JP2022079044A - 研削装置及び被加工物の研削方法 - Google Patents

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Abstract

Figure 2022079044000001
【課題】複数の被加工物が同時に研削される際の研削量の誤差を低減することが可能な研削装置を提供する。
【解決手段】被加工物を研削する研削装置であって、複数の被加工物を保持面で保持可能なチャックテーブルと、チャックテーブルによって保持された複数の被加工物を研削砥石で研削する研削ユニットと、チャックテーブルと研削ユニットとを、保持面と垂直な方向に沿って接近及び離隔させる研削送り機構と、制御ユニットと、を備え、制御ユニットは、研削砥石の消耗率と、加工条件に含まれる研削量とに基づいて、研削ユニットによって同時に研削される被加工物の枚数に応じた研削砥石の消耗量を算出する算出部と、算出部によって算出された消耗量に基づいて研削ユニットの移動量を補正する補正部と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、被加工物を研削する研削装置、及び、被加工物の研削に用いられる被加工物の研削方法に関する。
複数のデバイスが形成されたウェーハを分割して個片化することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。また、複数のデバイスチップを所定の基板上に実装し、実装されたデバイスチップを樹脂でなる封止材(モールド樹脂)で被覆することにより、パッケージ基板が得られる。このパッケージ基板を分割して個片化することにより、パッケージ化された複数のデバイスチップをそれぞれ備える複数のパッケージデバイスが製造される。デバイスチップやパッケージデバイスは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に組み込まれる。
近年では、電子機器の小型化に伴い、デバイスチップやパッケージデバイスにも薄型化が求められている。そこで、分割前のウェーハやパッケージ基板に対して研削加工を施すことにより、ウェーハやパッケージ基板を薄化する手法が用いられることがある。
ウェーハ、パッケージ基板等の被加工物の研削には、研削装置が用いられる。研削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、被加工物に研削加工を施す研削ユニットとを備える。研削ユニットには、被加工物を研削する研削砥石を含む環状の研削ホイールが装着される。そして、チャックテーブル及び研削ホイールを回転させた状態で、研削ユニットを下降させて研削砥石を被加工物の上面側に接触させることにより、被加工物が研削され、薄化される。例えば特許文献1には、矩形状のパッケージ基板を研削可能な研削装置が開示されている。
特開2015-223664号公報
研削装置で被加工物を研削する際には、被加工物の厚さがモニターされる。具体的には、研削装置には被加工物と接触して被加工物の厚さを測定する接触式の厚さ測定器が設けられる。そして、被加工物が研削されている間、厚さ測定器は被加工物に接触した状態で被加工物の厚さを測定する。これにより、実際の被加工物の厚さに基づいて研削加工を停止するタイミングを調節することが可能となり、研削後の被加工物の厚さを正確に制御できる。
ところで、研削装置で被加工物を研削する際には、研削ユニットで複数の被加工物を同時に研削する手法が用いられることがある。具体的には、チャックテーブル上に複数の被加工物を所定の間隔で配置し、研削砥石を複数の被加工物それぞれと接触させることにより、複数の被加工物の研削が同時進行で実施される。この手法を用いると、被加工物の1枚あたりの加工時間が大幅に削減され、加工効率が向上する。
ただし、研削加工時に複数の被加工物を保持したチャックテーブルを回転させると、複数の被加工物がそれぞれチャックテーブルの回転方向に沿って移動する。そのため、接触式の厚さ測定器を被加工物に接触させた状態を維持することが困難になる。また、被加工物に接触せずに被加工物の厚さを測定する非接触式の厚さ測定器を用いることも考えられるが、非接触式の厚さ測定器は高価である上、チャックテーブルの回転によって絶えず位置が変動する複数の被加工物の厚さを正確に測定することは難しい。
そこで、研削ユニットで複数の被加工物を同時に研削する場合には、研削ユニットの移動量(下降量)によって被加工物の研削量(研削前後における被加工物の厚さの差)が制御される。具体的には、複数の被加工物と接触する研削砥石の下面が所定の位置まで下降するように、研削ユニットの移動量が調節される。
しかしながら、研削砥石で被加工物を研削すると、研削砥石の下面側が被加工物と接触して消耗し、研削砥石の下面の位置が変動する。そのため、被加工物の研削量に応じて研削ユニットの移動量を設定しても、研削ユニットの移動量と研削砥石の下面の移動量とが一致せず、研削砥石の下面が意図した高さ位置まで下降しないことがある。その結果、被加工物の研削量に誤差が生じ、被加工物が所望の厚さまで薄化されていないにも関わらず研削加工が停止してしまうおそれがある。
本発明は、かかる問題に鑑みてなされたものであり、複数の被加工物が同時に研削される際の研削量の誤差を低減することが可能な研削装置及び被加工物の研削方法の提供を目的とする。
本発明の一態様によれば、被加工物を研削する研削装置であって、複数の該被加工物を保持面で保持可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルによって保持された複数の該被加工物を研削砥石で研削する研削ユニットと、該チャックテーブルと該研削ユニットとを、該保持面と垂直な方向に沿って接近及び離隔させる研削送り機構と、制御ユニットと、を備え、該制御ユニットは、該被加工物を該研削ユニットで研削する際の該研削砥石の消耗率を、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数ごとに記憶する消耗率記憶部と、該被加工物の研削量を含む加工条件を記憶する加工条件記憶部と、該消耗率記憶部に記憶された該消耗率と、該加工条件記憶部に記憶された該加工条件に含まれる該研削量とに基づいて、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数に応じた該研削砥石の消耗量を算出する算出部と、該算出部によって算出された該消耗量に基づいて該研削ユニットの移動量を補正する補正部と、を備える研削装置が提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、被加工物を研削する被加工物の研削方法であって、該被加工物を研削砥石で研削する研削ユニットで該被加工物を研削する際の該研削砥石の消耗率を、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数ごとに記憶する消耗率記憶ステップと、該被加工物の研削量を含む加工条件を記憶する加工条件記憶ステップと、該消耗率と、該加工条件に含まれる該研削量とに基づいて、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数に応じた該研削砥石の消耗量を算出する消耗量算出ステップと、該消耗量に基づいて該研削ユニットの移動量を補正する補正ステップと、を備える被加工物の研削方法が提供される。
本発明の一態様に係る研削装置及び被加工物の研削方法では、研削砥石の消耗率と被加工物の研削量とに基づいて、研削ユニットの移動量が補正される。これにより、研削砥石の消耗に起因する被加工物の研削量の不足が抑制され、被加工物を所望の厚さまで薄化することが可能となる。
また、本発明の一態様に係る研削装置及び被加工物の研削方法では、研削砥石の消耗率が、研削ユニットによって同時に研削される被加工物の枚数ごとに記憶される。そして、研削砥石の消耗量の算出と研削ユニットの移動量の補正とが、被加工物の枚数に応じて行われる。これにより、研削ユニットによって同時に研削される被加工物の枚数の違いに起因する研削後の被加工物の厚さのばらつきが低減される。
研削装置を示す一部断面側面図である。 第1チャックテーブルを示す斜視図である。 第2チャックテーブルを示す斜視図である。 研削ユニットを示す斜視図である。 制御ユニットの動作を示すフローチャートである。
以下、添付図面を参照して本発明の一態様に係る実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る研削装置の構成例について説明する。図1は、研削装置2を示す一部断面側面図である。なお、図1において、X軸方向(第1水平方向、左右方向)とY軸方向(第2水平方向、前後方向)とは、互いに垂直な方向である。また、Z軸方向(研削送り方向、鉛直方向、上下方向、高さ方向)は、X軸方向及びY軸方向と垂直な方向である。
研削装置2は、研削装置2を構成する各構成要素を支持又は収容する基台4を備える。基台4の上面側には、直方体状の開口4aが設けられている。開口4aの内側には、研削装置2による加工の対象となる被加工物11(図2参照)を保持するチャックテーブル6が設けられている。
図2は、チャックテーブル6(第1チャックテーブル)を示す斜視図である。チャックテーブル6は、複数の被加工物11を複数の保持面6aで保持可能な保持テーブルである。
チャックテーブル6は、SUS(ステンレス鋼)等の金属、ガラス、セラミックス、樹脂等でなる円盤状の枠体(本体部)8を備える。枠体8は、平坦な円形の上面8aを有する。また、枠体8の上面8a側には、上面8aから上方に突出する複数の凸部10が設けられている。複数の凸部10は、それぞれ環状に形成され、枠体8の上面8aの周方向に沿って概ね等間隔(120°間隔)で配列されている。
凸部10の内側には、ポーラスセラミックス等の多孔質部材でなる板状の保持部材12が嵌め込まれている。保持部材12は、内部に保持部材12の上面から下面に連通する空孔(流路)を含んでいる。なお、保持部材12の上面12aは、チャックテーブル6によって被加工物11を保持する際に被加工物11を吸引する吸引面に相当する。
凸部10の高さ及び保持部材12の厚さは、凸部10の上面10aと保持部材12の上面12aとが概ね同一平面上に配置されるように調節される。そして、凸部10の上面10aと保持部材12の上面12aとによって、被加工物11を保持する平坦な保持面6aが構成される。チャックテーブル6の保持面6aは、保持部材12に含まれる空孔、枠体8の内部に形成された流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。
チャックテーブル6の保持面6a上には、被加工物11が配置される。なお、被加工物11は、少なくとも保持部材12の上面12aの全体を覆うように配置される。この状態で、複数の保持面6aにそれぞれ吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、複数の被加工物11がチャックテーブル6によって吸引保持される。
例えば被加工物11は、CSP(Chip Size Package)基板、QFN(Quad Flat Non-leaded package)基板等のパッケージ基板である。例えばパッケージ基板は、所定の基板上に複数のデバイスチップを実装した後、実装されたデバイスチップを樹脂でなる封止材(モールド樹脂)で被覆することによって形成される。
パッケージ基板を分割することにより、パッケージ化された複数のデバイスチップをそれぞれ備える複数のパッケージデバイスが製造される。また、パッケージ基板の分割前に、パッケージ基板のモールド樹脂を研削装置2で研削して薄化することにより、薄型化されたパッケージデバイスが得られる。
図2には、被加工物11が平面視で矩形状に形成された板状のパッケージ基板である例を示している。凸部10及び保持部材12のサイズ及び形状は、被加工物11のサイズ及び形状に応じて適宜設定される。例えば、被加工物11が矩形状である場合には、凸部10は被加工物11に対応して矩形状に形成され、保持部材12も凸部10の内側に嵌め込まれるように矩形状に形成される。これにより、被加工物11の全体を保持可能な矩形状の保持面6aが構成される。
ただし、被加工物11の種類、材質、大きさ、形状、構造等に制限はない。パッケージ以外の被加工物11の例としては、半導体(Si、GaAs、InP、GaN、SiC等)、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等でなる円盤状のウェーハが挙げられる。
例えば被加工物11は、円盤状のシリコンウェーハであってもよい。シリコンウェーハは、互いに概ね平行な表面及び裏面を備える。また、シリコンウェーハは、互いに交差するように格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって、複数の矩形状の領域に区画されている。そして、シリコンウェーハの表面側のうち、ストリートによって区画された複数の領域にはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)、LED(Light Emitting Diode)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)等のデバイスが形成されている。
上記のシリコンウェーハをストリートに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。また、シリコンウェーハの分割前に、シリコンウェーハの裏面側を研削装置2で研削して薄化することにより、薄型化されたデバイスチップが得られる。
なお、図2にはチャックテーブル6が3つの保持面6aを備える構成を示しているが、保持面6aの数は2以上の任意の数に設定できる。すなわち、チャックテーブル6は、2組、又は4組以上の凸部10及び保持部材12を備えていてもよい。
また、研削装置2に搭載されるチャックテーブルは、チャックテーブル6に限られない。図3は、チャックテーブル6とは構造が異なるチャックテーブル14(第2チャックテーブル)を示す斜視図である。チャックテーブル14は、複数の被加工物11を保持面14aで保持可能な保持テーブルである。
チャックテーブル14は、平坦な円形の上面16aを有する円柱状の枠体(本体部)16を備える。枠体16の上面16a側の中央部には円柱状の凹部16bが設けられており、凹部16bには円盤状の保持部材18が嵌め込まれている。なお、枠体16、保持部材18の材質はそれぞれ、チャックテーブル6(図2参照)の枠体8、保持部材12と同様である。また、保持部材18の上面18aは、チャックテーブル14によって被加工物11を保持する際に被加工物11を吸引する吸引面に相当する。
凹部16bの深さと保持部材18の厚さとは、概ね同一に設定される。そのため、枠体16の上面16aと保持部材18の上面18aとは、概ね同一平面上に配置される。そして、枠体16の上面16aと保持部材18の上面18aとによって、被加工物11を保持する平坦な保持面14aが構成される。チャックテーブル14の保持面14aは、保持部材18に含まれる空孔、枠体16の内部に形成された流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。
チャックテーブル14で複数の被加工物11を保持する場合には、複数の被加工物11が環状のフレーム13によって支持される。具体的には、まず、SUS(ステンレス鋼)等の金属でなる環状のフレーム13が準備される。フレーム13の中央部には、円形の開口13aが設けられている。そして、フレーム13の開口13aの内側に複数の被加工物11が配置される。
複数の被加工物11及びフレーム13には、テープ15が貼付される。具体的には、テープ15の中央部が複数の被加工物11に貼付されるとともに、テープ15の外周部がフレーム13に貼付される。これにより、複数の被加工物11がテープ15を介してフレーム13によって支持される。なお、図3には3枚の被加工物11がフレーム13によって支持される例を示しているが、フレーム13によって支持される被加工物11の枚数は、2以上の任意の数に設定できる。
例えばテープ15は、フレーム13の開口13aよりも直径が大きい円形のシートであり、フィルム状の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを有する。基材はポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなり、粘着層はエポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。また、粘着層には、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂を用いてもよい。
そして、複数の被加工物11は、テープ15を介してチャックテーブル14上に配置される。このとき、保持部材18の上面18aの全体がテープ15によって覆われる。この状態で、保持面14aに吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、複数の被加工物11がテープ15を介してチャックテーブル14によって吸引保持される。
なお、チャックテーブル14の周囲には、フレーム13を把持する複数のクランプが設けられていてもよい。例えば、4個クランプが保持面14aの周方向に沿って概ね等間隔で配置される。そして、チャックテーブル14によって被加工物11を保持する際、複数のクランプによってフレーム13が把持され、固定される。
上記の通り、複数の被加工物11は、複数の保持面6aを備えるチャックテーブル6(図2参照)によって保持されてもよいし、1つの保持面14aを備えるチャックテーブル14(図3参照)によって保持されてもよい。以下では代表例として、研削装置2にチャックテーブル6が搭載されている場合について説明する。
図1に示すように、基台4の内部には移動機構(移動ユニット)20が設けられている。移動機構20は、チャックテーブル6に連結されており、チャックテーブル6をY軸方向に沿って移動させる。
移動機構20は、Y軸方向に沿って配置されたボールねじ22を備える。ボールねじ22は、チャックテーブル6に連結されたナット部(不図示)に螺合されている。また、ボールねじ22の端部には、ボールねじ22を回転させるパルスモータ24が連結されている。パルスモータ24でボールねじ22を回転させると、チャックテーブル6がY軸方向に沿って移動する。
また、チャックテーブル6にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。この回転駆動源は、チャックテーブル6を保持面6aと概ね垂直な回転軸(Z軸方向と概ね方向な回転軸)の周りで回転させる。
さらに、チャックテーブル6には、チャックテーブル6の傾き角度を調節する傾き調節機構26が連結されている。傾き調節機構26は、1つの固定支持部材26aと、2つの可動支持部材26bとを備える。1つの固定支持部材26a及び2つの可動支持部材26bは、枠体8の周方向に沿って概ね等間隔(120°間隔)で配置され、枠体8の下面側に接続されている。
固定支持部材26aは、上端が所定の高さ位置に配置されるように固定されている。一方、可動支持部材26bは、上端をZ軸方向に沿って移動(昇降)可能に構成されている。可動支持部材26bの上端の高さを変更すると、チャックテーブル6のZ軸方向に対する傾斜角が変動する。これにより、チャックテーブル6の傾き角度が調節される。
チャックテーブル6及び移動機構20の後方(図1の紙面右側)には、直方体状の支持構造(コラム)28が設けられている。また、支持構造28の表面側(前面側)には、研削送り機構(研削送りユニット)30が設けられている。研削送り機構30は、チャックテーブル6と後述の研削ユニット42とを、チャックテーブル6の保持面6aと垂直な方向(Z軸方向)に沿って接近及び離隔させる移動機構(移動ユニット)である。
研削送り機構30は、支持構造28の表面側に固定された一対のガイドレール32を備える。一対のガイドレール32は、X軸方向において互いに離隔した状態で、Z軸方向に沿って配置されている。また、一対のガイドレール32には、平板状の移動プレート34が、ガイドレール32に沿ってスライド可能な状態で装着されている。
移動プレート34の裏面側(背面側)には、ナット部36が設けられている。また、一対のガイドレール32の間にはボールねじ38がZ軸方向に沿って設けられており、ボールねじ38はナット部36に螺合されている。そして、ボールねじ38の端部には、ボールねじ38を回転させるパルスモータ40が連結されている。パルスモータ40でボールねじ38を回転させると、移動プレート34がガイドレール32に沿ってZ軸方向に移動(昇降)する。
移動プレート34の表面側(前面側)には、被加工物11を研削する研削ユニット42が装着されている。研削ユニット42は、移動プレート34の表面側に固定された中空の円柱状の支持部材44を備える。支持部材44には、円柱状のハウジング46が収容されている。ハウジング46の下面側は、ゴム等でなる緩衝部材48を介して、支持部材44の底面によって支持されている。
ハウジング46には、Z軸方向に沿って配置された円柱状のスピンドル50が収容されている。スピンドル50の先端部(下端部)は、ハウジング46から露出しており、支持部材44の底部に設けられた開口を介して支持部材44の下面から下方に突出している。
スピンドル50の先端部には、金属等でなる円盤状のマウント52が固定されている。また、スピンドル50の基端部(上端部)には、スピンドル50を回転させるモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。そして、マウント52の下面側に、被加工物11を研削する環状の研削ホイール54が、ボルト等の固定具によって装着される。
研削ホイール54は、アルミニウム、ステンレス等の金属でなりマウント52と概ね同径に形成された環状の基台56を備える。基台56の上面側は、マウント52の下面側に固定される。また、基台56の下面側には、複数の研削砥石58が固定されている。例えば、複数の研削砥石58は直方体状に形成され、基台56の周方向に沿って概ね等間隔で環状に配列されている。
研削砥石58は、ダイヤモンド、cBN(cubic Boron Nitride)等でなる砥粒を、メタルボンド、レジンボンド、ビトリファイドボンド等の結合材で固定することにより形成される。ただし、研削砥石58の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。また、研削砥石58の数も任意に設定できる。
研削ホイール54は、スピンドル50の基端部に連結された回転駆動源からスピンドル50及びマウント52を介して伝達される動力により、Z軸方向と概ね平行な回転軸の周りを回転する。そして、被加工物11によって保持された被加工物11に回転する研削砥石58が接触すると、被加工物11の上面側が削り取られる。これにより、被加工物11に研削加工が施され、被加工物11が薄化される。
また、研削ユニット42の内部又は近傍には、純水等の液体(研削液)を供給するための研削液供給路(不図示)が設けられている。研削液は、被加工物11に研削加工を施す際に、被加工物11及び研削砥石58に供給される。研削液によって、被加工物11及び研削砥石58が冷却されるとともに、研削加工によって発生した屑(研削屑)が洗い流される。
研削装置2の各構成要素(チャックテーブル6、移動機構20、研削送り機構30、研削ユニット42等)は、研削装置2を制御する制御ユニット(制御部、制御装置)60に接続されている。制御ユニット60は、研削装置2の構成要素の動作を制御する制御信号を生成して、研削装置2の稼働を制御する。
例えば制御ユニット60は、コンピュータによって構成され、研削装置2の稼働に必要な演算を行う演算部と、演算部による演算に用いられる各種の情報(データ、プログラム等)を記憶する記憶部62とを含む。演算部は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサを含んで構成される。また、記憶部62は、主記憶装置、補助記憶装置等として機能する各種のメモリを含んで構成される。
研削装置2によって被加工物11を研削する際には、まず、被加工物11がチャックテーブル6によって保持される。具体的には、図2に示すように、チャックテーブル6が備える複数の保持面6aによって、複数の被加工物11が保持される。なお、研削装置2にチャックテーブル14(図3参照)が搭載される場合には、複数の被加工物11がテープ15を介してチャックテーブル14の保持面14aによって保持される。
次に、移動機構20によってチャックテーブル6を移動させ、研削ユニット42の下方に位置付ける。その後、チャックテーブル6によって保持された複数の被加工物11が、研削ユニット42によって同時に研削される。
図4は、複数の被加工物11を研削する研削ユニット42を示す斜視図である。例えばチャックテーブル6は、チャックテーブル6の回転軸(枠体8の上面8aの中心)が研削砥石58の移動経路(回転経路)と重なるように位置付けられる。そして、チャックテーブル6及び研削ホイール54を所定の方向に所定の回転数で回転させた状態で、研削ユニット42を研削送り機構30によって下降させる。
研削ユニット42が下降して研削砥石58の下面側がチャックテーブル6によって保持された複数の被加工物11に接触すると、被加工物11の上面側が研削される。そして、研削ユニット42は、被加工物11が所望の厚さに薄化されるまで、被加工物11の上面側を研削しながら下降する。
ここで、被加工物11の研削量(研削前後における被加工物11の厚さの差)は、研削ユニット42の移動量(下降量)に対応する。そのため、研削ユニット42の移動量を制御することにより、研削後の被加工物11の厚さを調節できる。具体的には、研削砥石58の下面が所定の位置まで下降するように、研削ユニット42の移動量が調節される。
しかしながら、研削砥石58で被加工物11を研削すると、研削砥石58の下面側が被加工物11と接触して消耗し、研削砥石58の下面の位置が変動する。そのため、被加工物11の研削量に応じて研削ユニット42の移動量を設定しても、研削ユニット42の移動量と研削砥石58の下面の移動量とが一致せず、研削砥石58の下面が意図した高さ位置まで下降しないことがある。その結果、被加工物11の研削量に誤差が生じ、被加工物11が所望の厚さまで薄化されていないにも関わらず研削加工が停止してしまうおそれがある。
また、消耗による研削砥石58の高さの減少量(消耗量)は、チャックテーブル6によって保持されている被加工物11の枚数、すなわち、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数によって変動する。具体的には、チャックテーブル6によって保持されている被加工物11の枚数が増加するほど、研削砥石58の消耗量が増加する。そのため、チャックテーブル6によって保持される被加工物11の枚数に依存して、研削後の被加工物11の厚さにばらつきが生じる。
そこで、本実施形態においては、研削ユニット42で被加工物11を研削する際の研削砥石58の消耗率を、被加工物11の枚数ごとに予め記憶しておく。そして、被加工物11を研削する際には、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数に応じて、研削ユニット42の移動量(下降量)を補正する。これにより、研削砥石58の消耗に起因する被加工物11の研削量の不足が抑制されるとともに、同時に研削される被加工物11の枚数の変動に起因する被加工物11の厚さのばらつきが低減される。
研削ユニット42の移動量の補正は、図1に示す制御ユニット60によって制御される。図1には、制御ユニット60の機能的な構成を表すブロックを示している。制御ユニット60は、研削砥石58の消耗率を記憶する消耗率記憶部64と、加工条件を記憶する加工条件記憶部66とを含む。
消耗率記憶部64には、チャックテーブル6によって保持された被加工物11を研削ユニット42で研削する際の研削砥石58の消耗率が記憶される。研削砥石58の消耗率は、被加工物11を所定量研削した際の研削砥石58の消耗量(研削砥石58の高さの減少量)に相当する。例えば、被加工物11が1μm研削される際の研削砥石58の消耗量が、研削砥石58の消耗率として記憶される。
なお、研削砥石58の消耗率は、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数によって異なる。具体的には、チャックテーブル6によって保持される被加工物11の枚数が増加するほど研削砥石58の消耗率が増加する。そこで、消耗率記憶部64には、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数ごとに研削砥石58の消耗率が記憶される。
例えば、チャックテーブル6は1~3の任意の枚数の被加工物11を保持可能であり(図2参照)、研削ユニット42は1~3の任意の枚数の被加工物11を同時に研削する。この場合には、研削ユニット42によって同時進行で研削される被加工物11の枚数が1~3枚である場合それぞれにおける研削砥石58の消耗率が、消耗率記憶部64に記憶される。
なお、消耗率記憶部64に記憶される消耗率の算定方法に制限はない。例えば、予め研削装置2によってテスト用の被加工物を実際に研削し、研削後の研削砥石58の消耗量を測定する。そして、テスト用の被加工物の単位研削量に対する研削砥石58の消耗量が算出され、研削砥石58の消耗率として用いられる。この消耗率の設定は、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数ごとに行われる。そして、被加工物11の枚数ごとに設定された消耗率のセットが、オペレーターによって研削装置2に入力され、消耗率記憶部64に記憶される。
加工条件記憶部66には、研削装置2で被加工物11を加工する際の加工条件が記憶される。例えば、オペレーターは被加工物11の種類に応じて適切に選定された加工条件を、研削装置2に搭載又は接続された入力ユニット(タッチパネル、キーボード等)を操作することによって制御ユニット60に入力する。そして、制御ユニット60に入力された加工条件が、加工条件記憶部66に記憶される。
加工条件には、被加工物11の研削に関する複数の項目が含まれる。例えば、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数(チャックテーブル6によって保持される被加工物11の枚数)、被加工物11の研削量、チャックテーブル6の回転数、研削ユニット42の移動速度(下降速度)、研削ホイール54の回転数等の様々な数値が、加工条件の項目として入力される。
また、制御ユニット60は、研削砥石58の消耗量を算出する算出部68を含む。算出部68は、消耗率記憶部64に記憶された研削砥石58の消耗率と、加工条件記憶部66に記憶された加工条件に含まれる被加工物11の研削量とに基づいて、研削砥石58の消耗量を算出する。
具体的には、まず算出部68は、加工条件記憶部66にアクセスし、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数と被加工物11の研削量とを加工条件記憶部66から読み出す。また、算出部68は、消耗率記憶部64にアクセスし、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数に応じた研削砥石58の消耗率を消耗率記憶部64から読み出す。
次に、算出部68は、被加工物11の研削量と研削砥石58の消耗率とに基づいて、研削ユニット42によって被加工物11が加工される際の研削砥石58の消耗量を算出する。例えば、被加工物11が1μm研削される際の研削砥石58の消耗量が研削砥石58の消耗率として消耗率記憶部64に記憶されており、研削ユニット42によって3枚の被加工物11が同時に研削される場合を考える。このとき算出部68は、加工条件に含まれる被加工物11の研削量と、3枚の被加工物11が同時に研削される場合の研削砥石58の消耗率とを掛け合わせることにより、研削砥石58の消耗量を算出する。
さらに、制御ユニット60は、算出部68によって算出された研削砥石58の消耗量に基づいて、研削ユニット42の移動量(下降量)を補正する補正部70を含む。補正部70は、研削送り機構30のパルスモータ40に入力される信号を制御することにより、ボールねじ38の回転数を補正し、研削ユニット42の移動量を調節する。
例えば補正部70は、まず、加工条件に含まれる被加工物11の研削量に対応する研削ユニット42の移動量の初期値を算出する。この初期値は、研削砥石58の消耗を考慮せずに算出される研削ユニット42の移動量に相当する。続いて補正部70は、研削ユニット42の移動量の初期値に、算出部68によって算出された研削砥石58の消耗量を加算することにより、研削ユニット42の移動量の補正値を算出する。
そして、チャックテーブル6によって保持された被加工物11が研削ユニット42によって研削される際、研削ユニット42が上記の補正値分だけ下降するように、補正部70によってパルスモータ40の回転数が制御される。その結果、研削砥石58の消耗による被加工物11の研削量の不足が、被加工物11の枚数に応じた研削ユニット42の移動量の補正によって補われる。
次に、研削装置2を用いた被加工物の研削方法の具体例について説明する。以下では主に、研削ユニット42で被加工物11を研削する際の制御ユニット60の動作について説明する。図5は、制御ユニット60の動作を示すフローチャートである。
まず、研削ユニット42で被加工物11を研削する際の研削砥石58の消耗率を記憶する消耗率記憶ステップ(ステップS1)を実施する。研削砥石58の消耗率は、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数ごとに記憶される。
例えば、前述の通り、研削ユニット42によって被加工物11が研削される際の研削砥石58の消耗率が、予め実施された実験(テスト用の被加工物の加工)の結果に基づいて被加工物11の枚数ごとに設定される。そして、研削砥石58の消耗率のセットがオペレーターによって制御ユニット60に入力され、制御ユニット60は研削砥石58の消耗率を、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数ごとに消耗率記憶部64に記憶する。
次に、加工条件を記憶する加工条件記憶ステップ(ステップS2)を実施する。例えばオペレーターは、被加工物11の加工条件を制御ユニット60に入力する。なお、前述の通り、加工条件には、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数、被加工物11の研削量等の項目が含まれる。そして、制御ユニット60は、入力された加工条件に含まれる各項目を加工条件記憶部66に記憶する。
次に、研削砥石58の消耗量を算出する消耗量算出ステップ(ステップS3)を実施する。具体的には、前述の通り算出部68は、消耗率記憶部64に記憶された消耗率と、加工条件記憶部66に記憶された被加工物11の研削量とに基づいて、研削砥石58の消耗量を算出する。なお、研削砥石58の消耗量の算出には、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数に応じた消耗率が用いられる。
次に、消耗量算出ステップにおいて算出された研削砥石58の消耗量に基づいて、研削ユニット42の移動量を補正する補正ステップ(ステップS4)を実施する。補正ステップでは、前述の通り研削ユニット42の移動量の初期値に研削砥石58の消耗量が加算されることにより、研削ユニット42の移動量の補正値が算出される。
そして、研削ユニット42による被加工物11の研削が実施される。具体的には、まず、1~3枚の被加工物11を保持するチャックテーブル6が、研削ユニット42の下方に位置付けられる。そして、チャックテーブル6及び研削ホイール54を所定の方向に所定の回転数で回転させた状態で、研削ユニット42を研削送り機構30によって下降させる(研削送り)。
研削ユニット42が下降して研削砥石58が被加工物11に接触すると、被加工物11の上面側が研削される。このとき、チャックテーブル6によって複数の被加工物11が保持されている場合には、複数の被加工物11が研削ユニット42によって同時に研削される(図4参照)。
なお、研削ユニット42の研削送りは、研削送り機構30によって研削ユニット42を上記の補正値分だけ下降させることによって行われる。これにより、被加工物11の加工中に研削砥石58が消耗しても、被加工物11が所望の厚さとなるまで研削ユニット42によって研削される。
上記の通り、本実施形態では、研削砥石58の消耗率と被加工物11の研削量とに基づいて、研削ユニット42の移動量が補正される。これにより、研削砥石58の消耗に起因する被加工物11の研削量の不足が抑制され、被加工物11を所望の厚さまで薄化することが可能となる。
また、本実施形態では、研削砥石58の消耗率が、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数ごとに記憶される。そして、研削砥石58の消耗量の算出と研削ユニット42の移動量の補正とが、被加工物11の枚数に応じて行われる。これにより、研削ユニット42によって同時に研削される被加工物11の枚数に起因する研削後の被加工物11の厚さのばらつきが低減される。
なお、本実施形態で説明した被加工物11の研削は、制御ユニット60によって自動で実施される。具体的には、制御ユニット60の記憶部62には、研削砥石58の消耗を考慮しつつ被加工物11を研削するための一連の動作(図5のステップS1~S4参照)を記述するプログラムが記憶されている。そして、研削装置2によって被加工物11が加工される際には、制御ユニット60は記憶部62から該プログラムを読み出して実行する。これにより、制御ユニット60から研削装置2に含まれる各構成要素に制御信号が逐次入力され、研削装置2が上記の手順に従って被加工物11に研削加工を施す。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
11 被加工物
13 フレーム
13a 開口
15 テープ
2 研削装置
4 基台
4a 開口
6 チャックテーブル
6a 保持面
8 枠体(本体部)
8a 上面
10 凸部
10a 上面
12 保持部材
12a 上面
14 チャックテーブル(保持テーブル)
14a 保持面
16 枠体
16a 上面
16b 凹部
18 保持部材
18a 上面
20 移動機構(移動ユニット)
22 ボールねじ
24 パルスモータ
26 傾き調節機構
26a 固定支持部材
26b 可動支持部材
28 支持構造(コラム)
30 研削送り機構(研削送りユニット)
32 ガイドレール
34 移動プレート
36 ナット部
38 ボールねじ
40 パルスモータ
42 研削ユニット
44 支持部材
46 ハウジング
48 緩衝部材
50 スピンドル
52 マウント
54 研削ホイール
56 基台
58 研削砥石
60 制御ユニット(制御部、制御装置)
62 記憶部
64 消耗率記憶部
66 加工条件記憶部
68 算出部
70 補正部

Claims (2)

  1. 被加工物を研削する研削装置であって、
    複数の該被加工物を保持面で保持可能なチャックテーブルと、
    該チャックテーブルによって保持された複数の該被加工物を研削砥石で研削する研削ユニットと、
    該チャックテーブルと該研削ユニットとを、該保持面と垂直な方向に沿って接近及び離隔させる研削送り機構と、
    制御ユニットと、を備え、
    該制御ユニットは、
    該被加工物を該研削ユニットで研削する際の該研削砥石の消耗率を、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数ごとに記憶する消耗率記憶部と、
    該被加工物の研削量を含む加工条件を記憶する加工条件記憶部と、
    該消耗率記憶部に記憶された該消耗率と、該加工条件記憶部に記憶された該加工条件に含まれる該研削量とに基づいて、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数に応じた該研削砥石の消耗量を算出する算出部と、
    該算出部によって算出された該消耗量に基づいて該研削ユニットの移動量を補正する補正部と、を備えることを特徴とする研削装置。
  2. 被加工物を研削する被加工物の研削方法であって、
    該被加工物を研削砥石で研削する研削ユニットで該被加工物を研削する際の該研削砥石の消耗率を、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数ごとに記憶する消耗率記憶ステップと、
    該被加工物の研削量を含む加工条件を記憶する加工条件記憶ステップと、
    該消耗率と、該加工条件に含まれる該研削量とに基づいて、該研削ユニットによって同時に研削される該被加工物の枚数に応じた該研削砥石の消耗量を算出する消耗量算出ステップと、
    該消耗量に基づいて該研削ユニットの移動量を補正する補正ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の研削方法。
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