JP2022079159A - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents

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伸岳 冠木
Nobutake KABUKI
亮太 井福
Ryota Ifuku
貴士 松本
Takashi Matsumoto
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Abstract

【課題】高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理方法は、下地膜を有する基板を処理する基板処理方法であって、基板を処理容器内に搬入する搬入工程と、処理容器内に配置される載置台の基板支持ピンを上昇させて、搬入された基板を第１の位置で保持した状態で第１のプラズマ処理を行う第１工程と、基板支持ピンを下降させて基板を第２の位置で保持した状態で第２のプラズマ処理を行う第２工程とを有する。【選択図】図１

Description

本開示は、基板処理方法および基板処理装置に関する。
近年、金属窒化膜に代わる新たな薄膜バリア層材料としてグラフェン膜が提案されている。グラフェン成膜技術では、例えば、マイクロ波プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置を用いて、高ラジカル密度・低電子温度にてグラフェン成膜を行うことにより、グラフェン膜をシリコン基板や絶縁膜等の上に直接形成することが提案されている（例えば特許文献１）。また、成膜前に基板の表面に付着した自然酸化膜を除去するために、例えば希釈弗酸溶液を用いたウエット洗浄を行うことが知られている（例えば特許文献２）。
特開２０１９－０５５８８７号公報 特開２００４－１５２８６２号公報
本開示は、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
本開示の一態様による基板処理方法は、下地膜を有する基板を処理する基板処理方法であって、基板を処理容器内に搬入する搬入工程と、処理容器内に配置される載置台の基板支持ピンを上昇させて、搬入された基板を第１の位置で保持した状態で第１のプラズマ処理を行う第１工程と、基板支持ピンを下降させて基板を第２の位置で保持した状態で第２のプラズマ処理を行う第２工程とを有する。
本開示によれば、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。
図１は、本開示の第１実施形態における基板処理装置の一例を示す図である。 図２は、第１実施形態におけるマイクロ波導入装置の構成の一例を示す図である。 図３は、第１実施形態における金属膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。 図４は、ウエット洗浄を行った場合における基板の状態の一例を示す図である。 図５は、第１実施形態におけるエッチング工程の基板位置の一例を示す図である。 図６は、第１実施形態における成膜工程の基板位置の一例を示す図である。 図７は、バブリング現象を模式的に説明する図である。 図８は、バブリング現象とエッチングレートの温度依存性の一例を示す図である。 図９は、第１実施形態における成膜処理の一例を示すフローチャートである。 図１０は、第１実施形態におけるグラフェン膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。 図１１は、比較例におけるグラフェン膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。 図１２は、本開示の第２実施形態における成膜処理の一例を示すフローチャートである。 図１３は、第２実施形態におけるＯＨラジカルの発光強度の変化の一例を示す図である。 図１４は、本開示の第３実施形態における基板処理装置の一例を示す図である。
以下に、開示する基板処理方法および基板処理装置の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態により開示技術が限定されるものではない。
従来、薄膜バリア層材料として金属窒化膜（例えば、ＴｉＮ）が用いられてきた。これに対し、グラフェンは、炭素六員環構造を有する二次元結晶構造であり、緻密で平坦な原子構造、高熱伝導率、化学的・物理的安定性を兼ね備えている。例えば、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いて、多結晶シリコン（Ｐｏｌｙ－Ｓｉ：以下、ポリシリコンともいう。）上にグラフェンを成膜する場合、表面に付着した自然酸化膜を除去する必要がある。自然酸化膜の除去は、上述のようにウエット洗浄によって行うことが知られているが、洗浄された基板は、グラフェン成膜前に大気暴露や搬送などの影響で基板表面が再酸化され、基板表面の酸化物がグラフェン成膜に影響することがある。そこで、基板表面の再酸化による酸化物を除去することで、高品位かつ低欠陥な膜（グラフェン膜）を成膜することが期待されている。
＜第１実施形態＞
［基板処理装置１００の構成］
図１は、本開示の第１実施形態における基板処理装置の一例を示す図である。図１に示す基板処理装置１００は、処理容器１０１と、載置台１０２と、ガス供給機構１０３と、排気装置１０４と、マイクロ波導入装置１０５と、制御部１０６とを有する。処理容器１０１は、ウエハＷを収容する。載置台１０２は、ウエハＷを載置する。ガス供給機構１０３は、処理容器１０１内にガスを供給する。排気装置１０４は、処理容器１０１内を排気する。マイクロ波導入装置１０５は、処理容器１０１内にプラズマを生成させるためのマイクロ波を発生させるとともに、処理容器１０１内にマイクロ波を導入する。制御部１０６は、基板処理装置１００の各部の動作を制御する。
処理容器１０１は、例えばアルミニウムおよびその合金等の金属材料によって形成され、略円筒形状をなしており、板状の天壁部１１１および底壁部１１３と、これらを連結する側壁部１１２とを有している。マイクロ波導入装置１０５は、処理容器１０１の上部に設けられ、処理容器１０１内に電磁波（マイクロ波）を導入してプラズマを生成するプラズマ生成手段として機能する。マイクロ波導入装置１０５については後で詳細に説明する。
天壁部１１１には、マイクロ波導入装置１０５の後述するマイクロ波放射機構およびガス導入部が嵌め込まれる複数の開口部を有している。側壁部１１２は、処理容器１０１に隣接する搬送室（図示せず）との間で被処理基板であるウエハＷの搬入出を行うための搬入出口１１４を有している。搬入出口１１４はゲートバルブ１１５により開閉されるようになっている。底壁部１１３には排気装置１０４が設けられている。排気装置１０４は底壁部１１３に接続された排気管１１６に設けられ、真空ポンプと圧力制御バルブを備えている。排気装置１０４の真空ポンプにより排気管１１６を介して処理容器１０１内が排気される。処理容器１０１内の圧力は圧力制御バルブにより制御される。
載置台１０２は、円板状をなしており、ＡｌＮ等のセラミックスからなっている。載置台１０２は、処理容器１０１の底部中央から上方に延びる円筒状のＡｌＮ等のセラミックスからなる支持部材１２０により支持されている。載置台１０２の外縁部にはウエハＷをガイドするためのガイドリング１８１が設けられている。また、載置台１０２の内部には、ウエハＷを昇降するための基板支持ピン１２５が載置台１０２の上面に対して突没可能に設けられている。基板支持ピン１２５は、円板状の板部材１２６上に配置され、載置台１０２の貫通穴１０２ａに挿入されている。基板支持ピン１２５は、板部材１２６が昇降機構１２７により上下方向に移動することで、載置台１０２の上面に対して突没可能となっている。
さらに、載置台１０２の内部には抵抗加熱型のヒータ１８２が埋め込まれており、このヒータ１８２はヒータ電源１８３から給電されることにより載置台１０２を介してその上のウエハＷを加熱する。また、載置台１０２には、熱電対（図示せず）が挿入されており、熱電対からの信号に基づいて、ウエハＷの加熱温度を、例えば３００～１０００℃の範囲の所定の温度に制御可能となっている。さらに、載置台１０２内のヒータ１８２の上方には、ウエハＷと同程度の大きさの電極１８４が埋設されており、この電極１８４には、高周波バイアス電源１２２が電気的に接続されている。この高周波バイアス電源１２２から載置台１０２に、イオンを引き込むための高周波バイアスが印加される。なお、高周波バイアス電源１２２はプラズマ処理の特性によっては設けなくてもよい。
ガス供給機構１０３は、プラズマ生成ガス、およびグラフェン膜（炭素含有膜）を形成するための原料ガスを処理容器１０１内に導入するためのものであり、複数のガス導入ノズル１２３を有している。ガス導入ノズル１２３は、処理容器１０１の天壁部１１１に形成された開口部に嵌め込まれている。ガス導入ノズル１２３には、ガス供給配管１９１が接続されている。このガス供給配管１９１は、分岐管１９１ａ、１９１ｂ、１９１ｃ、１９１ｄ、１９１ｅの５つに分岐している。これら分岐管１９１ａ、１９１ｂ、１９１ｃ、１９１ｄ、１９１ｅには、Ａｒガス供給源１９２、Ｏ２ガス供給源１９３、Ｎ２ガス供給源１９４、Ｈ２ガス供給源１９５、Ｃ２Ｈ２ガス供給源１９６が接続されている。Ａｒガス供給源１９２は、プラズマ生成ガスである希ガスとしてのＡｒガスを供給する。Ｏ２ガス供給源１９３は、クリーニングガスである酸化ガスとしてのＯ２ガスを供給する。Ｎ２ガス供給源１９４は、パージガス等として用いられるＮ２ガスを供給する。Ｈ２ガス供給源１９５は、還元性ガスとしてのＨ２ガスを供給する。Ｃ２Ｈ２ガス供給源１９６は、成膜原料ガスである炭素含有ガスとしてのアセチレン（Ｃ２Ｈ２）ガスを供給する。なお、Ｃ２Ｈ２ガス供給源１９６は、エチレン（Ｃ２Ｈ４）等の他の炭素含有ガスを供給してもよい。
なお、分岐管１９１ａ、１９１ｂ、１９１ｃ、１９１ｄ、１９１ｅには、図示してはいないが、流量制御用のマスフローコントローラおよびその前後のバルブが設けられている。なお、シャワープレートを設けてＣ２Ｈ２ガスおよびＨ２ガスをウエハＷに近い位置に供給するようにしてガスの解離を調整することもできる。また、これらのガスを供給するノズルを下方に延ばすことにより同様の効果を得ることができる。
マイクロ波導入装置１０５は、前述のように、処理容器１０１の上方に設けられ、処理容器１０１内に電磁波（マイクロ波）を導入してプラズマを生成するプラズマ生成手段として機能する。
図２は、第１実施形態におけるマイクロ波導入装置の構成の一例を示す図である。図１および図２に示すように、マイクロ波導入装置１０５は、処理容器１０１の天壁部１１１と、マイクロ波出力部１３０と、アンテナユニット１４０とを有する。天壁部１１１は、天板として機能する。マイクロ波出力部１３０は、マイクロ波を生成するとともに、マイクロ波を複数の経路に分配して出力する。アンテナユニット１４０は、マイクロ波出力部１３０から出力されたマイクロ波を処理容器１０１に導入する。
マイクロ波出力部１３０は、マイクロ波電源１３１と、マイクロ波発振器１３２と、アンプ１３３と、分配器１３４とを有している。マイクロ波発振器１３２はソリッドステートであり、例えば、８６０ＭＨｚでマイクロ波を発振（例えば、ＰＬＬ発振）させる。なお、マイクロ波の周波数は、８６０ＭＨｚに限らず、２．４５ＧＨｚ、８．３５ＧＨｚ、５．８ＧＨｚ、１．９８ＧＨｚ等、７００ＭＨｚから１０ＧＨｚの範囲のものを用いることができる。アンプ１３３は、マイクロ波発振器１３２によって発振されたマイクロ波を増幅する。分配器１３４は、アンプ１３３によって増幅されたマイクロ波を複数の経路に分配する。分配器１３４は、入力側と出力側のインピーダンスを整合させながらマイクロ波を分配する。
アンテナユニット１４０は、複数のアンテナモジュール１４１を含んでいる。複数のアンテナモジュール１４１は、それぞれ、分配器１３４によって分配されたマイクロ波を処理容器１０１内に導入する。複数のアンテナモジュール１４１の構成は全て同一である。各アンテナモジュール１４１は、分配されたマイクロ波を主に増幅して出力するアンプ部１４２と、アンプ部１４２から出力されたマイクロ波を処理容器１０１内に放射するマイクロ波放射機構１４３とを有する。
アンプ部１４２は、位相器１４５と、可変ゲインアンプ１４６と、メインアンプ１４７と、アイソレータ１４８とを有する。位相器１４５は、マイクロ波の位相を変化させる。可変ゲインアンプ１４６は、メインアンプ１４７に入力されるマイクロ波の電力レベルを調整する。メインアンプ１４７は、ソリッドステートアンプとして構成されている。アイソレータ１４８は、後述するマイクロ波放射機構１４３のアンテナ部で反射されてメインアンプ１４７に向かう反射マイクロ波を分離する。
複数のマイクロ波放射機構１４３は、図１に示すように、天壁部１１１に設けられている。また、マイクロ波放射機構１４３は、筒状をなす外側導体および外側導体内に外側導体と同軸状に設けられた内側導体を有する。マイクロ波放射機構１４３は、外側導体と内側導体との間にマイクロ波伝送路を有する同軸管と、マイクロ波を処理容器１０１内に放射するアンテナ部とを有する。アンテナ部の下面側には、天壁部１１１に嵌め込まれているマイクロ波透過板１６３が設けられており、その下面は処理容器１０１の内部空間に露出している。マイクロ波透過板１６３を透過したマイクロ波は、処理容器１０１内の空間にプラズマを生成する。
制御部１０６は、典型的にはコンピュータからなり、基板処理装置１００の各部を制御するようになっている。制御部１０６は基板処理装置１００のプロセスシーケンスおよび制御パラメータであるプロセスレシピを記憶した記憶部や、入力手段およびディスプレイ等を備えており、選択されたプロセスレシピに従って所定の制御を行うことが可能である。
例えば、制御部１０６は、後述する成膜方法を行うように、基板処理装置１００の各部を制御する。詳細な一例を挙げると、制御部１０６は、処理容器１０１内に基板（ウエハＷ）が搬入されると、載置台１０２の上面から突出した基板支持ピン１２５によって、基板を搬入するアームから基板を受け取る。制御部１０６は、基板を受け取った第１の位置で保持した状態で、水素含有ガスのプラズマにて、基板上の酸化膜を除去するエッチング工程を実行する。ここで、水素含有ガスは、Ｈ２ガス供給源１９５から供給されるＨ２ガスを用いることができる。なお、水素含有ガスは、Ａｒガス供給源１９２から供給されるＡｒガスを含んでもよい。制御部１０６は、基板支持ピン１２５を下降させて基板を第２の位置で保持した状態、例えば載置台１０２上に載置した状態で、炭素含有ガスのプラズマにて、基板上にグラフェン膜を成膜する成膜工程を実行する。ここで、炭素含有ガスは、Ｃ２Ｈ２ガス供給源１９６から供給されるアセチレン（Ｃ２Ｈ２）ガスを用いることができる。
［グラフェン膜を適用した成膜例］
まず、図３を用いてグラフェン膜の適用例について説明する。図３は、第１実施形態における金属膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。図３に示すウエハＷは、シリコン基板１１上に、ポリシリコン膜１２、グラフェン膜１３および金属膜１４を成膜した場合を示している。グラフェン膜１３は、バリア膜として、金属膜１４の原子が下層のポリシリコン膜１２に拡散することを防止するとともに、ポリシリコン膜１２と金属膜１４との間で電気伝導性を有する。すなわち、グラフェン膜１３は、高いバリア性を有し、電気伝導性に優れた材料であるため、バリア膜（バリア層）として適切であるといえる。
［ウエット洗浄における再酸化］
次に、図４を用いてウエット洗浄における再酸化について説明する。図４は、ウエット洗浄を行った場合における基板の状態の一例を示す図である。図４に示すように、初期状態（ステップＳ１）のウエハ２０では、シリコン基板２１上に成膜されたポリシリコン膜２２の表面に、自然酸化膜２３が形成されている。自然酸化膜２３は、ウエット洗浄（ステップＳ２）により除去される。その後、ウエット洗浄の装置からグラフェン成膜を行う処理装置への搬送等のウエハハンドリング（ステップＳ３）に伴い、ポリシリコン膜２２の表面には、水分や酸素等の酸素を含む分子２４が吸着してしまう。この状態のウエハ２０を、グラフェン成膜を行う処理装置のチャンバ（処理容器）内に搬送すると、チャンバ内の温度はグラフェン成膜温度に設定されているので、搬送時や前処理時に分子２４によってポリシリコン膜２２の表面で酸化反応が起き、再酸化膜２５が形成される（ステップＳ４）。また、グラフェン膜中に酸素が取り込まれる可能性も考えられる。
［エッチング工程と成膜工程における基板位置］
続いて、図５および図６を用いてエッチング工程と成膜工程のそれぞれにおける処理容器１０１内の基板位置について説明する。なお、図５および図６に示す処理容器１０１では、天壁部１１１および側壁部１１２上部の内壁に、表面コーティングとしてイットリア等の金属酸化物や金属窒化物等のセラミックス溶射皮膜１１７が形成されている。
図５は、第１実施形態におけるエッチング工程の基板位置の一例を示す図である。図５に示すように、エッチング工程では、基板支持ピン１２５がウエハＷを受け取ると、受け取ったウエハＷを第１の位置で保持する。つまり、エッチング工程では、ウエハＷを載置台１０２に載置せずに、載置台１０２の上方において基板支持ピン１２５で支持した状態を維持する。このとき、第１の位置は、載置台１０２の上面から２ｍｍ以上、上方の位置であることが好ましく、１０ｍｍ以上であることがより好ましい。第１の位置は、例えば載置台１０２の上面から１２ｍｍとすることができる。
制御部１０６は、ウエハＷが第１の位置に保持された状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～５００ｍＴｏｒｒ。）に減圧し、プラズマ生成ガスとして水素含有ガスをガス導入ノズル１２３から処理容器１０１内に供給してプラズマを着火する。なお、水素含有ガスは、Ａｒガス等の希ガスを含んでもよい。図５に示すように、処理容器１０１の空間Ｓにおいて、プラズマ源であるマイクロ波透過板１６３の下方にプラズマＰが形成される。なお、プラズマＰは、処理容器１０１内の圧力を下げると載置台１０２側に広がり、圧力を上げると、天壁部１１１側に狭くなる。また、圧力を多段階に変化させて、プラズマの広がりを制御しながらエッチングすることも可能である。圧力を多段階に変化させてプラズマの広がりを制御することで、エッチング量およびエッチングの均一性を向上させることができる。
ウエハＷのポリシリコン膜１２上の自然酸化膜（再酸化膜）は、プラズマＰで生成された水素イオンや水素ラジカルにより、ＳｉＯ結合からＯ成分が解離され、ＯＨとして除去されてエッチングされる。ところが、表面に酸化膜を有するポリシリコンは、水素イオンや水素ラジカルがポリシリコン中のアモルファスシリコンと結合することで、バブリング（Bubbling）現象が発生する。バブリング現象は、高温であるほど多く発生するので、ウエハＷをなるべく低温に保ったままエッチングを行うことが求められる。そのため、上述のように、ウエハＷを発熱体である載置台１０２の上方に基板支持ピン１２５で支持した状態でエッチングを行うことで、ウエハＷの温度上昇を抑えることができる。具体的には、載置台１０２はエッチング工程においてもヒータ１８２によりグラフェン成膜の温度、例えば４００℃以上に制御されているが、処理容器１０１内は減圧されているので、載置台１０２から２ｍｍ以上離れていれば、ウエハＷの温度を３５０℃以下に保つことができる。なお、エッチング工程において、ウエハＷの温度は、３００℃以下に保つことがより好ましい。
図６は、第１実施形態における成膜工程の基板位置の一例を示す図である。図６に示すように、エッチング工程に続いて実行される成膜工程では、基板支持ピン１２５を下降させてウエハＷを第２の位置である載置台１０２上に載置する。制御部１０６は、ウエハＷが載置台１０２上に載置された状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～４００ｍＴｏｒｒ。）に制御し、プラズマ生成ガスとして炭素含有ガスをガス導入ノズル１２３から処理容器１０１内に供給してプラズマを着火する。なお、炭素含有ガスは、Ｈ２ガスやＮ２ガスを含んでもよい。また、炭素含有ガスは、希釈ガスとしてＡｒガス等の希ガスを含む不活性ガスを含んでもよい。図６に示すように、処理容器１０１の空間Ｓにおいて、プラズマ源であるマイクロ波透過板１６３の下方にプラズマＰが形成される。なお、エッチング工程と同様に、プラズマＰは、処理容器１０１内の圧力を下げると載置台１０２側に広がり、圧力を上げると、天壁部１１１側に狭くなる。
成膜工程では、炭素含有ガスのプラズマにて、ウエハＷのポリシリコン膜１２上にグラフェン膜１３が成膜される。ウエハＷは、載置台１０２上に載置され、ヒータ１８２によりグラフェン成膜の温度、例えば４００℃以上に制御される。グラフェン成膜の温度は、例えば４００℃～９００℃程度までの成膜温度を用いるが、高温ほど結晶性の高いグラフェンが形成される。成膜工程では、エッチング工程で酸化膜を除去しているので、ポリシリコン膜１２の表面にグラフェンを直接成膜することができる。すなわち、ポリシリコン膜１２とグラフェン膜１３との間に酸化膜を挟まないため、優れたコンタクト抵抗特性や、ポリシリコン膜１２とグラフェン膜１３との密着性を得ることができる。
［バブリング現象の詳細］
ここで、図７および図８を用いてバブリング現象について説明する。図７は、バブリング現象を模式的に説明する図である。図７に示すウエハ３０は、シリコン基板３１上にポリシリコン膜３２が成膜され、ポリシリコン膜３２上に自然酸化膜３３が形成されている。ウエハ３０に対して、Ａｒを含む水素含有ガスのプラズマを用いてエッチングを行うと、自然酸化膜３３に含まれる酸素と、プラズマで生成された水素イオンや水素ラジカルとが結合することで自然酸化膜３３はエッチングされる。また、ポリシリコン膜３２中のアモルファスシリコン３４に、プラズマで生成された水素イオンや水素ラジカルが結合することで、Ｈ２ガスが発生してポリシリコン膜３２の表面が膨れてブリスターになる。ブリスターとなると、アモルファスシリコン３４の組成変化による局所応力が発生し、ブリスターとなった箇所が剥離してしまうことでバブリング現象が発生する。バブリング現象が発生すると、デバイスに致命的な欠陥を作ってしまうことになる。バブリング現象は、エッチング時の温度に依存性があるため、温度制御を行うことでバブリング現象を抑えることができる。
図８は、バブリング現象とエッチングレートの温度依存性の一例を示す図である。図８に示す表４０では、Ａｒ／Ｈ２プラズマにおいて、処理時間を１０分、ウエハ温度を、それぞれ２５０℃、４００℃、５５０℃、６７０℃とした場合における自然酸化膜のエッチングレート（Ｅ／Ｒ）と、バブリング現象（バブリング反応）の状態とを示している。図８に示すように、バブリング現象は、ウエハ温度が４００℃～６７０℃の場合には、ウエハ温度が高いほど多く発生しているが、２５０℃の場合は発生していない。つまり、バブリング現象は、Ｓｉ－Ｈの反応に起因することから、当該反応の活性化エネルギーに対して、ウエハ温度を下げることで反応を起こりにくくすることで、バブリング現象を抑制することができる。
一方、自然酸化膜のエッチングレートは、ウエハ温度が２５０℃、４００℃、５５０℃、６７０℃において、それぞれ、１．８６ｎｍ／ｍｉｎ、１．４８ｎｍ／ｍｉｎ、０．７９ｎｍ／ｍｉｎ、０．３６ｎｍ／ｍｉｎとなっており、ウエハ温度が低いほど高くなっている。つまり、自然酸化膜のエッチングは、低温にてエッチングを行うことで、スループットを改善することができる。なお、表４０に示すエッチングレートは、ウエハ全体の平均値（ｗｆ Ａｖｅ．）である。図８の分析結果４１，４２は、それぞれウエハ温度２５０℃，６７０℃の場合における偏光解析法によるウエハ全体のエッチングの状態と、ウエハ中心部の表面付近の断面とを示している。分析結果４１と分析結果４２とを比較すると、ウエハ温度２５０℃の場合は、６７０℃の場合と比べて、よりエッチングされており、ウエハ中心部においては１．２ｎｍの差があることがわかる。
［成膜方法］
次に、第１実施形態に係る成膜方法について説明する。図９は、第１実施形態における成膜処理の一例を示すフローチャートである。
第１実施形態に係る成膜処理では、まず、制御部１０６は、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を開放する。ウエハＷは、搬入出口１１４が開放されているときに、搬入出口１１４を介して処理容器１０１の空間Ｓに搬入され、載置台１０２の上面から突出した基板支持ピン１２５によって受け取られる。つまり、制御部１０６は、処理容器１０１内にウエハＷを搬入する（ステップＳ１１）。制御部１０６は、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を閉鎖する。
制御部１０６は、基板支持ピン１２５で受け取った基板を第１の位置で保持した状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～５００ｍＴｏｒｒ。）に減圧する。制御部１０６は、ガス導入ノズル１２３から、プラズマ生成ガスである水素含有ガスを処理容器１０１に供給する。また、制御部１０６は、マイクロ波導入装置１０５のマイクロ波出力部１３０から複数に分配して出力されたマイクロ波を、アンテナユニット１４０の複数のアンテナモジュール１４１に導き、これらのマイクロ波放射機構１４３から放射させ、プラズマを着火させる。制御部１０６は、所定時間（例えば４０～６０秒。）、水素含有ガスのプラズマにてエッチング工程を実行する（ステップＳ１２）。このとき、制御部１０６は、ウエハＷの温度が３５０℃以下となるようにエッチング時間を制御する。
制御部１０６は、エッチング工程が完了すると、基板支持ピン１２５を下降させて、ウエハＷを載置台１０２に載置する。つまり、ウエハＷは、第２の位置に保持される。制御部１０６は、ウエハＷが載置台１０２上に載置された状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～４００ｍＴｏｒｒ。）に制御する。また、制御部１０６は、ウエハＷの温度を所定の温度（例えば４００℃以上。）となるように制御する。制御部１０６は、ガス導入ノズル１２３から、プラズマ生成ガスである炭素含有ガスを処理容器１０１に供給する。また、制御部１０６は、マイクロ波導入装置１０５を制御してプラズマを着火させる。制御部１０６は、所定時間（例えば、５秒～６０分。）、炭素含有ガスのプラズマにて成膜工程を実行する（ステップＳ１３）。なお、成膜工程では、ウエハＷの表面を活性化するために、成膜前処理として、Ａｒ／Ｈ２ガスによる熱処理や、Ａｒ／Ｈ２ガスによるプラズマ前処理を行うようにしてもよい。また、エッチング工程と成膜工程とは、連続して処理を実行する。成膜工程では、マイクロ波プラズマＣＶＤにて、高ラジカル密度・低電子温度でポリシリコン膜１２上にグラフェン成膜を行うので、ウエハＷ上のプラズマは電子エネルギーが低くコントロールされる。従って、ウエハＷや成膜したグラフェン膜へのダメージを抑制することができる。
制御部１０６は、成膜工程が完了すると、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を開放する。制御部１０６は、基板支持ピン１２５を載置台１０２の上面から突出させてウエハＷを持ち上げる。ウエハＷは、搬入出口１１４が開放されているときに、搬入出口１１４を介して図示しない搬送室のアームにより処理容器１０１内から搬出される。つまり、制御部１０６は、処理容器１０１内からウエハＷを搬出する（ステップＳ１４）。
制御部１０６は、ウエハＷを搬出すると、処理容器１０１内をクリーニングするクリーニング工程を実行する（ステップＳ１５）。クリーニング工程では、ダミーウエハを載置台１０２に載置してクリーニングガスを処理容器１０１内に供給し、処理容器１０１の内壁に付着したカーボン膜をクリーニングする。なお、クリーニングガスとしてはＯ２ガスを用いることができるが、ＣＯガス、ＣＯ２ガス等の酸素を含むガスであってもよい。また、クリーニングガスは、Ａｒガス等の希ガスが含まれていてもよい。また、ダミーウエハはなくてもよい。制御部１０６は、クリーニング工程が完了すると、成膜処理を終了する。このように、ウエハＷの自然酸化膜をエッチングした後、同一の処理容器１０１内でグラフェン成膜を行うので、高品位かつ低欠陥なグラフェン膜を成膜することができる。また、ウエット洗浄を行わないので、成膜処理の工程を削減することができる。
［エッチング処理の適用有無による基板の状態の比較］
続いて、図１０および図１１を用いて、グラフェン成膜前にエッチング処理を適用したか否かによるグラフェン成膜後のウエハの状態の比較について説明する。図１０は、第１実施形態におけるグラフェン膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。図１１は、比較例におけるグラフェン膜の成膜後の基板の状態の一例を示す図である。
図１０に示すように、第１実施形態にかかるウエハＷでは、ポリシリコンの酸化を抑制できるので、シリコン基板１１上のポリシリコン膜１２に直接グラフェン膜１３が成膜されている。また、グラフェン膜１３内への酸素の取り込みも発生していない。一方、比較例としてウエット洗浄を行った場合のウエハ２０では、シリコン基板２１上のポリシリコン膜２２の表面にシリコン酸化膜等の再酸化膜２５が形成され、再酸化膜２５の上にグラフェン膜２６が成膜されている。また、グラフェン膜２６内に酸素成分２７が取り込まれてしまう場合がある。このように、第１実施形態にかかる成膜処理では、ポリシリコンの表面酸化膜を除去するので、グラフェン膜を連続積層した構造を実現することができる。
＜第２実施形態＞
上述の第１実施形態では、ウエハＷの搬入前に、処理容器１０１の内部に対して特に処理を行わなかったが、クリーニング工程の影響を低減するために処理容器１０１の内壁等に残留した酸素成分を取り除くデガス工程を実行するようにしてもよい。なお、第２実施形態に係る基板処理装置１００の構成については、第１実施形態と同一であるので説明を省略する。
［第２実施形態に係る成膜方法］
図１２は、本開示の第２実施形態における成膜処理の一例を示すフローチャートである。なお、図１２に示すフローチャートでは、説明のためにクリーニング工程から開始している。
第２実施形態に係る成膜処理では、まず、制御部１０６は、処理容器１０１内をクリーニングするクリーニング工程を実行する（ステップＳ２１）。クリーニング工程では、第１実施形態と同様に、ダミーウエハを載置台１０２に載置してクリーニングガスを処理容器１０１内に供給し、処理容器１０１の内壁に付着したカーボン膜をクリーニングする。なお、クリーニングガスとしてはＯ２ガスを用いることができるが、ＣＯガス、ＣＯ２ガス等の酸素を含むガスであってもよい。また、クリーニングガスは、Ａｒガス等の希ガスが含まれていてもよい。
すなわち、クリーニング工程では、酸素を含むガスのプラズマの影響で処理容器１０１の内壁等の表面や内部に、酸素が取り込まれる。また、処理容器１０１の内壁等の表面を過剰酸化させて、反応物としても酸素が表面に残留することがある。処理容器１０１の内壁等の表面に酸素が終端した状態でエッチング工程を行うと、エッチャントとして導入している水素が、先に処理容器１０１の内壁等の表面に吸着している酸素と反応してしまい、ウエハＷのエッチングに消費される水素成分が減少してしまう。このため、エッチングの効率および制御性を向上させるためには、吸着した酸素を除去することが望ましく、吸着した酸素を除去するデガス工程をクリーニング工程に続いて実行する。
次に、制御部１０６は、残留酸素を除去するデガス工程を実行する（ステップＳ２２）。制御部１０６は、ガス導入ノズル１２３から、水素含有ガスを処理容器１０１に供給する。また、制御部１０６は、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～１Ｔｏｒｒ。）に制御する。デガス工程における水素含有ガスとしては、例えばＨ２ガスやＡｒ／Ｈ２ガスを用いることができる。なお、処理容器１０１の内壁にコーティングが行われている場合、Ａｒによってコーティング剤がエッチングされる可能性があるため、Ｈ２ガスを用いるのが好ましい。つまり、Ｈ２ガスを用いる場合、Ａｒによるコーティング剤起因のメタルコンタミネーションを抑制することができる。制御部１０６は、マイクロ波導入装置１０５を制御してプラズマを着火させる。制御部１０６は、所定時間（例えば、１２０～１８０秒。）、水素含有ガスのプラズマにてデガス工程を実行する。デガス工程では、処理容器１０１内に残存するＯ２、Ｈ２Ｏ等の酸化成分をＯＨラジカルとして排出する。なお、クリーニング工程およびデガス工程では、ダミーウエハを用いなくてもよい。また、デガス工程に窒素を添加してもよい。窒素を添加することで、ＯＨに加えてＮＯラジカルとして排出効果を向上することができる。また、デガス工程では、工程の実行中に圧力を多段階に変化させてもよい。圧力を多段階に変化させることで、プラズマの広がりが制御できる。圧力を変化させてプラズマの広がりを制御することで、処理容器１０１内に残留する酸素に対して、プラズマを効率的に照射できるので、残留酸素を除去する効果を向上させることができる。
制御部１０６は、デガス工程が完了すると、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を開放する。ウエハＷは、搬入出口１１４が開放されているときに、搬入出口１１４を介して処理容器１０１の空間Ｓに搬入され、載置台１０２の上面から突出した基板支持ピン１２５によって受け取られる。つまり、制御部１０６は、処理容器１０１内にウエハＷを搬入する（ステップＳ２３）。制御部１０６は、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を閉鎖する。
制御部１０６は、基板支持ピン１２５で受け取った基板を第１の位置で保持した状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～５００ｍＴｏｒｒ。）に減圧する。制御部１０６は、ガス導入ノズル１２３から、プラズマ生成ガスである水素含有ガスを処理容器１０１に供給する。また、制御部１０６は、マイクロ波導入装置１０５を制御してプラズマを着火させる。制御部１０６は、所定時間（例えば２０～６０秒。）、水素含有ガスのプラズマにてエッチング工程を実行する（ステップＳ２４）。
制御部１０６は、エッチング工程が完了すると、基板支持ピン１２５を下降させて、ウエハＷを載置台１０２に載置する。つまり、ウエハＷは、第２の位置に保持される。制御部１０６は、ウエハＷが載置台１０２上に載置された状態で、処理容器１０１内の圧力を所定の圧力（例えば、５０ｍＴｏｒｒ～４００ｍＴｏｒｒ。）に制御する。また、制御部１０６は、ウエハＷの温度を所定の温度（例えば４００℃以上。）となるように制御する。制御部１０６は、ガス導入ノズル１２３から、プラズマ生成ガスである炭素含有ガスを処理容器１０１に供給する。また、制御部１０６は、マイクロ波導入装置１０５を制御してプラズマを着火させる。制御部１０６は、所定時間（例えば、５秒～６０分。）、炭素含有ガスのプラズマにて成膜工程を実行する（ステップＳ２５）。
制御部１０６は、成膜工程が完了すると、ゲートバルブ１１５を制御することにより、搬入出口１１４を開放する。制御部１０６は、基板支持ピン１２５を載置台１０２の上面から突出させてウエハＷを持ち上げる。ウエハＷは、搬入出口１１４が開放されているときに、搬入出口１１４を介して図示しない搬送室のアームにより処理容器１０１内から搬出される。つまり、制御部１０６は、処理容器１０１内からウエハＷを搬出し（ステップＳ２６）、成膜処理を終了する。なお、引き続き、他のウエハＷについて成膜処理を行う場合、ステップＳ２１のクリーニング工程から繰り返すことになる。このように、クリーニング工程の後にデガス工程を行うので、エッチング工程の効率および制御性を向上させることができる。
［デガス工程の実験結果］
次に、図１３を用いてデガス工程による残留酸素の除去における時間経過について説明する。図１３は、第２実施形態におけるＯＨラジカルの発光強度の変化の一例を示す図である。図１３に示すように、残留酸素の指標としてプラズマ発光スペクトルのうち、ＯＨラジカルに着目して発光強度減衰のデータを取得した。図１３に示すグラフ５０では、プロセス開始後、タイミング５１において、Ｈ２ガスの供給を開始し、タイミング５２において、Ｈ２プラズマを着火してデガスを開始している。タイミング５２の直後では、ＯＨラジカルの発光強度は３５％程度であるが、デガス開始から６０秒後のタイミング５３では、発光強度は２３％程度まで減少している。さらに、デガス開始から１８０秒後のタイミング５４では、発光強度は２０％程度まで減少している。プラズマ発光スペクトルにおいて、ＯＨラジカルの波長（３０９ｎｍ）近傍におけるノイズフロアの値が２０％程度であるので、タイミング５４の時点でＯＨラジカルのピークは消失していることになる。このことから、デガス工程の処理時間としては、１８０秒行えばよいことがわかる。
また、デガス工程は、処理容器１０１内の内壁にセラミックスコートが施されている場合には、特に有効である。セラミックスコートは、スプレー照射や薬液酸化処理等によって形成されるため、セラミックスコート膜には多数の空孔や空隙が存在する。これらの欠陥や隙間には、Ｏ２がピン止めされやすく、Ｏ２が残留しやすい構造となっている。また、セラミックスコートは、イットリア（Ｙ２Ｏ３）やＡｌ２Ｏ３等の金属酸化物であり、Ｏ２を引きつけやすく酸化物を形成しやすい材料であるため過剰酸化が起こりやすい。このため、デガス工程におけるプラズマ処理でＯ２引き出しを行うことが有効となる。
＜第３実施形態＞
上述の各実施形態では、複数のプラズマ源（マイクロ波放射機構１４３）を有する基板処理装置１００を用いたが、単相プラズマ源を有する基板処理装置を用いてもよく、この場合の実施の形態につき、第３実施形態として説明する。なお、第３実施形態における基板処理装置の一部の構成および成膜方法は上述の各実施形態と同様であるので、その重複する構成および動作の説明については省略する。
図１４は、本開示の第３実施形態における基板処理装置の一例を示す図である。図４に示す基板処理装置２００は、処理容器２０１と、載置台２０２と、マイクロ波導入機構２０３と、ガス供給機構２０４と、排気部２０５と、制御部２０６とを有する。処理容器２０１は、略円筒状であり、ウエハＷを収容する。載置台２０２は、ウエハＷを載置する。マイクロ波導入機構２０３は、処理容器２０１内にプラズマを生成させるためのマイクロ波を発生させるとともに、処理容器２０１内にマイクロ波を導入する。ガス供給機構２０４は、処理容器２０１内にガスを供給する。排気部２０５は、処理容器２０１内を排気する。制御部２０６は、基板処理装置２００の各部の動作を制御する。
処理容器２０１の底壁２０１ａの略中央部には円形の開口部２１０が形成されており、底壁２０１ａにはこの開口部２１０と連通し、下方に向けて突出する排気室２１１が設けられている。処理容器２０１の側壁には、ウエハＷを搬入出するための搬入出口２１７と、この搬入出口２１７を開閉するゲートバルブ２１８とが設けられている。
載置台２０２は、円板状をなしており、ＡｌＮ等のセラミックスからなっている。載置台２０２は、排気室２１１の底部中央から上方に延びる円筒状のＡｌＮ等のセラミックスからなる支持部材２１２により支持されている。載置台２０２の外縁部にはウエハＷをガイドするためのガイドリング２１３が設けられている。また、載置台２０２の内部には、ウエハＷを昇降するための基板支持ピン２３５が載置台２０２の上面に対して突没可能に設けられている。基板支持ピン２３５は、円板状の板部材２３６上に配置され、載置台２０２の貫通穴２０２ａに挿入されている。基板支持ピン２３５は、板部材２３６が昇降機構２３７により上下方向に移動することで、載置台２０２の上面に対して突没可能となっている。さらに、載置台２０２には、基板処理装置１００の載置台１０２と同様に、ヒータ２１４と電極２１６とが埋設されており、それぞれヒータ電源２１５と高周波バイアス電源２１９とに接続されている。
マイクロ波導入機構２０３は、処理容器２０１の上部の開口部に臨むように設けられ、多数のスロット２２１ａが形成された平面スロットアンテナ２２１と、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部２２２と、マイクロ波発生部２２２からのマイクロ波を平面スロットアンテナ２２１に導くマイクロ波伝送機構２２３とを有している。平面スロットアンテナ２２１の下方には誘電体からなるマイクロ波透過板２２４が処理容器２０１の上部にリング状に設けられたアッパープレート２３２に支持されるように設けられ、平面スロットアンテナ２２１の上には水冷構造のシールド部材２２５が設けられている。さらに、シールド部材２２５と平面スロットアンテナ２２１との間には、遅波材２２６が設けられている。
平面スロットアンテナ２２１は、例えば表面が銀または金メッキされた銅板またはアルミニウム板からなり、マイクロ波を放射するための複数のスロット２２１ａが所定パターンで貫通するように形成された構成となっている。スロット２２１ａのパターンは、マイクロ波が均等に放射されるように適宜設定される。好適なパターンの例としては、Ｔ字状に配置された２つのスロット２２１ａを一対として複数対のスロット２２１ａが同心円状に配置されているラジアルラインスロットを挙げることができる。スロット２２１ａの長さや配列間隔は、マイクロ波の実効波長（λg）に応じて適宜決定される。また、スロット２２１ａは、円形状、円弧状等の他の形状であってもよい。さらに、スロット２２１ａの配置形態は特に限定されず、同心円状のほか、例えば、螺旋状、放射状に配置することもできる。スロット２２１ａのパターンは、所望のプラズマ密度分布が得られるマイクロ波放射特性となるように、適宜設定される。
遅波材２２６は、真空よりも大きい誘電率を有する誘電体、例えば石英、セラミックス（Ａｌ２Ｏ３）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミドなどの樹脂からなる。遅波材２２６はマイクロ波の波長を真空中より短くして平面スロットアンテナ２２１を小さくする機能を有している。なお、マイクロ波透過板２２４も同様の誘電体で構成されている。
マイクロ波透過板２２４および遅波材２２６の厚さは、遅波材２２６、平面スロットアンテナ２２１、マイクロ波透過板２２４、およびプラズマで形成される等価回路が共振条件を満たすように調整される。遅波材２２６の厚さを調整することにより、マイクロ波の位相を調整することができ、平面スロットアンテナ２２１の接合部が定在波の「はら」になるように厚さを調整することにより、マイクロ波の反射が極小化され、マイクロ波の放射エネルギーが最大となる。また、遅波材２２６とマイクロ波透過板２２４を同じ材質とすることにより、マイクロ波の界面反射を防止することができる。
マイクロ波発生部２２２は、マイクロ波発振器を有している。マイクロ波発振器は、マグネトロンであってもソリッドステートであってもよい。マイクロ波発振器から発振されるマイクロ波の周波数は、３００ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲を用いることができる。例えば、マイクロ波発振器としてマグネトロンを用いることにより周波数が２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発振することができる。
マイクロ波伝送機構２２３は、マイクロ波発生部２２２からマイクロ波を導く水平方向に伸びる導波管２２７と、平面スロットアンテナ２２１の中心から上方に伸びる内導体２２９およびその外側の外導体２３０からなる同軸導波管２２８と、導波管２２７と同軸導波管２２８との間に設けられたモード変換機構２３１とを有している。マイクロ波発生部２２２で発生したマイクロ波は、ＴＥモードで導波管２２７を伝播し、モード変換機構２３１でマイクロ波の振動モードがＴＥモードからＴＥＭモードへ変換される。変換されたマイクロ波は、同軸導波管２２８を介して遅波材２２６に導かれ、遅波材２２６から平面スロットアンテナ２２１のスロット２２１ａおよびマイクロ波透過板２２４を経て処理容器２０１内に放射される。なお、導波管２２７の途中には、処理容器２０１内の負荷（プラズマ）のインピーダンスをマイクロ波発生部２２２の電源の特性インピーダンスに整合させるチューナ（図示せず）が設けられている。
ガス供給機構２０４は、処理容器２０１内の載置台２０２の上方位置に上下を仕切るように水平に設けられたシャワープレート２４１と、シャワープレート２４１の上方位置に、処理容器２０１の内壁に沿ってリング状に設けられたシャワーリング２４２とを有している。
シャワープレート２４１は、格子状に形成されたガス通流部材２５１と、このガス通流部材２５１の内部に格子状に設けられたガス流路２５２と、ガス流路２５２から下方に延びる多数のガス吐出孔２５３とを有しており、格子状のガス通流部材２５１の間は貫通孔２５４となっている。このシャワープレート２４１のガス流路２５２には処理容器２０１の外壁に達するガス供給路２５５が延びており、このガス供給路２５５にはガス供給配管２５６が接続されている。このガス供給配管２５６は、分岐管２５６ａ、２５６ｂ、２５６ｃの３つに分岐している。これら分岐管２５６ａ、２５６ｂ、２５６ｃには、それぞれ還元性ガスとしてのＨ２ガスを供給するＨ２ガス供給源２５７、成膜原料ガスである炭素含有ガスとしてのエチレン（Ｃ２Ｈ４）ガスを供給するＣ２Ｈ４ガス供給源２５８、パージガス等として用いられるＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給源２５９が接続されている。なお、分岐管２５６ａ、２５６ｂ、２５６ｃには、図示してはいないが、流量制御用のマスフローコントローラおよびその前後のバルブが設けられている。
シャワーリング２４２は、その内部に設けられたリング状のガス流路２６６と、このガス流路２６６に接続されその内側に開口する多数のガス吐出孔２６７とを有しており、ガス流路２６６にはガス供給配管２６１が接続されている。このガス供給配管２６１は、分岐管２６１ａ、２６１ｂ、２６１ｃの３つに分岐している。これら分岐管２６１ａ、２６１ｂ、２６１ｃには、それぞれプラズマ生成ガスである希ガスとしてのＡｒガスを供給するＡｒガス供給源２６２、クリーニングガスである酸化ガスとしてのＯ２ガスを供給するＯ２ガス供給源２６３、パージガス等として用いられるＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給源２６４が接続されている。なお、分岐管２６１ａ、２６１ｂ、２６１ｃには、図示してはいないが、流量制御用のマスフローコントローラおよびその前後のバルブが設けられている。
排気部２０５は、上記排気室２１１と、排気室２１１の側面に設けられた排気配管２８１と、排気配管２８１に接続された真空ポンプおよび圧力制御バルブ等を有する排気装置２８２とを有する。
制御部２０６は、典型的にはコンピュータからなり、基板処理装置２００の各部を制御するようになっている。制御部２０６は基板処理装置２００のプロセスシーケンスおよび制御パラメータであるプロセスレシピを記憶した記憶部や、入力手段およびディスプレイ等を備えており、選択されたプロセスレシピに従って所定の制御を行うことが可能である。
例えば、制御部２０６は、上述の各実施形態の成膜方法を行うように、基板処理装置２００の各部を制御する。詳細な一例を挙げると、制御部２０６は、処理容器２０１内に基板（ウエハＷ）が搬入されると、載置台２０２の上面から突出した基板支持ピン２３５によって、基板を搬入するアームから基板を受け取る。制御部２０６は、基板を受け取った第１の位置で保持した状態で、水素含有ガスのプラズマにて、基板上の酸化膜を除去するエッチング工程を実行する。制御部２０６は、基板支持ピン２３５を下降させて基板を第２の位置で保持した状態、例えば載置台２０２上に載置した状態で、炭素含有ガスのプラズマにて、基板上にグラフェン膜を成膜する成膜工程を実行する。これにより、上述の各実施形態の成膜方法と同様に、第３実施形態の基板処理装置２００においても、高品位かつ低欠陥なグラフェン膜を成膜することができる。
以上、各実施形態によれば、基板処理装置（１００，２００）は、下地膜（ポリシリコン膜１２）を有する基板（ウエハＷ）を収容可能な処理容器（１０１，２０１）と、処理容器内に配置される載置台（１０２，２０２）と、制御部（１０６，２０６）とを有する。制御部は、基板を処理容器内に搬入する搬入工程と、載置台の基板支持ピン（１２５，２３５）を上昇させて、搬入された基板を第１の位置で保持した状態で第１のプラズマ処理を行う第１工程と、基板支持ピンを下降させて基板を第２の位置で保持した状態で第２のプラズマ処理を行う第２工程とを実行する。その結果、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、第２の位置は、基板を載置台に載置した位置であり、第１の位置は、基板を載置台の上方に支持した位置である。その結果、第１工程において基板温度を下げることができる。
また、各実施形態によれば、第１の位置は、載置台から２ｍｍ以上、上方の位置である。その結果、第１工程において基板温度を下げることができる。
また、各実施形態によれば、第１工程は、下地膜上に形成された酸化物を除去する工程である。その結果、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、第１工程は、水素含有ガスのプラズマを用いて、第１の温度および第１の圧力で第１のプラズマ処理を行う。その結果、下地膜上に形成された酸化膜をエッチングすることができる。
また、各実施形態によれば、第１工程は、第１のプラズマ処理の時間を６０秒以下とする。その結果、プラズマによる入熱によって基板温度が上昇する前に、下地膜上に形成された酸化膜をエッチングすることができる。
また、各実施形態によれば、第２工程は、下地膜上に成膜の対象膜を形成する工程である。その結果、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、対象膜は、カーボン膜である。その結果、高品位かつ低欠陥なカーボン膜を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、カーボン膜は、グラフェン膜である。その結果、高品位かつ低欠陥なグラフェン膜を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、下地膜は、多結晶シリコン膜である。その結果、多結晶シリコン膜上に高品位かつ低欠陥なカーボン膜（グラフェン膜）を成膜することができる。
また、各実施形態によれば、第２工程は、原料ガスと水素ガスとを含む混合ガスのプラズマを用いて、第１の温度より高い第２の温度と、第１の圧力より高い第２の圧力で第２のプラズマ処理を行う。その結果、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。なお、供給される水素ガスは、グラフェンの平面方向成長を促進するものであり、原料ガスに含まれる水素でも同様の効果が得られる。水素ガスの供給は必須ではないが、水素ガスを供給することで、よりグラフェンの平面成長が加速される。
また、各実施形態によれば、第１の温度は、３５０℃以下であり、第２の温度は、４００℃以上である。その結果、バブリング現象を起こさずに酸化膜をエッチングできるとともに、高品位かつ低欠陥な膜を成膜することができる。
また、第２実施形態によれば、制御部１０６は、さらに、搬入工程の前に、処理容器１０１内に基板（処理対象のウエハＷ）が存在しない状態でプラズマ処理を行う前工程を有する。前工程は、水素含有ガスのプラズマを用いて、処理容器１０１内の酸素を引き出して除去するデガス工程を含む。その結果、エッチング工程である第１工程の効率および制御性を向上させることができる。
今回開示された各実施形態は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。上記の各実施形態は、添付の請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形体で省略、置換、変更されてもよい。
また、上記した各実施形態では、ウエハＷのポリシリコン膜上にグラフェン膜を成膜する形態を説明したが、これに限定されない。例えば、ウエハＷのポリシリコン膜上にアモルファスカーボン膜やダイヤモンドライクカーボン膜を成膜する場合にも適用することができる。さらに、ポリシリコン膜だけでなく、シリコン基板や、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｗ、Ｔｉ等の金属膜上にグラフェン膜等を成膜する場合にも適用することができる。さらに、金属酸化膜や金属窒化膜上にグラフェン膜等を成膜する場合にも適用することができる。すなわち、エッチング工程と成膜工程とにおいて、温度差があるプロセスに対して適用することができる。
また、上記した各実施形態では、クリーニング工程を毎回行っていたが、これに限定されない。例えば、１ロットの複数枚のウエハＷについて、ウエハＷごとにエッチング工程と成膜工程とを行い、所定枚数、例えば１ロット分の処理が終了した時点でクリーニング工程を行うようにしてもよい。また、クリーニング工程の後にデガス工程を行うようにしてもよい。
また、上記した各実施形態では、プラズマ源としてマイクロ波プラズマを用いてウエハＷに対してエッチングや成膜等の処理を行う基板処理装置１００，２００を例に説明したが、開示の技術はこれに限られない。プラズマを用いてウエハＷに対して処理を行う装置であれば、プラズマ源はマイクロ波プラズマに限られず、例えば、容量結合型プラズマ、誘導結合型プラズマ、マグネトロンプラズマ等、任意のプラズマ源を用いることができる。
１１ シリコン基板
１２ ポリシリコン膜
１３ グラフェン膜
１００，２００ 基板処理装置
１０１，２０１ 処理容器
１０２，２０２ 載置台
１０６，２０６ 制御部
１２５，２３５ 基板支持ピン
Ｗ ウエハ

Claims (14)

  1. 下地膜を有する基板を処理する基板処理方法であって、
    前記基板を処理容器内に搬入する搬入工程と、
    前記処理容器内に配置される載置台の基板支持ピンを上昇させて、搬入された前記基板を第１の位置で保持した状態で第１のプラズマ処理を行う第１工程と、
    前記基板支持ピンを下降させて前記基板を第２の位置で保持した状態で第２のプラズマ処理を行う第２工程と、
    を有する基板処理方法。
  2. 前記第２の位置は、前記基板を前記載置台に載置した位置であり、
    前記第１の位置は、前記基板を前記載置台の上方に支持した位置である、
    請求項１に記載の基板処理方法。
  3. 前記第１の位置は、前記載置台から２ｍｍ以上、上方の位置である、
    請求項２に記載の基板処理方法。
  4. 前記第１工程は、前記下地膜上に形成された酸化物を除去する工程である、
    請求項１～３のいずれか１つに記載の基板処理方法。
  5. 前記第１工程は、水素含有ガスのプラズマを用いて、第１の温度および第１の圧力で前記第１のプラズマ処理を行う、
    請求項１～４のいずれか１つに記載の基板処理方法。
  6. 前記第１工程は、前記第１のプラズマ処理の時間を６０秒以下とする、
    請求項５に記載の基板処理方法。
  7. 前記第２工程は、前記下地膜上に成膜の対象膜を形成する工程である、
    請求項５または６に記載の基板処理方法。
  8. 前記対象膜は、カーボン膜である、
    請求項７に記載の基板処理方法。
  9. 前記カーボン膜は、グラフェン膜である、
    請求項８に記載の基板処理方法。
  10. 前記下地膜は、多結晶シリコン膜である、
    請求項７～９のいずれか１つに記載の基板処理方法。
  11. 前記第２工程は、原料ガスと水素ガスとを含む混合ガスのプラズマを用いて、前記第１の温度より高い第２の温度と、前記第１の圧力より高い第２の圧力で前記第２のプラズマ処理を行う、
    請求項５～１０のいずれか１つに記載の基板処理方法。
  12. 前記第１の温度は、３５０℃以下であり、
    前記第２の温度は、４００℃以上である、
    請求項１１に記載の基板処理方法。
  13. さらに、前記搬入工程の前に、前記処理容器内に前記基板が存在しない状態でプラズマ処理を行う前工程を有し、
    前記前工程は、水素含有ガスのプラズマを用いて、前記処理容器内の酸素を引き出して除去するデガス工程を含む、
    請求項１～１２のいずれか１つに記載の基板処理方法。
  14. 基板処理装置であって、
    下地膜を有する基板を収容可能な処理容器と、
    前記処理容器内に配置される載置台と、
    制御部と、を有し、
    前記制御部は、前記基板を前記処理容器内に搬入するよう前記基板処理装置を制御するように構成され、
    前記制御部は、前記載置台の基板支持ピンを上昇させて、搬入された前記基板を第１の位置で保持した状態で第１のプラズマ処理を行うよう前記基板処理装置を制御するように構成され、
    前記制御部は、前記基板支持ピンを下降させて前記基板を第２の位置で保持した状態で第２のプラズマ処理を行うよう前記基板処理装置を制御するように構成される、
    基板処理装置。
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