情報のセットに基づいて、前記領域の後方散乱を計算することをさらに含み、前記計算された後方散乱が所定の閾値未満である前記領域において、前記人工的バックグラウンド線量は、前記所定の閾値と前記計算された後方散乱との差異である、請求項3に記載の方法。
- 前記領域がパーティションに細分され、前記人工的バックグラウンド線量が各パーティションについて判定される、請求項3に記載の方法。
- 個々のパーティションの内部における任意の場所の前記人工的バックグラウンド線量が、前記パーティション全体に補間される、請求項7に記載の方法。
- 前記補間が、隣接するパーティションの前記人工的バックグラウンド線量に基づく、請求項8に記載の方法。
- マスク露光が、前記局所パターン密度の判定、前記PEC前の最大線量の判定、前記人工的バックグラウンド線量の判定、及び前記変更された露光情報のセットの作成からなる群から選択される1つまたは複数のステップについてインラインで実行される、請求項3に記載の方法。
- 目標線量マージンを入力することをさらに含み、前記目標線量マージンは、前記目標のPEC後の最大線量を判定するために使用される、請求項1に記載の方法。
- 露光される前記パターンの線量マージンを計算することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 所定の後方散乱領域での所定のパターンの所定のエッジ位置での目標最小線量マージンを計算することをさらに含み、
前記PEC前の最大線量が、前記目標最小線量マージンより下に露光される前記パターンの前記線量マージンを達成するように判定される、請求項12に記載の方法。 - 前記変更された露光情報のセットで前記表面を露光することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
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US11756765B2 (en) * | 2019-05-24 | 2023-09-12 | D2S, Inc. | Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density |
US10748744B1 (en) * | 2019-05-24 | 2020-08-18 | D2S, Inc. | Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density |
JP7549540B2 (ja) * | 2021-01-26 | 2024-09-11 | キオクシア株式会社 | 近接効果補正方法、原版製造方法および描画装置 |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4463265A (en) | 1982-06-17 | 1984-07-31 | Hewlett-Packard Company | Electron beam proximity effect correction by reverse field pattern exposure |
JP3192157B2 (ja) | 1990-09-17 | 2001-07-23 | 株式会社東芝 | 電子ビーム描画方法及び描画装置 |
KR950027933A (ko) | 1994-03-21 | 1995-10-18 | 김주용 | 위상반전 마스크 |
US5510214A (en) | 1994-10-05 | 1996-04-23 | United Microelectronics Corporation | Double destruction phase shift mask |
JP3334441B2 (ja) | 1995-08-01 | 2002-10-15 | ソニー株式会社 | フォトマスク描画用パターンデータ補正方法と補正装置 |
US5847959A (en) | 1997-01-28 | 1998-12-08 | Etec Systems, Inc. | Method and apparatus for run-time correction of proximity effects in pattern generation |
JP2000292907A (ja) | 1999-04-02 | 2000-10-20 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置及びレチクル |
JP3508617B2 (ja) | 1999-05-11 | 2004-03-22 | 株式会社日立製作所 | 電子線描画装置および電子線を用いた描画方法 |
KR100459697B1 (ko) | 2001-12-27 | 2004-12-04 | 삼성전자주식회사 | 가변적인 후방 산란 계수를 이용하는 전자빔 노광 방법 및이를 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체 |
US6872507B2 (en) | 2002-11-01 | 2005-03-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Radiation correction method for electron beam lithography |
US7030966B2 (en) * | 2003-02-11 | 2006-04-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method for optimizing an illumination source using photolithographic simulations |
EP1612834A1 (en) * | 2004-06-29 | 2006-01-04 | Leica Microsystems Lithography GmbH | A process for controlling the proximity effect correction |
US20080168419A1 (en) * | 2007-01-04 | 2008-07-10 | International Business Machines Corporation | Optical proximity correction improvement by fracturing after pre-optical proximity correction |
US20120219886A1 (en) * | 2011-02-28 | 2012-08-30 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with variable pattern dosage |
US8473875B2 (en) | 2010-10-13 | 2013-06-25 | D2S, Inc. | Method and system for forming high accuracy patterns using charged particle beam lithography |
US8057970B2 (en) * | 2008-09-01 | 2011-11-15 | D2S, Inc. | Method and system for forming circular patterns on a surface |
US8062813B2 (en) | 2008-09-01 | 2011-11-22 | D2S, Inc. | Method for design and manufacture of a reticle using a two-dimensional dosage map and charged particle beam lithography |
US8221939B2 (en) * | 2009-12-26 | 2012-07-17 | D2S, Inc. | Method and system for fracturing a pattern using charged particle beam lithography with multiple exposure passes having different dosages |
US8137871B2 (en) * | 2009-12-26 | 2012-03-20 | D2S, Inc. | Method and system for fracturing a pattern using charged particle beam lithography with multiple exposure passes which expose different surface area |
US8221940B2 (en) * | 2009-12-26 | 2012-07-17 | D2S, Inc. | Method and system for fracturing a pattern using charged particle beam lithography with multiple exposure passes |
US9612530B2 (en) * | 2011-02-28 | 2017-04-04 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
US9057956B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-16 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
US8745549B2 (en) * | 2012-02-05 | 2014-06-03 | D2S, Inc. | Method and system for forming high precision patterns using charged particle beam lithography |
JP2013219288A (ja) | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 露光方法および半導体装置の製造方法 |
US9343267B2 (en) | 2012-04-18 | 2016-05-17 | D2S, Inc. | Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography |
US9038003B2 (en) | 2012-04-18 | 2015-05-19 | D2S, Inc. | Method and system for critical dimension uniformity using charged particle beam lithography |
JP2013232531A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Canon Inc | 描画装置及び物品の製造方法 |
US8762900B2 (en) | 2012-06-27 | 2014-06-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for proximity correction |
JP6076708B2 (ja) * | 2012-11-21 | 2017-02-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの照射量チェック方法 |
KR102247563B1 (ko) * | 2014-06-12 | 2021-05-03 | 삼성전자 주식회사 | 전자빔을 이용한 노광 방법과 그 노광 방법을 이용한 마스크 및 반도체 소자 제조방법 |
EP3070528B1 (en) * | 2015-03-17 | 2017-11-01 | IMS Nanofabrication AG | Multi-beam writing of pattern areas of relaxed critical dimension |
JP2016225357A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
EP3121833A1 (en) * | 2015-07-20 | 2017-01-25 | Aselta Nanographics | A method of performing dose modulation, in particular for electron beam lithography |
US10444629B2 (en) * | 2016-06-28 | 2019-10-15 | D2S, Inc. | Bias correction for lithography |
US10522329B2 (en) * | 2017-08-25 | 2019-12-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus |
JP7126367B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-08-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
US10748744B1 (en) * | 2019-05-24 | 2020-08-18 | D2S, Inc. | Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density |
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