JP2022078684A - プラズマ処理装置とその製造方法、及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
プラズマが生成されている処理容器の処理室において基板を処理する、プラズマ処理装置であって、
プラズマ発生用高周波電源と、
前記基板が載置され、バイアス用高周波電源に電気的に接続されている、載置台と、
接地されている前記処理容器のうち、前記処理室に連通する露出面の少なくとも一部を被覆する、金属製の保護部材と、
金属製の第一締結部材を介して前記保護部材の一端が締結され、前記処理容器の一部に接していて接地電位を備える、第一接地電位部材と、
金属製の第二締結部材を介して前記保護部材の他端が締結され、前記処理容器の他の一部に接していて接地電位を備える、第二接地電位部材とを有する。
図1乃至図3を参照して、本開示の実施形態に係るプラズマ処理装置とその製造方法、及びプラズマ処理方法の一例について説明する。ここで、図1は、実施形態に係るプラズマ処理装置の一例を示す縦断面図である。また、図2は、図1のII部の拡大図であって、チャンバーの底板の排気用貫通孔から排気部の上方に亘る範囲を拡大した図であり、図3は、図2のIII-III矢視図である。
20:処理容器
41:底板被覆板(第一接地電位部材)
42:第一内壁被覆板(保護部材)
43:排気管(第二接地電位部材)
44:排気網(第二接地電位部材)
46:第二内壁被覆板(第二接地電位部材)
47:締結ネジ(第一締結部材)
48:締結ネジ(第二締結部材)
56:高周波電源(プラズマ発生用高周波電源)
70:載置台
83:高周波電源(バイアス用高周波電源)
100:プラズマ処理装置
S:処理室
G:基板
Claims (15)
- プラズマが生成されている処理容器の処理室において基板を処理する、プラズマ処理装置であって、
プラズマ発生用高周波電源と、
前記基板が載置され、バイアス用高周波電源に電気的に接続されている、載置台と、
接地されている前記処理容器のうち、前記処理室に連通する露出面の少なくとも一部を被覆する、金属製の保護部材と、
金属製の第一締結部材を介して前記保護部材の一端が締結され、前記処理容器の一部に接していて接地電位を備える、第一接地電位部材と、
金属製の第二締結部材を介して前記保護部材の他端が締結され、前記処理容器の他の一部に接していて接地電位を備える、第二接地電位部材とを有する、プラズマ処理装置。 - 前記第一締結部材と前記第二締結部材の数が同数である、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第一締結部材と前記第二締結部材がいずれも締結ネジである、請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記保護部材は接地電位を備えており、前記バイアス用高周波電源により前記載置台に対してバイアス用高周波電圧が印加された際に、前記保護部材と前記第一接地電位部材と前記第二接地電位部材が、前記載置台に対する対向電極の一部を形成する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記露出面は、前記処理容器を構成する底板に設けられている排気用貫通孔の内壁面であり、
前記保護部材は、前記排気用貫通孔の前記内壁面を被覆する、無端状の第一内壁被覆板である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第一接地電位部材は、前記底板の上面を被覆する底板被覆板であり、
前記第二接地電位部材は、前記排気用貫通孔の下方に設けられている金属製の排気管を少なくとも含んでいる、請求項5に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第二接地電位部材は、前記排気管の上端開口を被覆する金属製の排気網をさらに含んでいる、請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第二接地電位部材は、前記排気管の内壁面を被覆する、無端状の第二内壁被覆板をさらに含んでいる、請求項7に記載のプラズマ処理装置。
- 前記保護部材の他端は、水平孔と縦孔とを備えた金属製の連結部材を介して、前記第二締結部材により前記第二接地電位部材に締結されている、請求項8に記載のプラズマ処理装置。
- 前記排気網は枠部を有し、前記枠部は枠部貫通孔を備えており、
前記排気網の上面には、前記連結部材が載置され、
前記第二内壁被覆板の一部には、被覆板貫通孔が設けられており、
前記水平孔に挿通されている第三締結部材により、前記連結部材と前記第一内壁被覆板とが締結され、
前記縦孔と前記枠部貫通孔と前記被覆板貫通孔に対して前記第二締結部材が挿通され、前記第二締結部材の先端が前記排気管に固定されることにより、前記連結部材と前記排気網と前記第二内壁被覆板が前記排気管に締結されており、
前記第三締結部材が、前記第一締結部材と前記第二締結部材の数と同数である、請求項9に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第三締結部材が締結ネジである、請求項10に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマが生成されている処理容器の処理室において基板を処理する、プラズマ処理装置の製造方法であって、
前記処理容器を接地し、前記処理容器に対して、プラズマ発生用高周波電源と、前記基板が載置される載置台とを取り付け、前記処理容器のうち、前記処理室に連通する露出面の少なくとも一部を金属製の保護部材により被覆する工程と、
前記載置台をバイアス用高周波電源に対して電気的に接続する工程と、を有し、
前記保護部材により被覆する工程では、
前記処理容器の一部に接していて接地電位を備える第一接地電位部材に対して、前記保護部材の一端を金属製の第一締結部材を介して締結し、
前記処理容器の他の一部に接していて接地電位を備える第二接地電位部材に対して、前記保護部材の他端を金属製の第二締結部材を介して締結する、プラズマ処理装置の製造方法。 - 前記第一締結部材と前記第二締結部材の数が同数である、請求項12に記載のプラズマ処理装置の製造方法。
- 前記第一締結部材と前記第二締結部材がいずれも締結ネジである、請求項12又は13に記載のプラズマ処理装置の製造方法。
- プラズマが生成されている処理容器の処理室において基板を処理する、プラズマ処理方法であって、
前記処理容器を接地し、
前記処理容器は、
前記基板が載置されてバイアス用高周波電源に電気的に接続されている、載置台と、
前記処理室に連通する露出面の少なくとも一部を被覆し、接地電位を備えている、金属製の保護部材と、
金属製の第一締結部材を介して前記保護部材の一端が締結され、前記処理容器の一部に接していて接地電位を備える、第一接地電位部材と、
金属製の第二締結部材を介して前記保護部材の他端が締結され、前記処理容器の他の一部に接していて接地電位を備える、第二接地電位部材と、を有し、
前記載置台に前記基板を載置し、前記処理室に前記プラズマを生成する工程と、
前記載置台にバイアス用高周波電圧を印加し、前記保護部材を前記載置台に対する対向電極の一部とする工程と、
前記基板をプラズマ処理する工程とを有する、プラズマ処理方法。
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