JP2022030784A - 時計用部品および時計 - Google Patents

Abstract

【課題】傷や打痕等の凹みを付きにくくすることができ、かつ、筋目等の加飾領域が見えにくくなってしまうことを抑制できる時計用部品を提供する。【解決手段】時計用部品は、ビッカース硬度が、３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満の金属材料で構成され、表面の少なくとも一部に加飾領域を有する基材１００と、加飾領域を含む基材の表面の少なくとも一部に設けられる表面処理層１１０と、を備え、表面処理層１１０の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満である。【選択図】図２

Description

本発明は、時計用部品および時計に関する。

特許文献１には、外装部品の一部、または、全部を黒色部材にて構成した時計が開示されている。
特許文献１では、外装部品を構成する黒色部材を、基材と当該基材上に積層された黒色層とを含んで構成している。そして、黒色層を、窒化チタンアルミニウム、窒化チタンシリコン、または窒化チタンアルミニウムシリコンにて構成することで、高級感のある黒色と、高い生産性および再現性とが両立できるようにしている。

特開２０１９－３５１３３号公報

しかしながら、特許文献１では、黒色層の厚さ０．６μｍ以上であるため、例えば、外装部品の表面に筋目加工を施した際に、筋目が見えにくくなってしまうことから、意匠性が低下してしまうといった問題がある。また、筋目を見えやすくするために、黒色層の厚さを小さくすることが考えられるが、そうすると、耐傷性が低下してしまうので、傷つきやすくなってしまうといった問題がある。

本開示の時計用部品は、ビッカース硬度が、３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満の金属材料で構成され、表面の少なくとも一部に加飾領域を有する基材と、前記加飾領域を含む前記基材の表面の少なくとも一部に設けられる表面処理層と、を備え、前記表面処理層の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満である。

本開示の時計は、上記時計用部品を備える。

第１実施形態の時計を示す正面図。 第１実施形態のケースの要部を示す断面図。 変形例のケースの要部を示す断面図。

［第１実施形態］
以下、本開示の第１実施形態の時計１を図面に基づいて説明する。
図１は、時計１を示す正面図である。本実施形態では、時計１は、ユーザーの手首に装着される腕時計として構成される。
図１に示すように、時計１は、金属製のケース１０を備える。そして、ケース１０の内部には、円板状の文字板２と、秒針３、分針４、時針５と、りゅうず６と、Ａボタン７と、Ｂボタン８とを備える。また、ケース１０には、バンド９が取り付けられている。
なお、ケース１０は、本開示の時計用部品の一例である。

［ケース］
ケース１０は、ケース本体１１と、かん１２とを備える。
ケース本体１１は、前述した文字板２、秒針３、分針４、時針５等を内部に収納する。本実施形態では、ケース本体１１の表面には鏡面加工が施されており、表面の算術平均高さＳａは、４０ｎｍとされている。すなわち、ケース本体１１の表面は、本開示の鏡面領域の一例である。
なお、本開示において、算術平均高さＳａとは、ＩＳＯ２５１７８に規定される面粗さを示す指標であり、接触式粗さ計（接触式）や白色干渉計（非接触式）等にて測定される。

かん１２は、ケース本体１１の６時方向および１２時方向にそれぞれ設けられている。そして、それぞれのかん１２には、図示略のバネ棒等にて、バンド９が取り付けられている。

図２は、ケース１０の要部を示す断面図である。なお、図２では、ケース１０のかん１２において、表面から深さ方向に切断した断面図を示している。
図２に示すように、ケース１０のかん１２は、基材１００と、表面処理層１１０とを備えて構成される。
基材１００は、フェライト相で構成された基部１０１と、オーステナイト化相で構成された表面層１０２と、フェライト相とオーステナイト化相とが混在する混在層１０３とを備え、オーステナイト化フェライト系ステンレス鋼により構成される。そして、本実施形態では、基材１００を構成するオーステナイト化フェライト系ステンレス鋼は、ビッカース硬度が３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満となるように形成されている。
また、基材１００の表面には、筋目加工が施されている。これにより、かん１２において、意匠性を高くしている。なお、かん１２の表面は、本開示の加飾領域の一例である。

［基部］
基部１０１は、質量％で、Ｃｒ：１８～２２％、Ｍｏ：１．３～２．８％、Ｎｂ：０．０５～０．５０％、Ｃｕ：０．１～０．８％、Ｎｉ：０．５％未満、Ｍｎ：０．８％未満、Ｓｉ：０．５％未満、Ｐ：０．１０％未満、Ｓ：０．０５％未満、Ｎ：０．０５％未満、Ｃ：０．０５％未満を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるフェライト系ステンレス鋼により構成される。

Ｃｒは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動速度およびフェライト相における窒素の拡散速度を高める元素である。Ｃｒが１８％未満であると、窒素の移動速度および拡散速度が低くなる。さらに、Ｃｒが１８％未満であると、表面層１０２の耐食性が低下する。一方、Ｃｒが２２％を超えると、硬質化して、材料としての加工性が悪化する。さらに、Ｃｒが２２％を超えると、美的外観が損なわれる。そのため、Ｃｒの含有量は、１８～２２％であるのが好ましく、２０～２２％とするのがより好ましく、１９．５～２０．５％とするのがさらに好ましい。

Ｍｏは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動速度およびフェライト相における窒素の拡散速度を高める元素である。Ｍｏが１．３％未満であると、窒素の移動速度および拡散速度が低くなる。さらに、Ｍｏが１．３％未満であると、材料としての耐食性が低下する。一方、Ｍｏが２．８％を超えると、硬質化して、材料としての加工性が悪化する。さらに、Ｍｏが２．８％を超えると、表面層１０２の構成組織の不均質化が顕著になり、美的外観が損なわれる。そのため、Ｍｏの含有量は、１．３～２．８％であるのが好ましく、１．８～２．８％であるのがより好ましく、２．２５～２.３５％とするのがさらに好ましい。

Ｎｂは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動速度およびフェライト相における窒素の拡散速度を高める元素である。Ｎｂが０．０５％未満であると、窒素の移動速度および拡散速度が低くなる。一方、Ｎｂが０．５０％を超えると、硬質化して、材料としての加工性が悪化する。さらに、析出部が生成され、美的外観が損なわれる。そのため、Ｎｂの含有量は、０．０５～０．５０％であるのが好ましく、０．０５～０．３５％であるのがより好ましく、０．１５～０．２５％であるのがさらに好ましい。

Ｃｕは、窒素吸収処理において、フェライト相での窒素の吸収を制御する元素である。Ｃｕが０．１％未満であると、フェライト相における窒素含有量のばらつきが大きくなる。一方、Ｃｕが０．８％を超えると、フェライト相への窒素の移動速度が低くなる。そのため、Ｃｕの含有量は、０．１～０．８％であるのが好ましく、０．１～０．２％であるのがより好ましく、０．１～０．１５％であるのがさらに好ましい。

Ｎｉは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｎｉが０．５％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。さらに、耐食性が悪化するとともに、金属アレルギーの発生等を防止するのが困難になる可能性がある。そのため、Ｎｉの含有量は、０．５％未満であるのが好ましく、０．２％未満であるのがより好ましく、０．１％未満であるのがさらに好ましい。

Ｍｎは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｍｎが０．８％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｍｎの含有量は、０．８％未満であるのが好ましく、０．５％未満であるのがより好ましく、０．１％未満であるのがさらに好ましい。

Ｓｉは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｓｉが０．５％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｓｉの含有量は、０．５％未満であるのが好ましく、０．３％未満であるのがより好ましい。

Ｐは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｐが０．１０％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｐの含有量は、０．１０％未満であるのが好ましく、０．０３％未満であるのがより好ましい。

Ｓは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｓが０．０５％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｓの含有量は、０．０５％未満であるのが好ましく、０．０１％未満であるのがより好ましい。

Ｎは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｎが０．０５％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｎの含有量は、０．０５％未満であるのが好ましく、０．０１％未満であるのがより好ましい。

Ｃは、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動およびフェライト相における窒素の拡散を阻害する元素である。Ｃが０．０５％以上であると、窒素の移動速度および拡散速度が低下する。そのため、Ｃの含有量は、０．０５％未満であるのが好ましく、０．０２％未満であるのがより好ましい。

［表面層］
表面層１０２は、基部１０１に窒素吸収処理を施すことにより形成されている。本実施形態では、表面層１０２における窒素の含有量は質量％で１．０～１．６％とされている。

［混在層］
混在層１０３は、表面層１０２の形成過程において、フェライト相で構成された基部１０１に進入する窒素の移動速度のばらつきによって生じる。すなわち、窒素の移動速度の速い箇所では、基部１０１の深い箇所まで窒素が進入してオーステナイト化され、窒素の移動速度の遅い箇所では、基部１０１の浅い箇所までしかオーステナイト化されないので、深さ方向に対してフェライト相とオーステナイト化相とが混在した混在層１０３が形成される。

［表面処理層］
表面処理層１１０は、基材１００の表面に設けられている。本実施形態では、表面処理層１１０は、ケース本体１１およびかん１２のいずれにおいても、基材１００に設けられている。すなわち、表面処理層１１０は、鏡面領域および加飾領域に設けられている。
また、本実施形態では、表面処理層１１０は、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮのいずれかで構成される。そして、表面処理層１１０の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満、好ましくは、０．２μｍ以上、かつ、０．４μｍ以下とされる。これにより、傷や打痕等の凹みを付きにくくすることができ、かつ、加飾領域において筋目加工が見えにくくなってしまうことを抑制できる。

次に、本開示の実施例について説明する。
［実施例１］
先ず、Ｃｒ：２０％、Ｍｏ：２．１％、Ｎｂ：０．２％、Ｃｕ：０．１％、Ｎｉ：０．０５％、Ｍｎ：０．５％、Ｓｉ：０．３％、Ｐ：０．０３％、Ｓ：０．０１％、Ｎ：０．０１％、Ｃ：０．０２％を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるフェライト系ステンレス鋼からなる母材を製造した。
次に、当該母材に窒素吸収処理を施すことで、基部の表面にオーステナイト化された表面層が形成された金属材料から成る基材を得た。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、表面処理を施すことで表面処理層を形成した。

窒素吸収処理は、以下に説明する方法により行った。
先ず、グラスファイバー等の断熱材で囲まれた処理室と、処理室内を加熱する加熱手段と、処理室内を減圧する減圧手段と、処理室内に窒素ガスを導入する窒素ガス導入手段とを有する窒素吸収処理装置を用意した。
次に、この窒素吸収処理装置の処理室内に前述の母材を設置し、その後、減圧手段により処理室内を２Ｐａまで減圧した。

次に、減圧手段により処理室内の排気を行いつつ、窒素ガス導入手段により窒素ガスを導入し、処理室内の圧力を０．０８～０．１２ＭＰａに保持した。この状態で、加熱手段により処理室内の温度を５℃／分の速度で１２００℃まで上昇させ、その後、１２００℃の温度を４時間保持させた。
最後に、当該母材を水冷により急冷した。これにより、オーステナイト化された表面層が形成され、基部と表面層との間に、オーステナイト化相とフェライト相とが混在する混在層が形成された金属材料から成る基材を得た。
なお、表１に示すように、当該基材のビッカース硬度は３５０Ｈｖであった。

表面処理は、以下に説明する方法により行った。
先ず、上記の手順にて形成した基材を洗浄した。基材の洗浄としては、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

上記のようにして洗浄した基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてＴｉＮで構成される表面処理層を形成した。なお、表１に示すように、実施例１では、平均厚さが０．２μｍとなるように、表面処理層を形成した。

先ず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を３×１０^－３Ｐａまで減圧した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、５分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、３５０Ｖの直流電圧を印加することにより行った。

次に、処理室内を２×１０^－３Ｐａまで減圧した後、アセチレンガスを導入し、処理室内における雰囲気圧を４．０×１０^－３Ｐａとした。そして、アセチレンガスを導入し続けた状態で、ターゲットとしてＴｉを用い、所定時間気相成膜を行った。
これにより、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍの表面処理層が形成した。

［実施例２、３］
表１に示すように、上記実施例１と同様の金属材料から成る基材を製造した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．４μｍ、０．５μｍの表面処理層を形成した。

［実施例４～６］
表１に示すように、上記実施例１と同様のフェライト系ステンレス鋼からなる母材を製造し、当該母材に窒素吸収処理を施すことで、ビッカース硬度が３８０Ｈｖの金属材料から成る基材を製造した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍ、０．４μｍ、０．５μｍの表面処理層を形成した。

［実施例７、８］
表１に示すように、ビッカース硬度が３２０Ｈｖの金属材料から成る基材を準備した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍ、０．５μｍの表面処理層を形成した。

［比較例１～６］
表１に示すように、上記実施例１と同様のフェライト系ステンレス鋼からなる母材を製造し、当該母材に窒素吸収処理を施すことで、ビッカース硬度が３５０Ｈｖ、３８０Ｈｖの金属材料から成る基材を製造した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．１μｍ、０．８μｍ、１．０μｍの表面処理層を形成した。

［比較例７～１２］
表１に示すように、ビッカース硬度が１８０Ｈｖ、２００Ｈｖの金属材料から成る基材を準備した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍ、０．６μｍ、１．０μｍの表面処理層を形成した。

［比較例１３］
表１に示すように、ビッカース硬度が３２０Ｈｖの金属材料から成る基材を準備した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．６μｍの表面処理層を形成した。

［比較例１４～１６］
表１に示すように、ビッカース硬度が５４０Ｈｖの金属材料から成る基材を準備した。そして、当該基材の表面に筋目加工を施し、その後、上記の表面処理と同様の手順にて、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍ、０．６μｍ、１．０μｍの表面処理層を形成した。

［筋目加工性評価試験］
前記各実施例および各比較例で製造した金属材料から成る基材について、表面に筋目加工を施す際の加工性について、以下の基準にて評価した。
－基準－
Ａ：筋目加工の加工性優良。
Ｂ：筋目加工の加工性良い。
Ｃ：筋目加工の加工性不良。

［筋目の外観評価］
前記各実施例および各比較例で製造した金属材料から成る基材について、筋目加工後に表面処理層を形成した状態を目視にて観察し、筋目の外観を以下の基準にて評価した。
－基準－
Ａ：筋目の外観が優良。
Ｂ：筋目の外観が良い。
Ｃ：筋目がやや薄く感じる。
Ｄ：筋目が薄くなっている。

［耐擦傷性評価］
前記各実施例および各比較例で製造した金属材料から成る基材について、以下に示す手順にて耐擦傷性を評価した。
先ず、ステンレス鋼製のブラシを、表面処理層が形成された側の表面上に押し付け、５０往復摺動させた。この際の押し付け荷重は、０．２ｋｇｆとした。
そして、基材の表面を目視により観察し、表面の外観を以下の基準にて評価した。
Ａ：表面処理層の表面に、傷の発生が全く認められない。
Ｂ：表面処理層の表面に、傷の発生がほとんど認められない。
Ｃ：表面処理層の表面に、傷の発生がわずかに認められる。
Ｄ：表面処理層の表面に、傷の発生が顕著に認められる。

［評価結果：筋目加工性評価］
表２に示すように、本開示の実施例１～８では、筋目加工性の評価結果が「Ａ」となっている。これに対し、基材のビッカース硬度が５４０Ｈｖであった比較例１４～１６では、筋目加工性が「Ｃ」となっていた。このことから、ビッカース硬度５４０Ｈｖ以上の金属材料から成る基材では、筋目加工性が悪くなることが示唆された。

［評価結果：筋目の外観評価］
表２に示すように、本開示の実施例１～８では、筋目の外観評価の評価結果が「Ａ」となっている。特に、表面処理層の平均厚さが０．２μｍ、０．４μｍの実施例１、２、４、６では、筋目の外観が顕著に優れていた。これに対し、比較例２、５、８、１１では、筋目の外観評価の評価結果が「Ｂ」であり、比較例３、６、９、１２～１５では、筋目の外観評価の評価結果が「Ｃ」でたあり、比較例１６では、筋目の外観評価の評価結果が「Ｄ」であった。このことから、表面処理層の平均厚さを、０．６μｍ未満、好ましくは、０．４μｍ未満とした場合、筋目の外観が良くなることが示唆された。

［評価結果：耐擦傷性評価］
表２に示すように、本開示の実施例１～８では、耐擦傷性評価の評価結果が「Ａ」となっている。これに対し、比較例１３、１４では、耐擦傷性評価の評価結果が「Ｂ」であり、比較例１、４、１１、１２では、耐擦傷性評価の評価結果が「Ｃ」であり、比較例７～１０では、耐擦傷性評価の評価結果が「Ｄ」であった。このことから、ビッカース硬度が３２０Ｈｖ以上の基材に対して、表面処理層の平均厚さを０．２μｍ以上とした場合、耐擦傷性が良くなることが示唆された。

上記より、ビッカース硬度が、３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満の金属材料で構成される基材に対して、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満の表面処理層を形成することで、傷や打痕等の凹みを付きにくくすることができ、かつ、筋目加工が見えにくくなってしまうことを抑制できることが示唆された。

［加飾領域の算術平均高さＳａに対する表面処理層の厚さの比］
前述したように、本開示では、平均厚さが０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満の表面処理層を形成することで、基材に加工された筋目が見えにくくなってしまうことを抑制できることが示唆された。
また、筋目の意匠性および加工性を考慮すると、算術平均高さＳａとして、０．９７μｍ以上、かつ、５．１７μｍ以下となるように、筋目加工を施すことが好ましい。なお、本開示では、算術平均高さＳａは、ＩＳＯ ２５１７８－２（２０１２）に準拠する方法で測定されたものである。
そうすると、例えば、算術平均高さＳａとして０．９７μｍの筋目加工を施した場合において、平均厚さが０．６μｍの表面処理層を形成した場合、加飾領域の算術平均高さＳａに対する表面処理層の厚さの比は０．６２程度となる。つまり、適正な範囲内において、最も算術平均高さＳａが小さくなるように筋目加工を施し、かつ、最も厚くなるように表面処理層を形成した場合、加飾領域の算術平均高さＳａに対する表面処理層の厚さの比は０．６２程度となる。
一方、例えば、算術平均高さＳａとして５．１７μｍの筋目加工を施した場合において、平均厚さが０．２μｍの表面処理層を形成した場合、加飾領域の算術平均高さＳａに対する表面処理層の厚さの比は０．０４程度となる。つまり、適正な範囲内において、最も算術平均高さＳａが大きくなるように筋目加工を施し、かつ、最も薄くなるように表面処理層を形成した場合、加飾領域の算術平均高さＳａに対する表面処理層の厚さの比は０．０４程度となる。
このことから、本開示では、加飾領域の算術平均高さＳａに対する、前記表面処理層の厚さの比が、０．１以上、かつ、０．６以下であることが好ましいことが示唆された。

［変形例］
なお、本開示は前述の実施形態に限定されるものではなく、本開示の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本開示に含まれるものである。

図３は、変形例のケース１０Ａのかん１２Ａの要部を示す断面図である。
図３に示すように、変形例のケース１０Ａは、基材１００Ａの表面と表面処理層１１０Ａとの間に中間層１１５Ａを有する。中間層１１５Ａとしては特に限定されないが、例えば、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等により構成される。このように構成することで、基材１００Ａと表面処理層１１０Ａとの密着性をより優れたものにすることができ、基材１００Ａの表面から表面処理層１１０Ａが剥離してしまうことを抑制できる。

前述した実施形態では、かん１２における基材１００の表面、つまり、加飾領域に筋目加工が施されていたが、これに限定されない。例えば、加飾領域に放射状の模様が施されていてもよい。

前述した実施形態では、本開示の時計用部品はケース１０として構成されていたが、これに限定されない。例えば、本開示の時計用部品は、ベゼル、裏蓋、バンド、りゅうず、ボタン等として構成されていてもよい。

［本開示のまとめ］
本開示の時計用部品は、ビッカース硬度が、３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満の金属材料で構成され、表面の少なくとも一部に加飾領域を有する基材と、前記加飾領域を含む前記基材の表面の少なくとも一部に設けられる表面処理層と、を備え、前記表面処理層の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満である。
これにより、傷や打痕等の凹みを付きにくくすることができ、かつ、筋目等の加飾領域が見えにくくなってしまうことを抑制できる。

本開示の時計用部品において、前記表面処理層の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．４μｍ以下であってもよい。
これにより、筋目等の加飾領域が見えにくくなってしまうことをより抑制できる。

本開示の時計用部品において、前記加飾領域の算術平均高さＳａに対する、前記表面処理層の厚さの比が、０．１以上、かつ、０．６以下であってもよい。

本開示の時計用部品において、前記表面処理層は、窒化膜、炭化膜、および、炭窒化膜のいずれかを備えて構成されてもよい。

本開示の時計用部品において、前記基材の表面と前記表面処理層との間に中間層を有していてもよい。
これにより、基材と表面処理層との密着性をより優れたものにすることができ、基材の表面から表面処理層が剥離してしまうことを抑制できる。

本開示の時計用部品において、前記基材の表面の少なくとも一部に、前記加飾領域とは別に鏡面領域を有し、前記鏡面領域の算術平均高さＳａは、４０ｎｍ以下であってもよい。
これにより、時計用部品の意匠性をより高くすることができる。

本開示の時計用部品において、前記加飾領域には筋目加工が施されていてもよい。

本開示の時計用部品において、前記基材は、フェライト相で構成された基部と、オーステナイト化相で構成された表面層と、前記基部と前記表面層との間に形成され前記フェライト相と前記オーステナイト化相とが混在する混在層と、を備えるオーステナイト化フェライト系ステンレス鋼で構成されていてもよい。
これにより、窒素吸収処理において、フェライト相への窒素の移動速度およびフェライト相における窒素の拡散速度を高めることができる。

本開示の時計用部品において、前記表面層の窒素の含有量は、質量％で１．０～１．６％であってもよい。
これにより、表面層における耐食性能を向上することができる。

本開示の時計用部品を備えることを特徴とする時計。

１…時計、２…文字板、３…秒針、４…分針、５…時針、６…りゅうず、７…Ａボタン、８…Ｂボタン、９…バンド、１０，１０Ａ…ケース、１１…ケース本体（鏡面領域）、１２，１２Ａ…かん（加飾領域）、１００，１００Ａ…基材、１０１…基部、１０２…表面層、１０３…混在層、１１０，１１０Ａ…表面処理層、１１５Ａ…中間層。

Claims (10)

1. ビッカース硬度が、３２０Ｈｖ以上、かつ、５４０Ｈｖ未満の金属材料で構成され、表面の少なくとも一部に加飾領域を有する基材と、
   前記加飾領域を含む前記基材の表面の少なくとも一部に設けられる表面処理層と、を備え、
   前記表面処理層の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．６μｍ未満である
   ことを特徴とする時計用部品。
2. 請求項１に記載の時計用部品において、
   前記表面処理層の厚さは、０．２μｍ以上、かつ、０．４μｍ以下である
   ことを特徴とする時計用部品。
3. 請求項１または請求項２に記載の時計用部品において、
   前記加飾領域の算術平均高さＳａに対する、前記表面処理層の厚さの比が、０．１以上、かつ、０．６以下である
   ことを特徴とする時計用部品。
4. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の時計用部品において、
   前記表面処理層は、窒化膜、炭化膜、および、炭窒化膜のいずれかを備えて構成される
   ことを特徴とする時計用部品。
5. 請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の時計用部品において、
   前記基材の表面と前記表面処理層との間に中間層を有する
   ことを特徴とする時計用部品。
6. 請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の時計用部品において、
   前記基材の表面の少なくとも一部に、前記加飾領域とは別に鏡面領域を有し、
   前記鏡面領域の算術平均高さＳａは、４０ｎｍ以下である
   ことを特徴とする時計用部品。
7. 請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の時計用部品において、
   前記加飾領域には筋目加工が施されている
   ことを特徴とする時計用部品。
8. 請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の時計用部品において、
   前記基材は、フェライト相で構成された基部と、オーステナイト化相で構成された表面層と、前記基部と前記表面層との間に形成され前記フェライト相と前記オーステナイト化相とが混在する混在層と、を備えるオーステナイト化フェライト系ステンレス鋼で構成される
   ことを特徴とする時計用部品。
9. 請求項８に記載の時計用部品において、
   前記表面層の窒素の含有量は、質量％で１．０～１．６％である
   ことを特徴とする時計用部品。
10. 請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の時計用部品を備えることを特徴とする時計。

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