JP2022080003A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示素子の性能劣化を抑制することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】本実施形態の表示装置は、基材と、前記基材の上に配置された第１絶縁層と、前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、前記第１絶縁層の上に配置され、前記第１電極に重畳する開口部と、前記第１電極に重畳しない第１トレンチと、前記開口部と前記第１トレンチとの間の第１面と、を有する第２絶縁層と、発光層を含む有機層と、前記有機層を覆う第２電極と、を備え、前記有機層は、前記開口部に配置され、前記第１電極を覆う第１部分と、前記第１面に配置された第２部分と、前記第１トレンチに配置され、前記第２部分から離間した第３部分と、を有している。【選択図】図４

Description

本発明の実施形態は、表示装置に関する。

近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した表示装置が実用化されている。表示素子は、画素電極と共通電極との間に有機層を備えている。有機層は、発光層の他に、正孔輸送層や電子輸送層などの機能層を含んでいる。このような有機層は、例えば真空蒸着法によって形成される。
例えば、複数の機能層を積層した有機層を形成する場合、有機層の周縁部において機能層の端面が揃わず、表示素子の性能劣化を招くおそれがある。

特開２０００－１９５６７７号公報 特開２００４－２０７２１７号公報 特開２００８－１３５３２５号公報 特開２００９－３２６７３号公報 特開２０１０－１１８１９１号公報 国際公開第２０１９／０２６５１１号

本発明の目的は、表示素子の性能劣化を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。

一実施形態に係る表示装置は、
基材と、前記基材の上に配置された第１絶縁層と、前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、前記第１絶縁層の上に配置され、前記第１電極に重畳する開口部と、前記第１電極に重畳しない第１トレンチと、前記開口部と前記第１トレンチとの間の第１面と、を有する第２絶縁層と、発光層を含む有機層と、前記有機層を覆う第２電極と、を備え、前記有機層は、前記開口部に配置され、前記第１電極を覆う第１部分と、前記第１面に配置された第２部分と、前記第１トレンチに配置され、前記第２部分から離間した第３部分と、を有している。

図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの一構成例を示す図である。 図２は、画素ＰＸに含まれる副画素のレイアウトの一例を示す図である。 図３は、画素ＰＸに含まれる副画素のレイアウトの他の例を示す図である。 図４は、表示素子２０の一例を示す断面図である。 図５は、表示素子２０の他の例を示す断面図である。 図６は、トレンチの第１形状例を示す平面図である。 図７は、トレンチの第２形状例を示す平面図である。 図８は、トレンチの第３形状例を示す平面図である。 図９は、トレンチの第４形状例を示す平面図である。 図１０は、トレンチの第５形状例を示す平面図である。 図１１は、第１構造例を示す断面図である。 図１２は、第２構造例を示す断面図である。 図１３は、第３構造例を示す断面図である。 図１４は、第４構造例を示す断面図である。 図１５は、第５構造例を示す断面図である。 図１６は、第６構造例を示す断面図である。 図１７は、第１変形例を示す断面図である。 図１８は、第２変形例を示す断面図である。 図１９は、表示素子２０の他の例を示す断面図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

なお、図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸、及び、Ｚ軸を記載する。Ｘ軸に沿った方向をＸ方向または第１方向と称し、Ｙ軸に沿った方向をＹ方向または第２方向と称し、Ｚ軸に沿った方向をＺ方向または第３方向と称する。Ｘ軸及びＹ軸によって規定される面をＸ－Ｙ平面と称し、Ｘ軸及びＺ軸によって規定される面をＸ－Ｚ平面と称する。Ｘ－Ｙ平面を見ることを平面視という。

本実施形態に係る表示装置ＤＳＰは、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置であり、テレビ、パソコン、携帯端末、携帯電話等に搭載される。

図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの一構成例を示す図である。表示装置ＤＳＰは、絶縁性の基材１０の上に、画像を表示する表示部ＤＡを備えている。基材１０は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。

表示部ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。画素ＰＸは、複数の副画素ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３を備えている。一例では、画素ＰＸは、赤色の副画素ＳＰ１、緑色の副画素ＳＰ２、及び、青色の副画素ＳＰ３を備えている。なお、画素ＰＸは、上記の３色の副画素の他に、白色などの他の色の副画素を加えた４個以上の副画素を備えていてもよい。

画素ＰＸに含まれる１つの副画素ＳＰの一構成例について簡単に説明する。
すなわち、副画素ＳＰは、画素回路１と、画素回路１によって駆動制御される表示素子２０と、を備えている。画素回路１は、画素スイッチ２と、駆動トランジスタ３と、キャパシタ４と、を備えている。画素スイッチ２及び駆動トランジスタ３は、例えば薄膜トランジスタにより構成されたスイッチ素子である。

画素スイッチ２について、ゲート電極は走査線ＧＬに接続され、ソース電極は信号線ＳＬに接続され、ドレイン電極はキャパシタ４を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ３のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ３について、ソース電極はキャパシタ４を構成する他方の電極及び電源線ＰＬに接続され、ドレイン電極は表示素子２０のアノードに接続されている。表示素子２０のカソードは、給電線ＦＬに接続されている。なお、画素回路１の構成は、図示した例に限らない。

表示素子２０は、発光素子である有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）である。例えば、副画素ＳＰ１は赤波長に対応した光を出射する表示素子を備え、副画素ＳＰ２は緑波長に対応した光を出射する表示素子を備え、副画素ＳＰ３は青波長に対応した光を出射する表示素子を備えている。表示素子２０の構成については、後述する。

図２は、画素ＰＸに含まれる副画素のレイアウトの一例を示す図である。ここでは、図１に一点鎖線で示した４個の画素ＰＸに着目して説明する。
１個の画素ＰＸを構成する副画素ＳＰ１、副画素ＳＰ２、及び、副画素ＳＰ３は、それぞれ第２方向Ｙに延びた略長方形状に形成され、第１方向Ｘに並んでいる。第１方向Ｘに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、隣接する副画素の発光色は互いに異なる。また、第２方向Ｙに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、隣接する副画素の発光色は同一である。なお、副画素ＳＰ１、副画素ＳＰ２、及び、副画素ＳＰ３の各々の面積は、同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。

図３は、画素ＰＸに含まれる副画素のレイアウトの他の例を示す図である。
１個の画素ＰＸを構成する副画素ＳＰ１及び副画素ＳＰ２は第２方向Ｙに並び、副画素ＳＰ１及び副画素ＳＰ３は第１方向Ｘに並び、副画素ＳＰ２及び副画素ＳＰ３は第１方向Ｘに並んでいる。副画素ＳＰ１は第１方向Ｘに延びた略長方形状に形成され、副画素ＳＰ２及び副画素ＳＰ３は第２方向Ｙに延びた略長方形状に形成されている。副画素ＳＰ２の面積は副画素ＳＰ１の面積より大きく、副画素ＳＰ３の面積は副画素ＳＰ２の面積より大きい。なお、副画素ＳＰ１の面積は、副画素ＳＰ２の面積と同一であってもよい。

第１方向Ｘに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、副画素ＳＰ１及び副画素ＳＰ３が交互に配置された領域、及び、副画素ＳＰ２及び副画素ＳＰ３が交互に配置された領域において、隣接する副画素の発光色は互いに異なる。
第２方向Ｙに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、副画素ＳＰ１及び副画素ＳＰ２が交互に配置された領域において、隣接する副画素の発光色は互いに異なる。また、複数の副画素ＳＰ３が並んだ領域においては、隣接する副画素の発光色は同一である。

なお、図２及び図３に示した各副画素の外形は、表示素子の第１電極、あるいは、表示素子の発光領域の外形に相当するが、簡略化して示したものであり、必ずしも実際の形状を反映したものとは限らない。

図４は、表示素子２０の一例を示す断面図である。

絶縁層（第１絶縁層）１１は、基材１０の上に配置されている。図１に示した画素回路１は、基材１０の上に配置され、絶縁層１１によって覆われているが、ここでは図示を省略する。絶縁層１１は、表示素子２０の下地層に相当し、例えば、有機絶縁層である。

絶縁層（第２絶縁層）１２は、絶縁層１１の上に配置されている。絶縁層１２は、例えば、有機絶縁層である。絶縁層１２は、表示素子２０あるいは副画素を区画するように形成されており、リブ、隔壁などと称される場合がある。

表示素子２０は、第１電極Ｅ１と、有機層ＯＲと、第２電極Ｅ２と、を備えている。第１電極Ｅ１は、副画素毎あるいは表示素子毎に配置された電極であり、画素電極、下部電極、アノードなどと称される場合がある。第２電極Ｅ２は、複数の副画素あるいは複数の表示素子に対して共通に配置された電極であり、共通電極、対向電極、上部電極、カソードなどと称される場合がある。

第１電極Ｅ１は、絶縁層１１の上に配置され、その周縁部が絶縁層１２によって覆われている。第１電極Ｅ１は、図１に示した駆動トランジスタ３と電気的に接続されている。第１電極Ｅ１は、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの透明導電材料によって形成された透明電極である。なお、第１電極Ｅ１は、銀、アルミニウムなどの金属材料によって形成された金属電極であってもよい。また、第１電極Ｅ１は、透明電極及び金属電極の積層体であってもよい。例えば、第１電極Ｅ１は、透明電極、金属電極、及び、透明電極の順に積層された積層体として構成されてもよいし、３層以上の積層体として構成されてもよい。

有機層ＯＲは、第１電極Ｅ１の上に配置されている。このような有機層ＯＲは、発光層ＥＬを含んでいる。図４に示す例では、有機層ＯＲは、さらに、機能層Ｆ１及びＦ２を含んでいる。機能層Ｆ１、発光層ＥＬ、及び、機能層Ｆ２は、第１電極Ｅ１の側から順に積層されている。機能層Ｆ１及びＦ２は、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、ホールブロック層、電子注入層、電子輸送層、電子ブロック層であるが、その他の機能層であってもよい。また、図示した機能層Ｆ１及びＦ２の各々は、単層体に限らず、複数の機能層が積層された積層体であってもよい。また、機能層Ｆ１及びＦ２の少なくとも一方が省略されてもよい。

第２電極Ｅ２は、有機層ＯＲを覆っている。第２電極Ｅ２は、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電材料によって形成された透明電極である。第２電極Ｅ２は、表示部ＤＡに配置された給電線、あるいは、表示部ＤＡの外側に配置された給電線と電気的に接続されている。なお、第２電極Ｅ２は、透明な保護膜（無機絶縁膜及び有機絶縁膜の少なくとも１つを含む）によって覆われる場合があり得る。

第１電極Ｅ１の電位が第２電極Ｅ２の電位よりも相対的に高い場合、第１電極Ｅ１がアノードに相当し、第２電極Ｅ２がカソードに相当する。また、第２電極Ｅ２の電位が第１電極Ｅ１の電位よりも相対的に高い場合、第２電極Ｅ２がアノードに相当し、第１電極Ｅ１がカソードに相当する。

一例として、第１電極Ｅ１がアノードに相当する場合、発光層ＥＬと第１電極Ｅ１との間の機能層Ｆ１は、ホール注入層及びホール輸送層の少なくとも１つを含み、発光層ＥＬと第２電極Ｅ２との間の機能層Ｆ２は、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも１つを含んでいる。

ここで、絶縁層１２についてより詳細に説明する。
絶縁層１２は、開口部ＯＰと、第１トレンチＴ１と、第２トレンチＴ２と、第１面１２１と、第２面１２２と、を有している。

開口部ＯＰは、第１電極Ｅ１に重畳する領域に形成され、絶縁層１２を第１電極Ｅ１まで貫通した貫通孔である。上記の通り、第１電極Ｅ１の周縁部は絶縁層１２によって覆われ、第１電極Ｅ１の中央部は開口部ＯＰにおいて絶縁層１２から露出している。

第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２は、第１電極Ｅ１に重畳しない領域に形成されている。第２トレンチＴ２は、第１方向Ｘにおいて、開口部ＯＰを挟んで第１トレンチＴ１の反対側に位置している。図４に示す例では、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の各々は、絶縁層１２を貫通していないが、絶縁層１２を絶縁層１１まで貫通していてもよい。

第１面１２１は、絶縁層１２のうち、開口部ＯＰと第１トレンチＴ１との間の表面に相当する。このような第１面１２１は、図示した開口部ＯＰの右側の斜面Ｓ１と、斜面Ｓ１に繋がる上面Ｕ１と、を含んでいる。

第２面１２２は、絶縁層１２のうち、開口部ＯＰと第２トレンチＴ２との間の表面に相当する。このような第２面１２２は、図示した開口部ＯＰの左側の斜面Ｓ２と、斜面Ｓ２に繋がる上面Ｕ２と、を含んでいる。なお、上面Ｕ１及びＵ２は、例えば平坦面であるが、曲面であってもよい。

絶縁層１２は、第１トレンチＴ１において、第１側面ＳＳ１と、第２側面ＳＳ２と、底面Ｂ１と、を有している。第１側面ＳＳ１及び第２側面ＳＳ２は、第１方向Ｘにおいて間隔を置いて対向している。第１側面ＳＳ１は、第１面１２１（あるいは上面Ｕ１）に繋がっている。第１トレンチＴ１は、第１側面ＳＳ１、第２側面ＳＳ２、及び、底面Ｂ１によって囲まれた空間に相当する。第１側面ＳＳ１と斜面Ｓ１との傾きを比較した場合、第１側面ＳＳ１は斜面Ｓ１より急峻な面である。

第１トレンチＴ１の上部における第１側面ＳＳ１と第２側面ＳＳ２との間隔Ｄ１は、第１トレンチＴ１の下部における第１側面ＳＳ１と第２側面ＳＳ２との間隔Ｄ２より大きい。つまり、第１トレンチＴ１は、底面Ｂ１に向かうほど、第１方向Ｘに沿った幅が小さくなるように形成されている。

絶縁層１２は、第２トレンチＴ２において、第３側面ＳＳ３と、第４側面ＳＳ４と、底面Ｂ２と、を有している。第３側面ＳＳ３及び第４側面ＳＳ４は、第１方向Ｘにおいて間隔を置いて対向している。第３側面ＳＳ３は、第２面１２２（あるいは上面Ｕ２）に繋がっている。第２トレンチＴ２は、第３側面ＳＳ３、第４側面ＳＳ４、及び、底面Ｂ２によって囲まれた空間に相当する。第３側面ＳＳ３と斜面Ｓ２との傾きを比較した場合、第３側面ＳＳ３は斜面Ｓ２より急峻な面である。
第２トレンチＴ２も、第１トレンチＴ１と同様に、底面Ｂ２に向かうほど、第１方向Ｘに沿った幅が小さくなるように形成されている。

次に、有機層ＯＲについて説明する。
有機層ＯＲは、第１部分ＯＲ１と、第２部分ＯＲ２と、第３部分ＯＲ３と、第４部分ＯＲ４と、第５部分ＯＲ５と、を有している。これらの第１部分ＯＲ１、第２部分ＯＲ２、第３部分ＯＲ３、第４部分ＯＲ４、及び、第５部分ＯＲ５は、同一色の発光層ＥＬを含んでいる。

第１部分ＯＲ１は、開口部ＯＰに配置され、第１電極Ｅ１を覆っている。第２電極Ｅ２は、第１部分ＯＲ１に積層されている。第１部分ＯＲ１は、第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２との間に位置するため、表示素子２０の発光領域を形成することができる。

第２部分ＯＲ２は、第１面１２１に配置されている。第２部分ＯＲ２は、第１部分ＯＲ１に繋がっている。図４に示す例では、第２部分ＯＲ２は、斜面Ｓ１及び上面Ｕ１に亘って連続的に形成されているが、その途中で途切れている場合があり得る。第２部分ＯＲ２のうち、第１側面ＳＳ１の延長線上に位置する部分については、機能層Ｆ１、発光層ＥＬ、及び、機能層Ｆ２の各々の端面がほぼ揃っている。第２電極Ｅ２は、第２部分ＯＲ２に積層され、しかも、機能層Ｆ１、発光層ＥＬ、及び、機能層Ｆ２の各々の端面を覆っている。
このような第２部分ＯＲ２は、絶縁層１２と第２電極Ｅ２との間に位置しているため、ほとんど発光しない。

第３部分ＯＲ３は、第１トレンチＴ１に配置され、第２部分ＯＲ２から離間している。図４に示す例では、第３部分ＯＲ３は、第１トレンチＴ１において、第２側面ＳＳ２に配置されているが、第１面１２１に繋がる第１側面ＳＳ１にはほとんど配置されない。また、第３部分ＯＲ３は、底面Ｂ１の一部に配置される場合があるが、底面Ｂ１にほとんど配置されない場合もあり得る。なお、第３部分ＯＲ３は、第２側面ＳＳ２に接しているが、第２側面ＳＳ２と第３部分ＯＲ３との間に他の薄膜が介在していてもよい。第２電極Ｅ２は、第３部分ＯＲ３を覆っている。
このような第３部分ＯＲ３は、絶縁層１２と第２電極Ｅ２との間に位置し、しかも、第１部分ＯＲ１から完全に分離されているため、発光しない。尚、第３部分ＯＲ３は発光に寄与しないため、上記のように第２電極Ｅ２は第３部分ＯＲ３の全体を覆うほかに、第２電極Ｅ２は第３部分ＯＲ３の一部を覆ってもよいし、あるいは、第３部分ＯＲ３を覆う第２電極Ｅ２を省略してもよい。また、第２電極Ｅ２は当該画素と隣接する画素との間で途切れていてもよい。

第２電極Ｅ２は、第２部分ＯＲ２と第３部分ＯＲ３との間において、有機層ＯＲを介することなく、第１側面ＳＳ１に配置されている。第２電極Ｅ２は、第１側面ＳＳ１に接しているが、第１側面ＳＳ１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第２電極Ｅ２は、底面Ｂ１の少なくとも一部に接しているが、底面Ｂ１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。第１トレンチＴ１が絶縁層１１まで貫通している場合は、第２電極Ｅ２は、絶縁層１１に接するが、絶縁層１１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。

第４部分ＯＲ４は、第２面１２２に配置されている。第４部分ＯＲ４は、第１部分ＯＲ１に繋がっている。図４に示す例では、第４部分ＯＲ４は、斜面Ｓ２及び上面Ｕ２に亘って連続的に形成されているが、その途中で途切れている場合があり得る。第４部分ＯＲ４のうち、第３側面ＳＳ３の延長線上に位置する部分については、機能層Ｆ１、発光層ＥＬ、及び、機能層Ｆ２の各々の端面がほぼ揃っている。第２電極Ｅ２は、第４部分ＯＲ４に積層され、しかも、機能層Ｆ１、発光層ＥＬ、及び、機能層Ｆ２の各々の端面を覆っている。
このような第４部分ＯＲ４は、絶縁層１２と第２電極Ｅ２との間に位置しているため、ほとんど発光しない。

第５部分ＯＲ５は、第２トレンチＴ２に配置され、第４部分ＯＲ４から離間している。図４に示す例では、第５部分ＯＲ５は、第２トレンチＴ２において、第４側面ＳＳ４に配置されているが、第２面１２２に繋がる第３側面ＳＳ３にはほとんど配置されない。また、第５部分ＯＲ５は、底面Ｂ２の一部に配置される場合があるが、底面Ｂ２にほとんど配置されない場合もあり得る。なお、第５部分ＯＲ５は、第４側面ＳＳ４に接しているが、第４側面ＳＳ４と第５部分ＯＲ５との間に他の薄膜が介在していてもよい。第２電極Ｅ２は、第５部分ＯＲ５を覆っている。
このような第５部分ＯＲ５は、絶縁層１２と第２電極Ｅ２との間に位置し、しかも、第１部分ＯＲ１から完全に分離されているため、発光しない。尚、第５部分ＯＲ５は発光に寄与しないため、上記のように第２電極Ｅ２は第５部分ＯＲ５の全体を覆うほかに、第２電極Ｅ２は第５部分ＯＲ５の一部を覆ってもよいし、あるいは、第５部分ＯＲ５を覆う第２電極Ｅ２を省略してもよい。また、第２電極Ｅ２は当該画素と隣接する画素との間で途切れていてもよい。

第２電極Ｅ２は、第４部分ＯＲ４と第５部分ＯＲ５との間において、有機層ＯＲを介することなく、第３側面ＳＳ３に配置されている。第２電極Ｅ２は、第３側面ＳＳ３に接しているが、第３側面ＳＳ３と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第２電極Ｅ２は、底面Ｂ２の少なくとも一部に接しているが、底面Ｂ２と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。第２トレンチＴ２が絶縁層１１まで貫通している場合は、第２電極Ｅ２は、絶縁層１１に接するが、絶縁層１１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。

このような有機層ＯＲを構成する各層は、例えば真空蒸着法によって形成される。有機層ＯＲを形成するための有機材料が蒸着源から放射状に広がる様子を図中に一点鎖線で示している。
開口部ＯＰ、第１トレンチＴ１、及び、第２トレンチＴ２を有する絶縁層１２を形成した後に、有機材料を蒸着する際、第２側面ＳＳ２及び第４側面ＳＳ４は、有機材料の導入経路上に位置する一方で、第１側面ＳＳ１及び第３側面ＳＳ３は、有機材料の導入経路から外れる。
このため、図４に示すように、第２側面ＳＳ２及び第４側面ＳＳ４には、有機層ＯＲが形成される一方で、第１側面ＳＳ１及び第３側面ＳＳ３には、有機層ＯＲがほとんど形成されない。

上記の通り、有機層ＯＲのうち、周縁部に相当する第３部分ＯＲ３は、発光に寄与する第１部分ＯＲ１、及び、第１部分ＯＲ１に繋がった第２部分ＯＲ２から分離される。また、有機層ＯＲの周縁部に相当する第５部分ＯＲ５は、第１部分ＯＲ１に繋がった第４部分ＯＲ４から分離される。このため、有機層ＯＲの周縁部での不所望な電流リーク（例えば、発光層ＥＬを介することなく機能層Ｆ１を介して第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２との間で電流が流れる不具合）等が抑制され、表示素子２０の性能劣化を抑制することができる。

図５は、表示素子２０の他の例を示す断面図である。図５に示す例は、図４に示した例と比較して、有機層ＯＲの形状が異なる。

有機層ＯＲは、第１部分ＯＲ１と、第２部分ＯＲ２と、第３部分ＯＲ３と、第４部分ＯＲ４と、第５部分ＯＲ５と、第６部分ＯＲ６と、を有している。これらの第１部分ＯＲ１、第２部分ＯＲ２、第３部分ＯＲ３、第４部分ＯＲ４、第５部分ＯＲ５、及び、第６部分ＯＲ６は、同一色の発光層ＥＬを含んでいる。第２電極Ｅ２は、第１部分ＯＲ１、第２部分ＯＲ２、第３部分ＯＲ３、第４部分ＯＲ４、第５部分ＯＲ５、及び、第６部分ＯＲ６をそれぞれ覆っている。

第１部分ＯＲ１は、開口部ＯＰに配置され、第１電極Ｅ１を覆っている。
第２部分ＯＲ２は、第１面１２１に配置され、第１部分ＯＲ１に繋がっている。
第３部分ＯＲ３は、第１トレンチＴ１に配置され、第２部分ＯＲ２から離間している。図５に示す例では、第３部分ＯＲ３は、第１トレンチＴ１において、第２側面ＳＳ２に配置されているが、第１面１２１に繋がる第１側面ＳＳ１にはほとんど配置されない。また、第３部分ＯＲ３は、底面Ｂ１の一部に配置される場合があるが、底面Ｂ１にほとんど配置されない場合もあり得る。なお、第３部分ＯＲ３は、第２側面ＳＳ２に接しているが、第２側面ＳＳ２と第３部分ＯＲ３との間に他の薄膜が介在していてもよい。

第２電極Ｅ２は、第２部分ＯＲ２と第３部分ＯＲ３との間において、有機層ＯＲを介することなく、第１側面ＳＳ１に配置されている。第２電極Ｅ２は、第１側面ＳＳ１に接しているが、第１側面ＳＳ１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第２電極Ｅ２は、底面Ｂ１の少なくとも一部に接しているが、底面Ｂ１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。第１トレンチＴ１が絶縁層１１まで貫通している場合は、第２電極Ｅ２は、絶縁層１１に接するが、絶縁層１１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第３部分ＯＲ３は発光に寄与しないため、図５に示すように第２電極Ｅ２は第３部分ＯＲ３の全体を覆うほかに、第２電極Ｅ２は第３部分ＯＲ３の一部を覆ってもよいし、あるいは、第３部分ＯＲ３を覆う第２電極Ｅ２を省略してもよい。また、第２電極Ｅ２は当該画素と隣接する画素との間で途切れていてもよい。

第４部分ＯＲ４は、第２面１２２に配置され、第１部分ＯＲ１に繋がっている。
第５部分ＯＲ５は、第２トレンチＴ２に配置され、第４部分ＯＲ４に繋がっている。図５に示す例では、第５部分ＯＲ５は、第２トレンチＴ２において、第２面１２２に繋がる第３側面ＳＳ３に配置されているが、第４側面ＳＳ４に配置されない。また、第５部分ＯＲ５は、底面Ｂ２の一部に配置される場合があるが、底面Ｂ２にほとんど配置されない場合もあり得る。なお、第５部分ＯＲ５は、第３側面ＳＳ３に接しているが、第３側面ＳＳ３と第５部分ＯＲ５との間に他の薄膜が介在していてもよい。

第６部分ＯＲ６は、絶縁層１２の上面Ｕ３に配置されている。第２トレンチＴ２は、上面Ｕ２と上面Ｕ３との間に形成されている。このような第６部分ＯＲ６は、第５部分ＯＲ５から離間している。

第２電極Ｅ２は、第５部分ＯＲ５と第６部分ＯＲ６との間において、有機層ＯＲを介することなく、第４側面ＳＳ４に配置されている。第２電極Ｅ２は、第４側面ＳＳ４に接しているが、第４側面ＳＳ４と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第２電極Ｅ２は、底面Ｂ２の少なくとも一部に接しているが、底面Ｂ２と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。第２トレンチＴ２が絶縁層１１まで貫通している場合は、第２電極Ｅ２は、絶縁層１１に接するが、絶縁層１１と第２電極Ｅ２との間に他の薄膜が介在していてもよい。また、第６部分ＯＲ６は発光に寄与しないため、図５に示すように第２電極Ｅ２は第６部分ＯＲ６の全体を覆うほかに、第２電極Ｅ２は第６部分ＯＲ６の一部を覆ってもよいし、あるいは、第６部分ＯＲ６を覆う第２電極Ｅ２を省略してもよい。また、第２電極Ｅ２は当該画素と隣接する画素との間で途切れていてもよい。

このような有機層ＯＲを構成する各層は、図４に示した例と同様に、例えば真空蒸着法によって形成される。但し、ここでは、基材１０の法線に対して斜め方向から蒸着する斜方蒸着法が適用される。有機層ＯＲを形成するための有機材料が蒸着源から指向性をもって導入される様子を図中に一点鎖線で示している。
開口部ＯＰ、第１トレンチＴ１、及び、第２トレンチＴ２を有する絶縁層１２を形成した後に、有機材料を蒸着する際、第２側面ＳＳ２及び第３側面ＳＳ３は、有機材料の導入経路上に位置する一方で、第１側面ＳＳ１及び第４側面ＳＳ４は、有機材料の導入経路から外れる。
このため、図５に示すように、第２側面ＳＳ２及び第３側面ＳＳ３には、有機層ＯＲが形成される一方で、第１側面ＳＳ１及び第４側面ＳＳ４には、有機層ＯＲがほとんど形成されない。

上記の通り、有機層ＯＲのうち、周縁部に相当する第３部分ＯＲ３は、発光に寄与する第１部分ＯＲ１、及び、第１部分ＯＲ１に繋がった第２部分ＯＲ２から分離される。また、有機層ＯＲの周縁部に相当する第６部分ＯＲ６は、第１部分ＯＲ１に繋がった第４部分ＯＲ４及び第５部分ＯＲ５から分離される。このため、周縁部での不所望な電流リーク等が抑制され、表示素子２０の性能劣化を抑制することができる。

次に、絶縁層１２に形成されるトレンチの形状例について説明する。なお、以下に説明する各例において、副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２の発光色は赤（Ｒ）であり、副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２の発光色は緑（Ｇ）であり、副画素ＳＰ１１及びＳＰ２１は第１方向Ｘに並び、副画素ＳＰ１２及びＳＰ２２は第１方向Ｘに並び、副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２は第２方向Ｙに並び、副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２は第２方向に並んでいる。各図には、副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２のうち、表示素子を構成する第１電極ＲＥ１及び赤色の有機層ＲＯＲを図示し、副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２のうち、表示素子を構成する第１電極ＧＥ１及び緑色の有機層ＧＯＲを図示している。

図６は、トレンチの第１形状例を示す平面図である。
トレンチＴＹ１１乃至ＴＹ１４は、それぞれ第２方向Ｙに沿って延出している。
トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２は、副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２に亘って連続的に形成されている。副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２の各々の第１電極ＲＥ１は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２の間に位置している。
トレンチＴＹ１３及びＴＹ１４は、副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２に亘って連続的に形成されている。副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２の各々の第１電極ＧＥ１は、トレンチＴＹ１３及びＴＹ１４の間に位置している。

トレンチＴＸ１１乃至ＴＸ１４は、それぞれ第１方向Ｘに沿って延出し、トレンチＴＹ１１乃至ＴＹ１４と交差している。
トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２は、副画素ＳＰ１１及びＳＰ２１に亘って連続的に形成されている。副画素ＳＰ１１の第１電極ＲＥ１及び副画素ＳＰ２１の第１電極ＧＥ１は、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２の間に位置している。
トレンチＴＸ１３及びＴＸ１４は、副画素ＳＰ１２及びＳＰ２２に亘って連続的に形成されている。副画素ＳＰ１２の第１電極ＲＥ１及び副画素ＳＰ２２の第１電極ＧＥ１は、トレンチＴＸ１３及びＴＸ１４の間に位置している。

副画素ＳＰ１１に着目すると、第１電極ＲＥ１は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２と、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２とによって囲まれている。例えば、トレンチＴＹ１１は上記の第１トレンチＴ１に相当し、トレンチＴＹ１２は上記の第２トレンチに相当し、トレンチＴＸ１１はトレンチＴＹ１１及びＴＹ１２に繋がった第３トレンチに相当し、及び、トレンチＴＸ１２はトレンチＴＹ１１及びＴＹ１２に繋がった第４トレンチに相当する。平面視において、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２と、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２とは、第１電極ＲＥ１に重畳しない。

有機層ＲＯＲが形成される領域は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２の外側まで広がり、また、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２の外側まで広がっている。トレンチＴＹ１１、トレンチＴＹ１２、トレンチＴＸ１１、及び、トレンチＴＸ１２の少なくとも１つにおいて、有機層ＲＯＲは、発光に寄与する部分と、周縁部とに分離されている。したがって、表示素子の性能劣化が抑制される。

他の副画素ＳＰ１２、ＳＰ２１、ＳＰ２２においても、副画素ＳＰ１１と同様に、有機層は、第１電極を囲む４つのトレンチの外側まで広がっており、少なくとも１つのトレンチにおいて、表示に寄与する部分と周縁部とに分離されている。このため、各副画素において、表示素子の性能劣化が抑制される。

図７は、トレンチの第２形状例を示す平面図である。
第２形状例は、第１形状例と比較して、第１方向Ｘに延出したトレンチ、及び、第２方向Ｙに延出したトレンチの各々が不連続に形成され、各副画素のトレンチがループ状に形成された点で相違している。副画素ＳＰ１１のトレンチＴ１１は第１電極ＲＥ１を囲み、副画素ＳＰ１２のトレンチＴ１２は第１電極ＲＥ１を囲み、副画素ＳＰ２１のトレンチＴ２１は第１電極ＧＥ１を囲み、副画素ＳＰ２２のトレンチＴ２２は第１電極ＧＥ１を囲んでいる。トレンチＴ１１、Ｔ１２、Ｔ２１、及び、Ｔ２２は、互いに離間している。

副画素ＳＰ１１に着目すると、有機層ＲＯＲが形成される領域は、トレンチＴ１１の外側まで広がっている。トレンチＴ１１の少なくとも一部において、有機層ＲＯＲは、表示に寄与する部分と周縁部とに分離される。他の副画素ＳＰ１２、ＳＰ２１、ＳＰ２２においても、副画素ＳＰ１１と同様である。したがって、このような第２形状例においても、第１形状例と同様の効果が得られる。

図８は、トレンチの第３形状例を示す平面図である。
第３形状例は、第１形状例と比較して、第２方向Ｙに並んだ副画素の間のトレンチを省略した点で相違している。例えば、副画素ＳＰ１１と副画素ＳＰ１２との間を横切るトレンチ、及び、副画素ＳＰ２１と副画素ＳＰ２２との間を横切るトレンチは、いずれも形成されない。但し、最外周においては、第１方向Ｘに延出したトレンチＴＸが形成されている。トレンチＴＸは、トレンチＴＹ１１乃至ＴＹ１４を繋ぐように連続的に形成されているが、トレンチＴＹ１２とトレンチＴＹ１３との間で途切れていてもよい。

有機層ＲＯＲは、副画素ＳＰ１１及びＳＰ１２に亘って配置されている。有機層ＲＯＲが形成される領域のうち、第１方向Ｘに沿った両端部は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２の外側に広がり、第２方向Ｙに沿った一端部は、トレンチＴＸの外側に広がっている。
有機層ＧＯＲは、副画素ＳＰ２１及びＳＰ２２に亘って配置されている。有機層ＧＯＲが形成される領域のうち、第１方向Ｘに沿った両端部は、トレンチＴＹ１３及びＴＹ１４の外側に広がり、第２方向Ｙに沿った一端部は、トレンチＴＸの外側に広がっている。なお、ここでは図示しない有機層ＲＯＲの第２方向Ｙに沿った他端部、及び、有機層ＧＯＲの第２方向Ｙに沿った他端部も、それぞれトレンチの外側に広がっている。
このような第３形状例においても、第１形状例と同様の効果が得られる。

図９は、トレンチの第４形状例を示す平面図である。
第４形状例は、第１形状例と比較して、隣接する副画素の間の２本のトレンチを１本のトレンチに置換した点で相違している。例えば、トレンチＴＸ１２は、副画素ＳＰ１１と副画素ＳＰ１２との間、及び、副画素ＳＰ２１と副画素ＳＰ２２との間に形成されている。トレンチＴＹ１２は、副画素ＳＰ１１と副画素ＳＰ２１との間、及び、副画素ＳＰ１２と副画素ＳＰ２２との間に形成されている。

副画素ＳＰ１１に着目すると、第１電極ＲＥ１は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２と、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２とによって囲まれている。有機層ＲＯＲの縁部は、トレンチＴＹ１１及びＴＹ１２に位置し、また、トレンチＴＸ１１及びＴＸ１２に位置している。
このような第４形状例においても、第１形状例と同様の効果が得られる。

図１０は、トレンチの第５形状例を示す平面図である。
第５形状例は、第３形状例と比較して、隣接する副画素の間の２本のトレンチを１本のトレンチに置換した点で相違している。例えば、トレンチＴＹ１２は、副画素ＳＰ１１と副画素ＳＰ２１との間、及び、副画素ＳＰ１２と副画素ＳＰ２２との間に形成されている。なお、第５形状例では、第３形状例と同様に、第２方向Ｙに並んだ副画素の間を横切るトレンチは形成されない。
このような第５形状例においても、第１形状例と同様の効果が得られる。

ここで説明した第１乃至第５形状例は、発光色が青（Ｂ）の副画素にも適用される。発光色が赤、緑、青のそれぞれの表示素子の性能劣化が抑制される。

次に、発光色が異なる２つの副画素に亘る断面構造例について説明する。なお、以下に説明する各例に対応した図では、主要部のみを図示し、絶縁層１１の下層及び有機層ＯＲの上層の図示を省略している。各例は、第１方向Ｘに並んだ赤色の副画素ＳＰ１１と緑色の副画素ＳＰ２１とに亘る断面構造を示している。副画素ＳＰ１１は第１電極ＲＥ１及び有機層ＲＯＲを備え、副画素ＳＰ２１は第１電極ＧＥ１及び有機層ＧＯＲを備えている。

図１１は、第１構造例を示す断面図である。第１構造例では、例えば、図６の第１形状例の如く、第１電極ＲＥ１と第１電極ＧＥ１との間に２つのトレンチＴＹ１２及びＴＹ１３が形成されている。

有機層ＲＯＲは、第１電極ＲＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、トレンチＴＹ１２において分離されている。具体的には、第３部分ＯＲ３は、トレンチＴＹ１２における側面ＳＳ１２に配置されているが、側面ＳＳ１１には配置されない。つまり、側面ＳＳ１１の少なくとも一部は有機層ＲＯＲから露出しており、有機層ＲＯＲのうち、第３部分ＯＲ３は、第２部分ＯＲ２から離間している。

有機層ＧＯＲは、第１電極ＧＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、トレンチＴＹ１３において分離されている。具体的には、第５部分ＯＲ５は、トレンチＴＹ１３における側面ＳＳ２１に配置されているが、側面ＳＳ２２には配置されない。つまり、側面ＳＳ２２の少なくとも一部は有機層ＧＯＲから露出しており、有機層ＧＯＲのうち、第５部分ＯＲ５は、第４部分ＯＲ４から離間している。
有機層ＧＯＲの第５部分ＯＲ５は、有機層ＲＯＲの第３部分ＯＲ３から離間しているが、互いに接していてもよい。

これらの有機層ＲＯＲ及びＧＯＲは、図４を参照して説明したように、有機材料を放射状に蒸着した場合に形成される。

図１２は、第２構造例を示す断面図である。第２構造例では、有機層ＲＯＲは、第１構造例と同様に、トレンチＴＹ１２において分離されている。

有機層ＧＯＲは、トレンチＴＹ１３において分離されている。具体的には、第５部分ＯＲ５は、第４部分ＯＲ４に繋がり、トレンチＴＹ１３における側面ＳＳ２２に配置されているが、側面ＳＳ２１には配置されない。つまり、側面ＳＳ２１の少なくとも一部は有機層ＧＯＲから露出しており、有機層ＧＯＲのうち、第６部分ＯＲ６は、第５部分ＯＲ５から離間している。

これらの有機層ＲＯＲ及びＧＯＲは、図５を参照して説明したように、斜方蒸着法によって形成される。

図１３は、第３構造例を示す断面図である。第３構造例では、例えば、図９の第４形状例の如く、第１電極ＲＥ１と第１電極ＧＥ１との間に１つのトレンチＴＹ１２が形成されている。

有機層ＲＯＲは、トレンチＴＹ１２において分離されている。具体的には、第３部分ＯＲ３は、トレンチＴＹ１２における底面Ｂ１２に配置されているが、側面ＳＳ１１には配置されない。つまり、側面ＳＳ１１の少なくとも一部は有機層ＲＯＲから露出しており、有機層ＲＯＲのうち、第３部分ＯＲ３は、第２部分ＯＲ２から離間している。

有機層ＧＯＲは、トレンチＴＹ１２において分離されている。具体的には、第５部分ＯＲ５は、底面Ｂ１２に配置されているが、側面ＳＳ１２には配置されない。つまり、側面ＳＳ１２の少なくとも一部は有機層ＧＯＲから露出しており、有機層ＧＯＲのうち、第５部分ＯＲ５は、第４部分ＯＲ４から離間している。

上記の第１構造例乃至第３構造例では、絶縁層１２にトレンチが形成される場合について説明したが、トレンチを突部Ｐに置換してもよい。上記のトレンチと同様の形状の突部Ｐが絶縁層１２の上に配置されることで、トレンチを形成した場合と同様の効果を得ることができる。突部Ｐを平面視した場合の形状例としては、図６乃至図１０を参照して説明したトレンチの各形状例を適用することができる。

図１４は、第４構造例を示す断面図である。第１電極ＲＥ１と第１電極ＧＥ１との間の絶縁層１２は、トレンチを有していない。突部Ｐ１及びＰ２は、絶縁層１２の上に配置されている。突部Ｐ１及びＰ２は、それぞれ略三角形の断面を有している。これらの突部Ｐ１及びＰ２は、例えば、図６及び図８に示したトレンチＴＹ１２及びＴＹ１３と置換することができ、また、図７に示したトレンチＴ１１及びＴ２１と置換することができる。

有機層ＲＯＲは、第１電極ＲＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐ１において分離されている。具体的には、第３部分ＯＲ３は、突部Ｐ１と突部Ｐ２との間に位置し、絶縁層１２の上に配置されているが、突部Ｐ１の側面ＳＳ１１には配置されない。つまり、側面ＳＳ１１の少なくとも一部は有機層ＲＯＲから露出しており、有機層ＲＯＲのうち、第３部分ＯＲ３は、第２部分ＯＲ２から離間している。

有機層ＧＯＲは、第１電極ＧＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐ２において分離されている。具体的には、第５部分ＯＲ５は、突部Ｐ１と突部Ｐ２との間に位置し、絶縁層１２の上に配置されているが、突部Ｐ２の側面ＳＳ１２には配置されない。つまり、側面ＳＳ１２の少なくとも一部は有機層ＧＯＲから露出しており、有機層ＧＯＲのうち、第５部分ＯＲ５は、第４部分ＯＲ４から離間している。

図１５は、第５構造例を示す断面図である。突部Ｐは、絶縁層１２の上に配置されている。突部Ｐは、略台形の断面を有している。この突部Ｐは、例えば、図９及び図１０に示したトレンチＴＹ１２と置換することができる。以下の説明は、有機層ＲＯＲを形成した後に、有機層ＧＯＲを形成する場合を想定している。

有機層ＲＯＲは、第１電極ＲＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐにおいて分離されている。具体的には、第２部分ＯＲ２は、突部Ｐの側面ＳＳ１２に配置されている。第３部分ＯＲ３は、突部Ｐと第１電極ＧＥ１との間で絶縁層１２の上に配置されているが、突部Ｐの側面ＳＳ１１には配置されない。つまり、側面ＳＳ１１の少なくとも一部は有機層ＲＯＲから露出しており、有機層ＲＯＲのうち、第３部分ＯＲ３は、第２部分ＯＲ２から離間している。

有機層ＧＯＲは、第１電極ＧＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐにおいて分離されている。具体的には、第４部分ＯＲ４は、有機層ＲＯＲの第３部分ＯＲ３を覆うとともに、突部Ｐの側面ＳＳ１１に配置されている。第５部分ＯＲ５は、有機層ＲＯＲの第２部分ＯＲ２の上に配置されているが、突部Ｐの側面ＳＳ１２には配置されない。つまり、側面ＳＳ１２の少なくとも一部は有機層ＧＯＲから露出しており、有機層ＧＯＲのうち、第５部分ＯＲ５は、第４部分ＯＲ４から離間している。

図１６は、第６構造例を示す断面図である。第６構造例は、第５構造例と比較して、突部Ｐが略三角形の断面を有している点で相違している。

有機層ＲＯＲは、第１電極ＲＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐにおいて分離されている。具体的には、有機層ＲＯＲは、突部Ｐと第１電極ＲＥ１との間に位置する第２部分ＯＲ２と、突部Ｐと第１電極ＧＥ１との間に位置する第３部分ＯＲ３とに分離されている。

有機層ＧＯＲは、第１電極ＧＥ１の上に配置されるとともに絶縁層１２の上にも配置され、突部Ｐにおいて分離されている。具体的には、有機層ＧＯＲは、突部Ｐと第１電極ＧＥ１との間に位置する第４部分ＯＲ４と、突部Ｐと第１電極ＲＥ１との間に位置する第５部分ＯＲ５とに分離されている。

これらの第１乃至第６構造例においても、有機層ＲＯＲ及びＧＯＲの各々は、表示に寄与する部分と周縁部とに分離され、表示素子の性能劣化が抑制される。

また、第１乃至第６構造例は、発光色が青（Ｂ）の副画素にも適用される。つまり、青色に発光する有機層ＢＯＲも、表示に寄与する部分と周縁部とに分離され、表示素子の性能劣化が抑制される。

次に、変形例について説明する。

図１７は、第１変形例を示す断面図である。
第１変形例は、図４に示した例と比較して、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の直下に給電線ＦＬが配置された点で相違している。給電線ＦＬは、絶縁層１１の上に配置され、例えば、第１電極Ｅ１と同一材料によって形成されている。第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の各々は、給電線ＦＬまで貫通している。つまり、給電線ＦＬの各々は、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の底面に位置している。
第２電極Ｅ２は、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２において、給電線ＦＬに接している。これにより、第２電極Ｅ２に対して、給電線ＦＬから所定の電位を供給することができる。

図１８は、第２変形例を示す断面図である。
第２変形例は、図５に示した例と比較して、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の直下に給電線ＦＬが配置された点で相違している。第２電極Ｅ２は、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２において、給電線ＦＬに接している。これにより、第２電極Ｅ２に対して、給電線ＦＬから所定の電位を供給することができる。

第１変形例及び第２変形例では、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の双方の直下に給電線ＦＬが配置されているが、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２のいずれかの直下に給電線ＦＬが配置されてもよい。また、第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２が絶縁層１１まで貫通していない場合には、絶縁層１２に形成される第１トレンチＴ１及び第２トレンチＴ２の底面に給電線ＦＬを配置してもよい。

図１９は、表示素子２０の他の例を示す断面図である。
図１９に示す例では、有機層（発光層ＥＬ、機能層Ｆ１及びＦ２を含む）ＯＲは、隣接する副画素に亘って共通に配置されている。例えば、同一色の発光層ＥＬを含む有機層ＯＲは、第１方向Ｘに隣接する副画素ＳＰ３１及びＳＰ３２に亘って配置されている。同様に、同一色の発光層ＥＬを含む有機層ＯＲは、第２方向Ｙに隣接する副画素にも配置されている。さらに言えば、表示部ＤＡのすべての副画素ＳＰには、同一色の発光層ＥＬを含む有機層ＯＲが配置されている。つまり、図１９に示す例は、単色表示の表示装置ＤＳＰに好適である。例えば、各表示素子２０の発光色が白色である場合、表示素子２０に対向するカラーフィルタが配置されることで、多色表示を実現できる。また、各表示素子２０の発光色が紫外光である場合、表示素子２０に対向する光変換層が配置されることで、多色表示を実現できる。

第１トレンチＴ１は、副画素ＳＰ３１の第１電極Ｅ３１と副画素ＳＰ３２の第１電極Ｅ３２との間の絶縁層１２に形成されている。有機層ＯＲは、第１トレンチＴ１において、副画素ＳＰ３１に配置された有機層ＯＲ３１と、副画素ＳＰ３２に配置された有機層ＯＲ３２とに分離されている。

有機層ＯＲ３１は、第１トレンチＴ１の第１側面ＳＳ１にはほとんど配置されない。
有機層ＯＲ３２は、第１トレンチＴ１の第２側面ＳＳ２に配置されるが、第１側面ＳＳ１にはほとんど配置されない。有機層ＯＲ３１及びＯＲ３２を覆う第２電極Ｅ２は、有機層ＯＲを介することなく、第１側面ＳＳ１に配置されている。

図５を参照して説明した斜方蒸着法が適用された場合、隣接する副画素間のトレンチにおいて、上記したのと同様に有機層ＯＲが分離される。これにより、隣接する副画素の間でのクロストークが抑制される。

上記した本実施形態によれば、表示素子の性能劣化を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。

以上、本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

また、上述の実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

ＤＳＰ…表示装置 １０…基材 １１…絶縁層（第１絶縁層）
１２…絶縁層（第２絶縁層） ＯＰ…開口部 Ｔ１…第１トレンチ Ｔ２…第２トレンチ １２１…第１面 １２２…第２面 ＳＳ１…第１側面 ＳＳ２…第２側面 ＳＳ３…第３側面 ＳＳ４…第４側面
２０…表示素子 Ｅ１…第１電極 Ｅ２…第２電極
ＯＲ…有機層 ＯＲ１…第１部分 ＯＲ２…第２部分 ＯＲ３…第３部分 ＯＲ４…第４部分 ＯＲ５…第５部分 ＯＲ６…第６部分 ＥＬ…発光層 Ｆ１、Ｆ２…機能層
ＦＬ…給電線

Claims (10)

1. 基材と、
   前記基材の上に配置された第１絶縁層と、
   前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、
   前記第１絶縁層の上に配置され、前記第１電極に重畳する開口部と、前記第１電極に重畳しない第１トレンチと、前記開口部と前記第１トレンチとの間の第１面と、を有する第２絶縁層と、
   発光層を含む有機層と、
   前記有機層を覆う第２電極と、を備え、
   前記有機層は、
   前記開口部に配置され、前記第１電極を覆う第１部分と、
   前記第１面に配置された第２部分と、
   前記第１トレンチに配置され、前記第２部分から離間した第３部分と、を有している、表示装置。
2. 前記第１部分、前記第２部分、及び、前記第３部分は、同一色の前記発光層を含んでいる、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第２絶縁層は、さらに、前記第１トレンチの第１側面及び第２側面を有し、
   前記第２電極は、前記有機層を介することなく、前記第１面に繋がる前記第１側面に配置され、
   前記第３部分は、前記第２側面に配置されている、請求項１に記載の表示装置。
4. 前記第１トレンチの上部における前記第１側面と前記第２側面との間隔は、前記第１トレンチの下部における前記第１側面と前記第２側面との間隔より大きい、請求項３に記載の表示装置。
5. 前記第２絶縁層は、さらに、
   前記開口部を挟んで前記第１トレンチの反対側に位置する第２トレンチと、
   前記開口部と前記第２トレンチとの間の第２面と、を有し、
   前記有機層は、
   前記第２面に配置された第４部分と、
   前記第２トレンチに配置され、前記第４部分から離間した第５部分と、を有している、請求項３に記載の表示装置。
6. 前記第２絶縁層は、さらに、前記第２トレンチの第３側面及び第４側面を有し、
   前記第２電極は、前記有機層を介することなく、前記第２面に繋がる前記第３側面に配置され、
   前記第５部分は、前記第４側面に配置されている、請求項５に記載の表示装置。
7. 前記第２絶縁層は、さらに、
   前記開口部を挟んで前記第１トレンチの反対側に位置する第２トレンチと、
   前記開口部と前記第２トレンチとの間の第２面と、
   前記第２トレンチの第３側面及び第４側面と、を有し、
   前記有機層は、
   前記第２面に配置された第４部分と、
   前記第２面に繋がる前記第３側面に配置された第５部分と、を有し、
   前記第２電極は、前記有機層を介することなく、前記第４側面に配置されている、請求項３に記載の表示装置。
8. 前記第２絶縁層は、さらに、
   前記第１電極に重畳しない第３トレンチ及び第４トレンチを有し、
   前記第３トレンチ及び前記第４トレンチの各々は、前記第１トレンチ及び前記第２トレンチに繋がり、
   平面視において、前記第４トレンチは、前記第１電極を挟んで前記第３トレンチの反対側に位置している、請求項５に記載の表示装置。
9. さらに、前記第１トレンチの底面に位置する給電線を備え、
   前記第２電極は、前記第１トレンチにおいて前記給電線に接している、請求項１に記載の表示装置。
10. 前記有機層は、さらに、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、及び、電子輸送層の少なくとも１つを含んでいる、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表示装置。

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