JP2022038365A - 原料気化システム、及び、これに用いられる濃度制御モジュール - Google Patents
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Abstract
Description
特に本発明では、遅れフィルタを用いて圧力目標値に対して所定の時間遅れを与えて圧力制御値を生成し、当該圧力制御値とタンク内の圧力との偏差を用いてバルブをフィードバック制御しているので、圧力目標値を変更した際のオーバーシュートなどの不要な圧力変動を低減することができる。これによっても、原料気化システムの濃度制御の応答性を向上することができる。
また、キャリアガスの流量の変化やタンクの容積の変化により、タンク内のガス置換時間が変わった場合においても、バルブ制御部における制御パラメータ(例えばPID係数)を変更することなく、遅れフィルタの変更のみで適切な制御を行うことができる。
本実施形態の原料気化システム100は、例えば半導体製造プロセスに用いられるものであって、例えばウエハ洗浄装置の乾燥処理チャンバにイソプロピルアルコール(IPA)等の原料ガスを所定の濃度で供給するものである。その他、原料気化システムは、例えばCVD成膜装置やMOCVD成膜装置などの半導体処理装置の処理チャンバに原料ガスを所定の濃度で供給するものであってもよい。
次に、本実施形態の濃度制御モジュール6について説明する。
このように構成した本実施形態の原料気化システム100によれば、原料ガスの濃度目標値(CSET)及び濃度測定部の濃度測定値(COUT)を用いてタンク2内の圧力目標値(PSET)を算出し、当該圧力目標値(PSET)に基づいてバルブ62を制御することにより濃度制御しているので、その応答性を向上することができる。
また、キャリアガスの流量の変化やタンク2の容積の変化により、タンク2内のガス置換時間が変わった場合においても、バルブ制御部63cにおける制御パラメータ(例えばPID係数)を変更することなく、遅れフィルタ63bの変更のみで適切な制御を行うことができる。
例えば、前記実施形態の遅れフィルタは一次遅れ演算するものであったが圧力目標値を一定の割合で連続的に変化させて圧力制御値を生成するものであってもよい。
2 ・・・タンク
4 ・・・導出管
6 ・・・濃度制御モジュール
61 ・・・濃度測定部
62 ・・・バルブ
63a・・・圧力目標値算出部
63b・・・遅れフィルタ
63c・・・バルブ制御部
63d・・・第2のバルブ制御部
Claims (9)
- タンク内に収容された液体又は固体の原料にキャリアガスを導入して気化し、それによって生じた原料ガスを供給する原料気化システムに用いられる濃度制御モジュールであって、
前記原料ガスの濃度を測定する濃度測定部と、
前記原料ガスを前記タンクから導出する導出管に設けられたバルブと、
前記原料ガスの濃度目標値及び前記濃度測定部の濃度測定値を用いて前記タンク内の圧力目標値を算出する圧力目標値算出部と、
前記圧力目標値算出部により得られた圧力目標値に対して所定の時間遅れを与えて圧力制御値を生成する遅れフィルタと、
前記遅れフィルタにより得られた圧力制御値と前記タンク内の圧力との偏差を用いて前記バルブをフィードバック制御するバルブ制御部とを備える、濃度制御モジュール。 - 前記遅れフィルタは、前記圧力目標値に対して一次遅れ演算を行って前記圧力制御値を生成する、請求項1記載の濃度制御モジュール。
- 前記遅れフィルタは、前記圧力目標値を一定の割合で連続的に変化させて前記圧力制御値を生成する、請求項1に記載の濃度制御モジュール。
- 前記圧力目標値算出部は、前記濃度目標値及び前記濃度測定値を所定の演算式に入力することにより、前記圧力目標値を算出する、請求項1乃至3の何れか一項に記載の濃度制御モジュール。
- 前記圧力目標値算出部は、前記タンク内の圧力に対して、前記濃度目標値と前記濃度測定値との比を掛け合わせることにより、前記圧力目標値を算出する、請求項1乃至4の何れか一項に記載の濃度制御モジュール。
- 外部から入力される前記タンク内の圧力目標値と前記タンク内の圧力との偏差を用いて前記バルブをフィードバック制御する第2のバルブ制御部を更に備え、
前記圧力目標値算出部、前記遅れフィルタ及び前記バルブ制御部により行われる濃度制御モードと、前記第2のバルブ制御部により行われる圧力制御モードとが切替可能に構成されている、請求項1乃至5の何れか一項に記載の濃度制御モジュール。 - 前記バルブ制御部の制御パラメータは、前記第2のバルブ制御部の制御パラメータと同じである、請求項6に記載の濃度制御モジュール。
- 前記制御パラメータは、PID係数である、請求項7に記載の濃度制御モジュール。
- タンク内に収容された液体又は固体の原料をキャリアガスを導入して気化し、それによって生じた原料ガスを供給する原料気化システムであって、
請求項1乃至8の何れか一項に記載の濃度制御モジュールを用いて前記原料ガスの濃度が制御される、原料気化システム。
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