JP2022086588A - 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 4
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 38
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 10
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 67
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 23
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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Abstract
Description
基板に蒸着物質を放出する蒸着源と、
シャッタと、
前記蒸着源と前記基板との間の位置を含む移動軌道上で前記シャッタを回動する回動手段と、
冷却媒体が流れる配管と、
を備えた蒸着装置であって、
前記回動手段は、
軸方向に延びる内部空間を有し、前記シャッタの回動中心を形成する回転軸と、
前記回転軸に接続され、前記シャッタを支持する支持部材と、を含み、
前記支持部材は、前記配管に接続され、前記冷却媒体が流れる流路を有し、
前記流路と前記配管とを接続する接続部が、前記回転軸の前記内部空間において前記支持部材に設けられ、
前記配管は、前記接続部に接続され、前記回転軸の前記内部空間において前記回転軸の前記軸方向に延設された可撓性チューブを含む、
ことを特徴とする蒸着装置が提供される。
図1は本発明の一実施形態に係る成膜装置1の概略図である。なお、各図において矢印X及びYは互いに直交する水平方向を示し、矢印Zは垂直方向(鉛直方向)を示す。成膜装置1は、搬送装置2と、複数の蒸着装置3A及び3B(以下、両者を総称する場合、又は、区別しない場合は蒸着装置3と表す)と、を備える。複数の蒸着装置3A及び3BはX方向に並べて配置されており、搬送装置2はこれら蒸着装置3A及び3Bの上方に配置されている。
図1~図2(B)に加えて、図3~図5(B)を参照してシャッタ7と回動ユニット8の構造について説明する。主に、図3を参照する。図3は蒸着装置3の内部構造を示す概略図であり、図2(A)のA-A線断面図に相当する。回動ユニット8は、一対の駆動ユニットDU1及びDU2(以下、両者を総称する場合、又は、区別しない場合は駆動ユニットDUと表す)と、駆動ユニットDU1及びDU2に支持された支持部材30とを備え、蒸着源6の延設方向(本実施形態ではY方向)の回動中心線AL周りにシャッタ7を回動する。シャッタ7を回動することで、平行移動させる構成に比べて、防着板4に囲まれた狭い空間で蒸着源6の開閉動作を行うことができる。
監視装置9について図3、図4を参照して説明する。監視装置9は台座部材13に搭載されており、台座部材13はソースチャンバ5の底部に立設された支柱15に支持されている。本実施形態の場合、一つの台座部材13に二つの監視装置9が搭載されている。監視装置9は取り付け部材9cを介して交換可能に台座部材13に固定される。
次に、電子デバイスの一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成を例示する。
上記実施形態では、一つの蒸着源6に対して二つのシャッタ7を設けたが、一つの蒸着源6に対して一つのシャッタ7を設けた構成でもよい。また、一つの支持部材30に対して二つの駆動ユニットDU1、DU2を設けたが、一つの支持部材30に対して一つの駆動ユニットDUを設けてもよい。
Claims (14)
- 基板に蒸着物質を放出する蒸着源と、
シャッタと、
前記蒸着源と前記基板との間の位置を含む移動軌道上で前記シャッタを回動する回動手段と、
冷却媒体が流れる配管と、
を備えた蒸着装置であって、
前記回動手段は、
軸方向に延びる内部空間を有し、前記シャッタの回動中心を形成する回転軸と、
前記回転軸に接続され、前記シャッタを支持する支持部材と、を含み、
前記支持部材は、前記配管に接続され、前記冷却媒体が流れる流路を有し、
前記流路と前記配管とを接続する接続部が、前記回転軸の前記内部空間において前記支持部材に設けられ、
前記配管は、前記接続部に接続され、前記回転軸の前記内部空間において前記回転軸の前記軸方向に延設された可撓性チューブを含む、
ことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1に記載の蒸着装置であって、
前記回転軸の、前記軸方向の両端部が開口しており、
前記支持部材は、前記回転軸の前記軸方向の一方端部の開口を塞ぐように前記回転軸に接続され、
前記可撓性チューブは、前記回転軸の前記軸方向の他方端部の開口よりも外部へ延設されている、
ことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の蒸着装置であって、
前記回動手段は、
前記回転軸を支持する軸受けと、
駆動源として中空モータと、を備え、
前記回転軸は、
前記中空モータを通過する部分と、
前記軸受けに支持される部分と、を含む、
ことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の蒸着装置であって、
前記配管として、前記冷却媒体の供給用の配管と、前記冷却媒体の排出用の配管とを備え、
前記接続部として、前記供給用の配管が接続される供給用の接続部と、前記排出用の配管が接続される排出用の接続部と、を備え、
前記供給用の配管は、前記可撓性チューブとして前記供給用の接続部に接続される可撓性チューブを含み、
前記排出用の配管は、前記可撓性チューブとして前記排出用の接続部に接続される可撓性チューブを含む、
ことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項3に記載の蒸着装置であって、
前記蒸着源からの蒸着物質の放出状態を監視する監視手段を備え、
前記監視手段は、前記軸受けから前記回転軸の径方向に離間した位置に配置されている、
ことを特徴とする蒸着装置。 - 基板を搬送する搬送装置と、
前記基板に蒸着物質を蒸着する蒸着装置と、を備え、
前記基板を搬送しながら蒸着を行うインライン型の成膜装置であって、
前記蒸着装置は、
前記基板の搬送方向と交差する方向に延設され、前記基板に蒸着物質を放出する蒸着源と、
シャッタと、
前記蒸着源と前記基板との間の位置を含む移動軌道上で前記シャッタを回動する回動手段と、
冷却媒体が流れる配管と、を備え、
前記回動手段は、
軸方向に延びる内部空間を有し、前記蒸着源の延設方向に沿う前記シャッタの回動中心を形成する回転軸と、
前記回転軸に接続され、前記シャッタを支持する支持部材と、を含み、
前記支持部材は、前記配管に接続され、前記冷却媒体が流れる流路を有し、
前記流路と前記配管とを接続する接続部が、前記回転軸の前記内部空間において前記支持部材に設けられ、
前記配管は、前記接続部に接続され、前記回転軸の前記内部空間を前記回転軸の前記軸方向に延設された可撓性チューブを含む、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項6に記載の成膜装置であって、
前記支持部材は、
前記蒸着源の前記延設方向に沿って延設され、前記シャッタが取り付けられる取付部と、
前記回転軸の径方向に延設され、前記延設方向で前記取付部の端部と前記回転軸とを接続するアーム部と、を含み、
前記流路は、前記アーム部及び前記取付部に渡って形成され、
前記接続部は、前記アーム部に設けられている、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項6に記載の成膜装置であって、
前記シャッタは、前記回動中心の径方向で外側に凸の弧状断面形状を有している、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項7に記載の成膜装置であって、
前記シャッタは、前記取付部に対して、前記回動中心の径方向で内側に取り付けられている、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項7に記載の成膜装置であって、
前記シャッタは、前記取付部に対して、交換可能に取り付けられている、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項6乃至請求項10のいずれか一項に記載の成膜装置であって、
前記蒸着装置は、前記蒸着源からの蒸着物質の放出状態を監視する監視手段を備え、
前記回動手段は、
前記回転軸を支持する軸受けと、
駆動源として中空モータと、を備え、
前記回転軸は、
前記中空モータを通過する部分と、
前記軸受けに支持される部分と、を含み、
前記監視手段は、前記軸受けから前記回転軸の径方向に離間した位置に配置されている、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項6に記載の成膜装置であって、
前記蒸着装置は、
前記回転軸として、同軸上に配置された第一の回転軸及び第二の回転軸を備え、
前記支持部材は、
前記蒸着源の前記延設方向に沿って延設され、前記シャッタが取り付けられる取付部と、
前記第一の回転軸の径方向に延設され、前記取付部の一方の端部と前記第一の回転軸とを接続する第一のアーム部と、
前記第二の回転軸の径方向に延設され、前記取付部の他方の端部と前記第二の回転軸とを接続する第二のアーム部と、を含み、
前記流路は、
前記第一のアーム部及び前記取付部の途中部に渡って形成された第一の流路と、
前記第二のアーム部及び前記取付部の途中部に渡って形成された第二の流路と、を含み、
前記蒸着装置は、前記可撓性チューブとして、
前記第一の流路と接続され、前記第一の回転軸の内部空間に配置される第一の可撓性チューブと、前記第二の流路と接続され、前記第二の回転軸の内部空間に配置される第二の可撓性チューブと、を備える、
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項6乃至請求項12のいずれか一項に記載の成膜装置を用いた成膜方法であって、
前記搬送装置によって前記基板を搬送する搬送工程と、
搬送されている前記基板に、前記蒸着装置によって蒸着を行う蒸着工程と、を有する
ことを特徴とする成膜方法。 - 請求項6乃至請求項12のいずれか一項に記載の成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法であって、
前記搬送装置によって前記基板を搬送する搬送工程と、
搬送されている前記基板に、前記蒸着装置によって蒸着を行う蒸着工程と、を有する
ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020198686A JP7354086B2 (ja) | 2020-11-30 | 2020-11-30 | 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
KR1020210152742A KR20220076310A (ko) | 2020-11-30 | 2021-11-09 | 증착 장치, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 |
CN202111365912.5A CN114574812B (zh) | 2020-11-30 | 2021-11-18 | 蒸镀装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020198686A JP7354086B2 (ja) | 2020-11-30 | 2020-11-30 | 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022086588A true JP2022086588A (ja) | 2022-06-09 |
JP7354086B2 JP7354086B2 (ja) | 2023-10-02 |
Family
ID=81768028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020198686A Active JP7354086B2 (ja) | 2020-11-30 | 2020-11-30 | 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7354086B2 (ja) |
KR (1) | KR20220076310A (ja) |
CN (1) | CN114574812B (ja) |
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---|---|
JP7354086B2 (ja) | 2023-10-02 |
KR20220076310A (ko) | 2022-06-08 |
CN114574812B (zh) | 2023-12-19 |
CN114574812A (zh) | 2022-06-03 |
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