JP2022079910A - 切断装置、及び、切断品の製造方法 - Google Patents
切断装置、及び、切断品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022079910A JP2022079910A JP2020190780A JP2020190780A JP2022079910A JP 2022079910 A JP2022079910 A JP 2022079910A JP 2020190780 A JP2020190780 A JP 2020190780A JP 2020190780 A JP2020190780 A JP 2020190780A JP 2022079910 A JP2022079910 A JP 2022079910A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- blade
- cut
- cutting device
- pressing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 170
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 178
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 10
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 87
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B27/00—Other grinding machines or devices
- B24B27/06—Grinders for cutting-off
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D1/00—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
- B28D1/22—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
- B28D1/24—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising with cutting discs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dicing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Shearing Machines (AREA)
- Nonmetal Cutting Devices (AREA)
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
- Control And Other Processes For Unpacking Of Materials (AREA)
Abstract
Description
<1-1.概要>
図1は、本実施の形態1に従う切断装置10の平面の一部を模式的に示す図である。図1に示されるように、切断装置10は、切断テーブル30と、切断機構40とを含んでいる。
図4は、切断装置10の一部を側方から示す模式図である。図4に示されるように、切断装置10は、切断テーブル30と、切断機構40と、押さえ機構60と、吐出機構70とを含んでいる。
押さえユニット620は、ベース部材621と、ローラ622と、回転軸623と、ネジ624,625とを含んでいる。ベース部材621は、例えば、金属又は樹脂で構成されている。ベース部材621にはネジ穴が形成されており、ベース部材621と板バネ610とはネジ624,625によって互いにネジ留めされている。平面視においてベース部材621の先端部には凹部が形成されており、該凹部にローラ622が位置している。ローラ622は、回転軸623を介してベース部材621に取り付けられており、ベース部材621に対して回転可能である。回転軸623は、X軸方向(ブレード41の厚み方向)に延びている。ローラ622は、例えば、ゴム又は樹脂で構成されている。ローラ622は、本発明の「押さえ部材」の一例である。ゴム又は樹脂のような弾性のあるローラ622を用いることで、ローラ622で押さえた痕がパッケージ基板20に付くことを低減することができる。また、ハーフカット時に発生するバリの押し潰しを低減することができる。
図9は、比較対象である切断装置10Xの一部を側方から示す模式図である。図9に示されるように、切断装置10Xは、押さえ機構を有していない。例えば、パッケージ基板20が反っている場合がある。パッケージ基板20が反った状態で、パッケージ基板20にハーフカットを施すと、位置によって溝の深さがばらつくという問題が生じる。例えば、位置P2において形成される溝の深さよりも位置P3において形成される溝の深さの方が深く、位置P3において形成される溝の深さよりも位置P4において形成される溝の深さの方が深いということが生じる。本実施の形態1に従う切断装置10においては、このような問題を解消するために、押さえ機構60が設けられている。
例えば、以下の方法により、半導体パッケージ50(図2)が製造される。切断装置10において、第1の厚みのブレード41が取り付けられる。
以上のように、本実施の形態1に従う切断装置10は、押さえ機構60を備えており、パッケージ基板20にハーフカットが施される場合に、第1押さえ機構61及び第2押さえ機構62の各々とパッケージ基板20との相対的な位置関係は、切断機構40とパッケージ基板20との相対的な位置関係と同じように変化する。切断装置10においては、パッケージ基板20にハーフカットを施す場合に、パッケージ基板20がローラ622によって押下される。ローラ622によって押下されることによってパッケージ基板20の反りが抑制された状態で、パッケージ基板20にハーフカットが施される。したがって、切断装置10によれば、パッケージ基板20の反りが抑制された状態でパッケージ基板20のハーフカットが行なわれるため、ハーフカットによって形成される溝の深さのばらつきを抑制することができる。
上記実施の形態1に従う切断装置10は、押さえ機構60を含んでいた。本実施の形態2に従う切断装置80と、上記実施の形態1に従う切断装置10とは、主に押さえ機構の構造が異なる。以下では、上記実施の形態1と異なる部分を中心に説明する。
図13は、本実施の形態2に従う切断装置80の一部を側方から示す模式図である。図13に示されるように、切断装置80は、切断テーブル30と、切断機構40と、押さえ機構90と、吐出機構70とを含んでいる。
以上のように、本実施の形態2に従う切断装置80は、押さえ機構90を備えており、パッケージ基板20にハーフカットが施される場合に、第1押さえ機構91及び第2押さえ機構92の各々とパッケージ基板20との相対的な位置関係は、切断機構40とパッケージ基板20との相対的な位置関係と同じように変化する。切断装置80においては、パッケージ基板20にハーフカットを施す場合に、パッケージ基板20がローラ922によって押下される。ローラ922によって押下されることによってパッケージ基板20の反りが抑制された状態で、パッケージ基板20にハーフカットが施される。したがって、切断装置80によれば、パッケージ基板20の反りが抑制された状態でパッケージ基板20のハーフカットが行なわれるため、ハーフカットによって形成される溝の深さのばらつきを低減することができる。
上記実施の形態1,2の思想は、以上で説明された実施の形態1,2に限定されない。以下、上記実施の形態1,2の思想を適用できる他の実施の形態の一例について説明する。
Claims (9)
- 樹脂成形された切断対象物において、前記切断対象物の厚さ方向にハーフカットを施すように構成された切断装置であって、
前記切断対象物を切断するブレードを有する切断機構を備え、
前記ブレードは、第1側面と、第2側面とを有し、
前記切断装置は、
前記第1側面に対向する位置に設けられた第1押さえ機構と、
前記第2側面に対向する位置に設けられた第2押さえ機構とをさらに備え、
前記第1及び第2押さえ機構の各々は、前記切断対象物を上方から下方に向けて押さえるように構成されており、
前記ハーフカットが施される場合に、前記第1及び第2押さえ機構の各々と前記切断対象物との相対的な位置関係は、前記切断機構と前記切断対象物との相対的な位置関係と同じように変化する、切断装置。 - 前記第1及び第2押さえ機構の各々は、
前記ブレードの後方よりも前方に近い位置に設けられた第1押さえ部材と、
前記ブレードの前方よりも後方に近い位置に設けられた第2押さえ部材とを備え、
前記第1及び第2押さえ部材の各々は、前記切断対象物を上方から下方に向けて押さえるように構成されている、請求項1に記載の切断装置。 - 前記第1及び第2押さえ機構の各々は、
回転方向に力が働くように構成され、前記第1押さえ部材が取り付けられている第1回転部材と、
回転方向に力が働くように構成され、前記第2押さえ部材が取り付けられている第2回転部材とをさらに備え、
前記第1押さえ部材と前記ブレードとの間の長さは、前記第1回転部材と前記ブレードとの間の長さよりも短く、
前記第2押さえ部材と前記ブレードとの間の長さは、前記第2回転部材と前記ブレードとの間の長さよりも短い、請求項2に記載の切断装置。 - 前記第1及び第2押さえ機構の各々は押さえ部材を備え、
前記押さえ部材は、前記ブレードの回転中心よりも前方の位置において、前記切断対象物を上方から下方に向けて押さえるように構成されている、請求項1に記載の切断装置。 - 側面視において、前記ブレードと重ならない位置まで、前記第1及び第2押さえ機構の各々を退避させるように構成された退避機構をさらに備える、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の切断装置。
- 前記ブレードの前方から加工液を吐出する吐出機構をさらに備え、
前記退避機構は、前記ブレードに対して前記吐出機構と反対側の位置に設けられている、請求項5に記載の切断装置。 - 前記第1及び第2押さえ部材の各々は、ローラによって構成されている、請求項2又は請求項3に記載の切断装置。
- 前記押さえ部材は、ローラによって構成されている、請求項4に記載の切断装置。
- 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の切断装置を用いた切断品の製造方法であって、
第1厚みの前記ブレードが取り付けられた前記切断装置を準備するステップと、
前記切断対象物にハーフカットを施すステップと、
前記ブレードを前記第1厚みよりも薄い第2厚みのブレードに取り替えるステップと、
前記ハーフカットが施された位置に沿って、前記切断対象物を切断するステップとを含む、切断品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020190780A JP7121788B2 (ja) | 2020-11-17 | 2020-11-17 | 切断装置、及び、切断品の製造方法 |
CN202180052234.9A CN115989112A (zh) | 2020-11-17 | 2021-09-29 | 切断装置、及切断品的制造方法 |
PCT/JP2021/035844 WO2022107455A1 (ja) | 2020-11-17 | 2021-09-29 | 切断装置、及び、切断品の製造方法 |
KR1020237019978A KR20230098900A (ko) | 2020-11-17 | 2021-09-29 | 절단 장치 및 절단품의 제조 방법 |
TW110140032A TWI802063B (zh) | 2020-11-17 | 2021-10-28 | 切斷裝置、及切斷品的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020190780A JP7121788B2 (ja) | 2020-11-17 | 2020-11-17 | 切断装置、及び、切断品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022079910A true JP2022079910A (ja) | 2022-05-27 |
JP7121788B2 JP7121788B2 (ja) | 2022-08-18 |
Family
ID=81731608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020190780A Active JP7121788B2 (ja) | 2020-11-17 | 2020-11-17 | 切断装置、及び、切断品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7121788B2 (ja) |
KR (1) | KR20230098900A (ja) |
CN (1) | CN115989112A (ja) |
TW (1) | TWI802063B (ja) |
WO (1) | WO2022107455A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003218064A (ja) * | 2002-01-25 | 2003-07-31 | Mitsui High Tec Inc | 半導体装置の製造装置 |
JP2008103648A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP2009101617A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Seiko Epson Corp | オートカッタ付きプリンタ |
JP2010123683A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Nec Electronics Corp | ダイシング装置およびダイシング装置用のアダプター |
JP2012049260A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 切断方法及び切断装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5259978B2 (ja) | 2006-10-04 | 2013-08-07 | ローム株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
WO2013091145A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | Intel Corporation | Mechanism for employing and facilitating proximity and context-based deduction of global positioning of computing devices |
-
2020
- 2020-11-17 JP JP2020190780A patent/JP7121788B2/ja active Active
-
2021
- 2021-09-29 CN CN202180052234.9A patent/CN115989112A/zh active Pending
- 2021-09-29 WO PCT/JP2021/035844 patent/WO2022107455A1/ja active Application Filing
- 2021-09-29 KR KR1020237019978A patent/KR20230098900A/ko unknown
- 2021-10-28 TW TW110140032A patent/TWI802063B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003218064A (ja) * | 2002-01-25 | 2003-07-31 | Mitsui High Tec Inc | 半導体装置の製造装置 |
JP2008103648A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP2009101617A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Seiko Epson Corp | オートカッタ付きプリンタ |
JP2010123683A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Nec Electronics Corp | ダイシング装置およびダイシング装置用のアダプター |
JP2012049260A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 切断方法及び切断装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202234549A (zh) | 2022-09-01 |
WO2022107455A1 (ja) | 2022-05-27 |
CN115989112A (zh) | 2023-04-18 |
KR20230098900A (ko) | 2023-07-04 |
TWI802063B (zh) | 2023-05-11 |
JP7121788B2 (ja) | 2022-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI432387B (zh) | Processing method and processing device for brittle material substrate | |
JP5448334B2 (ja) | パッケージ基板の保持治具 | |
KR100624931B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 분할방법 | |
KR101821882B1 (ko) | 절단 장치 및 절단 방법 | |
WO2022107455A1 (ja) | 切断装置、及び、切断品の製造方法 | |
JP2009272647A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP6185813B2 (ja) | イメージセンサ用ウエハ積層体の分断方法並びに分断装置 | |
JP4590064B2 (ja) | 半導体ウエーハの分割方法 | |
JP5270481B2 (ja) | 電極加工方法 | |
KR100706716B1 (ko) | 원형 가공 제품의 절삭 가공용 밀링 커터 및 밀링 작업방법 | |
JP2014188628A (ja) | 溝加工方法 | |
JP2020093349A (ja) | 金属板の加工方法 | |
TW202120253A (zh) | 切斷裝置、及切斷品的製造方法 | |
JP7498817B1 (ja) | 切断装置、切断方法、及び切断品の製造方法 | |
JP2000066001A (ja) | 溝付き板状ガラス母材の製造方法、ガラス素材の製造方法、およびガラス光学素子の製造方法 | |
JP7150400B2 (ja) | 切削ブレードのドレッシング方法及びドレッサーボード | |
JP2006059914A (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | |
WO2022113495A1 (ja) | ブレードカバー、切断装置、及び、切断品の製造方法 | |
JP2008105114A (ja) | ハブブレードおよび切削装置 | |
JP6934395B2 (ja) | 分割装置及び分割方法 | |
TWM333288U (en) | Blade mold for platen press cutting machine | |
JP2009124036A (ja) | ダイシング方法 | |
JP2015070267A (ja) | イメージセンサ用ウエハ積層体のスクライブライン形成方法並びにスクライブライン形成装置 | |
JP2015046551A (ja) | 切削ブレード及びウェーハの分割方法 | |
KR20210018080A (ko) | 드레싱 보드 및 절삭 블레이드의 드레싱 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210119 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210325 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220726 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220805 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7121788 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |