JP2022523330A - 溶融塩化学を用いた無機ナノ構造の合成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
定義
[0048] 他に定義されることがなければ、本明細書において使用されるすべての技術用語及び科学用語は、本発明が関係する当業者により一般的に理解される意味と同じ意味を有する。以下の定義は、当技術分野における定義を補うものであり、本出願を対象としており、あらゆる関連する場合又は関連しない場合、例えば、あらゆる共同所有される特許又は出願には帰属しない。本明細書に記載のものと類似又は同等のあらゆる方法及び材料を本発明の検証の実施に使用することができるが、好ましい材料及び方法が本明細書に記載される。したがって、本明細書に使用される用語は、特定の実施形態の説明のみを目的としており、限定を意図するものではない。
EQE=[注入効率]×[固体量子収率]×[抽出効率]
を用いて評価することができ、
ここで:
注入効率=デバイスを通過して活性領域中に注入される電子の比率であり;
固体量子収率=放射性である、したがってフォトンを生成する活性化領域中の全電子-正孔再結合の比率であり;
抽出効率=活性化領域中で生成されデバイスから放出されるフォトンの比率である。
[0070] 種々のナノ構造のコロイド合成方法が当技術分野において周知である。このような方法は、例えば結果として得られるナノ構造のサイズ及び/又は形状の分布を制御するために、ナノ構造の成長を制御するための技術を含む。
[0079] InPナノ構造の製造方法及びリガンド交換が開示される。InPナノ構造は、以下に記載のように(例えば、実施例の「緑色発光コア/シェルドット用のInPコアの合成」及び「赤色発光コア/シェルドット用のInPコアの合成」と題される項を参照されたい)又は当技術分野において周知のように(例えば、米国特許第7,557,028号、米国特許第8,062,967号、米国特許第7,645,397号、米国特許出願公開第2010/0276638号(例えば、実施例7)、及び米国特許出願公開第2014/0001405号、並びに前述の参考文献を参照されたい)製造することができる。InPナノ構造は、本質的にあらゆる所望のサイズであってよい。例えば、InPナノ構造は約1nm~約5nmの平均直径を有することができる。サイズは当技術分野において周知のように求めることができ、例えば、透過電子顕微鏡及び/又は物理的モデリングを用いて求めることができる。幾つかの実施形態では、InPナノ構造の直径は、約1nm~約5nm、約1nm~約4nm、約1nm~約3nm、約1nm~約2nm、約2nm~約5nm、約2nm~約4nm、約2nm~約3nm、約3nm~約5nm、約3nm~約4nm、又は約4nm~約5nmである。幾つかの実施形態では、InPナノ構造の直径は約3nmである。
[0084] In(1-x)GaxPナノ構造の製造方法が開示される。InPナノ構造を溶融塩中に分散させ、ガリウム源と反応させることで、合金化したIn(1-x)GaxPナノ構造が形成され、ここで0<x<1である。幾つかの実施形態では、溶融塩は共融混合物を含む。
[0100] 幾つかの実施形態では、本発明のナノ構造は、コアと、コアの上に配置された少なくとも1つのシェルとを含む。シェルは、例えば、ナノ構造の量子収率及び/又は安定性を増加させることができる。幾つかの実施形態では、本発明のナノ構造は、コア及び少なくとも2つのシェルを含む。幾つかの実施形態では、コアとシェルとは異なる材料を含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、異なるシェル材料の複数のシェルを含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、コアの上に配置された第1のシェルと、第1のシェルの上に配置された第2のシェルとを含む2つのシェルを含む。幾つかの実施形態では、第1のシェルはZnSeを含む。幾つかの実施形態では、第2のシェルは、ZnS、ZnO、ZnSe、ZnTe、MgS、MgO、MgSe、MgTe、又はそれらの組み合わせを含むII-VI族半導体材料を含む。幾つかの実施形態では、第2のシェルはZnSを含む。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのシェルは、CdS、CdSe、CdO、CdTe、ZnS、ZnO、ZnTe、MgTe、GaAs、GaSb、GaN、HgO、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InSb、InN、AlAs、AlN、AlSb、AlS、PbS、PbO、PbSe、PbTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、Ge、Si、又はそれらの組み合わせをさらに含む。
[0123] 幾つかの実施形態では、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnS(コア/シェル/シェル)ナノ構造の製造方法であって:(a)In(1-x)GaxPナノ構造を含むコアを提供することと;(b)(a)におけるIn(1-x)GaxPナノ構造を第1の亜鉛源及びセレン源と混合することと;(c)(b)における混合物を第2の亜鉛源及び硫黄源と混合して、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSコア/シェル/シェルナノ構造を得ることとを含む製造方法が提供される。
[0127] 幾つかの実施形態では、コアナノ構造の上に堆積される第1のシェルはZnSeシェルである。
[0134] 幾つかの実施形態では、コア又はコア/シェルナノ構造の上に堆積されるシェルはZnSシェルである。幾つかの実施形態では、ZnSシェルはMgと合金化されてZnMgSが形成される。
[0142] 幾つかの実施形態では、コア/シェルナノ構造は、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSコア/シェル/シェルナノ構造である。幾つかの実施形態では、コア/シェル(s)ナノ構造は、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSコア/シェル/シェル量子ドットである。幾つかの実施形態では、コア/シェルナノ構造は、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSeSコア/シェル/シェルナノ構造である。幾つかの実施形態では、コア/シェルナノ構造は、In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSeSコア/シェル/シェル量子ドットである。
[0150] 幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含むナノ構造層であって、ナノ構造がIn(1-x)GaxPコア(ここで0<x<1である)と、少なくとも1つのシェルとを含み、ナノ構造層のOD450/全質量が約0.5~約1であるナノ構造層を提供する。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのシェルはZnSe及びZnS(又はZnSeS)を含む。
[0152] 幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含む成形物品であって、ナノ構造が、In(1-x)GaxPコアと少なくとも1つのシェルとを含み、ナノ構造のOD450/全質量が約0.5~約1である成形物品を提供する。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのシェルはZnSe及びZnS(又はZnSeS)を含む。
[0160] 幾つかの実施形態では、ナノ構造層は、ポリマーマトリックス中に埋め込まれてよい。本明細書において使用される場合、「埋め込まれる」という用語は、マトリックスの成分の大部分を構成するポリマーで、ナノ構造集団が取り囲まれる又は包み込まれることを示すために使用される。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのナノ構造集団は、適切には、マトリックス全体にわたって均一に分布する。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのナノ構造集団は、用途に特異的な分布により分布する。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、ポリマー中に混合され、基板の表面に塗布される。
[0163] 幾つかの実施形態では、スピンコーティングを用いてナノ構造組成物が基板上に堆積される。スピンコーティングでは、典型的には、スピナーと呼ばれる機械の上に搭載され真空によって固定される基板の中央の上に少量の材料が配置される。スピナーによって基板が高速回転し、それによって向心力が生じることで、基板の中央から端部へ材料が広がる。ほとんどの材料は振り落とされるが、ある量は基板上に残存し、回転を続けると表面上に材料の薄い膜が形成される。膜の最終厚さは、回転速度、加速、及び回転時間などのスピンプロセスのために選択したパラメーターに加えて、堆積される材料及び基板の性質によって決定される。制御された厚さを実現するために必要なスピンコーティング条件は、堆積される材料の粘度及び温度に大きく依存する。幾つかの実施形態では、500rpm~6000rpmのスピン速度が10~60秒のスピン時間で使用される。
[0164] 幾つかの実施形態では、ミスト堆積を用いてナノ構造組成物が基板上に堆積される。ミスト堆積は、室温及び大気圧で行われ、プロセス条件を変化させることによって膜厚を精密に制御することができる。ミスト堆積中、窒素ガスによって、液体源材料が微細なミストとなり堆積チャンバーまで送られる。次にこのミストは、フィールドスクリーンとウエハホルダーとの間の高電圧電位によってウエハ表面に引き寄せられる。液滴がウエハ表面上で合体してから、ウエハをチャンバーから取り出し、熱硬化させることで溶媒を蒸発させる。液体前駆体は、溶媒と堆積される材料との混合物である。これは加圧窒素ガスによって噴霧器まで送られる。Price, S.C., et al., “Formation of Ultra-Thin Quantum Dot Films by Mist Deposition,” ESC Transactions 11:89-94 (2007)。
[0165] 幾つかの実施形態では、スプレーコーティングを用いてナノ構造組成物が基板上に堆積される。スプレーコーティングの典型的な装置は、スプレーノズル、噴霧器、前駆体溶液、及びキャリアガスを含む。スプレー堆積プロセスでは、前駆体溶液は、キャリアガスによって、又は霧化(例えば、超音波、エアブラスト、又は静電気)によって、マイクロサイズの液滴に微細化される。噴霧器を出た液滴は、希望通りに制御され調節されるキャリアガスを用いることで、ノズルから基板表面付近まで加速される。基板上を完全に覆うための設計によって、スプレーノズルと基板との間の相対運動が規定される。
[0168] 幾つかの実施形態では、成形物品は、ナノ構造層の一方又は両方の側のいずれかの上に配置された1つ以上のバリア層を含む。適切なバリア層は、ナノ構造層及び成形物品を高温、酸素、及び水分などの周囲条件から保護する。適切なバリア材料としては、疎水性であり、成形物品に対し化学的及び機械的に適合性であり、光安定性及び化学安定性を示し、高温に耐えることができる非黄変性で透明な光学材料が挙げられる。幾つかの実施形態では、1つ以上のバリア層は、成形物品と屈折率整合している。幾つかの実施形態では、成形物品のマトリックス材料と1つ以上の隣接するバリア層とは、屈折率整合して同様の屈折率を有し、そのためバリア層を透過してして成形物品に向かう光の大部分は、バリア層からナノ構造層中まで到達する。この屈折率整合によって、バリア材料とマトリックス材料との間の界面における光学的損失が減少する。
[0172] 幾つかの実施形態では、ナノ構造層は表示装置を形成するために使用される。本明細書において使用される場合、表示装置は、発光ディスプレイを有するあらゆるシステムを意味する。このようなデバイスとしては、液晶ディスプレイ(LCD)を含むデバイス、OLED又はマイクロLEDなどの発光ディスプレイ、テレビ、コンピューター、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末(PDA)、ゲーム機、電子書籍リーダー、デジタルカメラなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
[0174] 幾つかの実施形態では、ナノ構造を用いて製造された成形物品は、約1.5%~約20%、約1.5%~約15%、約1.5%~約12%、約1.5%~約10%、約1.5%~約8%、約1.5%~約4%、約1.5%~約3%、約3%~約20%、約3%~約15%、約3%~約12%、約3%~約10%、約3%~約8%、約8%~約20%、約8%~約15%、約8%~約12%、約8%~約10%、約10%~約20%、約10%~約15%、約10%~約12%、約12%~約20%、約12%~約15%、又は約15%~約20%のEQEを示す。幾つかの実施形態では、ナノ構造は量子ドットである。幾つかの実施形態では、成形物品は発光ダイオードである。
In(1-x)GaxPナノ構造の合成
[0177] In(1-x)GaxPナノ構造を製造するための多段階合成方法を図1中に示す。溶融塩に対してInPナノ構造が溶解性になり、カルボン酸インジウムが分解する320℃よりも高温に対して抵抗性となるようにするため、溶融塩共融混合物中に分散させる前に、InPナノ構造のリガンド交換プロセスを行って、InPナノ構造上に結合した有機カルボン酸塩リガンドをスルフィドリガンドで置換した。
In(1-x)GaxP合金化コアのシェル形成手順
[0183] In(1-x)GaxPコアの合成に使用した試薬を表1中に列挙する。
[0184] 100mLの三口丸底フラスコに、熱電対アダプター、磁気撹拌子、ガスアダプター、及び隔膜を取り付けた。オレイン酸亜鉛、オクタデセン、及びラウリン酸をこのフラスコ中に加え、脱気した。次にフラスコを真空ラインに取り付けて、減圧下に置き、約10分間、約80℃まで加熱した。このフラスコを短時間で正のN2圧に戻し、約270℃まで上昇させた。In(1-x)GaxPナノ構造と、第1ショットのセレン(TOPSe #1)とを約140℃において加えた。次にパージトラップを真空ラインに取り付け、200℃において取り外した。混合物を再び270℃まで上昇させ、第2ショットのセレン(TOPSe #2)を2分かけて加えた。混合物を310℃まで上昇させ、その温度を20分間維持した。次にドデカンチオールを10分かけて加え、この反応温度を約50分間維持した。TOPを加えて反応をクエンチし、反応物を170℃まで冷却した。混合物をグローブボックス中に入れ、続いてトルエン及びエタノールによる精製を行った。
QDCC中の用途
[0187] QDCC用途において、パターン化された量子ドット層(例えば、図4中に示されるようなQDPR)は、ディスプレイパネル(例えば、図4中に示されるLCD)の前面付近に配置される。バックプレーンを通過する青色光は、パターン化された量子ドット層によって吸収され、緑色又は赤色のいずれかの光を放出する(図6)。バックプレーンは、青色LED、LCD、OLED、マイクロLED、又は青色光源を有するあらゆる他のモジュールを含むことができる。原理上は、青色量子ドットも使用される場合、紫色及びUV源を使用できる。
Claims (63)
- ナノ構造であって、
In(1-x)GaxP(ここで0<x<1である)を含むコアと、
前記コアの上に配置された少なくとも1つのシェルであって、ZnSeを含む少なくとも1つのシェルと、
を含み、前記ナノ構造の全質量当たりの450nmにおける光学濃度(OD450/全質量)が約0.3~約1.0である、ナノ構造。 - 前記コアが、InN、InSb、InAs、AlN、AlP、AlSb、AlAs、GaN、GaP、GaSb、GaAs、又はそれらの組み合わせを含むIII-V族半導体材料をさらに含む、請求項1に記載のナノ構造。
- 前記少なくとも1つのシェルが、CdS、CdSe、CdO、CdTe、ZnS、ZnO、ZnTe、MgTe、GaAs、GaSb、GaN、HgO、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InSb、InN、AlAs、AlN、AlSb、AlS、PbS、PbO、PbSe、PbTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、Ge、Si、又はそれらの組み合わせをさらに含む、請求項1又は2に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造が、前記コアの上に配置された第1のシェルと、前記第1のシェルの上に配置された第2のシェルとを含む2つのシェルを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造が、ZnSeを含む第1のシェルと、第2のシェルとを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記第2のシェルが、ZnS、ZnO、ZnSe、ZnTe、MgS、MgO、MgSe、MgTe、又はそれらの組み合わせを含むII-VI族半導体材料を含む、請求項4又は5に記載のナノ構造。
- 前記第2のシェルがZnSe、ZnS、又はそれらの組み合わせを含む、請求項4~6のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記第2のシェルがZnSを含む、請求項4~7のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記コアの直径が約3nm~約10nmである、請求項1~8のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記コアの直径が約5nmである、請求項1~9のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記第1のシェルの厚さが約0.5nm~約4nmである、請求項4~10のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記第1のシェルの厚さが約1.5nmである、請求項4~11のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記第2のシェルの厚さが約0.5nm~約3nmである、請求項4~12のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記第2のシェルの厚さが約0.5nmである、請求項4~13のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造のOD450/全質量が約0.5~約0.7である、請求項1~14のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造のOD450/全質量が約0.6である、請求項1~15のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造の最大吸光度の波長が約430nm~約490nmである、請求項1~16のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造の最大吸光度の波長が約450nmである、請求項1~17のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造の発光波長が約500nm~約540nmである、請求項1~18のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造の発光波長が約520nmである、請求項1~19のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造が量子ドットである、請求項1~20のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 前記ナノ構造がカドミウムフリーである、請求項1~21のいずれか一項に記載のナノ構造。
- 請求項1~22のいずれか一項に記載のナノ構造を含むデバイス。
- 前記デバイスが表示装置である、請求項23に記載のデバイス。
- 前記表示装置が、
バックプレーンと、
前記バックプレーン上に配置されるディスプレイパネルと、
前記ナノ構造を含む量子ドット層であって、前記ディスプレイパネル上に配置される量子ドット層と、
を含む量子ドット色変換器を含む、請求項24に記載のデバイス。 - 前記量子ドット層がパターン化された量子ドット層を含む、請求項25に記載のデバイス。
- 前記バックプレーンが、青色LED、LCD、OLED、又はマイクロLEDを含む、請求項25又は請求項26に記載のデバイス。
- 前記表示装置が青色光フィルターを含まない、請求項25~27のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記青色光フィルターが、約510nm未満の波長の光に対して15%未満の透過率を有する、請求項28に記載のデバイス。
- 前記量子ドット層が約1μm~約25μmの厚さを有する、請求項25~29のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記量子ドット層が約5μm~約25μmの厚さを有する、請求項25~30のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記量子ドット層が約10μm~約12μmの厚さを有する、請求項25~31のいずれか一項に記載のデバイス。
- In(1-x)GaxPナノ構造(ここで0<x<1である)の製造方法であって、
(a)少なくとも1つの硫黄含有リガンドを含むInPナノ構造と、ハロゲン化物塩混合物とを約250℃~450℃間の温度で混合して溶融混合物を形成することと、
(b)(a)で得られた前記溶融混合物をガリウム源と約290℃~380℃間の温度で混合して、前記In(1-x)GaxPナノ構造を得ることと、
を含む、製造方法。 - 前記少なくとも1つの硫黄含有リガンドが、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの硫黄含有リガンドが硫化カリウムを含む、請求項33又は34に記載の方法。
- (c)InPナノ構造を溶液中の少なくとも1つの硫黄含有リガンドと混合して、表面に結合した硫黄含有リガンドを有するInPナノ構造を得ることと、(d)(c)で得られた前記表面に結合した硫黄含有リガンドを有するInPナノ構造を少なくとも1つの溶媒と混合することとによって、硫黄含有リガンドを含む前記InPナノ構造が得られる、請求項33~35のいずれか一項に記載の方法。
- (d)における前記少なくとも1つの溶媒がホルムアミドを含む、請求項36に記載の方法。
- (b)における個体と前記ハロゲン化物塩混合物との混合が、加熱する前に(b)における固体と前記ハロゲン化物塩混合物とを粉砕することをさらに含む、請求項33~37のいずれか一項に記載の方法。
- (a)における前記ハロゲン化物塩が、ハロゲン化リチウム、ハロゲン化カリウム、ハロゲン化セシウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項33~38のいずれか一項に記載の方法。
- (a)における前記ハロゲン化物塩が、臭化リチウム、臭化カリウム、及び臭化セシウムを含む、請求項33~39のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記ガリウム源が、フッ化ガリウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、ヨウ化ガリウム、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項33~40のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記ガリウム源が、酸化ガリウム、硫化ガリウム、セレン化ガリウム、テルル化ガリウム、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項33~41のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記ガリウム源が、メチルガリウム、エチルガリウム、プロピルガリウム、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項33~42のいずれか一項に記載の方法。
- (a)における前記溶融混合物と前記ガリウム源との混合が約290℃~330°の温度で行われる、請求項33~43のいずれか一項に記載の方法。
- (a)における前記溶融混合物と前記ガリウム源との混合が約20分~約180分行われる、請求項33~44のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガリウム源中のガリウム原子の、前記InPナノ構造中のインジウム原子に対するモル比が約0.3~約5である、請求項33~45のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガリウム源中のガリウム原子の、前記InPナノ構造中のインジウム原子に対するモル比が約0.5~約2である、請求項33~46のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガリウム源中のガリウム原子の、前記InPナノ構造中のインジウム原子に対するモル比が約1である、請求項33~47のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における混合物を、スルフィドリガンドを含む少なくとも1つの溶媒と混合することをさらに含み、前記スルフィドリガンドが、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項33~48のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における混合物を、スルフィドリガンドを含む少なくとも1つの溶媒と混合することをさらに含み、前記スルフィドリガンドが硫化カリウムを含む、請求項33~49のいずれか一項に記載の方法。
- In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSコア/シェル/シェルナノ構造の製造方法であって、
(a)In(1-x)GaxPナノ構造を含むコアを提供することと、
(b)(a)における前記In(1-x)GaxPナノ構造を第1の亜鉛源及びセレン源と混合することと、
(c)(b)における混合物を第2の亜鉛源及び硫黄源と混合して、前記In(1-x)GaxP/ZnSe/ZnSコア/シェル/シェルナノ構造を得ることと、
を含む製造方法。 - (b)における前記第1の亜鉛源が、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛、ジフェニル亜鉛、酢酸亜鉛、亜鉛アセチルアセトネート、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、炭酸亜鉛、シアン化亜鉛、硝酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、酸化亜鉛、過酸化亜鉛、過塩素酸亜鉛、硫酸亜鉛、ヘキサン酸亜鉛、オクタン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、ヘキサン酸亜鉛、オクタン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸亜鉛、又はそれらの混合物からなる群から選択される、請求項51に記載の方法。
- (b)における前記第1の亜鉛源がオレイン酸亜鉛である、請求項51又は52に記載の方法。
- (b)における前記セレン源が、トリオクチルホスフィンセレニド、トリ(n-ブチル)ホスフィンセレニド、トリ(sec-ブチル)ホスフィンセレニド、トリ(tert-ブチル)ホスフィンセレニド、トリメチルホスフィンセレニド、トリフェニルホスフィンセレニド、ジフェニルホスフィンセレニド、フェニルホスフィンセレニド、シクロヘキシルホスフィンセレニド、オクタセレノール、ドデカセレノール、セレノフェノール、元素セレン、セレン化水素、ビス(トリメチルシリル)セレニド、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項51~53のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記セレン源がトリオクチルホスフィンセレニドである、請求項51~54のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記第2の亜鉛源が、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛、ジフェニル亜鉛、酢酸亜鉛、亜鉛アセチルアセトネート、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、炭酸亜鉛、シアン化亜鉛、硝酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、酸化亜鉛、過酸化亜鉛、過塩素酸亜鉛、硫酸亜鉛、ヘキサン酸亜鉛、オクタン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、ヘキサン酸亜鉛、オクタン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸亜鉛、又はそれらの混合物からなる群から選択される、請求項51~55のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記第2の亜鉛源がオレイン酸亜鉛である、請求項51~56のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記硫黄源が、元素硫黄、オクタンチオール、ドデカンチオール、オクタデカンチオール、トリブチルホスフィンスルフィド、イソチオシアン酸シクロヘキシル、α-トルエンチオール、エチレントリチオカーボネート、アリルメルカプタン、ビス(トリメチルシリル)スルフィド、トリオクチルホスフィンスルフィド、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項51~57のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記硫黄源がドデカンチオールである、請求項51~58のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記混合が250℃~350℃の温度で行われる、請求項51~59のいずれか一項に記載の方法。
- (b)における前記混合が約300℃の温度で行われる、請求項51~60のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記混合が約170℃~約250℃の温度で行われる、請求項51~61のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記混合が約220℃の温度で行われる、請求項51~62のいずれか一項に記載の方法。
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