JP4778244B2 - 消泡剤組成物用の疎水性の沈降ケイ酸 - Google Patents

Description

本発明は、高いｐＨ値及び低いシラノール基密度を有する疎水性の沈降ケイ酸、その製造方法並びにその使用に関する。

疎水性の沈降ケイ酸並びにその製造方法は公知である。疎水性化は、この場合一般に親水性の沈降ケイ酸の表面を適当な有機化合物で被覆することによって行われる。かかる疎水性の又は部分的に疎水性の沈降ケイ酸の例は、特許文献ＥＰ０７９８３４８号、ＵＳ４３７７４９３号及びＥＰ１２８１７３５号に開示されている。ＥＰ１２８１７３３号及びＥＰ１２８１７３５号は５〜９のｐＨ値を有する疎水性の沈降ケイ酸を開示しており、それに対してＷＯ２００３０１４０２０号は９．５より高いｐＨ値を有する疎水性の沈降ケイ酸を開示している。

消泡剤組成物において親水性及び疎水性の沈降ケイ酸を使用することは同様に知られている（出版物シリーズ 顔料（Pigmente）、第４２号、デグサ社（DEGUSSA）、０６／１９８６）。消泡剤組成物における使用は、使用される沈降ケイ酸に高い要求を突きつける。このように沈降ケイ酸は消泡剤組成物中に容易にかつ良好に分散可能であって、迅速なノックダウン時間（動作時間）、完全なノックダウン（即時効果）及び長いホールドダウン（停止時間）をもたらすことが望ましい。特性パラメータ“ノックダウン”は、消泡剤の能力であって、その添加直後にフォーム高さが規定のフォーム高さまで低下する能力を説明するものである。ホールドダウンは、消泡剤の停止時間、すなわち作用の期間を特徴付けるものである。具体的にその時間は規定のフォーム水準に再び至るまでの時間が測定される。その他にノックダウン時間は、フォーム極大に対してノックダウンが達成されるまでに経過する時間を特徴付けるものである。従来の技術による沈降ケイ酸は、前記のパラメータ又は前記のパラメータの少なくとも幾つかに関して不十分な値を示す。
ＥＰ０７９８３４８号 ＵＳ４３７７４９３号 ＥＰ１２８１７３５号 ＥＰ１２８１７３３号 ＥＰ１２８１７３５号 ＷＯ２００３０１４０２０号 出版物シリーズ 顔料（Pigmente）、第４２号、デグサ社（DEGUSSA）、０６／１９８６

従って本発明の課題は、改善された応用技術的特性、特に消泡剤組成物における係る特性を有する沈降ケイ酸を提供することであった。更に本発明による沈降ケイ酸を製造できる方法を提供するべきである。

意想外にも、前記課題は、以下の明細書の記載並びに特許請求の範囲及び実施例において詳細に定義された本発明によるケイ酸並びに明細書の記載、実施例及び特許請求の範囲において詳細に説明される方法によって解決されることが判明した。

本発明の対象は、疎水性のアルカリ性の沈降ケイ酸であって、以下の物理化学的パラメータ：
ＢＥＴ ＜１１０ｍ^２／ｇ
ＣＴＡＢ ＜１５０ｍ^２／ｇ
ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比 ＜３
炭素含有率 ＞３．１％
ｐＨ値 ＞９
を特徴とする沈降ケイ酸である。

また本発明の対象は、前記のパラメータの他に互いに無関係に以下の１つ以上の物理化学的パラメータ：
ＤＢＰ ＜２３０ｇ／（１００ｇ）
改変されたシアーズ数（Sears-Zahl） ＜６ｍｌ／（５ｇ）
シアーズ数／ＢＥＴ−比 ＜０．０５ｍｌ／（５ｍ^２）
メタノール湿潤性 ＞５０％
平均粒度ｄ_５０ ＜１４μｍ
強熱減量 ＞３％
嵩密度 ＜１５０ｇ／ｌ
を有する疎水性の沈降ケイ酸である。

本発明による対象は、更に本発明による沈降ケイ酸を製造でき、以下の工程：
ａ）沈降ケイ酸を沈降させる工程、
ｂ）濾過工程、
ｃ）濾過ケークを水の添加により液状化させる工程、
ｄ）懸濁液を乾燥させる工程、
ｈ）１５０℃を超える温度での熱処理を実施する工程、及び
ｉ）疎水性の沈降ケイ酸を粉砕する工程
を有する方法であって、
ｅ）沈降ケイ酸を少なくとも１種の塩基性剤の添加によりアルカリ性化する工程を実施し、そして
ｆ）少なくとも１種の疎水化剤及び沈降ケイ酸、沈降ケイ酸分散液又は沈降ケイ酸濾過ケークからなる混合物を製造する工程及び、場合により
ｇ）１０℃〜１５０℃で０．５〜７２時間にわたりコンディショニングする工程
を含むことを特徴とする方法である。工程ｅ）、ｆ）及びｇ）は本発明による方法では種々の時点まで実施してよい。

更に本発明の対象は、本発明による沈降ケイ酸の、特に消泡剤組成物における使用である。

本発明者は、消泡剤組成物における使用のために特に良好に適した沈降ケイ酸は、それが油と水との界面で最適に堆積する性質を有さねばならないことを確認した。そのときにだけ、フォーム気泡を効果的に崩壊させることが可能である。沈降ケイ酸の表面が親水特性と疎水特性との最適な混合特性を兼ね備えることが重要であると判明した。ケイ酸表面の親水性中心はｐＨ値の調整により制御される。最終生成物中のｐＨ値が高ければ高いほど、消泡剤用途に必要なケイ酸表面上の親水性中心がより顕著になる。しかしながら親水性中心は、沈降ケイ酸表面上に、塩基性成分で処理する前にシラノール基が存在したところにのみ生じうる。ケイ酸の親水特性をあまり際だたせないために、本発明による沈降ケイ酸が低いシラノール基密度を有することが重要である。シラノール基密度は、シアーズ数／ＢＥＴ−比によって言い換えられる。従って本発明による沈降ケイ酸は、高いｐＨ値及び低いシラノール基密度に際だっている。

更に、表面上により長いポリシロキサン鎖を有する疎水性の沈降ケイ酸は特に良好な消泡剤性能を示す。尺度としては本願ではＢＥＴ表面積とＣＴＡＢ表面積の比を引き合いに出すことができる。

加えて本発明による沈降ケイ酸は最適化された粒度に際だっている。粒度は、一方でケイ酸粒子がフォーム層を破壊するために十分に大きくなければならないが、他方では十分な数でも存在せねばならないため、重要な役割を担っている。

本発明による疎水性の沈降ケイ酸は、高いｐＨ値及び低いシラノール基密度の他に、
・ 高い炭素含有率（＞３．１％）
・ 非常に均一な疎水化、すなわち急勾配のメタノール湿潤性カーブ
・ 高いメタノール湿潤性（＞５０％）
に際だっている。従って前記の沈降ケイ酸は消泡剤組成物中の消泡剤成分として抜群に適している。特に該沈降ケイ酸は、短いノックダウン時間、ほぼ完全なノックダウン及び長いホールドダウンをもたらす。更に本発明による沈降ケイ酸は、特に容易にかつ均一に消泡剤組成物中に導入できる。

本発明の対象を以下に詳細に説明する。

本発明による沈降ケイ酸は、以下の物理化学的パラメータ：
ＢＥＴ ＜１１０ｍ^２／ｇ
ＣＴＡＢ ＜１５０ｍ^２／ｇ
ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比 ＜３
炭素含有率 ＞３．１％
ｐＨ値 ＞９
を有する。更に本発明による沈降ケイ酸は、場合により互いに無関係に、以下の１つ以上の物理化学的パラメータ：
ＤＢＰ ＜２３０ｇ／（１００ｇ）
改変されたシアーズ数 ＜６ｍｌ／（５ｇ）
シアーズ数／ＢＥＴ−比 ＜０．０５ｍｌ／（５ｍ^２）
メタノール湿潤性 ＞５０％
平均粒度ｄ_５０ ＜１４μｍ
強熱減量 ＞３％
嵩密度 ＜１５０ｇ／ｌ
を有してよい。

本発明による沈降ケイ酸は、有利には３０〜１１０ｍ^２／ｇ、特に有利には４０〜８０ｍ^２／ｇのＢＥＴ、３０〜１２０ｍ^２／ｇ、特に有利には５０〜９０ｍ^２／ｇのＣＴＡＢ及び０．３〜６．０ｍｌ、特に有利には０．５〜２．０ｍｌの改変されたシアーズ数を有する。沈降ケイ酸の疎水性の評価のために必須の基準である炭素含有率は、有利には４〜１２％、特に有利には５〜１０％、殊に有利には６〜１０％である。メタノール湿潤性は＞６０％が有利である。沈降ケイ酸の製造の間に塩基性剤を添加することによって乾燥ケイ酸のｐＨ値を調整する。最終生成物中のｐＨ値が高ければ高いほど、消泡剤用途に必要なケイ酸表面上の親水性中心がより際だつ。従って本発明によるケイ酸のｐＨ値は、有利には９〜１０．５、特に９〜１０である。

親水性中心は、ケイ酸表面上に、塩基性剤で処理する前にシラノール基が存在したところにのみ生じうる。ケイ酸の親水特性をあまり際だたせないために、本発明による沈降ケイ酸が低いシラノール基密度を有することが重要である。シラノール基密度は、シアーズ数／ＢＥＴ−比によって言い換えられる。特に、本発明による沈降ケイ酸は＜０．０４ｍｌ／（５ｍ^２）、有利には＜０．０３ｍｌ／（５ｍ^２）、特定の実施形態では＜０．０２５ｍｌ／（５ｍ^２）のシアーズ数／ＢＥＴ−比を有してよい。

本発明による沈降ケイ酸のＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比は、有利には＜１．５、特に有利には＜１、殊に有利には０．５〜０．９９である。消泡剤組成物中に良好にかつ均一に導入するための前提条件である平均粒度ｄ_５０は、有利には＜１０μｍ、特に有利には＜７．５μｍ、殊に有利には＜６μｍ、特に＜５μｍである。

前記の全ての有利な範囲は互いに無関係に調整してよい。

本発明による沈降ケイ酸は、以下の工程：
ａ）沈降ケイ酸を沈降させる工程、
ｂ）濾過工程、
ｃ）濾過ケークを水の添加により液状化させる工程、
ｄ）懸濁液を乾燥させる工程、
ｈ）１５０℃を超える温度での処理を実施する工程、及び
ｉ）疎水性の沈降ケイ酸を粉砕する工程
を有する方法であって、
ｅ）沈降ケイ酸を少なくとも１種の塩基性剤の添加によりアルカリ性化する工程を実施し、そして更に該沈降ケイ酸を
ｆ）少なくとも１種の疎水化剤及び沈降ケイ酸、沈降ケイ酸分散液又は沈降ケイ酸濾過ケークからなる混合物を製造する工程において疎水化剤で被覆することを特徴とする方法により製造できる。場合により本発明による方法は工程
ｇ）１０℃〜１５０℃において０．５〜７２時間にわたりコンディショニングする工程
を含んでいてよい。工程ｅ）、ｆ）及びｇ）は本発明による方法では種々の時点まで実施してよい。以下の文面をそれについて詳細に検討する。

工程ｇ）により得られるコンディショニングされた沈降ケイ酸は、工程ｈ）に供するか、又は親水性の沈降ケイ酸又は沈降ケイ酸分散液又は沈降ケイ酸濾過ケークと混合し、場合により工程ｄ）に従って乾燥させ、そして場合により再び工程ｇ）に従ってコンディショニングしてもよい。これは、疎水化された沈降ケイ酸が最終的に工程ｈ）に供され、そして最後に工程ｉ）で粉砕されるまでの間に繰り返される。

有利には本発明による工程ａ）は、この場合に、以下の工程
ａａ）水又は水と水ガラスからなる初充填を６０℃〜１００℃、有利には７０℃〜９０℃の温度に加熱する工程
ａｂ）前記の初充填に水ガラスと酸とを同時に添加する工程
ａｃ）酸性化剤を添加することによってｐＨ値を低下させる工程
を実施するように行われる。

有利には工程ａｂ）における水ガラスと酸性化剤の同時の添加は、７〜１１、有利には８〜９の値のｐＨ値が保持されるように行われる。ｐＨ値の測定はこの場合６０℃で行われる。反応溶液の温度は工程ａｂ）においては６０℃〜１００℃、有利には６５℃〜９５℃、特に有利には７０〜９０℃の値に保持する。酸性化剤と水ガラスの添加は、固体含有率が４０〜７０ｇ／ｌ、有利には４５〜６５ｇ／ｌ、特に有利には５０〜６０ｇ／ｌになるまで継続してから停止させる。従って沈降時間は７０〜１４０分、有利には８０〜１３０分である。

工程ａｃ）において、沈降懸濁液のｐＨ値は酸性化剤の添加によって２〜８、有利には２．５〜４．０、特に有利には３〜４の値にまで調整される。ｐＨ値の測定は６０℃で行われる。本願に記載される工程実施により沈降の間に、沈降ケイ酸の表面上のシラノール基密度は低く調整される。

工程ａｂ）で使用される水ガラスは、３〜３．８、有利には３．３〜３．５の水硬率（Modul）及び１．１〜１．３９ｇ／ｍｌ、有利には１．２〜１．３６ｇ／ｍｌ、特に有利には１．３〜１．４ｇ／ｍｌの密度を有する。工程ａｂ）及びａｃ）で使用される酸性化剤は、鉱酸、特に硫酸、塩酸、リン酸、硝酸又は炭酸又は二酸化炭素であってよい。濃度が１モル／ｌ〜１８．７６モル／ｌ、有利には７．０〜１８．８モル／ｌの硫酸が有利である。有利には、工程ａｂ）及びａｃ）では同じ酸性化剤が使用される。

工程ａｃ）の後に、場合により、以下の工程
ａｄ）沈降懸濁液を１０℃〜９５℃、有利には４０℃〜６０℃で０〜７２時間、有利には０〜１２時間にわたり熟成させる工程
を実施してよい。

工程ｂ）において沈降懸濁液を濾過し、そして濾過ケークを洗浄する。予め製造された沈降懸濁液の濾過と濾過ケークの洗浄は、公知の方法により、例えば膜濾過プレスによる濾過によって実施する（Ullmann's Encyclopedia of industrial chemistry、１９９２年、第５版、Ｂ１巻、１０−１頁〜１０−５９頁）。濾過ケークの洗浄のために、有利には脱イオン水を使用する。得られた濾過ケークは１３〜２５％、有利には１５〜１７％の固体含有率を有する。

工程ｃ）において濾過ケークを液状化させる。本発明による方法の第一の実施態様においては、この場合、濾過ケークを水、有利には脱イオン水の添加により、そして撹拌下に液状化させる。

第二の実施態様においては、工程ｃ）を工程ｅ）と一緒に実施する。
すなわち濾過ケークの液状化は、水、有利には脱イオン水を添加して、かつ撹拌下に行われる。１種以上の塩基性成分の同時の添加（工程ｃ）＋ｅ））又は引き続きの添加（工程ｃ）→ｅ））によって、懸濁液のｐＨ値を７〜１１に、有利には８〜１０．５に、好ましくは８．３〜１０に調整する。

工程ｃ）の実施態様とは無関係に、得られる懸濁液は６〜２０％、有利には６〜１７％、特に有利には６〜１１％の固体含有率を有する。両方の実施態様において、液状化を中程度の剪断エネルギーを作用させて行うことが必要である。この場合に、液状化のためにちょうど必要とされる程度の剪断エネルギーだけを印加することが望ましい。

前記の工程段階から得られる懸濁液を工程ｄ）で乾燥させる。このために、当業者には多くの乾燥方法が知られている（Ullmann's Encyclopedia of industrial chemistry、１９９２年、第５版、Ｂ１巻、７−２１頁〜７−２５頁）。流動乾燥器、噴霧乾燥器、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器、フラッシュ乾燥器、スピンフラッシュ乾燥器又はノズルタワー（Duesenturm）が有利であると見なされている。特に有利には乾燥は噴霧乾燥器又はノズルタワーを用いて行われる。どの実施態様で工程ｆ）を行うことが望ましいかに応じて、沈降ケイ酸の湿分含有率は工程ｄ）で調整してよい。

実施態様１による工程ｃ）における濾過ケークの液状化の場合に、すなわち塩基性剤を添加しない場合に、塩基性成分を乾燥後に混合装置（例えば低剪断力のスキ刃混合機、例えばレーディゲミキサー）において沈降ケイ酸に噴霧する。前記の場合に工程ｅ）は工程ｄ）の後にも行われる。沈降ケイ酸のｐＨ値は前記の場合に＞７の値、７〜１１の値、特に有利には８〜１０．５の値、特に８．３〜１０の値に調節される。

塩基性剤としては、工程ｅ）においてアルカリ金属の水酸化物又は炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ土類金属ケイ酸塩、アンモニア及びアルカリ金属アルミン酸塩又は前記の塩基の水溶液又は混合物を使用してよい。有利には水酸化ナトリウム液及び水酸化カリウム液が使用される。

また塩基性剤を、工程ｃ）の間にも工程ｄ）の後にも添加してよい。この場合に、前記の塩基性成分を使用してよい。

本発明による方法の工程段階ｆ）は、湿式疎水化又は乾式疎水化として実施してよい。湿式疎水化は、ケイ酸塩出発物質が水性ケイ酸分散液又は水分含有率の多いケイ酸濾過ケークであり、これらが、例えばＤＥ２７２９２４４号においてオルガノハロゲンシランを有する沈降懸濁液に関して記載される相応の疎水化剤で被覆されることを意味する。乾式疎水化は、ケイ酸塩出発物質が種々の湿分含有率１〜７５％を有するケイ酸粉末であり、これらが、相応の疎水化剤で被覆されることを意味する。かかる方法は、例えばＤＥ２６２８９７５号に記載される。ＤＥ２６２８９７５号及びＤＥ２７２９２４４号の教示を本願に明らかに引き合いに出すので、これらを本願の明細書の一部とする。

本発明による方法の工程ｆ）は、以下の変法で実施してよい：
変法１：
疎水化剤の添加を、含水率１．０〜８０質量％、有利には２〜５０質量％を有する沈降ケイ酸に行う。含水率を、工程ｄ）での乾燥の際に、又は塩基性剤の添加（工程ｄ）の直後の工程ｅ））を行う場合に、場合により更なる乾燥又は湿潤によってしてよい。この場合に、以下の工程順序が可能である：ｃ）＋ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｄ）→ｅ）→ｆ）。

変法２：
工程ｆ）を工程ａ）とｂ）との間に実施する。すなわち疎水化剤の添加を、酸によりケイ酸塩の沈降が行われた後に、得られた沈降ケイ酸の分散液中で行う。この実施態様では、例えばライン−ヒュッテミキサー（Rhein-Huette-Mischer）又はコルトホフミキサー（Kolthof-Mischsirene）又はウルトラ−ツラックス（Ultra-Turrax）を使用してよい。この変法は、反応後に迅速な濾過もしくは短時間乾燥（スピン−フラッシュ乾燥器、噴霧乾燥器、ノズルタワー）を行う。

変法３：
この場合に、含水率７０〜９９質量％を有する沈降ケイ酸に疎水化剤を添加することは、引き続き固体と水とを分離する際に行われる。固体含有率の増大は、濾過、ノズルタワー、スピン−フラッシュ乾燥又はその他の短時間乾燥によって行ってよい。含水率が高ければ高いほど、分離を回避するために固体含有率の増大を迅速に行うことが望ましい。この場合に、以下の工程順序が可能である：ｃ）＋ｅ）→ｆ）及び直ちに→ｄ）又はｃ）→ｅ）→ｆ）及び直ちに→ｄ）又はｃ）＋ｆ）及び直ちに→ｅ）及び直ちに→ｄ）又はｃ）→ｆ）及び直ちに→ｅ）及び直ちに→ｄ）又はｃ）→ｅ）＋ｆ）及び直ちに→ｄ）。
また例えば、濾過ケークと疎水化剤とを混合してもよい。

変法４：
工程ｆ）は、工程ｄ）と一緒にもしくはｄ）の直前に行われる。この場合に、沈降ケイ酸もしくは含水ケイ酸を、例えば疎水化剤と同時に噴霧乾燥器、ノズルタワー乾燥器又はスピン−フラッシュ乾燥器に供給してよい。この場合に、以下の工程順序が可能である：ｃ）＋ｅ）→ｆ）及び次いで直ちに→ｄ）、ｃ）→ｄ）＋ｆ）→ｅ）又はｃ）＋ｅ）→ｄ）＋ｆ）又はｃ）→ｅ）→ｄ）＋ｆ）又はｅ）＋ｆ）＋ｄ）。スピン−フラッシュ乾燥の場合に、工程ｃ）は場合により省き、従ってまた完全に省いてもよい。スピン−フラッシュ乾燥の場合に、濾過ケークを乾燥前に塩基性剤及び疎水化剤と混合し、次いで乾燥させる、すなわちｅ＋ｆ）→ｄ）を行ってよい。

変法５：
この場合に、乾燥沈降ケイ酸と疎水化剤とを、例えばゲリッケミキサー（Gericke-Mischer）又はレーディゲミキサーにおいて行う。この場合に、以下の工程順序が可能である：ｃ）＋ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｄ）→ｆ）→ｅ）。乾燥沈降ケイ酸と疎水化剤との混合は粉砕（工程ｉ））の際にミル中でも可能である。

変法１〜５で説明された工程順序は、製造工程全体の一部を反映するものである。変法２を例外として、全ての変法ではまず工程ａ）及びｂ）を実施する。引き続き工程ｃ）を行う。２つの工程段階を“＋”記号で結びつける場合（例えばｃ）＋ｅ））、これは両方の工程段階を一緒に実施することを意味する。それに対して２つの工程段階を“→”で結びつける場合（例えばｃ）→ｅ））、これは両方の工程段階を連続的に実施することを意味する。それぞれ最後に示される工程段階の後に、引き続き更に一般的な方法の説明において文字ｈ）及びｉ）及び場合によりｇ）で記号を付けた方法工程を行う。変法２では工程ｂ）の後に更に工程ｃ）〜ｉ）を行い、場合によりｇ）を行う。

本発明による方法は、工程ｆ）を、疎水化剤を既にアルカリ性化された沈降ケイ酸と混合するように実施する変法も、疎水化剤の添加を工程ｅ）、すなわちアルカリ性化剤の添加の前に又はそれと同時に実施する変法も含む。有利には、疎水化剤を粉末状の既にアルカリ性化された沈降ケイ酸に添加する変法である。

有利には変法１及び５を実施する。特に有利には変法１である。殊に有利には、変法１は、工程を以下の順序：ｃ）＋ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｅ）→ｄ）→ｆ）又はｃ）→ｄ）→ｅ）→ｆ）で実施するように行われる。

疎水化剤としては、オルガノポリシロキサン誘導体が使用されるが、選択された反応条件下に反応してオルガノポリシロキサンが得られる別のケイ素化合物（例えばジクロロジメチルシランを水性環境で）を使用してもよい。疎水化試薬としては、オルガノポリシロキサン誘導体又はその前駆体、例えば組成Ｒ_４−ｎＳｉＸ_ｎ（ｎ＝１、２、３）、［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］_ｚ（０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ｘ＋ｙ＝２）、［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＮ］_ｚ（０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ｘ＋ｙ＝２）、ＳｉＲ_ｎＸ_ｍＯＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、ｎ＋ｍ＝３、ｏ＋ｐ＝３）、ＳｉＲ_ｎＸ_ｍＮＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、ｎ＋ｍ＝３、ｏ＋ｐ＝３）、ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］_ｚＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦１００００、ｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）のものが使用される。前記の化合物は、直鎖状、環式及び分枝鎖状のシラン化合物、シラザン化合物及びシロキサン化合物であってよい。Ｒは、官能基、例えばヒドロキシ基、アミノ基、ポリエーテル、例えばエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド及びハロゲン化物基、例えばフッ化物で置換されていてよいアルキル基及び／又はアリール基であってよい。Ｒは、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基及び硫黄含有基のような基を有してもよい。Ｘは、反応性基、例えばヒドロキシ基、シラノール基、アミノ基、メルカプト基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル基及びヒドリド基を有してよい。有利には組成ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］_ｚＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦１００００、ｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）の直鎖状のポリシロキサンが使用され、この場合にＲは有利にはメチルで示される。特に有利には組成ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］_ｚＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦１、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦１、１≦ｚ≦１０００、ｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）のポリシロキサンが使用され、この場合にＲは有利にはメチルで示される。しかしながら選択される本発明による方法に基づいて、特に官能基を有さない難揮発性のポリシロキサンを使用してもよい。オルガノポリシロキサン誘導体での規定の官能基の存在によって、好ましくない汚染に導きうる塩又は低分子物質、例えばＮＨ_３、アミン、アルコールなどが生じることがある。重要な一つの例外は、本願ではシラノール官能化されたポリシロキサンである。それというのも本願では不純物として水だけが生じるにすぎず、これは選択された工程条件下に容易に除去できるからである。
有利には疎水化剤は、メチル末端基を有するポリジメチルシロキサン、特に粘度５〜１００ｍＰａｓ、１０〜１００ｍＰａｓ、３０〜１００ｍＰａｓ、好ましくは４０〜６０ｍＰａｓを有するものであってよい。適当なポリシロキサン油は、例えばＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ^（Ｒ）２００ ＦＬＵＩＤ ５０ ＣＳである。

場合により本発明による方法において工程ｇ）を実施してよい。工程ｇ）は、沈降ケイ酸と疎水化剤との混合物を用いて又は既に疎水化剤で被覆されている沈降ケイ酸を用いて実施される。この場合に、疎水化剤で被覆された又はそれと混合された沈降ケイ酸の熱処理は１０〜１５０℃、有利には１００〜１５０℃、特に有利には１０５〜１１０℃の温度で実施される。工程ｇ）は、水湿潤性であるが、ケイ酸とシリコーン油とが水への導入の際にもはや互いに分離しない物質が生成されるまで実施する。従って工程ｇ）でのコンディショニングは一般に０．５〜７２時間、有利には０．５〜２時間の時間にわたり行われる。有利な実施態様においては、１００〜１５０℃で０．５〜２時間にわたりコンディショニングする。

工程ｇ）の直後に工程ｈ）を行うのであれば、メタノール湿潤性は＞２０％が有利である。しかしながら工程ｇ）を工程ｈ）の直前に実施しないのであれば、メタノール湿潤性は＜２０％であることが望ましい。

通常は工程ｇ）は工程ｄ）の後に実施され、その際、場合により工程ｅ）及びｆ）又はｅ）のみ又はｆ）のみを工程ｄ）及びｇ）の間に実施してよい。以下の実施態様が有利である：ｃ＋ｅ）→ｄ）→ｆ）→ｇ）又はｃ）→ｅ）→ｄ）→ｆ）→ｇ）又はｃ）→ｄ）→ｅ）→ｆ）→ｇ）又はｃ＋ｅ）→ｆ）→ｄ）→ｇ）又はｃ）→ｅ）→ｆ）→ｄ）→ｇ）又はｃ）＋ｆ）→ｅ）→ｄ）→ｇ）又はｃ）→ｆ）→ｅ）→ｄ）→ｇ）又はｃ）→ｅ）＋ｆ）→ｄ）→ｇ）。

工程ｇ）におけるコンディショニング時間は０．５〜７２時間、有利には０．５〜１２時間、特に有利には０．５〜２時間である。特に有利には、コンディショニング後にメタノール湿潤性が２０％より高い部分疎水化されたケイ酸が存在する。

本発明による方法の工程ｆ）は、変法６において、既にコンディショニングされた沈降ケイ酸を工程ｇ）の後に親水性の沈降ケイ酸と混合するようにして実施してよい。この場合に、まずマスターバッチ、すなわち工程段階ａ）〜ｇ）に従って得られるコンディショニングされた沈降ケイ酸を前記の実施態様に従って製造し、そしてこれを引き続き（親水性の）もしくは水を含有する沈降ケイ酸と混合する
この場合に、例えば基礎となるケイ酸を工程ｄ）又はｅ）の後に疎水化剤と沈降ケイ酸との質量比３：１〜１：５、有利には１：１〜１：３において疎水化剤、例えばシリコーン油、例えばＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ^（Ｒ）２００ ＦＬＵＩＤ ５０ ＣＳ（トリメチルシリル末端基を有し、約３３％の炭素含有率を有するジメチルポリシロキサン、５０ｍＰａｓ）で被覆する（工程ｆ））。こうして得られた粉末を次いで３０分間にわたり１００℃を上回る温度、有利には１００〜１５０℃、特に有利には１０５〜１１０℃の温度でコンディショニングする。コンディショニング（工程ｇ））は、水湿潤性（メタノール湿潤性＜２０％）であるが、ケイ酸とシリコーン油とが水への導入の際にもはや互いに分離しない物質が生成されるまで実施する。

このマスターバッチを引き続き（親水性の）もしくは水を含有する沈降ケイ酸（例えば工程ｂ）の後の濾過ケーク又は工程ａ）又はｃ）又はｃ）＋ｅ）又はｃ→ｅ）の後のケイ酸分散液）と混合する。この場合に、親水性の沈降ケイ酸の含水率を既に挙げた範囲に低下させることができる。マスターバッチと水性ケイ酸分散液との混合によって安定な混合物が生成し、この場合には疎水化剤、例えばシリコーン油はもはやケイ酸から分離しない。全混合物は、一般に１質量部の疎水化剤、約４〜８質量部の沈降ケイ酸及び２０〜６０質量部の水を含有する。

かかる懸濁液の製造例は、以下の通り行われる：マスターバッチ（５０％のケイ酸及び５０％のシリコーン油）を約１０〜１６倍量の濾過ケーク（固体含有率 約２０％）及び約１０〜２０倍量の付加的な水と激しく混合する。

前記の手順の利点は、水湿潤性のマスターバッチ（７５％までの疎水性オルガノポリシロキサンを含有するにもかかわらず）を直接、ケイ酸懸濁液に非常に微細にかつ安定に分配させることができ、乳化剤又は界面活性剤を使用する必要がないことにある。乾燥又は濾過及び引き続いてのかかる混合物の乾燥の後に、こうして得られたオルガノポリシロキサン含有のケイ酸をコンディショニングすることができる（工程ｇ））。これらの工程は、単独で、場合により予め粉砕をして実施してよい。しかしながら粉砕は被覆ｆ）の前に実施することが望ましくない。また前記の複数の変法、すなわち同一又は異なる変法を互いに実施してもよい。

本発明による方法の以下の実施態様が考えられる：
・ 工程段階ｆ）、ｇ）及びｈ）の１つを複数回（２〜５回）続けて行う。
・ 工程段階ｆ）及びｈ）を複数回（２〜５回）続けて行う。
・ 全ての工程段階ｆ）、ｇ）及びｈ）を複数回（２〜５回）続けて行う、すなわち工程を複数回繰り返し行う。

使用される疎水化剤が難揮発性の化合物であるならば、疎水化剤をケイ酸表面上に前分配させるためには毛管力及び液／固−相界面での拡散プロセスが重要な役割を担う。
有利に使用される疎水化剤が熱処理の過程においてある程度の湿分を有する場合でさえも、液／固−分配はそれにかかわらず重要である。この理由から本願では物理的な前分配、コンディショニング及び熱処理の中で区別される。

熱処理、すなわち工程段階ｈ）は少なくとも１５０℃、有利には少なくとも１７０℃、好ましくは少なくとも１９０℃で実施される。

沈降ケイ酸の粉砕及び選別（工程ｉ））は公知の方法、例えば衝撃選別ミル（Prall-Sichtermuehlen）もしくは流動選別ミル（Strahl-Sichtermuehlen）に従って行われる（Ullmann's Encyclopedia of industrial chemistry、１９９２年、第５版、Ｂ１巻、５−２０頁〜５−３９頁、１７−１頁〜１７−１７頁）。本発明による沈降ケイ酸は、種々のミル、例えば衝撃ミル、気流ミル又は向流ミルにおいて所望の最終微細度にまで粉砕してよい。選別は粉砕の間又はその後に実施してよい。一般に本発明による疎水性の沈降ケイ酸は＜１４μｍ、有利には＜１０μｍ、特に有利には＜７．５μｍ、殊に有利には＜６μｍ、特に＜５μｍの平均粒度ｄ_５０にまで粉砕される。

本発明による沈降ケイ酸は、有利には消泡剤組成物中で激しいフォーム形成を回避するために使用される。

更に本発明によるケイ酸は、全ての使用分野で使用でき、通常はケイ酸は、例えばシリコーンゴムにおける強化充填剤として、ＨＴＶシリコーンゴムにおけるペルオキシドで架橋される系での淡色化添加剤として、流動助剤として、バッテリーセパレータにおいて、粘着防止剤として、着色剤及び塗料における艶消し剤として、担体として、例えば農業製品及び食品の担体として、被覆において、印刷インキにおいて、消火粉末において、プラスチックにおいて、非衝撃式印刷の分野で、パルプにおいて、パーソナルケア及び特定用途の範囲において使用される。

非衝撃式印刷の範囲、例えばインクジェット法で使用することとは、本発明によるケイ酸を
− 印刷インキにおいて増粘のため又は飛散及びオフセットの抑制のために、
− 紙において、充填剤として、被覆顔料として、複写紙、感熱紙において、熱昇華に際して印刷インキのにじみを抑えるために、輪郭可認性（Bildgrundruhe）及びコントラストの改善のために、点鮮明度（Punktschaerfe）及び鮮色性の改善のために使用することを意味し、
− パーソナルケアの範囲での使用とは、本発明によるケイ酸を、例えば薬学又は体の手入れの範囲での充填剤又は増粘剤として使用することを意味する。

測定法
本発明による沈降ケイ酸の物理／化学的データは以下の方法で測定される：
ＢＥＴ表面積の測定
粉末状、球状又は顆粒状のケイ酸の窒素比表面積（以下にＢＥＴ表面積と呼ぶ）はＩＳＯ５７９４−１／付録Ｄに従って面積計（Ｓｔｒｏｅｈｌｅｉｎ社、ＪＵＷＥ）を用いて測定する。

比表面積ＣＴＡＢの測定
該方法はＡＳＴＭ３７６５もしくはＮＦＴ４５−００７（５．１２．１．３章）に従った、ケイ酸の“外”表面上でのＣＴＡＢ（Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムブロミド）の吸着に基づくものである。
ＣＴＡＢの吸着は、撹拌下及び超音波処理下に水溶液中で行われる。吸着されていない過剰のＣＴＡＢをＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート溶液、“Ａｅｒｏｓｉｌ ＯＴ”溶液）での逆滴定によって滴定処理装置を用いて測定し、その際、最終点は溶液の混濁の最大値によって与えられ、それはホトトロード（Phototrode）で測定される。全ての実施される作業の間の温度は、ＣＴＡＢの再結晶を抑制するために２３〜２５℃である。逆滴定は、以下の反応式を基礎とするものである：

装置
・ 滴定処理装置METTLER Toledo ＤＬ５５型及び滴定処理装置ＭＥＴＴＬＥＲ Ｔｏｌｅｄｏ ＤＬ７０型、それぞれｐＨ電極、製品Ｍｅｔｔｌｅｒ ＤＧ１１１型及びホトトロード、製品Ｍｅｔｔｌｅｒ ＤＰ５５０型を備えている
・ 滴定ビーカ、１００ｍｌでポリプロピレン製
・ 滴定ガラス容器、１５０ｍｌで蓋付
・ 圧力濾過装置、１００ｍｌの内容量
・ 硝酸セルロースからなり、細孔サイズ０．１μｍ、径４７ｍｍの膜フィルタ、例えばＷｈａｔｍａｎ（整理番号７１８１−００４）
試薬
ＣＴＡＢの溶液（Ｃ_ＣＴＡＢ＝脱イオン水中５．５ｇ／ｌ）及びＮＤＳＳの溶液（脱イオン水中０．００４２３モル／ｌ）を、即使用可のものとして取り寄せ（Ｋｒａｆｔ社、デュースブルク：整理番号６０５６．４７００、ＣＴＡＢ溶液 ０．０１５モル／ｌ；整理番号６０５７．４７００、ＮＤＳＳ溶液 ０．００４２３モル／ｌ）、２５℃で貯蔵し、そして１ヶ月以内に消費する。

実施
１． 盲目滴定
５ｍｌのＣＴＡＢ溶液の滴定のためのＮＤＳＳ溶液の消費量は毎日１回、各々の測定前に試験すべきである。このためにホトトロードを滴定の開始前に１０００±２０ｍＶに調整する（１００％の透明度に相当する）。正確に５．００ｍｌのＣＴＡＢ溶液を滴定ビーカ中にピペット導入し、そして５０．０ｍｌの脱イオン水を添加する。撹拌しながらＮＤＳＳ溶液での滴定を当業者によく知られた測定法に従って滴定処理装置ＤＬ５５を用いて溶液の最大の混濁度にまで行う。ＮＤＳＳ溶液の消費量Ｖ_Ａをｍｌで規定する。各滴定は三重測定として行うべきである。

２． 吸着
１０．０ｇの粉末状、球状又は顆粒状の湿分５±２％（場合によりその湿分は１０５℃での乾燥室での乾燥又は同時の湿潤によって調整する）を有するケイ酸をミル（Ｋｒｕｐｓ社、モデルＫＭ７５、商品番号２０３０−７０）を用いて３０秒間微粉砕する。微粉砕された試料の正確に５００．０ｍｇ（初期秤量Ｅ）をマグネットスターラを有する１５０ｍｌの滴定容器中に移し、そして正確に１００．０ｍｌのＣＴＡＢ溶液（Ｔ_１）を計量供給する。滴定容器の蓋を閉め、そしてウルトラ−ツラックスＴ２５撹拌機（Ｒｕｅｈｒｗｅｌｌｅ ＫＶ−１８Ｇ、１８ｍｍの直径）を用いて１８０００回転／分で完全に湿潤するまで最大で１分間撹拌する。滴定容器を滴定処理装置ＤＬ７０に固定し、そして懸濁液のｐＨ値をＫＯＨ（０．１モル／ｌ）で９±０．０５の値にまで調整する。ｐＨ値が既にｐＨ＝９より高いのが望ましい場合には、表面積を変更させないためにｐＨ補正を行わない。懸濁液を滴定容器中で超音波浴（Ｂａｎｄｅｌｉｎ社、Ｓｏｎｏｅｒｘ ＲＫ １０６Ｓ、３５ｋＨｚ）において２５℃で４分間超音波処理する。引き続き直ちに圧力濾過を膜フィルタを通して窒素圧１．２バールで行う。最初の５ｍｌの流出物は避ける。

３． 滴定
５．００ｍｌの残りの濾液を１００ｍｌの滴定ビーカ中にピペット導入し、そして脱イオン水で５０．００ｍｌにまで補充する。該滴定ビーカを滴定処理装置ＤＬ５５に固定し、そして撹拌しながらＮＤＳＳ溶液での滴定を最大の混濁度にまで行う。ＮＤＳＳ溶液の消費量Ｖ_Ｂをｍｌで規定する。各混濁は三重測定として行うべきである。

計算

ＣＴＡＢ表面積は水不含のケイ酸に関するものであるため、以下の補正を行う。

ケイ酸の湿分は以下に記載される方法“湿分もしくは乾燥減量の測定”に従って測定される。

炭素含有率の測定
ケイ酸中の炭素含有率の測定は、“Ｃ−ｍａｔ５００”（Stroehlein Instruments社）を用いて行う。試料を約１３５０℃で熱処理し、そして炭素を酸素流により酸化させてＣＯ_２にする。ＣＯ_２を赤外セル中で測定する。その測定では、炭素含有率が１％より大きいか又は小さいかどうかで区別される。均質なケイ酸試料の炭素含有率が１％を上回るのであれば、装置の“高い”領域で測定され、それが１％未満であれば、“低い”領域で測定される。まず対照試料を測定する。このために焼鈍され、室温に冷却された磁製シャーレに０．１４〜０．１８ｇの対照試料を分析計量器で秤量する。計量器が“Ｃ−ｍａｔ”と連結されているので、スタートキーの操作により質量が受け渡される。前記のシャーレは、燃焼管の中央を３０秒以内で移動せねばならない。燃焼の完了後に、測定値をインパルスに変換し、そして計算機により評価する。少なくとも３回の測定（合致に応じて）を実施する。場合により、装置の係数は新たに調整せねばならない（詳細については、条件マニュアル“Ｃ−ｍａｔ５００”、Stroehlein Instruments社を参照のこと）。前記の係数は以下の式により計算される：

引き続きケイ酸試料を測定する。初期秤量は０．０４〜０．０５ｇである。
磁製シャーレを磁製蓋で覆う。偏差＞０．００５％で複数の測定を行い、そして平均値を算出する。“Ｃ−ｍａｔ５００”の操作は、Stroehlein Instruments社の条件マニュアルを引用する。炭素含有率は％で以下のように計算される：
炭素含有率＝（Ｉ*Ｆ*１０^−８）／Ｅ
Ｉ＝インパルス
Ｆ＝係数
Ｅ＝初期秤量（ｇ）
ｐＨ値の測定
ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ７８７−９に従う方法を２０℃でのケイ酸の水性懸濁液のｐＨ値測定のために用いる。ｐＨ測定の実施前に、ｐＨ測定装置（Ｋｎｉｃｋ社、型：７６６の温度センサを有するｐＨ計Ｃｌｉｍａｔｉｃ）及びｐＨ電極（Ｓｃｈｏｔｔ社のＥｉｎｓｔａｂ測鎖、Ｎ７６８０型）をバッファー溶液を使用して２０℃で較正する。較正関数は、２種の使用されるバッファー溶液が見込まれる試料のｐＨ値（ｐＨ４．００及び７．００、ｐＨ７．００及びｐＨ９．００及び場合によりｐＨ７．００及び１２．００を有するバッファー溶液）を計算に入れるように選択する。５．００ｇの粉末状又は球状の、５±１％の湿分含有率（場合により湿分含有率は乾燥室における１０５℃での乾燥又は場合により微粉砕前の同時の湿潤化によって調整される）を有する疎水性のケイ酸を精密計量器で０．０１ｇにまで、事前に補正されたガラス製の広口フラスコ中に秤量する。１００ｍｌを印すまで５０．０ｍｌのメタノール（p.A.）及び５０．０ｍｌの脱イオン水で補充する。引き続き該懸濁液を閉容器中で５分間にわたり振とう器（Gerhardt社、モデルＬＳ１０、５５Ｗ、ステップ７）を用いて２０℃で振盪する。ｐＨ値の測定は引き続いてすぐ行われる。このために電極をまず脱イオン水ですすぎ、次いで懸濁液の一部ですすぎ、そして引き続き懸濁液中に浸漬する。懸濁液中にマグネットフィッシュ（Magnetfisch）を添加した後に、懸濁液が軽く渦を形成する一定の撹拌速度でｐＨ測定を実施する。正確に５分後に、ｐＨ値をディスプレイ上で読み取る。

ＤＢＰ吸収の測定
沈降ケイ酸の吸収度のための尺度であるＤＢＰ吸収（ＤＢＰ数）を基準ＤＩＮ５３６０１に従って以下のように測定する：１２．５０ｇの粉末状又は球状の、０〜１０％の湿分含有率（場合により湿分含有率は乾燥室中での１０５℃での乾燥によって調整される）を有するケイ酸をブラベンダー吸収計“Ｅ”の混練室（商品番号２７９０６１）に投入する（トルク入力の出力フィルタ（Ausgangsfilter）の減衰なく）。粒質物の場合に３．１５〜１ｍｍの篩分級物（Ｒｅｔｓｃｈ社の特殊鋼製シーブ）を使用する（３．１５ｍｍの細孔幅を有するシーブを通してのプラスチックへらによる粒質物の緩やかな圧力の印加による）。永続的に混合して（混練ブレードの回転速度 １２５回転／分）、室温で“Ｄｏｓｉｍａｔｅｎ Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ Ｔ ９０／５０”によってジブチルフタレートを４ｍｌ／分の速度で混合物中に滴加する。混入を低い所要エネルギーでのみ行い、そしてデジタルディスプレイをもとに追跡する。測定の終わりに向かって混合物はペースト状になり、これは所要エネルギーの急上昇により示される。６００桁（０．６Ｎｍのトルク）を指示した場合に、電気接点を通じて混練機もＤＢＰ計量供給も切断する。ＤＢＰ供給のためのシンクロ受信機がデジタル計数器と連結されているので、ＤＢＰの消費量をｍｌで読み取ることができる。ＤＢＰ吸収量はｇ／１００ｇで示され、そして以下の式をもとに計算される：

ＤＢＰ吸収量は水不含の乾燥されたケイ酸について定義されている。湿式の沈降ケイ酸を使用する場合にはＤＢＰ吸収量を計算するために補正値Ｋが考慮される。この値は、以下の補正表をもとに決定でき、例えばケイ酸の含水率５．８％はＤＢＰ吸収量について３３ｇ／（１００ｇ）の上乗せを意味する。ケイ酸の湿分は以下に記載される方法“湿分もしくは乾燥減量の測定”に従って測定される。

ジブチルフタレート吸収（無水）についての湿分補正表

ケイ酸の改変されたシアーズ数の測定
ｐＨ６〜ｐＨ９の範囲の水酸化カリウム溶液によるケイ酸の滴定によって、改変されたシアーズ数（以下にシアーズ数Ｖ_２と呼ぶ）を遊離のヒドロキシ基の数についての尺度として規定できる。測定法は、以下の化学反応に基づき、その際、"Ｓｉ"−ＯＨはケイ酸のシラノール基を抽象化するものである：
“Ｓｉ”−ＯＨ＋ＮａＣｌ→“Ｓｉ”−ＯＮａ＋ＨＣｌ
ＨＣｌ＋ＫＯＨ→ＫＣｌ＋Ｈ_２Ｏ
１０．００ｇの粉末状の、球状の又は顆粒状の５±１％の湿分を有するケイ酸をＩＫＡユニバーサルミルＭ２０（５５０Ｗ、２００００回転／分）で６０秒間微粉砕する。場合により、出発物質の湿分含有率を乾燥室中での１０５℃での乾燥又は同時の湿潤化によって調整し、そして微粉砕を繰り返さねばならない。２．５０ｇのこうして処理されたケイ酸を、室温で２５０ｍｌの滴定容器中に秤量し、６０．０ｍｌのメタノール（p.A.）を混合する。試料の完全な湿潤化後に、４０．０ｍｌの脱イオン水を添加し、そしてウルトラ−ツラックスＴ２５撹拌機（Ruehrwelle KV-18G、１８ｍｍの直径）を用いて１８０００回転／分の回転数で３０秒間分散させる。１００ｍｌの脱イオン水で容器の縁及び撹拌機に付着した試料粒子を懸濁液中にすすぎ、そして熱恒常性の水浴中で２５℃に加熱する。ｐＨ測定装置（Ｋｎｉｃｋ社、型：７６６の温度センサを有するｐＨ計Ｃｌｉｍａｔｉｃ）及びｐＨ電極（Ｓｃｈｏｔｔ社のＥｉｎｓｔａｂ測鎖、Ｎ７６８０型）をバッファー溶液（ｐＨ７．００及び９．００）を使用して室温で較正する。ｐＨ計を用いて、まず懸濁液の出発ｐＨ値を２５℃で測定し、次いで水酸化カリウム溶液（０．１モル／ｌ）もしくは塩酸溶液（０．１モル／ｌ）での結果に応じてｐＨ値を６．００に調整する。ＫＯＨ溶液もしくはＨＣｌ溶液のｐＨ６．００までの消費量（ｍｌ）はＶ_１′に相当する。次いで２０．０ｍｌの塩化ナトリウム溶液（２５０．００ｇのＮａＣｌ（p.A.）を脱イオン水で１ｌにまで補充する）を計量供給する。次いで０．１モル／ｌのＫＯＨでｐＨ値９．００までの滴定を継続する。ＫＯＨ溶液のｐＨ９．００までの消費量（ｍｌ）はＶ_２′に相当する。引き続き容量Ｖ_１′もしくはＶ_２′をまず１ｇの理論上の初期秤量に規格化し、そして５をかけ、そこからＶ_１及びシアーズ数Ｖ_２を単位ｍｌ／（５ｇ）という結果にする。

メタノール湿潤性の測定
疎水性のケイ酸とケイ酸塩をメタノールの添加によって水湿潤性にすることができる。これは、種々の濃度のメタノール−水−混合物によって行う。こうしてケイ酸又はケイ酸塩の疎水化度によって表現できる。

実施：
内容量１５ｍｌの６つの遠心分離ガラス容器においてそれぞれ２００ｍｇの疎水性のケイ酸又はケイ酸塩を秤量し、そして各ガラス容器に８ｍｌのメタノール−水−混合物をメタノール濃度を増大させて添加する。混合物のメタノール濃度は見込まれるメタノール湿潤性に従う。遠心分離ガラス容器を密閉し、次いで激しく振盪する（１０回上下に動かす）。湿潤されたケイ酸−ケイ酸塩成分の分離のために、前記ガラス容器を次いで２５００ｒｐｍで５分間遠心分離する。湿潤された成分は沈殿物を形成し、その容量は遠心分離ガラス容器のスケールから読み取る。沈殿物容量をメタノール／水−混合物濃度に対してグラフにプロットする。幾つかの測定点によりカーブが得られ（ｘ軸：メタノール／水−混合物のメタノール割合、ｙ軸：沈殿物の高さ）、その高さ及び勾配は沈降ケイ酸の疎水化度を特徴付けるものである。疎水化のための尺度として、カーブの変曲点でのｘ軸値（％）が示される。

平均粒度（ｄ _５０ ）の測定
粒度測定のためのレーザ回折の使用は、単色光の粒子が種々の強度パターンで全ての方向に散乱するという現象に基づくものである。この散乱は粒度に依存する。粒子が小さければ小さいほど、散乱角は大きくなる。

試料の準備
５０ｍｌのねじ込み式ガラス容器において、４ｍｌの粉末を３０ｍｌのエタノールと振盪によって混合する。

実施：
測定開始前に、レーザ回折装置ＬＳ２３０（COULTER社）及び送液モジュール（Fluessigkeitsmodul）（Ｓｍａｌｌ Ｖｏｌｕｍｅ Ｍｏｄｕｌｅ Ｐｌｕｓ、１２０ｍｌ、ＣＯＵＬＴＥＲ社）を２時間加温させ、そして該モジュールを３回エタノールですすぐ。オフセット測定及び調整を装置により１時間ごとに自動的に行う。装置ソフトウェアのコントロールバーで、メニューポイント"測定"を介してデータウインドウ"光学モデルを計算する"を選択し、そして計算指数をｒｆｄデータに固定する：液体計算指数Ｂ．Ｉ実部＝１．３３３；材料計算指数実部＝１．４６；虚部＝０．１。ポンプ速度を５０％に調整する。基本的に各測定前に自動的にバックグラウンド測定を実施する。秤量ピペットを各試料採取前に懸濁液で３回すすぐ。約２ｍｌの懸濁液をピペットで採取し、直ちに１〜３滴を装置の送液モジュール中に供給する。秤量ピペット中の残りをガラスビーカ中に戻す。添加後に、レーザ回折装置が一定の濃度を示すまで待機する。吸光８〜１２％が達成され、装置が“ＯＫ”を報告するまで懸濁液を供給する。測定は室温で前記の固定されたｒｆｄデータの評価モデルで行う。まず粒子測定を超音波を用いずに実施する。次いで同じ試料の第二の測定、第三の測定及び第四の測定を行い、そこでは２０Ｗの出力で超音波装置（ＳＯＮＩＣＳ ＶＩＢＲＡＣＥＬＬ）を１分間、２分間及び３分間作動させる。測定が互いに実質的に相違する場合には、測定を繰り返さねばならない。その差異が繰り返し後にも存在するのであれば、単峰性のガウス粒度分布に最も近い測定を示す。こうして、例えば典型的に、超音波処理せずに測定する場合には噴霧乾燥され、疎水化された未粉砕の試料は再現的な、実質的に単峰性の粒度分布を示す。疎水化された微粉砕の試料の場合には、再現的な、ほぼ単峰性の粒度分布が屡々２〜３分の超音波処理後に初めて示される。非常に微細な試料の場合に、ある程度のより長い超音波処理で凝集現象が生じることがある。疑わしい場合には全ての値を挙げるか、又は測定値を相応して特徴付ける。この場合に、０分、１分、２分、３分の超音波処理に関して略語は：１分ＵＳ、１分ＵＳ、２分ＵＳ及び３分ＵＳである。生データカーブから、そのソフトウェアは、Ｍｉｅ理論及び光学モデルパラメータ（ｒｆｄデータ）を考慮して容量分布を基礎として粒度分布を計算する。

濾過ケークの固体含有率の測定
乾式の補正された磁製シャーレ（直径２０ｃｍ）に１００．００ｇの濾過ケークを秤量する（初期秤量Ｅ）。場合により濾過ケークを最大で１ｃｍ^３の緩い破片を得るためにへらで砕く。該試料を１０５±２℃で乾燥室中で質量が一定になるまで乾燥させる。引き続き試料をデシケータ室中で乾燥剤としてのシリカゲルと一緒に冷却する。最終秤量Ａは重量法で測定する。

固体含有率を％で
ＦＧ＝Ａ／Ｅ*１００
に従って、
ＦＧ＝固体含有率（％）
Ａ＝最終秤量（ｇ）
Ｅ＝初期秤量（ｇ）
で測定する。

懸濁液の固体含有率の測定
懸濁液の固体含量を重量法で試料の濾過後に測定する。

実施
均質化された沈降懸濁液１００．０ｍｌ（Ｖ_懸濁液）を室温でメスシリンダーを用いて測定する。該試料を丸形フィルタ（５７２型、SCHLEICHER & SCHUELL社）を介して磁製ヌッチェにおいて濾過するが、濾過ケークの亀裂形成を避けるために吸引乾燥は行わない。引き続き濾過ケークを１００．０ｍｌの脱イオン水で洗浄する。洗浄された濾過ケークを完全に濾過し、補正された磁製シャーレに移し、そして１０５±２℃で乾燥室中で質量が一定になるまで乾燥させる。乾燥されたケイ酸の質量（ｍ_試料）を測定する。固体含有率をｇ／ｌで、
固体含有率＝ｍ_試料／Ｖ_懸濁液に従って、
ｍ_試料＝乾燥されたケイ酸の質量、
Ｖ_懸濁液＝調査される沈降懸濁液の容量
で測定する。

湿分もしくは乾燥減量の測定
ケイ酸の湿分又は乾燥減量（ＴＶ）をＩＳＯ７８７−２に従って１０５℃で２時間乾燥させた後に測定する。この乾燥減量は、主に水湿分からなる。すり合わせ蓋を有する乾式のはかりびん（直径８ｃｍ、高さ３ｃｍ）に、１０ｇの粉末状の、球状の又は顆粒状のケイ酸を０．１ｍｇに正確に秤量する（初期秤量Ｅ）。該試料を蓋を開けた状態で１０５±２℃で２時間乾燥室中で乾燥させる。引き続きはかりびんを閉じ、そしてデシケータ室中で乾燥剤としてのシリカゲルと一緒に冷却する。はかりびんを最終秤量Ａの測定のために精密計量器で０．１ｍｇにまで正確に秤量する。湿分（ＴＶ）を％で
ＴＶ＝（１−Ａ／Ｅ）*１００
に従って、
Ａ＝最終秤量（ｇ）
Ｅ＝初期秤量（ｇ）
で測定する。

強熱減量の測定
前記の方法の後にケイ酸の質量損失をＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ３２６２−１に従って１０００℃で測定する。前記の温度で物理的に及び化学的に結合された水並びに別の揮発性成分を抜く。調査される試料の湿分（ＴＶ）を前記の方法“湿分もしくは乾燥減量の測定”によりＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ７８７−２に従って測定する。０．５ｇの粉末状の、球状の又は顆粒状のケイ酸を０．１ｍｇに正確に、予熱され、補正された磁製坩堝中に秤量する（初期秤量Ｅ）。試料を２時間１０００±５０℃でマッフル炉中で加熱する。引き続き磁製坩堝をデシケータ室中で乾燥剤としてのシリカゲルと一緒に冷却する。最終秤量Ａは重量法で測定する。強熱減量（ＤＩＮ）ＧＶを％でＧＶ＝（１−Ａ／Ｆ）*１００に従って得る。

Ｆは乾燥された物質に対する補正された初期秤量（ｇ）を意味し、
Ｆ＝Ｅ*（１−ＴＶ／１００）
に従って計算する。
その計算においてＡ＝最終秤量（ｇ）を意味し、Ｅ＝初期秤量（ｇ）を意味し、そしてＴＶ＝乾燥減量（％）を意味する。

嵩密度の測定
嵩密度の測定をＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ７８７−１１に従って行う。まだ篩別されていない試料の規定量を測定用ガラスシリンダーに満たし、そして嵩容積計を用いて固定回数の突き固めを行う。突き固めの間に試料は圧縮される。実施された調査の結果として嵩密度が得られる。その測定はＥｎｇｅｌｓｍａｎｎ社、ルートヴィヒスハーフェン、ＳＴＡＶ２００３型の計数器を有する嵩容積計で実施する。まず２５０ｍｌのガラスシリンダーを精密計量器で補正する。引き続き２５０ｍｌのケイ酸を粉末漏斗を用いて、補正されたメスシリンダー中に中空部が形成しないように満たす。これは、シリンダーの傾斜及びその長軸の周りの回転によって充填の間に達成される。引き続き試料の量を０．０１ｇにまで正確に秤量する。次いでシリンダーを軽くたたくと、シリンダー中のケイ酸の表面は水平になる。メスシリンダーを嵩容積計のメスシリンダーホルダ中にはめ込み、そして１２５０回突き固める。突き固められた試料の容量を１回の突き固め行程の後に正確に１ｍｌまで読み取る。嵩密度Ｄ（ｔ）を以下のように計算する：
Ｄ（ｔ）＝ｍ*１０００／Ｖ
その際、
Ｄ（ｔ）：嵩密度（ｇ／ｌ）
Ｖ：突き固め後のケイ酸の容量（ｍｌ）
ｍ：ケイ酸の質量（ｇ）
以下の実施例は本発明を詳細に説明するものであり、その範囲を制限するためのものではない。

実施例１：
８０ｌの沈降容器中に６３ｌの脱イオン水を装入し、そして８８℃に加熱する。前記の装入物に水ガラス（水硬率＝３．５、密度１．３４３ｇ／ｍｌ）を６．５ｌ／時間の供給速度で、かつ硫酸（濃度＝７．１６７モル／ｌ）を１．５６ｌ／時間の供給速度で、ｐＨ値が８．０〜８．５（６０℃に温められた試料で測定）に保持されるように計量供給する。１０５分後に計量供給を完了する。引き続き沈降懸濁液を硫酸（濃度＝７．１６７モル／ｌ）で前記と同じ供給速度でｐＨ値３．５にまで酸性化させ、そして乾燥室において５０℃で１２時間にわたり後処理する。懸濁液を濾過し、そして脱イオン水で十分に洗浄する。得られた濾過ケークの固体含有率は１５〜１７％である。濾過ケークを、脱イオン水を装入し、そして慎重に撹拌しながら、固体含有率６〜１１％のケイ酸懸濁液が生じるように液状化させる。次いでこの懸濁液をＮａＯＨ溶液（５０質量％）でｐＨ値９に調整する。その直後に、懸濁液の噴霧乾燥を行う（乾燥出発温度１３０℃）。噴霧乾燥の後に、沈降ケイ酸を撹拌しながら混合装置（Ｍ５Ｒ、ＬＯＥＤＩＧＥ社）中でシリコーン油（メチル末端基を有するジメチルポリシロキサン、５０ｍＰａｓ、例えばＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ^（Ｒ）２００ＦＬＵＩＤ ５０ ＣＳ、約３３％の炭素含有率）で一様に噴霧し、そして２００℃で３時間マッフル炉において熱処理する。乾燥された沈降ケイ酸を衝撃選別ミル（５０ＺＰＳ、ＨＯＳＯＫＡＷＡ−ＡＬＰＩＮＥ社）を用いて粉砕する。

得られた生成物は以下の物理化学的パラメーターを有する：

実施例２及び比較例１〜２
実施例２及び比較例１〜２において、沈降ケイ酸を発泡剤組成物中でのその特性に関して調査する。沈降ケイ酸の特性をこの場合には、広い範囲の工業的に使用される組成物及び使用分野をカバーするモデル組成物で調査する。

有用な配合のための基本条件は、高分散性の沈降ケイ酸の選択された油中への効果的な分散工程である。この場合に、沈降ケイ酸はできる限り油相中に均質に分配され、沈降ケイ酸は高すぎる剪断力によっても分解しないようになる。

沈降ケイ酸のシリコーン油中の分散液の製造
試薬
・ シリコーン油“ＤＣ２００／１００ｃｓ”（ポリジメチルシロキサン、Dow Corning社、１９９８年３月３１日のデータシート）
・ 疎水性の沈降ケイ酸
装置
・ 分析計量器
・ ガラスビーカ２５０ｍｌ、高さ：１２０ｍｍ；直径：６０ｍｍ
・ ウルトラ−ツラックスＴ５０（Janke & Kunkel社）
実施
シリコーン油分散液の製造：
２５０ｍｌのガラスビーカ中に分析計量器で７．００ｇのシリコーン油と３．００ｇの試験されるべき沈降ケイ酸を秤量する。沈降ケイ酸を完全に湿潤されるまでへらでかき混ぜる。引き続きウルトラ−ツラックスＴ５０で１０分間、１００００回転／分で分散させる。この場合に分散液は加熱されうる。分散液が室温にまで冷却されたら、該分散液を応用技術的試験のために使用できる。

沈降ケイ酸の鉱油中の分散液の製造
試薬
・ 鉱油“SHELL RISELLA Oil G 18”（Deutsche Shell社、データシートＶＳＶ−Ｔ（Ｆ）７ｖ、１９９６年８月）
・ 疎水性の沈降ケイ酸
装置
・ 分析計量器
・ ガラスビーカ２５０ｍｌ、高さ：１２０ｍｍ；直径：６０ｍｍ
・ ウルトラ−ツラックスＴ５０（Janke & Kunkel社）
実施
２５０ｍｌのガラスビーカ中に分析計量器で５７．００ｇの鉱油と３．００ｇの試験されるべき沈降ケイ酸を秤量する。沈降ケイ酸を完全に湿潤されるまでへらでかき混ぜる。引き続きウルトラ−ツラックスＴ５０で１０分間、１００００回転／分で分散させる。この場合に分散液は加熱されうる。分散液が室温にまで冷却されたら、該分散液を応用技術的試験のために使用できる。

消泡作用の試験
この消泡試験は、活発な発泡性系を表現するために特に適当である。

試薬：
・ 以下のものからなる試験洗剤：
− ナトリウムドデシルベンゾスルホネート（Ｍａｒａｎｉｌ^（Ｒ）Ｐａｓｔｅ Ａ ５５、Cognis Dtl. GmbH & Co. KG社、改訂版データシート−番号９−０１．２０００）
１１．６７％
− 約５モルのＥＯを有するＣ_１６〜Ｃ_１８−脂肪アルコール（Ｄｅｈｙｄｏｌ^（Ｒ）ＴＡ５、Cognis Dtl. GmbH & Co. KG社、改訂版データシート−番号３−０１．１９９８）
１．２１％
− 約７モルのＥＯを有するＣ_１２〜Ｃ_１８−脂肪アルコール（Ｄｅｈｙｄｏｌ^（Ｒ）ＬＴ７、Cognis Dtl. GmbH & Co. KG社、改訂版データシート−番号６−０８．１９９９）
７．２４％
− １−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（Dequest 2010、Brenntag N.V社）
０．２８％
− マレイン酸／アクリル酸−コポリマーのナトリウム塩（Sokolan CP5、ＢＡＳＦ ＡＧ社、データシートＴＩ／ＥＳ １０８１ｄｖ、１９９０年５月）
６．５２％
− ゼオライトＡ化合物（Wessalith 4020、Ｈｅｎｋｅｌ ＫＧａＡ社）
３６．５８％
二ケイ酸ナトリウム（Portil N、Cognis Dtl. GmbH & Co. KG社）
３．２６％
− 炭酸ナトリウム
１８．１１％
− 硫酸ナトリウム
１５．１３％
試験洗剤の製造のために、全ての粉末状原料を商慣習の測定装置、例えばレーディゲミキサーに装入する。液状の原料を撹拌下に粉末状で噴霧する。全ての液状の原料を噴霧したら、均質な分配を達成するために約１０分間更に混合せねばならない。
・ 沈降ケイ酸のシリコーン油分散液又は鉱油分散液
装置：
・ ＣＯＮＴＩＦＯＡＭ装置
・ ノズルを有する歯車ポンプ
・ サーモスタット
・ 加熱板
・ マグネットスターラー
・ マイクロリットルピペット
ポンプ試験装置を図１に示す。該装置は、二重壁ガラス容器（１）、温度調節される油浴、歯車ポンプ（２）並びにフォトセルによるフォーム高さ検出器（３ａ及び３ｂ）からなる。まず６ｇの試験洗剤を９９４ｇの水に混ぜることによって洗浄液を製造する。水酸化ナトリウム液を添加することにより該洗浄液をｐＨ１３に調整する。試験実施のために５００ｍｌの前記の洗浄液を事前にガラス容器（１）に注入する。洗浄液をガラス容器中で６０℃に加熱し、そして歯車ポンプ（２）を作動させることにより吐き出し量１２００ｍｌ／分でノズル（図２）を通して流し、その際、洗浄液は発泡する。使用されるノズルはFeiedrichs-Antlingerによる水流ポンプ（整理番号１８１−９４０１；カタログ“ＶＷＲ”、２００３年）である。歯車ポンプの作動と同時に測定を開始する。最大のフォーム高さに達成した後に、試験されるべき消泡剤分散液（鉱油分散液の場合０．０７ｍｌ、そしてシリコーン油分散液の場合０．０１ｍｌ）をマイクロリットルピペットで１回でフォーム溶液に添加し、そしてフォーム高さの時間的展開を時間の関数として記録する。
カーブの経過図を図３に示す。歯車ポンプを作動させた後にフォームは（５）に沿って高まる。規定のフォーム高さに到達したら、消泡剤組成物を注入する（６）。フォームは崩壊する。消泡剤組成物の品質に応じて、残留フォーム高さが生じる。特性パラメータ“ノックダウン”（７）は、消泡剤の能力であって、その添加直後にフォーム高さが規定のフォーム高さまで低下させる能力を説明するものである。そのパラメータは、消泡剤組成物の添加時点までのフォーム高さと最低残留フォーム高さとの差として定義される。消泡剤組成物の添加と最低のフォーム高さとの間に経過する時間をノック−ダウン−時間（８）と呼ぶ。消泡作用についての試験の更なる経過において、消泡剤組成物の作用はその品質に応じて様々に迅速に再び弱まる。フォーム高さは（９）に沿って再び高まる。消泡剤組成物の添加後の最低フォーム高さの到達の時点とフォーム高さが２００ｍｍに再び到達するまでの時間との間に経過する時間は特性パラメータのホールド−ダウン（１０）によって特徴付けられる。ホールドダウンは、消泡剤の停止時間、すなわち作用時間のための尺度である。フォーム高さが２００ｍｍ未満に低下しない消泡剤組成物はホールド−ダウンを割り当てられない。フォーム形成／フォーム量の程度は、とりわけ流量、ノズル形状もしくはその他で調節される。この試験方法の利点は、試験溶液として、種々の水性の熱調節されたフォーム溶液を動的な実践に近い条件下に試験できることである。更に、消泡剤の制御は規定の時間にわたり行われる。消泡剤、従ってそこに存在するケイ酸が作用を有するかどうかを表現できるだけでなく、どれほど迅速に作用が始まるか、どれほど作用が強いか、そしてどれほど長く保持されるかを表現できる。消泡剤の作用の減衰は公知の現象であり、極条件（高い温度、高いアルカリ性、高い剪断力）によっても促進される。この条件は例外なく調整できるので、どのケイ酸を油と組み合わせて実践に近い条件下で最良の消泡特性を有するかを表現することが可能である。

実施例２：
実施例１による生成物から、鉱油分散液とシリコーン油分散液を製造し、消泡作用について調査する。

比較例１：
比較例１として、疎水性の沈降ケイ酸であるＳｉｐｅｒｎａｔ Ｄ１０（デグサＡＧ社）から鉱油分散液とシリコーン油分散液を製造し、そして消泡作用を試験する。

比較例２：
比較例２は、特許文献ＥＰ１２８１７３５号の実施例２からの疎水性の沈降ケイ酸が問題となっている。この沈降ケイ酸から、鉱油分散液とシリコーン油分散液を製造し、消泡作用について調査する。

実施例２と比較例１〜２についての消泡作用についての試験に関するカーブの経過を図４（鉱油分散液について）及び図５（シリコーン油分散液について）に示す。

図１は本発明で使用されるポンプ試験装置を示している 図２は本発明で使用されるノズルを示している 図３はフォーム高さの時間的展開を時間の関数として記録したカーブの経過図を示している 図４は消泡作用についての試験に関するカーブの経過図（鉱油分散液について）を示している 図５は消泡作用についての試験に関するカーブの経過図（シリコーン油分散液について）を示している

符号の説明

１ 二重壁ガラス容器、 ２ 歯車ポンプ、 ３ａ，３ｂ フォーム高さ検出器

Claims (35)

1. 消泡剤用の疎水性の沈降ケイ酸であって、
   ＢＥＴ表面積 ４０〜８０ｍ^２／ｇ
   ＣＴＡＢ表面積 ５０〜９０ｍ^２／ｇ
   ＢＥＴ表面積／ＣＴＡＢ表面積−比 ０．５〜０．９９
   炭素含有率 ６〜１２％
   ｐＨ値 ＞９
   を特徴とする疎水性の沈降ケイ酸。
2. ＤＢＰ＜２３０ｇ／（１００ｇ）を有する、請求項１記載の疎水性の沈降ケイ酸。
3. 改変されたシアーズ数が６ｍｌ／（５ｇ）未満である、請求項１又は２記載の疎水性の沈降ケイ酸。
4. シラノール基密度、すなわち改変されたシアーズ数とＢＥＴとの比が０．０５ｍｌ／（５ｍ^２）未満である、請求項１から３までのいずれか１項記載の疎水性の沈降ケイ酸。
5. ５０％より高いメタノール湿潤性を有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の疎水性の沈降ケイ酸。
6. １４μｍ未満の平均粒度ｄ_５０を有する、請求項１から５までのいずれか１項記載の疎水性の沈降ケイ酸。
7. 請求項１〜６いずれかに記載の消泡剤用の疎水性の沈降ケイ酸の製造方法であって、以下の工程：
   ａ）沈降ケイ酸を沈降させる工程、
   ｂ）濾過工程、
   ｃ）濾過ケークを水の添加により液状化させる工程、
   ｄ）懸濁液を乾燥させる工程、
   ｈ）１５０℃を超える温度での熱処理を実施する工程、及び
   ｉ）疎水性の沈降ケイ酸を粉砕する工程
   を有する方法であって、以下の工程
   ｅ）沈降ケイ酸を少なくとも１種の塩基性剤の添加によりアルカリ性化する工程を実施し、そして更に該沈降ケイ酸を
   ｆ）少なくとも１種の疎水化剤及び沈降ケイ酸、沈降ケイ酸分散液又は沈降ケイ酸濾過ケークからなる混合物を製造する工程において疎水化剤で被覆することを特徴とする方法。
8. 工程ａ）を以下の下位工程
   ａａ）水又は水と水ガラスとからなる初充填を６０℃〜１００℃の温度に加熱する工程
   ａｂ）前記の初充填に水ガラスと酸とを同時に添加する工程
   ａｃ）酸性化剤を添加することによってｐＨ値を低下させる工程
   を実施する、請求項７記載の方法。
9. 工程ａｃ）の後に、以下の工程
   ａｄ）沈降懸濁液を１０℃〜９５℃で０〜７２時間にわたり熟成させる工程
   を実施する、請求項８記載の方法。
10. 工程ａｂ）でのｐＨ値を７〜１１の値に保持する、請求項８又は９記載の方法。
11. 工程ａｂ）での反応溶液の温度を、６０〜１００℃の値に保持する、請求項８から１０までのいずれか１項記載の方法。
12. 水ガラスと酸性化剤の同時の添加を４０〜７０ｇ／ｌの固体濃度まで継続してから停止させる、請求項８から１１までのいずれか１項記載の方法。
13. 工程ａｃ）でのｐＨ値を酸性化剤の添加によって２〜８に調整する、請求項８から１２までのいずれか１項記載の方法。
14. 工程ｅ）を工程ｃ）と同時に実施する、請求項７から１３までのいずれか１項記載の方法。
15. 工程ｅ）を工程ｃ）の後に、しかしながら工程ｄ）の前に実施する、請求項７から１３までのいずれか１項記載の方法。
16. 工程ｅ）を工程ｄ）の後に実施する、請求項７から１３までのいずれか１項記載の方法。
17. 工程ｅ）での沈降ケイ酸又は懸濁液のｐＨ値を塩基性剤の添加によって７〜１１に調整する、請求項７から１６までのいずれか１項記載の方法。
18. 塩基性剤が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ土類金属ケイ酸塩、アンモニア及びアルカリ金属アルミン酸塩又は前記の塩基の水溶液又は混合物の群から選択される、請求項７から１７までのいずれか１項記載の方法。
19. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、疎水化剤を含水率１．０〜８０質量％を有する沈降ケイ酸に添加するように行う、請求項７から１８までのいずれか１項記載の方法。
20. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、疎水化剤を含水率７０〜９９質量％を有する沈降ケイ酸に添加するように行う、請求項７から１８までのいずれか１項記載の方法。
21. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、疎水化剤と沈降ケイ酸とをスピン−フラッシュ乾燥器に同時に供給することによって行う、請求項７から１８までのいずれか１項記載の方法。
22. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、疎水化剤を沈降ケイ酸の懸濁液又は分散液中に添加することによって行う、請求項７から１８までのいずれか１項記載の方法。
23. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、事前に乾燥された沈降ケイ酸と疎水化剤とを混合することによって行う、請求項７から１８までのいずれか１項記載の方法。
24. 疎水化剤を既にアルカリ性化された沈降ケイ酸と混合する、請求項１９から２３までのいずれか１項記載の方法。
25. 工程ｅ）でのアルカリ性化を疎水化剤と沈降ケイ酸との混合の後に行う、請求項１９から２３までのいずれか１項記載の方法。
26. 疎水化剤としてオルガノポリシロキサン誘導体又は選択された反応条件下に反応してオルガノポリシロキサンが得られるケイ素化合物を使用する、請求項７から２５までのいずれか１項記載の方法。
27. 疎水化剤で被覆された沈降ケイ酸又は沈降ケイ酸と疎水化剤との混合物を工程ｇ）で１０〜１５０℃において０．５〜７２時間にわたりコンディショニングする、請求項７から２６までのいずれか１項記載の方法。
28. コンディショニングを１００〜１５０℃で０．５〜２時間にわたり行う、請求項２７記載の方法。
29. 工程ｇ）に引き続き工程ｈ）を行う、請求項７から２８までのいずれか１項記載の方法。
30. 工程ｆ）での疎水化剤と沈降ケイ酸との混合を、工程ｇ）により得られる既にコンディショニングされた沈降ケイ酸と親水性の沈降ケイ酸との混合によって行う、請求項７から２９までのいずれか１項記載の方法。
31. 工程ｇ）によるコンディショニングされた沈降ケイ酸を親水性の沈降ケイ酸の濾過ケーク又は懸濁液又は分散液と混合する、請求項３０記載の方法。
32. 工程段階ｆ）、ｇ）及びｈ）の１つを複数回続けて実施する、請求項７から３１までのいずれか１項記載の方法。
33. 工程段階ｆ）及びｈ）を複数回続けて実施する、請求項７から３１までのいずれか１項記載の方法。
34. 工程段階ｆ）、ｇ）及びｈ）を複数回続けて実施する、請求項７から３１までのいずれか１項記載の方法。
35. 消泡剤組成物における、請求項１から６のいずれか１項記載の疎水性の沈降ケイ酸の使用。

Images