JP2022070609A - 排ガス処理設備排水の処理装置 - Google Patents
排ガス処理設備排水の処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022070609A JP2022070609A JP2020179764A JP2020179764A JP2022070609A JP 2022070609 A JP2022070609 A JP 2022070609A JP 2020179764 A JP2020179764 A JP 2020179764A JP 2020179764 A JP2020179764 A JP 2020179764A JP 2022070609 A JP2022070609 A JP 2022070609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- wastewater
- exhaust gas
- gas treatment
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 title claims abstract description 39
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 18
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 claims description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 15
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 13
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 31
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 7
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- -1 CF 4 Chemical class 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical group 0.000 description 1
- 239000008234 soft water Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/58—Multistep processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/50—Treatment of water, waste water, or sewage by addition or application of a germicide or by oligodynamic treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/10—Packings; Fillings; Grids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Abstract
【課題】排ガス処理設備排水の処理水のＴＯＣ成分及びフッ素を十分に除去することができる排ガス処理設備排水の処理装置を提供する。【解決手段】排ガス処理設備の水スクラバー排水は、ｐＨ調整槽１２、熱交換器１４、ＵＦ装置１５、中継槽１６、ＭＦ装置１８、ＲＯ装置２０、生物処理手段２３に通水された後、熱交換器２７を通って降温し、ＭＦ装置２８を経て回収水となり、排ガス処理設備に返送される。ＲＯ給水にスライム抑制剤が添加される。【選択図】図１
Description
本発明は、ＰＦＣｓ等を含んだガスを除害燃焼等により処理するための排ガス処理設備（除害装置）からの排水を処理する装置に関する。
なお、ＰＦＣｓ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）とは、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、ＳＦ６、ＷＦ６などのペルフルオロ化合物のことであるが、本明細書ではこれらペルフルオロ化合物のほか、ＣＨ２Ｆ２、Ｃｌ２、ＢＣｌ３、Ｆ２、ＨＦ、ＳｉＨ４、ＮＨ３、ＰＨ３、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）、ＴＲＩＳ（トリエトキシシラン）、ＴｉＣｌ４など、デポジション、エッチング、クリーニングの各工程で用いられる、すべての有害、可燃、地球温暖化ガスを表わす。
半導体、液晶、ＬＥＤ、太陽電池等の製造プロセスでは、ペルフルオロ化合物などの上記ＰＦＣｓが多量に使用されている。ペルフルオロ化合物ガスを用いる工場では、これを無害化する除害装置と称される排ガス処理設備を設置している（特許文献１）。除害装置では、燃焼、電気加熱、プラズマなどを用いて、ペルフルオロ化合物を燃焼（酸化）又は熱分解反応により、フッ素（Ｆ２）を脱離させた後、当該装置に組み込まれた水スクラバーで排ガスを洗浄し、ガス中のＦ２を吸収除去する。なお、この燃焼又は熱分解によって、シリカ微粒子も発生する。
スクラバー排水（除害排水）は、ＨＦのほかに、ペルフルオロ化合物分子の有機骨格に由来する有機性炭化水素化合物（ＴＯＣ成分）を含有する。そこで、スクラバー排水は、生物処理装置などの有機物分解手段に導かれて処理される。
除害排水の処理に、生物処理装置などの有機物除去装置を設置するのは、除害装置での省エネルギーを考慮し、低温分解で有害性、可燃性、地球温暖化効果に起因するＣ－Ｆ結合などを切り離すことなどを目的としており、炭化水素骨格の完全燃焼を行っていないため、スクラバー排水に有機性炭化水素化合物（ＴＯＣ）が含まれるためである。近年、除害装置の運転コスト低減の目的で燃焼温度を低く設定することが多い。その結果、除害排水のＴＯＣが分解しきれず高濃度になる傾向にある。
一般的に除害装置用の水スクラバー用水の水質は水道水レベルであるため、除害排水の処理水のＴＯＣ管理は緩いものとなっている。そのため、除害排水を処理した回収水を除害装置の水スクラバー用水とする循環方式が一般的である。
図２は従来の除害排水処理装置の一例を示すフロー図である。除害装置の水スクラバーからの除害排水は、配管１を介してｐＨ調整槽２に導入され、ｐＨ調整剤が添加されて中性ｐＨに調整される。
ｐＨ調整槽２からの水は、生物処理槽３に導入され、生物処理されて有機物が分解処理される。生物処理槽としては好気性生物処理槽が用いられることが多い。
生物処理槽３からの水は、殺菌剤として次亜塩素酸ナトリウムが添加された後、ＵＦ膜などの濾過装置４に通水され、ＳＳ（懸濁物質）及び菌体が分離される。濾過された水は、中継槽５を経た後、亜硫酸ナトリウムが添加されて残留する次亜塩素酸ナトリウムと反応させ、次いで熱交換器６に通されて冷却される。熱交換器６へは低温流体として工業用水が配管６ａから通水される。この工業用水は、熱交換器６で昇温した後、配管６ｂを介して純水製造装置（図示略）へ送水される。
熱交換器６で冷却されて降温した水は、配管７を介して保安フィルタとしてのＭＦ膜装置８に供給され、膜濾過された後、配管９を介してＲＯ（逆浸透）装置１０に供給される。ＲＯ膜を透過した透過水は、設備用水槽１０aを経て除害装置の水スクラバーに供給される。設備用水槽１０aには工業用水をＲＯ処理した水が補給水として導入される。ＲＯ装置１０の濃縮水は、配管１０ｂを介してフッ素含有排水処理システムの受水槽（図示略）に送水される。
特許文献２の図４，５には、フッ素含有排水を処理する方法として、生物処理工程及びＲＯ処理工程を有する方法が記載されている。
除害排水は、場合によっては１００～５００μｇ／Ｌのフッ素を含有する場合がある。この場合、高濃度フッ素の影響により生物処理の活性が著しく阻害され、生物処理水のＴＯＣが悪化してしまう。
除害排水に含有される有機物は、メタノールなど分子量が低い有機物を主とする。メタノール等の低分子量有機物は、ＲＯ膜で殆ど除去されない。その為、除害排水中の低分子量有機物は、生物処理で分解または改質して、ＲＯで除去可能としておくことが望ましい。
一方、ＲＯではフッ素が効率的に除去される。その為、ＲＯの後段側でスライムが生じやすい。スライムが発生し易い処理水を除害装置のスクラバーに送水した場合、スライムトラブルが生じ易くなる。
また、生物処理の活性が低下する原因として、排水温度の上昇（４０℃以上に到達する場合もある。）も考えられる。
本発明は、排ガス処理設備排水のＴＯＣ成分及びフッ素を十分に除去することができる排ガス処理設備排水の処理装置を提供することを目的とする。
本発明の排ガス処理設備排水の処理装置は、フッ素及び有機物を含む排ガス処理設備排水を処理して排ガス処理設備用水として回収する排ガス処理設備排水の処理装置において、該排ガス処理設備排水を濾過処理する濾過手段と、該濾過手段の濾過処理水をＲＯ処理するＲＯ装置と、該ＲＯ装置の透過水を生物処理する生物処理手段とを備える。
本発明の一態様では、前記生物処理手段は生物活性炭塔である。
本発明の一態様では、前記ＲＯ装置の給水にスライム抑制剤を添加するスライム抑制剤添加手段を有する。
本発明の一態様では、前記生物処理手段からの生物処理水を冷却する熱交換器を有する。
本発明の一態様では、前記濾過手段はＵＦ装置を有する。
本発明の排ガス処理設備排水の処理装置では、排ガス処理設備排水のフッ素濃度が高くても、前段のＲＯ装置でフッ素を除去することにより、後段の生物処理手段の生物処理活性が維持され、排水中の有機物が効率的に分解される。
以下、図１を参照して実施の形態について説明する。
ＰＦＣｓ等を含んだガスを除害燃焼又は熱分解等により処理する排ガス処理設備（除害装置）の水スクラバーからの排水（除害排水）は、配管１１で次亜塩素酸ナトリウムが添加された後、ｐＨ調整槽１２に導入され、ｐＨ調整剤が添加されてｐＨ５～８特に６～７に調整される。ｐＨ調整剤としては、ＮａＯＨなどが用いられる。
ｐＨ調整槽１２からの水は、水槽１３を経て第１熱交換器１４に通されて冷却される。第１熱交換器１４へは低温流体として工業用水が配管１４ａから通水される。この工業用水は、第１熱交換器１４で昇温した後、配管１４ｂを介して純水製造装置（図示略）へ送水され、純水製造用原水として利用される。
第１熱交換器１４で冷却されて降温した水は、濾過手段としてのＵＦ装置１５でＳＳが除去された後、中継槽１６に導入される。濾過手段として設置したＵＦ装置１５はコロイダル物質も除去できる。
中継槽１６内の水は、配管１７で亜硫酸ナトリウムが添加され残留ＮａＣｌＯとの反応が行われ、次いで、スライム抑制剤が添加された後、保安フィルタとしてのＭＦ装置１８に供給される。ＭＦ装置１８で膜濾過された濾過水は、ＲＯ装置２０に供給される。なお、ＲＯ給水にスケール分散剤が添加されてもよい。ＲＯ装置２０の濃縮水は、配管２１を介してフッ素含有排水処理システムの受水槽（図示略）に送水される。
ＲＯ装置２０の透過水は、水槽２２を経て生物処理手段２３に導入され、生物処理されて有機物が分解処理される。生物処理手段２３としては生物活性炭塔が好適である。
生物処理手段２３からの生物処理水は、配管２４で次亜塩素酸ナトリウムが添加された後、濾過装置２５に通水され、ＳＳ（懸濁物質）や菌体が分離される。濾過装置２５としては、二層濾過、ＭＦ装置などが用いられる。
濾過装置２５で濾過された水は、設備用水槽２６を介して第２熱交換器２７に送水されて冷却される。第２熱交換器２７の低温流体として、冷凍機からの冷水が通水される。
第２熱交換器２７で降温した水は、ＭＦ装置２８で濾過処理された後、排ガス処理設備（除害装置）に回収水として返送され、水スクラバーで使用される。なお、設備用水槽２６には、ＲＯ装置２０で濃縮水が排水処理設備に排出される分だけ補給水が補給される。一般的に除害装置に補給される要求水質は水道水レベルとされるが、設備用水槽２６への補給水を水道水とした場合、ＲＯ装置２０はＣａＦ２スケールにより閉塞するリスクが高まる。これは、補給水由来のカルシウムが、除害装置で処理されたＰＦＣｓ系ガスから発生し除害装置循環系内で濃縮されたフッ素と混合され、除害排水として当該回収設備の原水となり、ＲＯ装置２０の膜面で濃縮され、ＣａＦ２としてスケールが析出する為である。これを防止する為、補給水は軟水または工業用水のＲＯ処理水とすることが好ましい。この工業用水のＲＯ処理に供されるＲＯ膜としては高除去率ＲＯが望ましいが、これに限定されるものではない。
この実施の形態においては、上記のように、生物処理手段２３の前段に濾過手段（ＵＦ装置１５）及びＲＯ装置２０を設置し、あらかじめＳＳやコロイダルシリカ、フッ素等を除去する。これにより、排ガス処理設備排水のフッ素濃度が高くても、前段のＲＯでフッ素を除去することにより生物処理の活性が維持され、排水中の有機物が効率的に分解される。
なお、前述の通り、除害排水中の有機物は低分子の有機物が多い為、これを処理しないで除害装置へ回収水として返送すると、同じＴＯＣ値であっても除害装置系内がスライム化するリスクが高い。ＲＯ装置での除去率が極めて低い低分子量の有機物は、逆に生物処理され易い有機物であるので、低分子量の有機物がＲＯ透過水に含まれていても、生物処理手段２３で効率よく生物処理される。
生物処理手段２３から流出した菌体は濾過器２５で除去される。菌体の一部が濾過器２５からリークしたとしても、この菌体は系内のスライム化を促進させる能力はほとんどない。また、リークした菌体は、除害設備を経由して除害排水がＵＦ装置１５で処理される際に確実に除去される為、菌体が除害装置循環系内にとどまり、系内がそれで閉塞するリスクは少なく、安定して排水を回収することが可能である。
本実施の形態の排ガス処理設備排水の処理装置の回収水中に有機物が一部残存する場合でも、生物処理手段２３での生物処理によって改質されている為、スライム発生は低分子量の有機物のままの状態と比較して抑制される。
なお、除害排水にはアンモニアも含有される場合が多く、濃度によっては生物処理での硝化が促進し、ＤＯ不足で有機物の処理性能が低下する問題が生じることが考えられるが、この排ガス処理設備排水の処理装置では、フッ素と同様に、硝化生成物がＲＯ装置２０で除去される為、そのような問題は生じない。
この実施の形態においては、第1熱交換器１４にて純水装置原水系へ排熱回収することで、除害排水冷却に要する冷水ばかりでなく、純水原水加熱に要する蒸気または温水も低減することが可能となる。
上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記以外の構成とされてもよい。例えば、生物の活性化維持の為、生物処理手段２３への給水の温度が３５℃以下になるように冷却器で調整するようにしてもよい。また、第１熱交換器１４は、除害排水とその他の排水との水・熱バランスによって最適設置位置が異なり、スライム抑制剤注入点とＭＦ装置１８の間や水槽２２と生物処理槽２３との間に設置される場合もある。
２，１２ ｐＨ調整槽
３ 生物処理槽
６，１４，２７ 熱交換器
８，１８，２８ ＭＦ装置
１０，２０ ＲＯ装置
２３ 生物処理手段
３ 生物処理槽
６，１４，２７ 熱交換器
８，１８，２８ ＭＦ装置
１０，２０ ＲＯ装置
２３ 生物処理手段
Claims (5)
- フッ素及び有機物を含む排ガス処理設備排水を処理して排ガス処理設備用水として回収する排ガス処理設備排水の処理装置において、
該排ガス処理設備排水を濾過処理する濾過手段と、
該濾過手段の濾過処理水をＲＯ処理するＲＯ装置と、
該ＲＯ装置の透過水を生物処理する生物処理手段と
を備えたことを特徴とする排ガス処理設備排水の処理装置。 - 前記生物処理手段は生物活性炭塔である請求項１の排ガス処理設備排水の処理装置。
- 前記ＲＯ装置の給水にスライム抑制剤を添加するスライム抑制剤添加手段を有する請求項１又は２の排ガス処理設備排水の処理装置。
- 前記生物処理手段からの生物処理水を冷却する熱交換器を有する請求項１～３のいずれかの排ガス処理設備排水の処理装置。
- 前記濾過手段はＵＦ装置を有する請求項１～４のいずれかの排ガス処理設備排水の処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020179764A JP2022070609A (ja) | 2020-10-27 | 2020-10-27 | 排ガス処理設備排水の処理装置 |
| PCT/JP2021/039083 WO2022091968A1 (ja) | 2020-10-27 | 2021-10-22 | 排ガス処理設備排水の処理装置 |
| TW110139486A TW202216613A (zh) | 2020-10-27 | 2021-10-25 | 排氣處理設備排水的處理裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020179764A JP2022070609A (ja) | 2020-10-27 | 2020-10-27 | 排ガス処理設備排水の処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022070609A true JP2022070609A (ja) | 2022-05-13 |
Family
ID=81383876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020179764A Pending JP2022070609A (ja) | 2020-10-27 | 2020-10-27 | 排ガス処理設備排水の処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2022070609A (ja) |
| TW (1) | TW202216613A (ja) |
| WO (1) | WO2022091968A1 (ja) |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0369708A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-26 | Ataka Kogyo Kk | 消雪装置 |
| JPH0487798U (ja) * | 1990-12-17 | 1992-07-30 | ||
| JPH0588697U (ja) * | 1992-05-07 | 1993-12-03 | 三菱重工業株式会社 | 液槽からの液の排出装置 |
| JPH10323664A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-08 | Hitachi Zosen Corp | 排水回収処理装置 |
| JP2000189760A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003103260A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | フッ化物含有排水の処理方法 |
| JP2007083152A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Kurita Water Ind Ltd | 高ｔｏｃ含有ｃｍｐ排水からの水回収方法及び水回収装置 |
| JP2010089071A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-04-22 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 排水処理方法及び排水処理設備 |
| JP2010099545A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | 有機排水の処理方法及び処理装置 |
| CN108249707A (zh) * | 2018-02-14 | 2018-07-06 | 南京大学 | 一种含氟含硝态氮工业废水的处理系统和处理方法 |
| JP2020148373A (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 栗田工業株式会社 | ＰＦＣｓ含有排ガスの処理装置及び方法 |
| JP2020157273A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 栗田工業株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
-
2020
- 2020-10-27 JP JP2020179764A patent/JP2022070609A/ja active Pending
-
2021
- 2021-10-22 WO PCT/JP2021/039083 patent/WO2022091968A1/ja active Application Filing
- 2021-10-25 TW TW110139486A patent/TW202216613A/zh unknown
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0369708A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-26 | Ataka Kogyo Kk | 消雪装置 |
| JPH0487798U (ja) * | 1990-12-17 | 1992-07-30 | ||
| JPH0588697U (ja) * | 1992-05-07 | 1993-12-03 | 三菱重工業株式会社 | 液槽からの液の排出装置 |
| JPH10323664A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-08 | Hitachi Zosen Corp | 排水回収処理装置 |
| JP2000189760A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003103260A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | フッ化物含有排水の処理方法 |
| JP2007083152A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Kurita Water Ind Ltd | 高ｔｏｃ含有ｃｍｐ排水からの水回収方法及び水回収装置 |
| JP2010089071A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-04-22 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 排水処理方法及び排水処理設備 |
| JP2010099545A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | 有機排水の処理方法及び処理装置 |
| CN108249707A (zh) * | 2018-02-14 | 2018-07-06 | 南京大学 | 一种含氟含硝态氮工业废水的处理系统和处理方法 |
| JP2020148373A (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 栗田工業株式会社 | ＰＦＣｓ含有排ガスの処理装置及び方法 |
| JP2020157273A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 栗田工業株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202216613A (zh) | 2022-05-01 |
| WO2022091968A1 (ja) | 2022-05-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7972582B2 (en) | Method and apparatus for treating exhaust gas | |
| CA2903412C (en) | Co2 recovery system and co2 recovery method | |
| KR100847916B1 (ko) | 반도체 제조 시의 배출 가스를 산화 처리하기 위한 배기가스 스트림 처리 장치 및 방법 | |
| CN103768907B (zh) | 一种黄磷尾气氧化碱洗深度净化的方法 | |
| JP5025096B2 (ja) | アンモニア含有廃水の処理方法 | |
| JP6386338B2 (ja) | アンモニア含有排水の処理装置および処理方法 | |
| CA2865103C (en) | Method and system for separating and destroying sour and acid gas | |
| JP2006312121A (ja) | 過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置 | |
| WO2022091968A1 (ja) | 排ガス処理設備排水の処理装置 | |
| JP2020148373A (ja) | ＰＦＣｓ含有排ガスの処理装置及び方法 | |
| JP2006021956A (ja) | 炭化物の脱塩設備および脱塩方法 | |
| CN112680256A (zh) | 一种高炉煤气湿法脱氯脱硫的装置和方法 | |
| JP2022070608A (ja) | 排ガス処理設備排水の処理装置 | |
| JP2001145819A (ja) | 排ガス処理方法および処理装置 | |
| JP3667597B2 (ja) | 半導体製造工程から排出されるアンモニア含有排水の処理方法 | |
| JP2016078014A (ja) | アンモニア含有排水の処理方法および処理装置 | |
| KR100787811B1 (ko) | 소각배가스 급속냉각형 물유동층 열회수장치 | |
| CN221085117U (zh) | 一种电子级一氧化二氮的提纯系统 | |
| JP5512922B2 (ja) | ガス精製システムおよびそのシステムにおける洗浄排水処理方法 | |
| JP2005142377A (ja) | クリーニングガスのリサイクルシステム | |
| TWI812238B (zh) | 氫及氨製造系統 | |
| JP3794113B2 (ja) | Ｔｏｃ成分及び溶存酸素の除去方法 | |
| JP2006122863A (ja) | 排ガスの処理方法および処理装置 | |
| JP5716916B2 (ja) | フッ素含有廃棄物の処理方法およびフッ素含有廃棄物の処理装置 | |
| Tsujiuchi et al. | CO 2 recovery system and CO 2 recovery method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211022 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211214 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220208 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220621 |