JP7362400B2 - 載置台及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、一実施形態に係るプラズマ処理装置1を概略的に示す図である。図1に示すプラズマ処理装置1は、容量結合型の装置である。プラズマ処理装置1は、チャンバ10を有する。チャンバ10は、その中に内部空間10sを提供している。
以下、一実施形態に係る載置台14について詳細に説明する。以下の説明では、図1と共に図2及び図3を参照する。図2は、一実施形態に係る載置台14の構造の一例を示す図である。図3は、一実施形態に係る載置台14の各電極と電源との接続の一例を示す図である。
図2に示すように、載置台14は、バイアス電極21とバイアス電極21の下方に配置されるバイアス電力を印加する給電ライン102とを電気的に接続するコンタクトピン100を有する。コンタクトピン100は、テーパー形状を有し、バイアス電極21と接続する上面100aの面積が給電ライン102と接続する下面100bの面積より広くなっている。コンタクトピン100は、導電性材料から形成されている。コンタクトピン100は、例えば導電性セラミックスから形成されてもよい。給電ライン102は先端部に金属端子103を含み、コンタクトピン100は、バイアス電極21と、銅(Cu)、チタン(Ti)等の金属材料からなる金属端子103とを接続させる。これにより、給電ライン102は載置台14の内部に設けられ、載置台14の下面(下部電極18の下面182)に給電ライン102(金属端子103)を露出させることができる。これにより、第2の高周波電源62からの高周波LFの電力を、給電ライン102(金属端子103)及びコンタクトピン100を介してバイアス電極21に印加する。
次に、静電チャック20に埋め込まれた各電極について、図6を参照して説明する。図6(a)は、図2に示す静電チャック20のA-A断面を示す図である。図6(b)は、図2に示す静電チャック20のB-B断面を示す図である。図6(c)は、図2に示す静電チャック20のC-C断面を示す図である。
Claims (12)
- 載置面と、
前記載置面の下方に配置されるバイアス電力を印加する電極と、
前記電極の下方に配置されるバイアス電力を印加する給電ラインと、
上面及び下面を有し、前記電極と前記給電ラインを電気的に接続する給電端子であって、前記電極と接続する前記上面の面積が前記給電ラインと接続する前記下面の面積より広い前記給電端子と、を備え、
前記下面の面積が前記下面と接続する前記給電ラインの上面の面積以上である、
載置台。 - 前記載置面は、基板を載置する第1載置面と前記基板の周囲に配置されるエッジリングを載置する第2載置面とを有し、
前記電極は、
前記第1載置面の下方に配置される第1の電極と、
前記第2載置面の下方に配置される第2の電極と、を有する、
請求項1に記載の載置台。 - 前記第2の電極に接続される前記給電端子は前記エッジリングの周方向に均等な間隔で配置される、
請求項2に記載の載置台。 - 前記載置面と前記電極との間には静電吸着用の電極が配置され、
前記基板と前記エッジリングの少なくとも一方は静電吸着される、
請求項2又は3に記載の載置台。 - 前記電極と前記静電吸着用の電極は同一の誘電体内部に配置される、
請求項4に記載の載置台。 - 前記給電端子と前記給電ラインとの間には電極板が配置される、
請求項1~5のいずれか一項に記載の載置台。 - チャンバと、前記チャンバ内にて基板を載置する載置台とを有するプラズマ処理装置であって、
前記載置台は、
載置面と、
前記載置面の下方に配置されるバイアス電力を印加する電極と、
前記電極の下方に配置されるバイアス電力を印加する給電ラインと、
上面及び下面を有し、前記電極と前記給電ラインを電気的に接続する給電端子であって、前記電極と接続する前記上面の面積が前記給電ラインと接続する前記下面の面積より広い前記給電端子と、を備え、
前記下面の面積が前記下面と接続する前記給電ラインの上面の面積以上である、
プラズマ処理装置。 - 前記載置面は、基板を載置する第1載置面と前記基板の周囲に配置されるエッジリングを載置する第2載置面とを有し、
前記電極は、
前記第1載置面の下方に配置される第1の電極と、
前記第2載置面の下方に配置される第2の電極と、を有する、
請求項7に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第2の電極に接続される前記給電端子は前記エッジリングの周方向に均等な間隔で配置される、
請求項8に記載のプラズマ処理装置。 - 前記載置面と前記電極との間には静電吸着用の電極が配置され、
前記基板と前記エッジリングの少なくとも一方は静電吸着される、
請求項8又は9に記載のプラズマ処理装置。 - 前記電極と前記静電吸着用の電極は同一の誘電体内部に配置される、
請求項10に記載のプラズマ処理装置。 - 前記給電端子と前記給電ラインとの間には電極板が配置される、
請求項7~11のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
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