JP2022511038A - 二酸化ケイ素とシラノールを含む親水性水性分散液、および塗料調製物 - Google Patents
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Abstract
Description
a)50重量%~80重量%の水、好ましくは55重量%~75重量%の水と、
b)10重量%~30重量%、好ましくは15重量%~25重量%の親水性二酸化ケイ素と、
c)2重量%~25重量%の一般式R1O((CH2)mO)nH(式中、R1は、10~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖アルキルまたはアルケニルラジカルであり、m=2または3、およびn=10~50である。)で表される少なくとも1つのアルコールアルコキシレートと、
d)0.1重量%~20重量%、好ましくは0.5重量%~5重量%の、一般式R2R3Si(OR4)2(式中、R2、R3およびR4は、いずれの場合も、1~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖アルキルまたはアルケニルラジカルである。)で表される少なくとも1つのジアルコキシシランの加水分解によって得られるシラノールと、
e)0.5重量%~4重量%、好ましくは1.5重量%~4.0重量%、特に好ましくは2.0重量%~3.0重量%の、分子量が500g/mol未満の少なくとも1つのアミンおよび/またはアミノアルコールと、
f)0.1重量%~20重量%の、一般式(I)で表される少なくとも1つの共重合体と、
g)0.1重量%~6.0重量%の少なくとも1つのポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピレングリコールと、
を含み、
上記数値はすべて、全体組成に対する重量百分率である、水性分散液に関する。
A1は、エチレンラジカル、プロピレンラジカル、イソプロピレンラジカル、ブチレンラジカルであり、
aは、0~50であり、
kは、10~30である。)
cは、1、またはMが2価の金属陽イオンの場合は0.5であり、
Xは、-OMcまたは-O-(CpH2pO)q-R5(式中、R5は、H、1~20個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素ラジカル、5~8個の炭素原子を有する脂環式炭化水素ラジカル、必要に応じて6~14個の炭素原子を有する置換アルキルラジカルであり、pは2~4、qは0~100、-NHR6および/または-NR6 2(式中、R6は、R5または-CO-NH2である。)である。)であり、
Yは、O、NR6であり、
bは、10~30であり、b+kは20~60である。)
さらに、比較例では、塩基性媒体(pH=9.5)中、70℃でコロイド状二酸化ケイ素を含む水性分散液に、アルコキシシラン(オクチルトリエトキシシラン)を添加し、続いて得られた分散液を乾燥させると、疎水性二酸化ケイ素が生成されることが示されている。酸性または塩基性媒体のいずれかで生成された2つのシリカの炭素含有量は、ほとんど区別できない。これは、どちらの場合も同程度の疎水化が達成されていることを示している。
(式中、R2およびR3は、いずれの場合も、1~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖のアルキルラジカルであり、wは1より大きい整数である。)
A1は、エチレンラジカル、プロピレンラジカル、イソプロピレンラジカル、ブチレンラジカルであり、
aは、0~50であり、
kは、10~30である。)
cは、1、またはMが2価の金属陽イオンの場合は0.5であり、
Xは、-OMcまたは-O-(CpH2pO)q-R5(式中、R5は、H、1~20個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素ラジカル、5~8個の炭素原子を有する脂環式炭化水素ラジカル、必要に応じて6~14個の炭素原子を有する置換アルキルラジカルであり、pは2~4、qは0~100、-NHR6および/または-NR6 2(式中、R6は、R5または-CO-NH2である。)である。)であり、
Yは、O、NR6であり、
bは、10~30であり、b+kは20~60である。)
比較例1~4、実施例3~5
初めに、ディスク直径が40mmのディゾルバー(Dispermill Vango 100、製造元:ATP Engineering B.V.社)を使用して、2,500rpm~5,000rpmかつ室温で30分かけて、ジアルコキシシラン以外の表1の分散液の液体成分すべてを混合することにより、分散液を生成した。次に、撹拌しながら二酸化ケイ素粉末を添加し、初めに、ディゾルバーを使用して、2,500rpm~5,000rpmで冷却することなく15~65分間予備分散させ、その後、ローターステーターUltra-Turrax(Polytron 6000、ディスク直径:35mm)を使用して、7,000rpm~10,000rpmで、20℃で水冷しながら、30分かけて分散させた。続いて、ディゾルバーを使用して、100rpm~500rpmで、20℃にさらに冷却しながら、ジアルコキシシランを20℃で攪拌しながら添加し、当該混合物を一定条件下、15分間さらに攪拌した。
分散液の組成およびそれらの物理化学的特性を表1にまとめた。実施例1および2は、本発明に係る分散液のプレミックスである(実施例3~5)。
各分散液中に存在するシリカの疎水性を測定するために、特定の分散液(25g)を乾燥キャビネット内で40℃で72時間乾燥させた。残留物(5g)を遠心分離管内の水(30mL)に取り、振とうして均質化し、次いで遠心分離機(Sorvall RC-28S)で毎分20,000回転で2時間遠心分離した。次いで、遠心分離物を上記のようにこの方法で10回洗浄し、乾燥キャビネット内で40℃で72時間かけて乾燥させた。
メタノールの濡れ性の方法を使用して、疎水性成分となり得るものについて、残留物を試験した。
メタノールの濡れ性の測定では、いずれの場合も、0.2gの固形物質を透明な遠心分離管に量り入れた。それぞれ、10体積%、20体積%、30体積%、40体積%、50体積%、60体積%、70体積%および80体積%のメタノールを使用する8.0mLメタノール-水混合物を、秤量された各分量に添加した。密封したチューブを30秒間振とうした後、2500min-1で5分間遠心分離した。沈殿物の体積を読み取って百分率に変換し、グラフにメタノール含有量(体積%)に対してプロットした。曲線の変曲点は、メタノールの濡れ性に対応する。
本発明に係る分散液P5-1~P5-3は、固形分含有量が約17%と高いにもかかわらず、生成後24時間で低粘度となる。
0.5sec1での粘度(Rheometer Physica MCR 300を使用して測定、製造元:Anton Paar GmbH社、アルミニウムまたはステンレス鋼からなるサンプルチューブ、回転体CC27)は、4週間以上貯蔵しても大幅に増加しなかった(表1aを参照)。したがって、本発明に係る分散液は、取り扱いが容易であり、例えば、パイプラインを介してポンプ輸送可能な状態をキープできる。
b:R974=BET150m2/g~190m2/gの疎水性シリカ、疎水化剤ジメチルジクロロシラン、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社
c:R976S=BET225m2/g~275m2/gの疎水性シリカ、疎水化剤ジメチルジクロロシラン、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社
d:AE300=Aerosil(登録商標)300、BET300m2/gの親水性シリカ、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社
e:Byk011=消泡剤、製造元:BYK Additives&Instruments社
f:TEGO DISPERS(登録商標)760W=分散剤、製造元:Evonik Resource EfficiencyGmbH社
g:Surfynol(登録商標)104E=非イオン性界面活性剤、製造元:Resource Efficiency GmbH社
h:P4を介して添加される。
i:P5-0を介して添加される。
比較例5~8、実施例6~8
プロペラスターラー(製造元:Heidolph社)を使用して室温で1,000rpmで攪拌した水性ポリウレタンアクリレートハイブリッド分散液(Ecrothan 2012)に、表2記載の他のラッカー成分を添加し、続いて各二酸化ケイ素含有分散液を添加した。このようにして得られたラッカー分散液を1,000rpmで10分間さらに撹拌した。
水系ラッカー配合物の組成およびそれらの物理化学的特性を表2にまとめた。
機器:Grethag Macbeth社製の濃度計D19C
クリアコートの透明度については、濃度計を使用して、乾燥ラッカーフィルムの黒色値MYで測定できる。ガラス板に適用され、黒色コーティングパネル(Q-Panel DT 36)に配置されたラッカーフィルムで測定を行った。
適用:150μmのバーアプリケーターを2mmの透明ガラスシートに適用。
乾燥条件:室温での換気および乾燥。
測定の前に、試験対象のラッカーが塗布された試験パネルの表面がきれいであることを確認した。
測定器を試験パネルの測定開口部に配置した。親指で測定ボタンを押し、測定を開始した。
黒色値MYについて、ガラス板ごとに5回の測定を行い、そこから平均値を計算した。結果を濃度計値(DB)として表示した。最小値と最大値の間の最大許容偏差は、最大でDB=0.05でなければならない。
結果を、濃度計値から次のようにして計算される黒色値MYとして示した:
MY=DB×100。
チキソトロピー指数の測定を、製造後24時間以内の粘度測定(測定器:Rheometer Physica MCR 300、製造元:Anton Paar GmbH社、アルミニウムまたはステンレス鋼からなるサンプルチューブ、回転体CC27)によって行った。
チキソトロピー指数Ti=0.5rpmでの粘度/500rpmでの粘度
対応する粘度値は、低下する流動曲線から取得した。
流動曲線を形成するパラメータ:
予想通り、二酸化ケイ素含有分散液を含むラッカーはすべて、SiO2を含まない純粋なクリアコートよりもいくらか低い透明度(ジェットネス値)を示した(比較例5、表2)。しかし、純粋なクリアコートは、SiO2含有ペーストで変性されたラッカーよりも実質的に低いチキソトロピー指数を示した(表2)。
本発明の分散液P5-1(実施例6)、P5-2(実施例7)、およびP5-3(実施例8)を含むラッカーは、親水性シリカAEROSIL(登録商標)300を含むがDMEAおよび/またはジアルコキシシラン(分散液P4およびP5-0、比較例7および8)または疎水化シリカAEROSIL(登録商標)R972(分散液P1、比較例6)は含まないラッカーよりも、実質的に高いチキソトロピー指数と透明度(ジェットネス)値を有していた。
親水性シリカはすべて、水性混合物に非常に簡単かつ迅速に(15分)組み込まれることができるが、一方、疎水性シリカはこれにかなり長い時間が必要である(40分~65分、比較例2~4)。
b:PnB=Solvenon(登録商標)PnB、プロピレングリコールモノブチルエーテル1-ブトキシ-2-プロパノール、製造元:BASF SE社。
c:DPnB=Solvenon(登録商標)DPnB、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルブトキシジプロパノール異性体混合物、製造元:BASF SE社。
d:Tego Foamex(登録商標)805N=消泡剤、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社。
e:BYK 346=シリコーン界面活性剤、製造元:BYK Additives&Instruments社。
比較例4a、発明例4b~4d
初めに、ディスク直径が40mmのディゾルバー(Dispermill Vango 100、製造元:ATP Engineering B.V.社)を使用して、2,500rpm~5,000rpmかつ室温で30分かけて、ジアルコキシシラン以外の表3の分散液の液体成分すべてを混合することにより、分散液を生成した。次に、撹拌しながら二酸化ケイ素粉末を添加し、初めに、ディゾルバーを使用して、2,500rpm~5,000rpmで冷却することなく15~65分間予備分散させ、その後、ローターステーターUltra-Turrax(Polytron 6000、ディスク直径:35mm)を使用して、7,000rpm~10,000rpmで、20℃で水冷しながら、30分かけて分散させた。続いて、ディゾルバーを使用して、100rpm~500rpmで、28℃にさらに冷却しながら、ジアルコキシシランを28℃で攪拌しながら添加し、当該混合物を一定条件下、15分間さらに攪拌した。
分散液の組成およびそれらの物理化学的特性を表3にまとめた。
DMEAを使用しない比較例4aが堅固であることが示された。
最大4重量%までのDMEAを使用すれば、本発明の分散液は、処理可能な粘度を有する。
b:Aerosil(登録商標)300、BET=300m2/gの親水性シリカ、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社。
c:水で5%に希釈した後。
d:Rheometer Physica MCR 300で測定、製造元:Anton Paar GmbH社、アルミニウムまたはステンレス鋼からなるサンプルチューブ、回転体CC27。
比較例4c***、発明例4c、4c*、4c**
実施例4cの配合に基づいて、シラン化温度の影響を調査した(表3を参照)。
23℃、28℃、37℃および60℃のシラン化温度で反応を実施した。
分散液とラッカーの物理化学的性質は表4から明らかである。
60℃のシラン化温度は、堅固な分散液をもたらした(比較例4c***)。
本発明の実施例4c、4c*、4c**はすべてポンプ輸送可能であり、したがって主として取り扱いが容易であり、Ecrothanラッカー中でのチキソトロピーは所望の増加を示した(表4を参照)。
シラン化温度が40℃を超えると、有毒性と分類される副産物として、D4が形成されることも実証された。D4は、0.4ppmの信号を積分することにより、1H-NMR分光法で測定され、DMEAは内部標準として機能する(1H-NMR、Bruker社、600MHz、溶媒:DMSO)。
b:PnB=Solvenon(登録商標)PnB、プロピレングリコールモノブチルエーテル1-ブトキシ-2-プロパノール、製造元:BASF SE社。
c:DPnB=Solvenon(登録商標)DPnB、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルブトキシジプロパノール異性体混合物、製造元:BASF SE社。
d:Tego Foamex(登録商標)805N=消泡剤、製造元:Evonik Resource Efficiency GmbH社。
e:BYK 346=シリコーン界面活性剤、製造元:BYK Additives&Instruments社。
f:Rheometer Physica MCR 300で測定、製造元:Anton Paar GmbH社、アルミニウムまたはステンレス鋼からなるサンプルチューブ、回転体CC27。
Claims (16)
- a)50重量%~80重量%の水、好ましくは55重量%~75重量%の水と、
b)10重量%~30重量%、好ましくは15重量%~25重量%の、メタノール-水混合物中で0体積%のメタノール濡れ性を有する親水性二酸化ケイ素と、
c)2重量%~25重量%の一般式R1O((CH2)mO)nH(式中、R1は、10~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖アルキルまたはアルケニルラジカルであり、m=2または3、およびn=10~50である。)で表される少なくとも1つのアルコールアルコキシレートと、
d)0.1重量%~20重量%、好ましくは0.5重量%~5重量%の、一般式R2R3Si(OR4)2(式中、R2、R3およびR4は、いずれの場合も、1~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖アルキルまたはアルケニルラジカルである。)で表される少なくとも1つのジアルコキシシランの加水分解によって得られるシラノールと、
e)0.5重量%~4重量%、好ましくは1.5重量%~4.0重量%、特に好ましくは2.0重量%~3.0重量%の、分子量が500g/mol未満の少なくとも1つのアミンおよび/またはアミノアルコールと、
f)0.1重量%~20重量%の、一般式(I)で表される少なくとも1つの共重合体と、
g)0.1重量%~6.0重量%の少なくとも1つのポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピレングリコールと、
を含み、
上記数値はすべて、全体組成に対する重量百分率である、水性分散液。
A1は、エチレンラジカル、プロピレンラジカル、イソプロピレンラジカル、ブチレンラジカルであり、
aは、0~50であり、
kは、10~30である。)
cは、1、またはMが2価の金属陽イオンの場合は0.5であり、
Xは、-OMcまたは-O-(CpH2pO)q-R5(式中、R5は、H、1~20個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素ラジカル、5~8個の炭素原子を有する脂環式炭化水素ラジカル、必要に応じて6~14個の炭素原子を有する置換アルキルラジカルであり、pは2~4、qは0~100、-NHR6および/または-NR6 2(式中、R6は、R5または-CO-NH2である。)である。)であり、
Yは、O、NR6であり、
bは、10~30であり、b+kは20~60である。) - pHが11未満、好ましくは9以上かつ11未満、特に好ましくは10以上かつ11未満であることを特徴とする、請求項1記載の分散液。
- 前記親水性二酸化ケイ素が、カーボンアナライザLECO CS 244(LECO Corporation社製、米国 49085-2396 ミシガン州 セントジョセフ)で測定した場合、0.1%未満の炭素を含有することを特徴とする、請求項1または請求項2記載の分散液。
- 前記親水性二酸化ケイ素が、アラニン酸リチウム法で測定した場合、1.5シラノール基/nm2~2.7シラノール基/nm2のシラノール基密度を有することを特徴とする、請求項1または請求項3記載の分散液。
- 前記親水性二酸化ケイ素が最大300nmの平均粒径(d50)を有することを特徴とする、請求項1~請求項5のいずれか一項記載の分散液。
- 前記親水性二酸化ケイ素が、30m2/g~410m2/gのBET表面積を有するヒュームドシリカであることを特徴とする、請求項1~請求項6のいずれか一項記載の分散液。
- 前記二酸化ケイ素に対する前記シラノールのモル比が0.02~0.2であることを特徴とする、請求項1~請求項7のいずれか一項記載の分散液。
- 請求項1~請求項8のいずれか一項記載の分散液を含むラッカー調製物。
- 自動車産業におけるハイドロフィラーへの添加剤として、ならびに水性UV硬化性配合物中、水性クリアコート中および着色塗装系中の添加剤としての請求項1~請求項9のいずれか一項記載の分散液の使用。
- 請求項1~請求項10のいずれか一項記載の水性二酸化ケイ素含有分散液の製造方法であり、
11未満、好ましくは9以上かつ11未満、特に好ましくは10以上かつ11未満の前記分散液のpHで、一般式R2R3Si(OR4)2(式中、R2、R3およびR4は、いずれの場合も、1~25個の炭素原子を有する分岐鎖または非分岐鎖アルキルまたはアルケニルラジカルである。)で表される少なくとも1つのジアルコキシシランを、50重量%~80重量%の水と10重量%~30重量%の親水性二酸化ケイ素とを含む混合物に添加する工程を有し、
前記ジアルコキシシランの添加中および添加後の前記分散液の温度が40℃以下、好ましくは30℃未満、特に好ましくは25℃未満であることを特徴とする方法。 - 使用される前記親水性二酸化ケイ素が、30m2/g~410m2/gのBET表面積を有するヒュームドシリカであることを特徴とする、請求項10または請求項11記載の方法。
- 使用される前記二酸化ケイ素に対する使用される前記ジアルコキシシランのモル比が0.02~0.2であることを特徴とする、請求項10~請求項12のいずれか一項記載の方法。
- 使用される前記二酸化ケイ素を含む前記水性混合物が、前記親水性二酸化ケイ素を少なくとも2,000rpmの回転速度で水性混合物に添加することによって生成されることを特徴とする、請求項10~請求項13のいずれか一項記載の方法。
- 前記ジアルコキシシランの添加中および添加後さらに15分間、前記水性分散液を100rpm~500rpm(ディスク直径:40mm)で攪拌することを特徴とする、請求項10~請求項14のいずれか一項記載の方法。
- 前記ジアルコキシシランを添加した後の前記水性分散液を0℃~40℃の温度で少なくとも24時間熟成することを特徴とする、請求項10~請求項15のいずれか一項記載の方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2524309A1 (de) * | 1975-06-02 | 1976-12-09 | Monika Liepmann | Verfahren zur verbesserung der verdickenden und gelbildenden wirkung von pyrogenem hochdispersem siliciumdioxyd |
JPS62143819A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-27 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | 熱分解法で製造された二酸化ケイ素の増粘作用を強化する方法 |
JP2004203735A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Wacker Chemie Gmbh | 部分的に疎水性の金属酸化物、部分的に疎水性のケイ酸、系のレオロジーを制御するための添加剤、ならびに部分的に疎水性のケイ酸を含有するトナー、現像剤およびエマルション |
JP2005528454A (ja) * | 2002-06-06 | 2005-09-22 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | 熱分解法で製造された金属酸化物粒子及び分散剤を含有する水性分散液 |
CN101517012A (zh) * | 2006-09-15 | 2009-08-26 | 卡伯特公司 | 制备疏水性二氧化硅的方法 |
US20120234206A1 (en) * | 2009-11-05 | 2012-09-20 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Akzo Nobel Chemicals International B.V. |
JP2013543909A (ja) * | 2010-11-10 | 2013-12-09 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 疎水化二酸化ケイ素粒子含有分散液および塗料調製物 |
WO2017009035A1 (de) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | Evonik Degussa Gmbh | Sio2 enthaltende dispersion mit hoher salzstabilität |
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---|---|---|---|---|
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Patent Citations (8)
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---|---|---|---|---|
DE2524309A1 (de) * | 1975-06-02 | 1976-12-09 | Monika Liepmann | Verfahren zur verbesserung der verdickenden und gelbildenden wirkung von pyrogenem hochdispersem siliciumdioxyd |
JPS62143819A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-27 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | 熱分解法で製造された二酸化ケイ素の増粘作用を強化する方法 |
JP2005528454A (ja) * | 2002-06-06 | 2005-09-22 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | 熱分解法で製造された金属酸化物粒子及び分散剤を含有する水性分散液 |
JP2004203735A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Wacker Chemie Gmbh | 部分的に疎水性の金属酸化物、部分的に疎水性のケイ酸、系のレオロジーを制御するための添加剤、ならびに部分的に疎水性のケイ酸を含有するトナー、現像剤およびエマルション |
CN101517012A (zh) * | 2006-09-15 | 2009-08-26 | 卡伯特公司 | 制备疏水性二氧化硅的方法 |
US20120234206A1 (en) * | 2009-11-05 | 2012-09-20 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Akzo Nobel Chemicals International B.V. |
JP2013543909A (ja) * | 2010-11-10 | 2013-12-09 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 疎水化二酸化ケイ素粒子含有分散液および塗料調製物 |
WO2017009035A1 (de) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | Evonik Degussa Gmbh | Sio2 enthaltende dispersion mit hoher salzstabilität |
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