JP2022092497A - 光硬化性組成物及びパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高屈折率で且つ耐光性が良好な硬化膜を形成可能な、光硬化性組成物、及びパターン形成方法の提供。【解決手段】（Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、を含有する、光硬化性組成物。【選択図】なし
Description
本発明は、光硬化性組成物及びパターン形成方法に関する。
リソグラフィ技術は、半導体デバイスの製造プロセスにおけるコアテクノロジーであり、近年の半導体集積回路（ＩＣ）の高集積化に伴い、さらなる配線の微細化が進行している。微細化手法としては、より短波長の光源、例えばＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー、ＥＵＶ（極端紫外光）、ＥＢ（電子線）、Ｘ線等を用いる光源波長の短波長化や、露光装置のレンズの開口数（ＮＡ）の大口径化（高ＮＡ化）等が一般的である。
このような中、半導体の微細パターン形成方法として、所定のパターンを有するモールドを、基板上に形成された硬化性膜に押圧して、当該硬化性膜に前記モールドのパターンを転写する、ナノインプリントリソグラフィが生産性等の点から期待されている。
ナノインプリントリソグラフィでは、光（紫外線、電子線）で硬化する光硬化性化合物を含有する光硬化性組成物が用いられている。かかる場合、所定のパターンを有するモールドを、光硬化性化合物を含む硬化性膜に押圧し、次いで、光を照射して光硬化性化合物を硬化させ、その後、硬化膜からモールドを剥離することにより転写パターン（構造体）が得られる。
ナノインプリントリソグラフィでは、光（紫外線、電子線）で硬化する光硬化性化合物を含有する光硬化性組成物が用いられている。かかる場合、所定のパターンを有するモールドを、光硬化性化合物を含む硬化性膜に押圧し、次いで、光を照射して光硬化性化合物を硬化させ、その後、硬化膜からモールドを剥離することにより転写パターン（構造体）が得られる。
ナノインプリントリソグラフィに用いられる光硬化性組成物には、要求される特性として、スピン塗布などにより基板上に塗布する際の塗布性、加熱や露光による硬化性が挙げられる。基板への塗布性が悪いと、基板上に塗布された光硬化性組成物の膜厚にばらつきが生じて、モールドを硬化性膜に押圧した際にパターン転写性の低下を招きやすい。また、硬化性は、モールド押圧により形成されたパターンを所望の寸法に維持する上で重要な特性である。加えて、光硬化性組成物には、硬化膜からモールドを剥離する際のモールド離型性が良いことも求められる。
近年、自動運転用の３ＤセンサーやＡＲ（拡張現実）グラスのＡＲ導波路の高機能化のために、ナノインプリントリソグラフィを適用することが検討されている。３ＤセンサーやＡＲグラスにおいては、デバイスの一部を構成する永久膜材料の高屈折率化が求められている。ナノインプリント材料の高屈折率化の一つの手段として、金属酸化物ナノ粒子を添加することが知られている。例えば、特許文献１には、酸化ジルコニウム等の無機粒子を配合することにより高屈折率化を図った光硬化性樹脂組成物が記載されている。
ナノインプリント材料のさらなる高屈折率化のために、金属酸化物ナノ粒子としてチタニアナノ粒子（酸化チタンナノ粒子）を用いることが考えられる。しかしながら、チタニアナノ粒子は、光触媒作用を有し、紫外光の照射により強い酸化作用を発揮して有機物を分解する。そのため、チタニアナノ粒子を用いる場合、硬化膜の耐光性に課題がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、高屈折率で且つ耐光性が良好な硬化膜を形成可能な、光硬化性組成物、及びパターン形成方法を提供することを課題とする。
上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の第１の態様は、（Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、（Ｂ）成分：重合性官能基を有する光重合性モノマーと、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、を含有する、光硬化性組成物である。
すなわち、本発明の第１の態様は、（Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、（Ｂ）成分：重合性官能基を有する光重合性モノマーと、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、を含有する、光硬化性組成物である。
本発明の第２の態様は、基板上に、前記第１の態様の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する工程と、凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する工程と、前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、硬化膜を形成する工程と、前記硬化膜から前記モールドを剥離する工程と、を有することを特徴とする、パターン形成方法である。
本発明によれば、高屈折率で且つ耐光性が良好な硬化膜を形成可能な、光硬化性組成物、及びパターン形成方法を提供することができる。
本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、化合物等を意味するものと定義する。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。
「置換基を有していてもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。
「置換基を有していてもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
（光硬化性組成物）
本発明の第１の態様の光硬化性組成物は、（Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、を含有する。
本発明の第１の態様の光硬化性組成物は、（Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、を含有する。
＜（Ｘ）成分＞
（Ｘ）成分は、チタニアナノ粒子である。
「ナノ粒子」とは、ナノメートルオーダー（１０００ｎｍ未満）の平均一次粒子径を有する粒子を意味する。チタニアナノ粒子とは、ナノメートルオーダーの平均一次粒子径を有するチタニア（ＴｉＯ２）粒子である。
（Ｘ）成分は、チタニアナノ粒子である。
「ナノ粒子」とは、ナノメートルオーダー（１０００ｎｍ未満）の平均一次粒子径を有する粒子を意味する。チタニアナノ粒子とは、ナノメートルオーダーの平均一次粒子径を有するチタニア（ＴｉＯ２）粒子である。
（Ｘ）成分の平均一次粒子径は、０．１～１００ｎｍであることが好ましく、１～６０ｎｍであることがより好ましく、１～５０ｎｍであることがさらに好ましく、１～４５ｎｍであることがさらにより好ましく、１～４０ｎｍであることが特に好ましい。（Ｘ）成分のチタニアナノ粒子の平均一次粒子径が上記好ましい範囲内であることにより、光硬化性組成物中においてチタニアナノ粒子が良好に分散する。前記平均一次粒子径は、動的光散乱法により測定した値である。
（Ｘ）成分としては、市販の金属酸化物ナノ粒子を用いることができる。
市販のチタニアナノ粒子としては、例えば石原産業（株）製ＴＴＯシリーズ（ＴＴＯ－５１（Ａ）、ＴＴＯ－５１（Ｃ）など）、ＴＴＯ－Ｓ、Ｖシリーズ（ＴＴＯ－Ｓ－１、ＴＴＯ－Ｓ－２、ＴＴＯ－Ｖ－３など）、石原産業（株）製チタニアゾルＬＤＢ－０１４－３５、テイカ（株）製ＭＴシリーズ（ＭＴ－０１、ＭＴ－０５、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－５００ＳＡなど）、日記触媒化成（株）製ＥＬＥＣＯＭ Ｖ－９１０８、堺化学工業（株）製ＳＴＲ－１００Ａ－ＬＰなどが挙げられる。
市販のチタニアナノ粒子としては、例えば石原産業（株）製ＴＴＯシリーズ（ＴＴＯ－５１（Ａ）、ＴＴＯ－５１（Ｃ）など）、ＴＴＯ－Ｓ、Ｖシリーズ（ＴＴＯ－Ｓ－１、ＴＴＯ－Ｓ－２、ＴＴＯ－Ｖ－３など）、石原産業（株）製チタニアゾルＬＤＢ－０１４－３５、テイカ（株）製ＭＴシリーズ（ＭＴ－０１、ＭＴ－０５、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－５００ＳＡなど）、日記触媒化成（株）製ＥＬＥＣＯＭ Ｖ－９１０８、堺化学工業（株）製ＳＴＲ－１００Ａ－ＬＰなどが挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｘ）成分は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態の光硬化性組成物における（Ｘ）成分の含有量は、（Ｘ）成分と後述の（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、１０～９９質量部が好ましく、２０～９５質量部がより好ましく、３０～９５質量部がさらに好ましく、４０～９０質量部がさらにより好ましく、４５～８５質量部が特に好ましい。
（Ｘ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いた形成した樹脂硬化膜の光学特性がより良好となる。一方、（Ｘ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の、モールドへの充填性が良好になる。
（Ｘ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いた形成した樹脂硬化膜の光学特性がより良好となる。一方、（Ｘ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の、モールドへの充填性が良好になる。
＜（Ｔ）成分＞
（Ｔ）成分は、トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤である。
（Ｔ）成分は、トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤である。
本実施形態において、（Ｔ）成分の分子量は４００以上であることが好ましい。（Ｔ）成分の分子量が前記の好ましい下限値以上であると、光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の耐熱性が向上する。（Ｔ）成分の分子量としては、例えば、４００～１０００、４００～８００、又は４００～７００等が挙げられる。
≪トリアジン系紫外線吸収剤≫
トリアジン系紫外線吸収剤は、トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤である。トリアジン系紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤又はヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤として市販されているものを特に制限なく用いることができる。トリアジン系紫外線吸収剤又はヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤として用いられているものは、通常、分子量４００以上である。
トリアジン系紫外線吸収剤は、トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤である。トリアジン系紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤又はヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤として市販されているものを特に制限なく用いることができる。トリアジン系紫外線吸収剤又はヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤として用いられているものは、通常、分子量４００以上である。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－ドデシルオキシプロピル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン及び２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－トリデシルオキシプロピル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン（分子量６４７）、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－（２’－エチル）ヘキシル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン（分子量５８３．８）、２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ビス－ブトキシフェニル）－１，３－５－トリアジン（分子量６３０）、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール（分子量４２６）、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］－フェノール（分子量５１２）、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ－３－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン（分子量７００）、２－［４，６－ビス（１，１’－ビフェニル－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［（２－エチルヘキシル）オキシ］フェノール（分子量６０５．７８２）、イソオクチル２－［４－［４，６－ビス［（１，１’－ビフェニル）－４－イル］－１，３，５－トリアジン－２－イル］－３－ヒドロキシフェノキシ］プロパン酸（分子量６７７．８３）等が挙げられるが、これらに限定されない。
上記の中でも、トリアジン系紫外線吸収剤としては、２－［４，６－ビス（１，１’－ビフェニル－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［（２－エチルヘキシル）オキシ］フェノール（分子量６０５．７８２）が好ましい。
トリアジン系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の「ＴＩＮＵＶＩＮ４００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４０５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４６０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４７７」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４７９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１６００」、ＡＤＥＫＡ社製の「アデカスタブＬＡ４６」、「アデカスタブＬＡ－Ｆ７０」等が挙げられるが、これらに限定されない。
トリアジン系紫外線吸収剤は、下記一般式（ｔ－１）で表される化合物であってもよい。
式（ｔ－１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基である。
前記アルコキシキ基及びアルキル基は、鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。前記アルコキシキ及びアルキル基は、炭素数１～２０が好ましく、炭素数１～１５がより好ましく、炭素数１～１０がさらに好ましい。
前記アルコキシ基及びアルキル基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子（－Ｈ）を置換するものであってもよく、メチレン基（－ＣＨ２－）を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
前記アルコキシキ基及びアルキル基は、鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。前記アルコキシキ及びアルキル基は、炭素数１～２０が好ましく、炭素数１～１５がより好ましく、炭素数１～１０がさらに好ましい。
前記アルコキシ基及びアルキル基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子（－Ｈ）を置換するものであってもよく、メチレン基（－ＣＨ２－）を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
前記アリール基は、炭素数６～２０が好ましく、炭素数６～１５がより好ましく、炭素数６～１０がより好ましい。前記アリール基は、置換基を有してもよい。前記置換基としては、例えば、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。ｎ１及びｎ２は、０～４が好ましく、０～３がより好ましい。ｎ１が２以上の整数であるとき、２以上のＲ１は、同じであってもよく、異なっていてもよい。ｎ２が２以上の整数であるとき、２以上のＲ２は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
式（ｔ－１）中、Ｒ３は、置換基を有してもよいアルキル基である。前記アルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。前記アルキル基は、炭素数１～２０が好ましく、炭素数１～１５がより好ましく、炭素数１～１０がさらに好ましい。
前記アルキル基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子を置換するものであってもよく、メチレン基を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
前記アルキル基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子を置換するものであってもよく、メチレン基を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
≪ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤≫
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤である。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として市販されているものを特に制限なく用いることができる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤である。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として市販されているものを特に制限なく用いることができる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（分子量２６７．３）、ベンゼンプロパン酸および３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ（Ｃ７－９側鎖および直鎖アルキル）のエステル化合物（分子量４５１．６）、３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ヒドロキシフェニル］プロピオン酸オクチル（分子量４８６）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（分子量４４１．６）、メチル－３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物（分子量６３７，９７５）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－ｐ－クレゾール（分子量２２５）、２（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４８）、２－〔５－クロロ（２Ｈ）－ベンゾトリアゾール－２－イル〕－４－メチル－６－（ｔｅｒｔ－ブチル）フェノール（分子量３１６）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェノール（分子量３５１）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（分子量３２３）、２－２’－メチレンビス〔６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール〕（分子量６５９）、メチル３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネートとポリエチレングリコール３００との反応生成物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ドデシル－４－メチルフェノール（分子量３９３．６）、２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２イル）－４－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール］（分子量６５９）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４７）等が挙げられるが、これらに限定されない。
上記の中でも、分子量４００以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、ベンゼンプロパン酸および３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ（Ｃ７－９側鎖および直鎖アルキル）のエステル化合物（分子量４５１．６）、３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ヒドロキシフェニル］プロピオン酸オクチル（分子量４８６）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（分子量４４１．６）、メチル－３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物（分子量６３７，９７５）、２（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４８）、２－２’－メチレンビス〔６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール〕（分子量６５９）、２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２イル）－４－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール］（分子量６５９）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４７）等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の「ＴＩＮＵＶＩＮ ＰＳ」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３８４－２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１０９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ９００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ９２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ２３４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２６」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３６０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ２１３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５７１」、ＡＤＥＫＡ社製の「アデカスタブ ＬＡ－３１ＲＧ」、「アデカスタブ ＬＡ－３１Ｇ」、「アデカスタブ ＬＡ－２４」等が挙げられるが、これらに限定されない。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、下記一般式（ｔ－２）で表される化合物であってもよい。
式中、Ｒ４は、有機基を表す。前記有機基は、炭素数１～３０が好ましく、炭素数１～２０がより好ましい。前記有機基としては、置換基を有してもよい炭化水素基が挙げられる。前記炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
前記脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよいが、飽和であることが好ましい。前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。
前記脂肪族炭化水素基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子（－Ｈ）を置換するものであってもよく、メチレン基（－ＣＨ２－）を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
前記脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよいが、飽和であることが好ましい。前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。
前記脂肪族炭化水素基は、置換基を有してもよい。前記置換基は、炭化水素鎖の水素原子（－Ｈ）を置換するものであってもよく、メチレン基（－ＣＨ２－）を置換するものであってもよい。水素原子を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。メチレン基を置換する置換基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、等が挙げられる。
前記芳香族炭化水素基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよいが、単環式基が好ましい。前記芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよい。前記置換基としては、例えば、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
ｎ４は、１～４の整数である。ｎ４は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ｎ４が２以上の整数であるとき、２以上のＲ４は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｔ）成分は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。（Ｔ）成分は、トリアジン系紫外線吸収剤を用いてもよく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いてもよく、トリアジン系紫外線吸収剤とベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とを組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の中でも、トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤を（Ｘ）成分と組み合わせて用いることにより、光硬化性組成物により形成される硬化膜の耐光性を向上させることができる。
本実施形態の光硬化性組成物における（Ｔ）成分の含有量は、前述の（Ｘ）成分と、後述の（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０５～１５質量部がより好ましく、０．１～１０質量部がさらに好ましい。
（Ｔ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の耐光性が良好となる。一方、（Ｔ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の硬化性が良好となる。
（Ｔ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の耐光性が良好となる。一方、（Ｔ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の硬化性が良好となる。
本実施形態の光硬化性組成物において、（Ｘ）成分に対する（Ｔ）成分の質量比（（Ｔ）成分／（Ｘ）成分）は、０．０００１～０．５が好ましく、０．００１～０．２がより好ましく、０．００１４～０．１５がさらに好ましい。
（Ｘ）成分に対する（Ｔ）成分の質量比が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の耐光性が良好となる。一方、（Ｘ）成分に対する（Ｔ）成分の質量比が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の硬化性が良好になる。
（Ｘ）成分に対する（Ｔ）成分の質量比が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の耐光性が良好となる。一方、（Ｘ）成分に対する（Ｔ）成分の質量比が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、光硬化性組成物の硬化性が良好になる。
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、重合性官能基を有する光重合性モノマーである。
「重合性官能基」とは、化合物同士がラジカル重合等により重合することを可能とする基であり、例えばエチレン性二重結合などの炭素原子間の多重結合を含む基をいう。
（Ｂ）成分は、重合性官能基を有する光重合性モノマーである。
「重合性官能基」とは、化合物同士がラジカル重合等により重合することを可能とする基であり、例えばエチレン性二重結合などの炭素原子間の多重結合を含む基をいう。
重合性官能基としては、例えば、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、フルオロビニル基、ジフルオロビニル基、トリフルオロビニル基、ジフルオロトリフルオロメチルビニル基、トリフルオロアリル基、パーフルオロアリル基、トリフルオロメチルアクリロイル基、ノニルフルオロブチルアクリロイル基、ビニルエーテル基、含フッ素ビニルエーテル基、アリルエーテル基、含フッ素アリルエーテル基、スチリル基、ビニルナフチル基、含フッ素スチリル基、含フッ素ビニルナフチル基、ノルボルニル基、含フッ素ノルボルニル基、シリル基等が挙げられる。これらの中でも、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基がより好ましい。
１つの重合性官能基を有する光重合性モノマー（単官能モノマー）としては、例えば、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－エチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等の脂肪族多環構造を含む（メタ）アクリレート（以下「（Ｂ１）成分」という）；ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン等の脂肪族単環構造を含む（メタ）アクリレート；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等の鎖状構造を含む（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ－２－メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３－（２－フェニルフェニル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ｐ－クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２－ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４－ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６－トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（メタ）アクリレート等の芳香族環構造を含む（メタ）アクリレート（以下「（Ｂ２）成分」という）；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ－オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７－アミノ－３，７－ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド；片末端メタクリルシロキサンモノマー等が挙げられる。
当該単官能モノマーの市販品としては、例えば、アロニックスＭ１０１、Ｍ１０２、Ｍ１１０、Ｍ１１１、Ｍ１１３、Ｍ１１７、Ｍ５７００、ＴＯ－１３１７、Ｍ１２０、Ｍ１５０、Ｍ１５６（以上、東亞合成株式会社製）；ＭＥＤＯＬ１０、ＭＩＢＤＯＬ１０、ＣＨＤＯＬ１０、ＭＭＤＯＬ３０、ＭＥＤＯＬ３０、ＭＩＢＤＯＬ３０、ＣＨＤＯＬ３０、ＬＡ、ＩＢＸＡ、２－ＭＴＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃１５０、＃１５５、＃１５８、＃１９０、＃１９２、＃１９３、＃２２０、＃２０００、＃２１００、＃２１５０（以上、大阪有機化学工業株式会社製）；ライトアクリレートＢＯ－Ａ、ＥＣ－Ａ、ＤＭＰ－Ａ、ＴＨＦ－Ａ、ＨＯＰ－Ａ、ＨＯＡ－ＭＰＥ、ＨＯＡ－ＭＰＬ、ＨＯＡ（Ｎ）、ＰＯ－Ａ、Ｐ－２００Ａ、ＮＰ－４ＥＡ、ＮＰ－８ＥＡ、ＩＢ－ＸＡ、エポキシエステルＭ－６００Ａ（以上、共栄社化学株式会社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ、Ｒ－５６４、Ｒ－１２８Ｈ（以上、日本化薬株式会社製）；ＮＫエステルＡＭＰ－１０Ｇ、ＡＭＰ－２０Ｇ（以上、新中村化学工業株式会社製）；ＦＡ－５１１Ａ、ＦＡ－５１２Ａ、ＦＡ－５１３Ａ、ＦＡ－ＢＺＡ（以上、日立化成株式会社製）；ＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ－２、ＰＨＥ－４、ＢＲ－３１、ＢＲ－３１Ｍ、ＢＲ－３２（以上、第一工業製薬株式会社製）；ＶＰ（ＢＡＳＦ製）；ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、株式会社興人製）；Ｘ－２２－２４０４（信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。
２つの重合性官能基を有する光重合性モノマー（２官能モノマー）としては、例えば、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
当該２官能モノマーの市販品としては、例えば、ライトアクリレート３ＥＧ－Ａ、４ＥＧ－Ａ、９ＥＧ－Ａ、ＮＰ－Ａ、ＤＣＰ－Ａ、ＢＰ－４ＥＡＬ、ＢＰ－４ＰＡ（以上、共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。
３つ以上の重合性官能基を有する光重合性化合物としては、光重合性シロキサン化合物、光重合性シルセスキオキサン化合物、３つ以上の重合性官能基を有する多官能モノマー等が挙げられる。
光重合性シロキサン化合物としては、例えば、分子内にアルコキシシリル基と重合性官能基とを有する化合物が挙げられる。
当該光重合性シロキサン化合物の市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製の製品名「ＫＲ－５１３」、「Ｘ－４０－９２９６」、「ＫＲ－５１１」、「Ｘ－１２－１０４８」、「Ｘ－１２－１０５０」等が挙げられる。
当該光重合性シロキサン化合物の市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製の製品名「ＫＲ－５１３」、「Ｘ－４０－９２９６」、「ＫＲ－５１１」、「Ｘ－１２－１０４８」、「Ｘ－１２－１０５０」等が挙げられる。
光重合性シルセスキオキサン化合物としては、主鎖骨格がＳｉ－Ｏ結合からなる、次の化学式：［（ＲＳｉＯ３／２）ｎ］（式中、Ｒは有機基を表し、ｎは自然数を表す。）で表される化合物が挙げられる。
Ｒは、１価の有機基を示し、１価の有機基としては、置換基を有してもよい１価の炭化水素基が挙げられる。この炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数１～２０のアルキル基が挙げられ、炭素数１～１２のアルキル基が好ましい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、トリル基、スチリル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。
１価の炭化水素基が有してもよい置換基としては、（メタ）アクリロイル基、ヒドロキシ基、スルファニル基、カルボキシ基、イソシアナト基、アミノ基、ウレイド基等が挙げられる。また、１価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、カルボニル基等に置き換わっていてもよい。
但し、光重合性シルセスキオキサン化合物は、３つ以上の重合性官能基を有する。ここでの重合性官能基としては、ビニル基、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
Ｒは、１価の有機基を示し、１価の有機基としては、置換基を有してもよい１価の炭化水素基が挙げられる。この炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数１～２０のアルキル基が挙げられ、炭素数１～１２のアルキル基が好ましい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、トリル基、スチリル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。
１価の炭化水素基が有してもよい置換基としては、（メタ）アクリロイル基、ヒドロキシ基、スルファニル基、カルボキシ基、イソシアナト基、アミノ基、ウレイド基等が挙げられる。また、１価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、カルボニル基等に置き換わっていてもよい。
但し、光重合性シルセスキオキサン化合物は、３つ以上の重合性官能基を有する。ここでの重合性官能基としては、ビニル基、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
化学式：［（ＲＳｉＯ３／２）ｎ］で表される化合物は、カゴ型、ハシゴ型又はランダム型のいずれでもよい。カゴ型のシルセスキオキサン化合物は、完全なカゴ型であってもよいし、カゴの一部が開いているような不完全なカゴ型でもよい。
当該光重合性シルセスキオキサン化合物の市販品としては、例えば、東亜合成株式会社製の製品名「ＭＡＣ－ＳＱ ＬＰ－３５」、「ＭＡＣ－ＳＱ ＴＭ－１００」、「ＭＡＣ－ＳＱ ＳＩ－２０」、「ＭＡＣ－ＳＱ ＨＤＭ」等が挙げられる。
３つ以上の重合性官能基を有する多官能モノマーとしては、例えば、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、プロポキシ化（３）グリセリルトリアクリレート、プロポキシ化（３）グリセリルトリアクリレート、プロポキシ化（５．５）グリセリルトリアクリレート、プロポキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス－（２－ヒドロキシエチル）－イソシアヌレートトリアクリレート、トリス－（２－ヒドロキシエチル）－イソシアヌレートトリメタクリレート、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能モノマー；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の４官能モノマー；ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の５官能以上のモノマー等が挙げられる。
当該多官能モノマーの市販品としては、例えば、新中村化学工業株式会社製の製品名「Ａ－９３００－１ＣＬ」、「ＡＤ－ＴＭＰ」、「Ａ－９５５０」、「Ａ－ＤＰＨ」、日本化薬株式会社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」、共栄社化学株式会社製、製品名「ライトアクリレートＴＭＰ－Ａ」等が挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｂ）成分は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ｂ）成分の含有量は、前記（Ｘ）成分と（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、５～８０質量部が好ましく、１０～７０質量部がより好ましく、２０～６０質量部がさらに好ましい。
（Ｂ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いた形成した樹脂硬化膜の硬化性や流動性が良好になる。一方、（Ｂ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、（Ｘ）成分の光硬化性組成物中の分散性が良好となる。
（Ｂ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、光硬化性組成物を用いた形成した樹脂硬化膜の硬化性や流動性が良好になる。一方、（Ｂ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、（Ｘ）成分の光硬化性組成物中の分散性が良好となる。
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は光重合開始剤である。
（Ｃ）成分には、露光により前記（Ｂ）成分の重合を開始させ、又は重合を促進させる化合物が用いられる。（Ｃ）成分としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
（Ｃ）成分は光重合開始剤である。
（Ｃ）成分には、露光により前記（Ｂ）成分の重合を開始させ、又は重合を促進させる化合物が用いられる。（Ｃ）成分としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
（Ｃ）成分としては、例えば、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（４－ジメチルアミノフェニル）ケトン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾル－３－イル］－１－（ｏ－アセチルオキシム）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、４－ベンゾイル－４’－メチルジメチルスルフィド、４－ジメチルアミノ安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４－ジメチルアミノ－２－エチルヘキシル安息香酸、４－ジメチルアミノ－２－イソアミル安息香酸、ベンジル－β－メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン、２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、２－メルカプトベンゾイミダール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）－イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、α，α－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル－４－ジメチルアミノベンゾエート、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス－（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス－（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス－（９－アクリジニル）プロパン、ｐ－メトキシトリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン；メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類；イソブチリルパーオキサイド、ビス（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類；ｐ－メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類；２，５－ジメチル－２，５－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサンなどのジアルキルパーオキサイド類；１，１－ビス（ｔ－ブチルパ－オキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール類；ｔ－ブチルパ－オキシネオデカノエート、１，１，３，３－テトラメチルパーオキシネオデカノエートなどのパーオキシエステル類；ジｎ－プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類；アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチレートなどのアゾ化合物類等が挙げられる。
上記のなかでも、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノンが好ましい。
（Ｃ）成分には、市販品を入手して用いることができる。
（Ｃ）成分の市販品としては、ＢＡＳＦ社製の製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、ＢＡＳＦ社製の製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、ＢＡＳＦ社製、製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ １８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」等が挙げられる。
（Ｃ）成分の市販品としては、ＢＡＳＦ社製の製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、ＢＡＳＦ社製の製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、ＢＡＳＦ社製、製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ １８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」等が挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｃ）成分は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ｃ）成分の含有量は、前記（Ｘ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、０．０１～１５質量部であることが好ましく、０．１～１０質量部がより好ましく、０．５～５質量部がさらに好ましい。（Ｃ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲内であると、光硬化性組成物の光硬化性が良好となる。
＜任意成分＞
実施形態の光硬化性組成物には、（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分に加えて、他の成分を含有してもよい。任意成分としては、例えば、溶剤（（Ｓ）成分）、混和性のある添加剤（例えば、劣化防止剤、離型剤、希釈剤、酸化防止剤、熱安定化剤、難燃剤、可塑剤、及び界面活性剤、その他硬化膜の特性を改良するための添加剤等）等が挙げられる。
実施形態の光硬化性組成物には、（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分に加えて、他の成分を含有してもよい。任意成分としては、例えば、溶剤（（Ｓ）成分）、混和性のある添加剤（例えば、劣化防止剤、離型剤、希釈剤、酸化防止剤、熱安定化剤、難燃剤、可塑剤、及び界面活性剤、その他硬化膜の特性を改良するための添加剤等）等が挙げられる。
≪溶剤：（Ｓ）成分≫
本実施形態の光硬化性組成物は、溶剤（（Ｓ）成分）を含有していてもよい。（Ｓ）成分は、上記（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び所望の任意成分を溶解又は分散させ、混合するために用いられる。
本実施形態の光硬化性組成物は、溶剤（（Ｓ）成分）を含有していてもよい。（Ｓ）成分は、上記（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び所望の任意成分を溶解又は分散させ、混合するために用いられる。
（Ｓ）成分としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ペンチルアルコール、ｓ－ペンチルアルコール、ｔ－ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、２－メチル－１－プロパノール、２－エチルブタノール、ネオペンチルアルコール、ｎ－ブタノール、ｓ－ブタノール、ｔ－ブタノール、１－プロパノール、ｎ－ヘキサノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、２－メチル－１－ブタノール、２－メチル－２－ブタノール、４－メチル－２－ペンタノール、１－ブトキシ－２－プロパノール、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、５－メチル－１－ヘキサノール、６－メチル－２－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、２－（２－ブトキシエトキシ）エタノール等の鎖状構造のアルコール類；シクロペンタンメタノール、１－シクロペンチルエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサンメタノール、シクロヘキサンエタノール、１，２，３，６－テトラヒドロベンジルアルコール、ｅｘｏ－ノルボルネオール、２－メチルシクロヘキサノール、シクロヘプタノール、３，５－ジメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピオネール等の環状構造を有するアルコール類；エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、またはジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類または前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテルまたはモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体［これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が好ましい］などが挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｓ）成分は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記のなかでも、（Ｓ）成分としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
上記のなかでも、（Ｓ）成分としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
（Ｓ）成分の使用量は、特に限定されず、光硬化性組成物の塗布膜厚に応じて適宜設定すればよい。例えば、前記（Ｘ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、１００～５００質量部程度となるように用いることができる。
本実施形態の光硬化性組成物により形成される硬化膜は、通常、波長５３０ｎｍにおける屈折率が１．７以上である。本実施形態の光硬化性組成物は、前記のような高い屈折率の硬化膜を形成できるため、３ＤセンサーやＡＲ（拡張現実）グラスのＡＲ導波路等の高屈折率化が要求される用途にも好適に用いることができる。硬化膜の屈折率は、分光エリプソメーターにより測定することができる。
以上説明した本実施形態の光硬化性組成物は、（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有する。このように、（Ｘ）成分と（Ｔ）成分とを併用することにより、硬化膜の高屈折率化を実現しつつ、耐光性を向上させることができる。これは、（Ｘ）成分を含有することにより屈折率が向上し、且つ（Ｔ）成分が紫外線を吸収することで、（Ｘ）成分の光触媒活性が抑制されるためと推測される。
かかる光硬化性組成物は、インプリント技術で基板上に微細パターンを形成する材料として有用であり、光インプリントリソグラフィ用として特に好適なものである。特に、自動運転用の３ＤセンサーやＡＲ（拡張現実）グラスのＡＲ導波路等の高屈折率化が要求される用途において有利な効果を奏する。
また、本実施形態の光硬化性組成物は、例えば反射防止膜の材料としても有用である。
また、本実施形態の光硬化性組成物は、例えば反射防止膜の材料としても有用である。
（パターン形成方法）
本発明の第２の態様のパターン形成方法は、基板上に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する工程（以下「工程（ｉ）」という）と、凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する工程（以下「工程（ｉｉ）」という）と、前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、硬化膜を形成する工程（以下「工程（ｉｉｉ）」という）と、前記硬化膜から前記モールドを剥離する工程（以下「工程（ｉｖ）」という）と、を有する。
本発明の第２の態様のパターン形成方法は、基板上に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する工程（以下「工程（ｉ）」という）と、凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する工程（以下「工程（ｉｉ）」という）と、前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、硬化膜を形成する工程（以下「工程（ｉｉｉ）」という）と、前記硬化膜から前記モールドを剥離する工程（以下「工程（ｉｖ）」という）と、を有する。
図１は、パターン形成方法の一実施形態を説明する概略工程図である。
［工程（ｉ）］
工程（ｉ）では、基板上に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する。
図１（Ａ）に示すように、基板１に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を塗布し、光硬化性膜２を形成する。尚、図１（Ａ）においては、光硬化性膜２の上空にモールド３が配置されている。
工程（ｉ）では、基板上に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する。
図１（Ａ）に示すように、基板１に、上述した第１の態様の光硬化性組成物を塗布し、光硬化性膜２を形成する。尚、図１（Ａ）においては、光硬化性膜２の上空にモールド３が配置されている。
基板１は、種々の用途によって選択可能であり、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等が挙げられる。より具体的には、シリコン、窒化シリコン、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が挙げられる。
また、基板１の形状は、特に限定されるものではなく、板状でもよいし、ロール状でもよい。また、基板１としては、モールドとの組み合わせ等に応じて、光透過性、又は非光透過性のものを選択することができる。
また、基板１の形状は、特に限定されるものではなく、板状でもよいし、ロール状でもよい。また、基板１としては、モールドとの組み合わせ等に応じて、光透過性、又は非光透過性のものを選択することができる。
基板１に光硬化性組成物を塗布する方法としては、スピンコート法、スプレー法、インクジェット法、ロールコート法、回転塗布法等が挙げられる。光硬化性膜２は、その後に行われてもよい基板１のエッチング工程でマスクとして機能するため、基板１に塗布されたときの膜厚が均一であることが好ましい。この点から、基板１に光硬化性組成物を塗布する際には、スピンコート法が好適である。
光硬化性膜２の膜厚は、用途によって適宜選択すればよく、例えば、０．０５～３０μｍ程度とすればよい。
光硬化性膜２の膜厚は、用途によって適宜選択すればよく、例えば、０．０５～３０μｍ程度とすればよい。
［工程（ｉｉ）］
工程（ｉｉ）では、凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する。
図１（Ｂ）に示すように、光硬化性膜２が形成された基板１に、表面に微細な凹凸パターンを有するモールド３を、光硬化性膜２に対向して押し当てる。これにより、光硬化性膜２を、モールド３の凹凸構造に合わせて変形させる。
工程（ｉｉ）では、凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する。
図１（Ｂ）に示すように、光硬化性膜２が形成された基板１に、表面に微細な凹凸パターンを有するモールド３を、光硬化性膜２に対向して押し当てる。これにより、光硬化性膜２を、モールド３の凹凸構造に合わせて変形させる。
モールド３の押圧時の光硬化性膜２に対する圧力は、１０ＭＰａ以下が好ましく、５ＭＰａ以下がより好ましく、１ＭＰａ以下が特に好ましい。
モールド３を光硬化性膜２に押圧することにより、モールド３の凸部に位置する光硬化性組成物がモールド３の凹部の側に容易に押しのけられ、モールド３の凹凸構造が光硬化性膜２に転写される。
モールド３を光硬化性膜２に押圧することにより、モールド３の凸部に位置する光硬化性組成物がモールド３の凹部の側に容易に押しのけられ、モールド３の凹凸構造が光硬化性膜２に転写される。
モールド３が有する凹凸パターンは、例えば、フォトリソグラフィや電子線描画法等によって、所望する加工精度に応じて形成できる。
モールド３は、光透過性モールドが好ましい。光透過性モールドの材料は、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。具体的には、ガラス、石英、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート樹脂などの光透明性樹脂膜、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、金属膜等が例示される。
モールド３は、光透過性モールドが好ましい。光透過性モールドの材料は、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。具体的には、ガラス、石英、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート樹脂などの光透明性樹脂膜、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、金属膜等が例示される。
［工程（ｉｉｉ）］
工程（ｉｉｉ）では、前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、樹脂硬化膜を形成する。
図１（Ｃ）に示すように、モールド３を光硬化性膜２に押圧した状態で、凹凸パターンが転写された光硬化性膜２に露光を行う。具体的には、紫外線（ＵＶ）などの電磁波が光硬化性膜２に照射される。露光により、モールド３が押圧された状態で光硬化性膜２が硬化し、モールド３の凹凸パターンが転写された硬化膜（硬化パターン）が形成される。
なお、図１（Ｃ）におけるモールド３は、電磁波に対して透過性を有する。
工程（ｉｉｉ）では、前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、樹脂硬化膜を形成する。
図１（Ｃ）に示すように、モールド３を光硬化性膜２に押圧した状態で、凹凸パターンが転写された光硬化性膜２に露光を行う。具体的には、紫外線（ＵＶ）などの電磁波が光硬化性膜２に照射される。露光により、モールド３が押圧された状態で光硬化性膜２が硬化し、モールド３の凹凸パターンが転写された硬化膜（硬化パターン）が形成される。
なお、図１（Ｃ）におけるモールド３は、電磁波に対して透過性を有する。
光硬化性膜２を硬化させるために用いられる光は、特に限定されず、例えば、高エネルギー電離放射線、近紫外線、遠紫外線、可視光線、赤外線等の領域の波長の光又は放射線が挙げられる。放射線には、例えばマイクロ波、ＥＵＶ、ＬＥＤ、半導体レーザー光、または２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光もしくは１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーなどの半導体の微細加工で用いられているレーザー光も好適に用いることができる。これらの光は、モノクロ光を用いてもよいし、複数の波長の異なる光（ミックス光）でもよい。
［工程（ｉｖ）］
工程（ｉｖ）では、前記硬化膜から前記モールドを剥離する。
図１（Ｄ）に示すように、硬化膜からモールド３を剥離する。これにより、凹凸パターンが転写された硬化膜からなるパターン２’（硬化パターン）が基板１上にパターニングされる。
工程（ｉｖ）では、前記硬化膜から前記モールドを剥離する。
図１（Ｄ）に示すように、硬化膜からモールド３を剥離する。これにより、凹凸パターンが転写された硬化膜からなるパターン２’（硬化パターン）が基板１上にパターニングされる。
以上説明した本実施形態のパターン形成方法においては、上述した（Ｘ）成分、（Ｔ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する光硬化性組成物を用いる。かかる光硬化性組成物を用いるため、高屈折率を有し、且つ耐光性に優れたパターンを形成することができる。
本実施形態においては、モールド３の光硬化性膜２と接する面３１に、離型剤を塗布してもよい（図１（Ａ））。これにより、モールドと硬化膜との離型性を高められる。
ここでの離型剤としては、例えば、シリコン系離型剤、フッ素系離型剤、ポリエチレン系離型剤、ポリプロピレン系離型剤、パラフィン系離型剤、モンタン系離型剤、カルナバ系離型剤等が挙げられる。これらの中でも、フッ素系離型剤が好ましい。例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ等の市販の塗布型離型剤を好適に用いることができる。離型剤は、一種類を単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
ここでの離型剤としては、例えば、シリコン系離型剤、フッ素系離型剤、ポリエチレン系離型剤、ポリプロピレン系離型剤、パラフィン系離型剤、モンタン系離型剤、カルナバ系離型剤等が挙げられる。これらの中でも、フッ素系離型剤が好ましい。例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ等の市販の塗布型離型剤を好適に用いることができる。離型剤は、一種類を単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
また、本実施形態においては、基板１と光硬化性膜２との間に有機物層を設けてもよい。これにより、光硬化性膜２及び有機物層をマスクとして基板１をエッチングすることで、基板１上に所望のパターンを簡便かつ確実に形成することができる。有機物層の膜厚は、基板１が加工（エッチング）される深さに応じて適宜調整すればよく、例えば０．０２～２．０μｍが好ましい。有機物層の材料は、光硬化性組成物に比べて酸素系ガスに対するエッチング耐性が低く、かつ、基板１よりもハロゲン系ガスに対するエッチング耐性が高いものが好ましい。有機物層を形成する方法は、特に限定されないが、例えばスパッタ法やスピンコート法が挙げられる。
第２の態様のパターン形成方法は、工程（ｉ）～（ｉｖ）に加えて、さらに、その他の工程（任意工程）を有してもよい。
任意工程としては、エッチング工程（工程（ｖ））、エッチング処理後の硬化膜（硬化パターン）除去工程（工程（ｖｉ））等が挙げられる。
任意工程としては、エッチング工程（工程（ｖ））、エッチング処理後の硬化膜（硬化パターン）除去工程（工程（ｖｉ））等が挙げられる。
［工程（ｖ）］
工程（ｖ）では、例えば、上述の工程（ｉ）～（ｉｖ）で得られたパターン２’をマスクとして基板１をエッチングする。
図２（Ｅ）に示すように、パターン２’が形成された基板１に対して、プラズマおよび反応性イオンの少なくとも一方を照射すること（矢印で図示）により、パターン２’側に露出した基板１部分を、所定深さまでエッチングにより除去する。
工程（ｖ）で使用されるプラズマまたは反応性イオンのガスは、ドライエッチング分野で通常用いられているガスであれば、特に限定されるものではない。
工程（ｖ）では、例えば、上述の工程（ｉ）～（ｉｖ）で得られたパターン２’をマスクとして基板１をエッチングする。
図２（Ｅ）に示すように、パターン２’が形成された基板１に対して、プラズマおよび反応性イオンの少なくとも一方を照射すること（矢印で図示）により、パターン２’側に露出した基板１部分を、所定深さまでエッチングにより除去する。
工程（ｖ）で使用されるプラズマまたは反応性イオンのガスは、ドライエッチング分野で通常用いられているガスであれば、特に限定されるものではない。
［工程（ｖｉ）］
工程（ｖｉ）では、工程（ｖ）におけるエッチング処理後に残存する硬化膜を除去する。
図２（Ｆ）に示すように、基板１のエッチング処理後、基板１上に残存する硬化膜（パターン２’）を除去する工程である。
基板１上に残存する硬化膜（パターン２’）を除去する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、硬化膜が溶解する溶液を用いて基板１を洗浄する処理等が挙げられる。
工程（ｖｉ）では、工程（ｖ）におけるエッチング処理後に残存する硬化膜を除去する。
図２（Ｆ）に示すように、基板１のエッチング処理後、基板１上に残存する硬化膜（パターン２’）を除去する工程である。
基板１上に残存する硬化膜（パターン２’）を除去する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、硬化膜が溶解する溶液を用いて基板１を洗浄する処理等が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
＜光硬化性組成物の調製＞
表１～３に示す各成分を配合して、各例の光硬化性組成物をそれぞれ調製した。
表１～３に示す各成分を配合して、各例の光硬化性組成物をそれぞれ調製した。
表１～３中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。［ ］内の数値は配合量（質量部）である。
・（Ｘ）成分（金属酸化物ナノ粒子）
（Ｘ）－１：チタニア粒子、石原産業株式会社製、製品名「チタニアゾルＬＤＢ－０１２」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
（Ｘ）－２：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－０５」。平均一次粒子径１０ｎｍ。
（Ｘ）－３：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－１００ＳＡ」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
（Ｘ）－４：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－５００ＳＡ」。平均一次粒子径３５ｎｍ。
（Ｘ）－５：チタニア粒子、日揮触媒化成株式会社製、製品名「ＥＬＥＣＯＭ Ｖ－９１０８」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
（Ｘ）－１：チタニア粒子、石原産業株式会社製、製品名「チタニアゾルＬＤＢ－０１２」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
（Ｘ）－２：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－０５」。平均一次粒子径１０ｎｍ。
（Ｘ）－３：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－１００ＳＡ」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
（Ｘ）－４：チタニア粒子、テイカ株式会社製、製品名「ＭＴ－５００ＳＡ」。平均一次粒子径３５ｎｍ。
（Ｘ）－５：チタニア粒子、日揮触媒化成株式会社製、製品名「ＥＬＥＣＯＭ Ｖ－９１０８」。平均一次粒子径１５ｎｍ。
・（Ｔ）成分（トリアジン系紫外線吸収剤又はベンゾトリアジン系紫外線吸収剤）
（Ｔ）－１：下記式（Ｔ）－１で表されるトリアジン系紫外線吸収剤。分子量６０５．７８２。
（Ｔ）－２：下記式（Ｔ）－２で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤。分子量６３７，９７５。
（Ｔ）－３：下記式（Ｔ）－３で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、分子量４５１．６。
（Ｔ）－４：下記式（Ｔ）－４で表されるヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、分子量６７７．８３。
（Ｔ）－１：下記式（Ｔ）－１で表されるトリアジン系紫外線吸収剤。分子量６０５．７８２。
（Ｔ）－２：下記式（Ｔ）－２で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤。分子量６３７，９７５。
（Ｔ）－３：下記式（Ｔ）－３で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、分子量４５１．６。
（Ｔ）－４：下記式（Ｔ）－４で表されるヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、分子量６７７．８３。
・（Ｔ２）成分（（Ｔ）成分以外の紫外線吸収剤）
（Ｔ２）－１：下記式（Ｔ２）－１で表されるベンゾフェノンシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤。分子量４５２．６２８８。
（Ｔ２）－１：下記式（Ｔ２）－１で表されるベンゾフェノンシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤。分子量４５２．６２８８。
・（Ｂ）成分（光重合性モノマー）
（Ｂ）－１：多官能アクリレート、日本化薬株式会社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」。
（Ｂ）－２：トリメチロルプロパントリアクリレート、共栄社化学株式会社製、製品名「ライトアクリレートＴＭＰ－Ａ」。
（Ｂ）－３：メタクリロイル基含有シルセスキオキサン、東亞合成株式会社製、製品名「ＭＡＣ－ＳＱ ＴＭ－１００」。
（Ｂ）－１：多官能アクリレート、日本化薬株式会社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」。
（Ｂ）－２：トリメチロルプロパントリアクリレート、共栄社化学株式会社製、製品名「ライトアクリレートＴＭＰ－Ａ」。
（Ｂ）－３：メタクリロイル基含有シルセスキオキサン、東亞合成株式会社製、製品名「ＭＡＣ－ＳＱ ＴＭ－１００」。
・（Ｃ）成分（光重合開始剤）
（Ｃ）－１：２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」。
（Ｃ）－１：２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」。
・（Ｓ）成分（溶剤）
（Ｓ）－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（Ｓ）－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
（Ｓ）－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（Ｓ）－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
＜評価＞
各例の光硬化性組成物について、以下に示す各方法により、インプリント転写性、及び耐光性を評価した。これらの結果を表４～６に示す。
各例の光硬化性組成物について、以下に示す各方法により、インプリント転写性、及び耐光性を評価した。これらの結果を表４～６に示す。
［インプリント転写性］
光硬化性組成物をシリコン基板上に膜厚６００ｎｍになるように調整してスピンコート塗布した。次いで、プレベークを１００℃で１分間行い、東芝機械社製インプリント装置ＳＴ－２００を用いて、転写圧力０．５ＭＰａ、転写時間３０秒、露光量１Ｊ／ｃｍ２（真空２００Ｐａ雰囲気下）で転写試験を行い、微細パターンの転写性、及び、充填性を下記基準に従って評価した。モールドは綜研化学社製標準フィルムモールドＬＳＰ７０－１４０（７０ｎｍ Ｌｉｎｅ ＆ Ｓｐａｃｅ）を使用した。いずれの例の光硬化性組成物でも、微細パターンの転写性及び充填性が良好であることが確認できた。
光硬化性組成物をシリコン基板上に膜厚６００ｎｍになるように調整してスピンコート塗布した。次いで、プレベークを１００℃で１分間行い、東芝機械社製インプリント装置ＳＴ－２００を用いて、転写圧力０．５ＭＰａ、転写時間３０秒、露光量１Ｊ／ｃｍ２（真空２００Ｐａ雰囲気下）で転写試験を行い、微細パターンの転写性、及び、充填性を下記基準に従って評価した。モールドは綜研化学社製標準フィルムモールドＬＳＰ７０－１４０（７０ｎｍ Ｌｉｎｅ ＆ Ｓｐａｃｅ）を使用した。いずれの例の光硬化性組成物でも、微細パターンの転写性及び充填性が良好であることが確認できた。
［耐光性］
・耐光性試験
光硬化性組成物をシリコン基板上に膜厚６００ｎｍになるように調整してスピンコート塗布した。次いで、プレベークを１００℃で１分間行い、東芝機械社製インプリント装置ＳＴ－２００を用いて、露光量１Ｊ／ｃｍ２（真空２００Ｐａ雰囲気下）で硬化膜を得た。得られた硬化膜について、キセノンウェザーメーターによる耐光性試験を実施した。試験期間は３６時間とした。キセノンウェザーメーターとしてスガ試験機社製ＸＴ１５００テーブルサンを用いた。
・耐光性試験
光硬化性組成物をシリコン基板上に膜厚６００ｎｍになるように調整してスピンコート塗布した。次いで、プレベークを１００℃で１分間行い、東芝機械社製インプリント装置ＳＴ－２００を用いて、露光量１Ｊ／ｃｍ２（真空２００Ｐａ雰囲気下）で硬化膜を得た。得られた硬化膜について、キセノンウェザーメーターによる耐光性試験を実施した。試験期間は３６時間とした。キセノンウェザーメーターとしてスガ試験機社製ＸＴ１５００テーブルサンを用いた。
・屈折率の評価
耐光性試験前と耐光性試験後の硬化膜について、Ｊ．Ａ．ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメーターＭ２０００を用いて、波長５３０ｎｍでの屈折率を測定した。
耐光性試験前と耐光性試験後の硬化膜について、Ｊ．Ａ．ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメーターＭ２０００を用いて、波長５３０ｎｍでの屈折率を測定した。
・膜厚の評価
耐光性試験前と耐光性試験後の硬化膜について、Ｊ．Ａ．ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメーターＭ２０００を用いて、膜厚を測定した。
耐光性試験前と耐光性試験後の硬化膜について、Ｊ．Ａ．ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメーターＭ２０００を用いて、膜厚を測定した。
表４～６の結果から、本願発明を適用した実施例１～１９の光硬化性組成物は、屈折率が１．７以上であり、高い屈折率を有していた。また、耐光性試験の前後で、屈折率及び膜厚に大きな変化はなく耐光性も良好であった。一方、比較例１～８及び１１～１３の光硬化性組成物は、耐光性試験後に屈折率が低下し、膜厚も減少した。比較例９及び１０の光硬化性組成物は、耐光性試験の前後で屈折率及び膜厚に大きな変化はなく耐光性は良好であったが、屈折率は１．７未満であった。
１ 基板、２ 光硬化性膜、３ モールド
Claims (6)
- （Ｘ）成分：チタニアナノ粒子と、
（Ｔ）成分：トリアジン系紫外線吸収剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群より選択される紫外線吸収剤と、
（Ｂ）成分：重合性官能基を有する光重合性モノマーと、
（Ｃ）成分：光重合開始剤と、
を含有する、光硬化性組成物。 - 更に、（Ｓ）成分：溶剤を含有する、請求項１に記載の光硬化性組成物。
- 前記（Ｔ）成分の分子量が４００以上である、請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
- 前記光硬化性組成物を用いて形成した硬化膜の、波長５３０ｎｍにおける屈折率が１．７以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
- 光インプリントリソグラフィ用である、請求項１～４のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
- 基板上に、請求項１～５のいずれか一項に記載の光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成する工程と、
凹凸パターンを有するモールドを、前記光硬化性膜に押圧して、前記光硬化性膜に前記凹凸パターンを転写する工程と、
前記モールドを前記光硬化性膜に押圧しつつ、前記凹凸パターンが転写された光硬化性膜を露光して、硬化膜を形成する工程と、
前記硬化膜から前記モールドを剥離する工程と、
を有する、パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020205329A JP2022092497A (ja) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020205329A JP2022092497A (ja) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 |
Publications (1)
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|---|---|
| JP2022092497A true JP2022092497A (ja) | 2022-06-22 |
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ID=82068202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020205329A Pending JP2022092497A (ja) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2022092497A (ja) |
-
2020
- 2020-12-10 JP JP2020205329A patent/JP2022092497A/ja active Pending
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