JP2022506689A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2022506689A5
JP2022506689A5 JP2021524229A JP2021524229A JP2022506689A5 JP 2022506689 A5 JP2022506689 A5 JP 2022506689A5 JP 2021524229 A JP2021524229 A JP 2021524229A JP 2021524229 A JP2021524229 A JP 2021524229A JP 2022506689 A5 JP2022506689 A5 JP 2022506689A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
atomizing
spray
channel
cleaned
nozzle
Prior art date
Application number
JP2021524229A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7179985B2 (ja
JP2022506689A (ja
JPWO2020094053A5 (https=
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201811324019.6A external-priority patent/CN111162023B/zh
Application filed filed Critical
Publication of JP2022506689A publication Critical patent/JP2022506689A/ja
Publication of JPWO2020094053A5 publication Critical patent/JPWO2020094053A5/ja
Publication of JP2022506689A5 publication Critical patent/JP2022506689A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7179985B2 publication Critical patent/JP7179985B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021524229A 2018-11-08 2019-11-06 噴霧デバイスおよび洗浄装置 Active JP7179985B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811324019.6 2018-11-08
CN201811324019.6A CN111162023B (zh) 2018-11-08 2018-11-08 喷淋装置及清洗设备
PCT/CN2019/115971 WO2020094053A1 (zh) 2018-11-08 2019-11-06 喷淋装置及清洗设备

Publications (4)

Publication Number Publication Date
JP2022506689A JP2022506689A (ja) 2022-01-17
JPWO2020094053A5 JPWO2020094053A5 (https=) 2022-04-07
JP2022506689A5 true JP2022506689A5 (https=) 2022-04-07
JP7179985B2 JP7179985B2 (ja) 2022-11-29

Family

ID=70555383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021524229A Active JP7179985B2 (ja) 2018-11-08 2019-11-06 噴霧デバイスおよび洗浄装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11504727B2 (https=)
EP (1) EP3879562A4 (https=)
JP (1) JP7179985B2 (https=)
CN (1) CN111162023B (https=)
TW (1) TWI738108B (https=)
WO (1) WO2020094053A1 (https=)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CL2018000341A1 (es) * 2018-02-06 2018-07-06 Ingeagro Eirl Dispositivo y método de aplicación electrostática.
CN111696852A (zh) * 2020-06-22 2020-09-22 徐文凯 第三代半导体的清洗方法
CN113921425A (zh) * 2021-09-30 2022-01-11 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体清洗设备及其控制方法
US20230415204A1 (en) * 2022-06-23 2023-12-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Wet cleaning tool and method
CN115213158B (zh) * 2022-08-05 2023-08-11 无锡京运通科技有限公司 制备薄片化单晶硅片减投清洗剂的加药装置
CN116145453B (zh) * 2022-09-08 2025-02-07 浙江临安金洲纸业有限公司 一种造纸用的清洗装置
CN115569897A (zh) * 2022-09-26 2023-01-06 厦门立林高压电气有限公司 电路板喷淋清洗设备
CN115709439B (zh) * 2022-11-03 2024-10-01 大连理工大学 一种增材制造槽道热管内壁的纳米多相射流复合抛光装置及方法
US20240153811A1 (en) * 2022-11-07 2024-05-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same
CN117165924B (zh) * 2023-11-03 2024-02-02 江苏微导纳米科技股份有限公司 一种喷淋装置、处理设备及处理设备的喷淋工艺
CN117690826B (zh) * 2023-12-12 2024-06-21 苏州恩腾半导体科技有限公司 一种晶圆处理系统和方法
CN118476884B (zh) * 2024-07-15 2024-09-20 南通大学附属医院 一种医用清洁喷嘴
CN120618725B (zh) * 2025-08-18 2025-12-16 上海芯源微企业发展有限公司 一种双流体喷嘴及基板处理设备

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3561444A (en) * 1968-05-22 1971-02-09 Bio Logics Inc Ultrasonic drug nebulizer
US3866831A (en) * 1973-10-10 1975-02-18 Research Corp Pulsed ultrasonic nebulization system and method for flame spectroscopy
US4343433A (en) * 1977-09-29 1982-08-10 Ppg Industries, Inc. Internal-atomizing spray head with secondary annulus suitable for use with induction charging electrode
JPH01107860A (ja) * 1987-10-19 1989-04-25 Inoue Japax Res Inc 噴射ノズル
GB9306680D0 (en) * 1993-03-31 1993-05-26 The Technology Partnership Ltd Fluid droplet apparatus
JP2000000533A (ja) 1998-06-15 2000-01-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄方法及び基板洗浄ノズル並びに基板洗浄装置
US7451774B2 (en) 2000-06-26 2008-11-18 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for wafer cleaning
US6951221B2 (en) * 2000-09-22 2005-10-04 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing apparatus
US6705331B2 (en) * 2000-11-20 2004-03-16 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Substrate cleaning apparatus
US7524771B2 (en) * 2002-10-29 2009-04-28 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing method using alkaline solution and acid solution
TWI251857B (en) * 2004-03-09 2006-03-21 Tokyo Electron Ltd Two-fluid nozzle for cleaning substrate and substrate cleaning device
WO2009096346A1 (ja) * 2008-01-31 2009-08-06 Mitsubishi Electric Corporation 超音波発生装置及びそれを備えた設備機器
CN101607237B (zh) 2009-07-14 2011-06-15 武汉科技大学 一种气液两相旋流大口径细雾喷嘴
KR20110090120A (ko) * 2010-02-02 2011-08-10 주식회사 듀라소닉 초음파 세정장치 및 그 방법
JP5852898B2 (ja) * 2011-03-28 2016-02-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN103446691A (zh) 2013-09-13 2013-12-18 中国科学技术大学 一种基于气泡雾化的微水雾喷头
JP6282850B2 (ja) 2013-11-22 2018-02-21 株式会社荏原製作所 基板洗浄装置および基板処理装置
CN103779186B (zh) * 2014-02-20 2016-09-14 北京七星华创电子股份有限公司 气液两相雾化流量可控清洗装置及清洗方法
JP6253460B2 (ja) 2014-03-12 2017-12-27 エスアイアイ・プリンテック株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
CN104772242B (zh) 2015-04-24 2017-07-18 河海大学常州校区 雾化喷嘴
CN105154614A (zh) 2015-09-29 2015-12-16 华北理工大学 一种超声波辅助雾化的双介质雾化喷嘴
CN105344511B (zh) * 2015-12-10 2019-02-19 北京七星华创电子股份有限公司 一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
CN105413905B (zh) * 2015-12-10 2018-12-18 北京七星华创电子股份有限公司 一种二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
CN105513999B (zh) * 2015-12-10 2019-04-05 北京七星华创电子股份有限公司 一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
US10304705B2 (en) * 2015-12-10 2019-05-28 Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. Cleaning device for atomizing and spraying liquid in two-phase flow
TWI600479B (zh) * 2016-08-26 2017-10-01 北京七星華創電子股份有限公司 超音波及百萬赫超音波清洗裝置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022506689A5 (https=)
JP7179985B2 (ja) 噴霧デバイスおよび洗浄装置
ES2834001T3 (es) Cabezal de aplicación de un producto de recubrimiento sobre una superficie a recubrir y sistema de aplicación que comprende este cabezal de aplicación
JP5973219B2 (ja) 帯電水粒子散布装置
CN102842522B (zh) 双流体喷嘴、基板液处理装置和基板液处理方法
ES2674722T3 (es) Dispositivo de pulverización con una superficie de flujo parabólica
JPWO2020094053A5 (https=)
CN210045644U (zh) 清洗装置及清洗机
CN107614124B (zh) 流体的喷射方法以及流体的成膜方法
KR102616281B1 (ko) 코팅 제품 스프레이용 보울, 상기 보울을 포함하는 회전식 스프레이 장치, 및 상기 스프레이를 세정하는 방법
KR101263602B1 (ko) 콘젯 모드 정전기 스프레이 장치
US2998098A (en) Gas cleaning apparatus
JP6779443B2 (ja) 燃料電池の製造方法
NL2033712B1 (en) Coflowing spraying system for spraying an area or surface of an object and use thereof
CN205379999U (zh) 一种静电雾化器
JPH0450906Y2 (https=)
CN204523357U (zh) 一种全角度超声喷涂操作系统
JPS62140660A (ja) 回転円盤型静電塗装装置
CN205199760U (zh) 包衣机喷枪的喷头
JP6780171B2 (ja) 流体の噴出方法および流体の成膜方法
RU194076U1 (ru) Пневмогидравлический распылитель растворов пестицидов
JP6871429B2 (ja) 塗装装置
JPS6384661A (ja) 回転霧化式塗装装置
CN104624428A (zh) 一种全角度超声喷涂操作系统
JPS5939357A (ja) 線状体用静電塗布装置