JP2021511520A - 位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
10:スクリーン
20:カメラ
Claims (15)
- 位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステムであって、
パターンを生成して、測定対象物に投影するパターン発生部と、
前記測定対象物から反射される変形パターンの映像を獲得するディテクターと、
前記パターン発生部と前記ディテクターで発生した非線形応答特性を補償する補償手段とを含むことを特徴とする位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。 - 前記パターン発生部は、パターンを生成するスクリーンであり、
前記ディテクターは、カメラからなることを特徴とする請求項1に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。 - 前記補償手段は、前記スクリーンと前記カメラの非線形応答特性を考えたルックアップテーブルを基に、非線形応答を線形化することを特徴とする請求項2に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。
- 前記スクリーンの全画面の明るさ値を、最小値から最大値までの一定レベルに、前記カメラで測定された測定強度を正規化して示す非線形応答特性グラフを算出し、前記非線形応答特性を、ルックアップテーブルを基に、線形応答特性に変換することを特徴とする請求項3に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。
- 前記式1及び式2を基に、前記カメラで測定される正規化された測定強度が線形応答特性となるように、スクリーンで入力すべき明るさ値は、下記式3で示され、式1、2、3を基に、カメラで測定される正規化された測定強度が、式1によって線形的に変わるとき、式3におけるスクリーンで入力すべき明るさ値を求めることになり、これを実スクリーンに反映して、線形応答特性を得ることを特徴とする請求項6に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。
- 前記非線形応答特性で発生した位相シフト量を補償することを特徴とする請求項7に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。
- 前記位相シフト量は、AIA位相シフトアルゴリズムを適用して算出されることを特徴とする請求項8に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するためのシステム。
- 位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するための方法であって、
パターン発生部により、パターンを生成して、測定対象物に投影するステップと、
ディテクターにより、測定対象物から反射される変形パターンの映像を獲得するステップと、
補償手段により、前記パターン発生部と前記ディテクターの非線形応答特性を考えたルックアップテーブルを基に、非線形応答を線形化するステップと、
前記補償手段により、非線形応答特性で発生した位相シフト量を補償するステップとを含むことを特徴とする位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するための方法。 - 前記位相シフト量を補償するステップにおいて、前記位相シフト量は、AIA位相シフトアルゴリズムを適用して算出され、
任意の初期位相シフト値を設定する第1のステップと、
前記位相シフト値を基に、位相分布を演算する第2のステップと、
前記演算された位相分布を基に、位相シフト値を更新する第3のステップと、
前記位相シフト値と前記更新された位相シフト値との差が、所定の収束値以下となるまで、第2のステップ及び第3のステップを繰り返す第4のステップとを含むことを特徴とする請求項10に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するための方法。 - 前記線形化するステップは、前記パターン発生部の全画面の明るさ値を、最小値から最大値までの一定レベルに、前記ディテクターで測定された正規化された測定強度を示す非線形応答特性グラフを算出し、前記非線形応答特性を、ルックアップテーブルにより、線形応答特性に変換することを特徴とする請求項11に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するための方法。
- 前記式1及び式2を基に、前記ディテクターで測定される正規化された測定強度が線形応答特性になるように、スクリーンで入力すべき明るさ値は、下記式3で示され、式1、2、3を基に、ディテクターで測定される正規化された測定強度が、式1によって線形的に変わるとき、式3におけるスクリーンで入力すべき明るさ値を求めることになり、これを実スクリーンに反映して、線形応答特性を得ることを特徴とする請求項14に記載の位相シフト偏向測定法で非線形応答特性を補償するための方法。
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---|---|---|---|---|
JP7294026B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-06-20 | 株式会社デンソーウェーブ | 縞パターン画像決定方法 |
KR102366954B1 (ko) * | 2020-04-20 | 2022-02-28 | 한국표준과학연구원 | 편향측정법을 이용한 자유곡면 3차원 형상측정시스템 및 형상측정방법 |
KR102526978B1 (ko) * | 2021-03-05 | 2023-05-02 | 한국표준과학연구원 | 대각선 패턴 주사 방식을 이용한 실시간 3차원 형상측정시스템 및 형상측정방법 |
KR102485679B1 (ko) * | 2021-03-05 | 2023-01-10 | 한국표준과학연구원 | 측정정확도 향상을 위한 편향측정법의 보정방법 |
CN114322838B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-03-31 | 天津大学 | 一种小重合视场多目相位偏折测量方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001174232A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Mitsutoyo Corp | 平面形状計測装置、平面形状計測方法及び該方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体 |
WO2001094880A1 (fr) * | 2000-06-07 | 2001-12-13 | Citizen Watch Co., Ltd. | Projecteur de motif de reseau utilisant un reseau de cristaux liquides |
JP2003254733A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶格子を用いた格子パタン投影装置 |
JP4255865B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-04-15 | 株式会社ミツトヨ | 非接触三次元形状測定方法及び装置 |
US20090135434A1 (en) * | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Valtion Teknillinen Tutkimuskeskus | Method and apparatus for determining the topography and optical properties of a moving surface |
JP2010014444A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Kanazawa Univ | 位相シフト法による形状測定方法及び測定装置 |
CN102589479A (zh) * | 2012-03-06 | 2012-07-18 | 天津大学 | 三维形貌中心摄动复合光栅投影测量方法及装置 |
WO2014054446A1 (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-10 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | デジタルホログラフィ装置 |
JP2014106110A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Canon Inc | 計測方法及び計測装置 |
WO2015151386A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ソニー株式会社 | 撮像装置、画像データの出力方法及びプログラム |
JP2016186663A (ja) * | 2013-07-11 | 2016-10-27 | シチズンホールディングス株式会社 | 液晶装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030030816A1 (en) | 2001-08-11 | 2003-02-13 | Eom Tae Bong | Nonlinearity error correcting method and phase angle measuring method for displacement measurement in two-freqency laser interferometer and displacement measurement system using the same |
KR100431706B1 (ko) * | 2001-08-11 | 2004-05-17 | 한국표준과학연구원 | 2 주파수 레이저 간섭계에서의 길이 측정을 위한 위상각측정방법 및 비선형 오차 보상방법 그리고 이를 이용한길이 측정을 위한 위상각 측정방법 및 측정 시스템 |
US6856405B2 (en) * | 2003-03-03 | 2005-02-15 | Phase Shift Technology, Inc. | Non linear phase shift calibration for interferometric measurement of multiple surfaces |
US7286246B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-10-23 | Mitutoyo Corporation | Method and apparatus for non-contact three-dimensional surface measurement |
JP4111166B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2008-07-02 | コニカミノルタセンシング株式会社 | 3次元形状入力装置 |
US20070115484A1 (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-24 | Peisen Huang | 3d shape measurement system and method including fast three-step phase shifting, error compensation and calibration |
CA2528791A1 (en) * | 2005-12-01 | 2007-06-01 | Peirong Jia | Full-field three-dimensional measurement method |
JP2010074107A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 |
WO2010077900A1 (en) * | 2008-12-16 | 2010-07-08 | Faro Technologies, Inc. | Structured light imaging system and method |
WO2016057043A1 (en) * | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Georgia Tech Research Corporation | Dynamic digital fringe projection techniques for measuring warpage |
CN104506838B (zh) * | 2014-12-23 | 2016-06-29 | 宁波盈芯信息科技有限公司 | 一种符号阵列面结构光的深度感知方法、装置及系统 |
KR101808113B1 (ko) * | 2015-10-30 | 2017-12-14 | 건국대학교 산학협력단 | 사전왜곡과 Pulsed RF 제어를 이용한 조명 제어 기법과 장치. |
DE102017211377B4 (de) * | 2017-07-04 | 2021-01-14 | Micro-Epsilon Messtechnik Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Oberflächenvermessung eines Messobjektes |
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001174232A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Mitsutoyo Corp | 平面形状計測装置、平面形状計測方法及び該方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体 |
WO2001094880A1 (fr) * | 2000-06-07 | 2001-12-13 | Citizen Watch Co., Ltd. | Projecteur de motif de reseau utilisant un reseau de cristaux liquides |
JP2003254733A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶格子を用いた格子パタン投影装置 |
JP4255865B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-04-15 | 株式会社ミツトヨ | 非接触三次元形状測定方法及び装置 |
US20090135434A1 (en) * | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Valtion Teknillinen Tutkimuskeskus | Method and apparatus for determining the topography and optical properties of a moving surface |
JP2010014444A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Kanazawa Univ | 位相シフト法による形状測定方法及び測定装置 |
CN102589479A (zh) * | 2012-03-06 | 2012-07-18 | 天津大学 | 三维形貌中心摄动复合光栅投影测量方法及装置 |
WO2014054446A1 (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-10 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | デジタルホログラフィ装置 |
JP2014106110A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Canon Inc | 計測方法及び計測装置 |
JP2016186663A (ja) * | 2013-07-11 | 2016-10-27 | シチズンホールディングス株式会社 | 液晶装置 |
WO2015151386A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ソニー株式会社 | 撮像装置、画像データの出力方法及びプログラム |
Non-Patent Citations (1)
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---|
ZHAOYANG WANG AND BONGTAE HAN: ""Advanced iterative algorithm for phase extraction of randomly phase-shifted interferograms"", OPTICS LETTERS, vol. 29, no. 4, JPN6021046966, 15 July 2004 (2004-07-15), US, pages 1671 - 1673, ISSN: 0004654000 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3745084A1 (en) | 2020-12-02 |
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