JP2022026879A - ガス分析システム及びガス分析方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、測定対象ガスの濃度の検出限界を改善できるようにするものである。具体的には、測定対象ガスの濃度が低い場合であっても、測定対象ガスの濃度を高い精度で測定することができるようにするものである。つまり、理論的に求められる検出限界付近においても、測定対象ガスの濃度を高い精度で測定することができるようにするものである。
・原因となる光学素子等の入射面及び射出面に反射防止膜(AR膜)を形成する
・原因となる光学素子等のレーザ光の光路に対する入射面及び射出面を傾ける
・吸収スペクトルのFWHM(Full Width at Half Maximum:半値全幅)と光学干渉の周期が同程度にならないように設計する
しかしながら、これらの対策を施すには、コストの増加、構成の複雑化、設計自由度の低下、調整の煩雑化等のデメリットが生ずる。
〈ガス分析システム〉
図1は、本発明の第1実施形態によるガス分析システムの要部構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本実施形態のガス分析システム1は、ガス分析装置10及び信号処理装置20(処理部)を備えており、波長変調分光法を用いて測定対象ガスGSの濃度を測定する。具体的に、本実施形態のガス分析システム1は、変調周波数fで変調されたレーザ光を測定対象ガスGSに照射し、検出される2倍波成分(2f成分)に基づいて測定対象ガスGSの濃度を測定する。
図3は、本発明の第1実施形態によるガス分析方法を示すフローチャートである。まず、測定対象ガスGSの測定に先立って、2fノイズ成分の振幅R0及び位相θ0を取得する処理が行われる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態におけるガス分析システムは、図1に示すガス分析システム1と同様の構成である。本実施形態と上述した第1実施形態とが異なる点は、2fノイズ成分の振幅R0及び位相θ0の取得方法である。つまり、本実施形態と第1実施形態とは、図3に示すステップS11,S12の処理が異なる。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態におけるガス分析システムは、図1に示すガス分析システム1と同様の構成である。本実施形態と上述した第1実施形態とが異なる点は、2fノイズ成分の振幅R0及び位相θ0の取得方法と、演算部22で行われるノイズ除去2f成分の振幅R′2fを算出する処理とが異なる。本実施形態は、変調周波数が高く、且つ測定距離(レーザ光の光路長)が様々に変化する場合に対応したものである。
13 半導体レーザ
17 光検出器
19 ロックインアンプ
20 信号処理装置
21 記憶部
22 演算部
f 変調周波数
GS 測定対象ガス
Claims (8)
- 所定の変調周波数で変調されたレーザ光を射出する発光素子と、
測定対象ガスを介した前記レーザ光を受光する受光素子と、
前記受光素子から出力される受光信号に含まれる前記変調周波数のn倍(nは2以上の整数)の周波数を有する成分である第1成分から、前記発光素子から前記受光素子に至る前記レーザ光の光路で生ずる光学干渉ノイズの前記第1成分と同じ周波数の成分である第2成分を除去して得られる第3成分の大きさに基づいて前記測定対象ガスの濃度を求める処理部と、
を備えるガス分析システム。 - 前記受光信号に含まれる前記第1成分の振幅及び位相を検出する検出部を備えており、
前記処理部は、前記第2成分の振幅及び位相を記憶する記憶部と、
前記検出部で検出された前記第1成分の振幅及び位相と、前記記憶部に記憶された前記第2成分の振幅及び位相とを用いて、前記第1成分から前記第2成分を除去する演算を行って前記第3成分を求める演算部と、
を備える請求項1記載のガス分析システム。 - 前記検出部は、前記第1成分に加えて、前記受光信号に含まれる前記変調周波数と同じ周波数を有する成分である基本成分を検出し、
前記演算部は、前記基本成分の振幅に対する前記第3成分の振幅の比に基づいて前記測定対象ガスの濃度を求める、
請求項2記載のガス分析システム。 - 前記記憶部に記憶される前記第2成分の振幅及び位相は、前記レーザ光の光路上に前記測定対象ガスが存在しない状態又は前記レーザ光の光路上における前記測定対象ガスの濃度が十分低い状態のときに、前記検出部で検出される前記第1成分の振幅及び位相である、請求項2又は請求項3記載のガス分析システム。
- 前記記憶部に記憶される前記第2成分の振幅及び位相は、前記レーザ光の光路上に既知の第1濃度の前記測定対象ガスが存在する状態のときに前記検出部で検出される前記第1成分の振幅及び位相と、前記レーザ光の光路上に既知の第2濃度の前記測定対象ガスが存在する状態のときに前記検出部で検出される前記第1成分の振幅及び位相とを用いて所定の演算を行って得られる振幅及び位相である、請求項2又は請求項3記載のガス分析システム。
- 前記記憶部に記憶される前記第2成分の振幅及び位相は、前記レーザ光の光路長が予め規定された基準長に設定された状態のときに、前記検出部で検出される前記第1成分の振幅及び位相であり、
前記演算部は、前記レーザ光の光路長が前記基準長に設定されない状態のときに前記検出部で検出される前記基本成分の位相と、前記レーザ光の光路長が前記基準長に設定された状態のときに前記検出部で検出される前記基本成分の位相との差に基づいて、前記レーザ光の光路長が前記基準長に設定されない状態のときに前記検出部で検出される前記第1成分の位相を補正した上で、前記第1成分から前記第2成分を除去する演算を行って前記第3成分を求める、
請求項3記載のガス分析システム。 - 所定の変調周波数で変調されたレーザ光を射出する第1ステップと、
測定対象ガスを介した前記レーザ光を受光して受光信号を得る第2ステップと、
前記受光信号に含まれる前記変調周波数のn倍(nは2以上の整数)の周波数を有する成分である第1成分から、前記レーザ光の光路で生ずる光学干渉ノイズの前記第1成分と同じ周波数の成分である第2成分を除去して第3成分を得る第3ステップと、
前記第3成分の大きさに基づいて前記測定対象ガスの濃度を求める第4ステップと、
を有するガス分析方法。 - 前記測定対象ガスの測定に先立って、予め前記第2成分を求めるステップを更に備える、請求項7記載のガス分析方法。
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