JP2021509962A - 微細溝を有するブラックマトリクス層、表示基板および表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、表示基板で複数の副画素領域を画定するためのブラックマトリクス層を提供する。当該ブラックマトリクス層は、互いに離間する複数の微細溝が含まれる微細溝領域を含む。複数の微細溝の各々の深さは、ブラックマトリクス層の深さを少なくとも部分的に貫通する。複数の微細溝のうちの少なくとも１つは、伸長方向に延びる細長い形状を有する。

Description

本発明は、表示技術に関するもので、より具体的に、微細溝を有するブラックマトリクス層、表示基板および表示装置に関する。

表示基板において、データ線、タッチ電極および共通電極線のような金属線は、いずれも高導電性の金属で作られ、それの材料は光反射率を有する。したがって、表示基板（例えばカラーフィルタ基板）にブラックマトリクス アレイを設けて、金属線からの光反射を遮断する必要がある。ブラックマトリクスは、通常、光の反射率が低い黒色材料（例えば、カーボン、モリブデン、クロムなど）で構成される。

一態様として、本発明は、表示基板で複数の副画素領域を画定するためのブラックマトリクス層を提供する。当該ブラックマトリクス層は、互いに離間する複数の微細溝が含まれる微細溝領域を含む。前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さを少なくとも部分的に貫通する。前記複数の微細溝のうちの少なくとも１つは、伸長方向に延びる細長い形状を有する。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている。

選択可能に、前記複数の微細溝の伸長方向は、略平行である。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さをほぼ貫通する。前記微細溝領域でのブラックマトリクス層は、前記複数の微細溝と交互にする複数のブラックマトリクスブランチを含む。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端は、前記複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口している。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々は、前記複数の副画素領域のうちの少なくとも１つに向かって開口している。

選択可能に、前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含む。前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置する。

選択可能に、前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々の溝幅は、約５μｍ〜約１０μｍの範囲内にある。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の離間距離は、約１０μｍ〜約３０μｍの範囲内にある。

別の態様として、本発明は、ベース基板と、本明細書に記載のブラックマトリクス層とを備える表示基板を提供する。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている。

選択可能に、前記複数の微細溝の伸長方向は、略平行である。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さをほぼ貫通する。前記微細溝領域でのブラックマトリクス層は、前記複数の微細溝と交互にする複数のブラックマトリクスブランチを含む。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端は、前記複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口している。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々は、前記複数の副画素領域のうちの少なくとも１つに向かって開口している。

選択可能に、前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含む。前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置する。

選択可能に、前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である。

選択可能に、前記複数の微細溝の各々の溝幅は、約５μｍ〜約１０μｍの範囲内にある。

選択可能に、前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の離間距離は、約１０μｍ〜約３０μｍの範囲内にある。

選択可能に、前記表示基板は、前記複数の副画素領域の少なくとも一部に位置する複数のカラーフィルタブロックが含まれるカラーフィルタ層をさらに備える。

選択可能に、前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含む。前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置する。前記複数のカラーフィルタブロックは、前記複数の第１色副画素領域に存在しない。

選択可能に、前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である。

別の態様として、本発明は、本明細書に記載の表示基板を備える表示装置を提供する。

以下の図面は、本明細書における各実施例の単なる例示であり、本発明の範囲を限定するためのものではない。

通常の表示基板の洗浄プロセスの概略図である。 図１のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。 図１のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。 図１のＣ−Ｃ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例によるブラックマトリクス層の概略図である。 本開示の一部実施例によるブラックマトリクス層の概略図である。 本開示の一部実施例において図５のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例において図５のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例において図５のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例において図５のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例による表示基板の概略図である。 本開示の一部実施例において図１１のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例において図１１のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。 本開示の一部実施例において図１１のＣ−Ｃ´線に沿った横断面図である。

次に、本発明を以下の実施例に関連してより詳細に記載する。なお、以下の一部実施例は、説明と記載の目的で記述されるものであり、本発明を網羅的に列挙したり、開示された厳密な形態に限定したりするためのものではない。

従来の表示基板（カラーフィルタ基板など）の製造プロセスの一工程において、表示基板の特定の層を形成した後、水などの液体で表示基板を洗浄する。洗浄プロセスが完了した後、表示基板に残った水は、エアーナイフから空気で除去される。図１は、通常の表示基板の洗浄プロセスの概略図である。図１を参照すると、表示基板は、ブラックマトリクス層１を備えるカラーフィルタ基板である。ブラックマトリクス層１は、例えば赤色副画素領域Ｒ、緑色副画素領域Ｇ、青色副画素領域Ｂおよび白色副画素領域Ｗのような複数の副画素領域を画定することに用いられる。カラーフィルタ基板は、カラーフィルタをさらに備える。カラーフィルタは、例えば赤色カラーフィルタブロック２ａ、緑色カラーフィルタブロック２ｂ、青色カラーフィルタブロック２ｃのような複数のカラーフィルタブロックを有する。一部のカラーフィルタ基板において、白色副画素領域Ｗには、カラーフィルタブロックを含まない。他のカラーフィルタ基板において、白色副画素領域Ｗにスペーサが配置されている。図２は、図１のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。図３は、図１のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。図４は、図１のＣ−Ｃ´線に沿った横断面図である。図１〜図４に示すように、一部のカラーフィルタ基板において、白色副画素領域Ｗにはカラーフィルタブロックが含まれていない。したがって、白色副画素領域と隣接する副画素領域との間には大きな段差が存在する。

図１と図２を参照すると、エアーナイフからの空気は、洗浄プロセスにおいて表示基板上に吹き付けられる。白色副画素領域と隣接する副画素領域との段差により、表示基板上の残留水を完全に除去することができず、残存水の一部が表示基板の「影」領域Ｓに残される。洗浄工程後の製造プロセスにおいて、表示基板の表面にオーバーコート層を形成する。コーティング材料は、通常、例えば蒸着工程によって表示基板のカラーフィルタに堆積される。蒸着工程が真空環境下で行われるため、「影」領域Ｓでの残留水が蒸発されて、バンプが形成される。残留水によるバンプがオーバーコート層を破壊して最終的にオーバーコート層に白色の欠陥を形成する。

この問題は、上述段差のために白色カラーフィルタブロックを有しない白色副画素領域で最も深刻であるが、カラーフィルタブロックを有する副画素領域にも同様に存在する。エアーナイフからの空気の圧力および付与時間を増加させることによって残留水をさらに減少させることができるが、「影」領域Ｓを完全に除去することはできない。さらに、エアーナイフの圧力および付加時間を増加させる工程は、必然的に基板のタクトタイムおよびエアーナイフによる損傷のリスクを大きくする。

したがって、本発明は、特に、従来技術の限界と欠点による１つまたは複数の問題を基本的に解消する微細溝を有するブラックマトリクス層、表示基板および表示装置を提供する。一態様として、本発明は、表示基板で複数の副画素領域を画定するためのブラックマトリクス層を提供する。一部の実施例において、ブラックマトリクス層は、互いに離間する複数の微細溝が含まれる微細溝領域を含む。選択可能に、複数の微細溝のうちの少なくとも１つは、伸長方向に延びる細長い形状を有する。選択可能に、複数の微細溝の各々は、伸長方向に延びる細長い形状を有する。選択可能に、複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている。選択可能に、複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略平行である。選択可能に、複数の微細溝の各々の深さは、ブラックマトリクス層の深さを少なくとも部分的に貫通する。このような構成によって、複数の微細溝は、エアーナイフから空気が吹き出されるときに、残留水の流出（特に「影」領域から）を案内するための通路として働くことができる。したがって、エアーナイフプログラムにより、表示基板上の残留水を完全に除去することができ、表示基板上の「影」領域を完全になくすことができる。

一部の実施例において、複数の微細溝のすべての伸長方向は、互いに略平行である。一部の実施例において、複数の微細溝は、互いに異なる伸長方向を有する複数の微細溝群を含む。例えば、第１の微細溝群において、微細溝の伸長方向は、例えば互い略平行であるように、略同一の第１配向を有する。第２の微細溝群において、微細溝の伸長方向は、例えば互いに略平行であるように、第１配向とは異なる略同一の第２配向を有する。

本明細書において、「略同一の配向」とは、隣接する微細溝の伸長方向が互いに平行である場合に限定されるものではない。「略同一の配向」とは、基準となる伸長方向から、５度、１０度、１５度、２０度、２５度、３０度、３５度、４０度、４５度、５０度、５５度、６０度、６５度、７０度、７５度、８０度またはそれ以上の偏差が含まれる。選択可能に、「略同一の配向」とは、隣接する微細溝の伸長方向の互いの偏差が９０度、８０度、７５度、７０度、６５度、６０度、５５度、５０度、４５度、４０度、３５度、３０度、２５度、２０度、１５度、１０度、５度を超えずまたはそれ以下であることを示す。

図５は、本開示の一部実施例によるブラックマトリクス層の概略図である。図５を参照すると、一部の実施例において、ブラックマトリクス層１は、微細溝領域３を含む。微細溝領域３において、ブラックマトリクス層１は、互いに離間する複数の微細溝４を含む。選択可能に、図５に示すように、複数の微細溝４の各々は、伸長方向に延びる細長い形状を有する。複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている。例えば、図５に示すように、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、互いに略平行である。

図６は、本開示の一部実施例によるブラックマトリクス層の概略図である。図６を参照すると、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、互いに平行ではなく、略同一の向きに配向されている。１つの実施例において、ブラックマトリクス層は、表示基板の中で、第１方向と第２方向に沿ってアレイに配置された複数の副画素領域を含むブラックマトリクス層である。図６に示すように、第１方向と第２方向は、表示基板の面を反時計回り方向にＱ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４の４つの部分に分割する。図６において、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、例えば全てＱ２に沿ってＱ４に達する（またはＱ４に沿ってＱ２に達する）ように、略同一の向きに配向されている。選択可能に、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、全てＱ１に沿ってＱ３に達する（またはＱ３に沿ってＱ１に達する）。伸長方向が互いに平行ではないが、複数の微細溝４は、表示基板上の残留水を「影」領域から流出させるための通路として十分である。

図７は、本開示の一部実施例において図５のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。図７を参照すると、複数の微細溝４の各々の深さは、ブラックマトリクス層１の深さをほぼ貫通する。図７において、ブラックマトリクス層１の深さ方向は、Ｄで示される。図５〜７を参照すると、微細溝領域３内のブラックマトリクス層１は、複数の微細溝４と交互にする複数のブラックマトリクスブランチ５を含む。

図７に示すように、複数の微細溝の各々は、溝幅ｗ１を有する。選択可能に、溝幅ｗ１の範囲は、約１μｍ〜約２０μｍであり、例えば約１μｍ〜約１０μｍ、約１０μｍ〜約２０μｍ、約５μｍ〜約１０μｍ、約５μｍ〜約１５μｍ、約１μｍ〜約１５μｍ、約１０μｍ〜約１５μｍ、約１μｍ〜約５μｍ、約２．５μｍ〜約５μｍ、約５μｍ〜約７．５μｍ、約２．５μｍ〜約７．５μｍである。図７に示すように、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の離間距離は、ｗ２である。選択可能に、距離ｗ２の範囲は、約１０μｍ〜約１００μｍであり、例えば約１０μｍ〜約３０μｍ、約３０μｍ〜約５０μｍ、約５０μｍ〜約７０μｍ、約７０μｍ〜約９０μｍ、約９０μｍ〜約１００μｍである。

図８は、本開示の一部実施例において図５のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。図８を参照すると、複数の微細溝４の各々の深さは、ブラックマトリクス層１の深さの一部のみを貫通する。図８において、ブラックマトリクス層１の深さ方向は、Ｄで示される。図５、図６、図８を参照すると、微細溝領域３内のブラックマトリクス層１は、複数の微細溝４と交互にする複数のブラックマトリクスブランチ５を含む。

一部の実施形態において、複数の微細溝４の少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端は、複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口している。図９は、本開示の一部実施例において図５のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。図９を参照すると、複数の微細溝４のうちの１つは、近接する白色副画素領域Ｗ及び近接する赤色副画素領域Ｒに向かって同時に開口している。図１０は、本開示の一部実施例において図５のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。図１０を参照すると、複数の微細溝４のうちの１つは、近接する白色副画素領域Ｗに向かって開口しているが、近接する赤色副画素領域Ｒには開口していない。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、複数の副画素領域の少なくとも１つに向かって開口している。

一部の実施例において、複数の微細溝４の少なくとも１つの微細溝の少なくとも１つの端部は、複数の副画素領域のうち、近接するいずれの副画素領域に対しても開口していない（例えば、図６参照）。選択可能に、複数の微細溝４の少なくとも１つの微細溝のいずれの端部も、複数の副画素領域のうち、近接するいずれの副画素領域に対しても開口していない（例えば、図６参照）。

一部の実施例において、複数の微細溝４は、副画素領域内にカラーフィルタブロックを有する副画素領域（例えば、赤色カラーフィルタブロックを有する赤色副画素領域Ｒ、青色カラーフィルタブロックを有する青色副画素領域Ｂ、緑色カラーフィルタブロックを有する緑色副画素領域Ｇ）に隣接するが、カラーフィルタブロックを有しない副画素領域（例えば、カラーフィルタブロックを有しない白色副画素領域）に隣接しない複数の微細溝を含む。選択可能に、複数の微細溝のうちの少なくとも１つ（例えば各々の微細溝）は、複数の副画素領域のうち、近接するいずれの副画素領域に対しても開口していない少なくとも１つの端部（例えば、両端）を有する。選択可能に、複数の微細溝の少なくとも１つ（例えば各々の微細溝）は、微細溝の中央で深く、微細溝の両端で浅い。

一部の実施例において、複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含む。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、複数の第１色副画素領域を画定する領域に位置する。図５と図６を参照すると、ブラックマトリクス層１によって画定される複数の副画素領域は、少なくとも白色副画素領域Ｗと赤色副画素領域Ｒを含む。複数の微小溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、白色副画素領域Ｗを画定する領域に位置する。この構成により、残留水によって白色副画素領域に形成される「影」領域を効果的に消去することができる。

選択可能に、複数の副画素領域は、複数の赤色副画素領域、複数の緑色副画素領域、複数の青色副画素領域、および複数の白色副画素領域の１つまたは組み合わせを含む。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、赤色副画素領域Ｒを画定する領域に位置する。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、緑色副画素領域を画定する領域に位置する。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、青色副画素領域を画定する領域に位置する。選択可能に、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、赤色副画素領域Ｒ、緑色副画素領域、青色副画素領域及び白色副画素領域のうちの２つ以上を画定する領域に位置する。選択可能に、複数の微細溝４は、ブラックマトリクス層１のうち、全ての副画素領域を画定する領域に位置する。

別の態様として、本発明は、ベース基板と、ベース基板上の本明細書に記載のブラックマトリクス層を有する表示基板を提供する。図１１は、本開示の一部実施例による表示基板の概略図である。図１２は、本開示の一部実施例において図１１のＡ−Ａ´線に沿った横断面図である。図１３は、本開示の一部実施例において図１１のＢ−Ｂ´線に沿った横断面図である。図１４は、本開示の一部実施例において図１１のＣ−Ｃ´線に沿った横断面図である。図１１〜図１４を参照すると、一部の実施例において、表示基板は、ベース基板１０と、ベース基板に位置するブラックマトリクス層１とを備える。一部の実施例において、表示基板は、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であり、カラーフィルタ層は、複数のカラーフィルタブロックを含む。図１１に示すように、一部の実施例において、カラーフィルタ層は、赤色副画素領域Ｒ内の複数の赤色カラーフィルタブロック２ａ、緑色副画素領域Ｇ内の複数の緑色カラーフィルタブロック２ｂ、および青色副画素領域Ｂ内の複数の青色カラーフィルタブロック２ｃを含む。選択可能に、表示基板は、白色副画素領域Ｗ内にカラーフィルブロックを含まない。例えば、白色副画素領域Ｗ内にカラーフィルタブロックが存在しない。

図１１〜図１４に示すように、一部の実施例において、表示基板のブラックマトリクス層１は、微細溝領域３を含み、ブラックマトリクス層１は、相互に離間する複数の微細溝４を含む。複数の微細溝４の各々は、伸長方向に延びる細長い形状を有する。複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている。例えば、図１１に示すように、複数の微細溝４のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略平行である。一部の実施例において、複数の微細溝４の各々は、ブラックマトリクス層１のうち、複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置し、例えば白色副画素領域を画定する領域内に位置する。

別の態様として、本発明は、表示基板の製造方法を提供する。一部の実施例において、当該方法は、ベース基板にブラックマトリクス層を形成することを含む。選択可能に、ブラックマトリクス層を形成する工程は、互いに離間する複数の微細溝が含まれる微細溝領域を形成することを含む。選択可能に、微細溝領域は、複数の微細溝の各々の深さがブラックマトリクス層の深さを少なくとも部分的に貫通するように形成される。選択可能に、複数の微細溝の各々は、伸長方向に延びる細長い形状を有するように形成される。選択可能に、複数の微細溝は、複数の微細溝の伸長方向が略同一の向きに配向されるように形成される。選択可能に、複数の微細溝は、複数の微細溝の伸長方向が略平行になるように形成される。選択可能に、微細溝領域は、複数の微細溝の各々の深さがブラックマトリクス層の深さをほぼ貫通するように形成され、微細溝領域でのブラックマトリクス層は、複数の微細溝と交互にする複数のブラックマトリクスブランチを含むように形成される。選択可能に、複数の微細溝は、複数の微細溝のうち、少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端が複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口するように形成される。選択可能に、複数の微細溝は、複数の微細溝の各々が複数の副画素領域のうちの少なくとも１つに向かって開口するように形成される。選択可能に、複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含む。複数の微細溝の各々は、ブラックマトリクス層のうち、複数の第１色副画素領域を画定する領域内に形成される。選択可能に、複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である。選択可能に、複数の微細溝の各々は、約５μｍ〜約１０μｍの範囲内の溝幅を有するように形成される。選択可能に、複数の微細溝は、複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の離間距離が約１０μｍ〜約３０μｍの範囲内にあるように形成される。

一部の実施例において、当該方法は、カラーフィルタ層を形成することをさらに含む。選択可能に、カラーフィルタ層を形成する工程は、複数の副画素領域の少なくとも一部で複数のカラーフィルタブロックを形成することを含む。選択可能に、複数の副画素領域を形成する工程は、複数の第１色副画素領域を形成することを含む。選択可能に、複数の微細溝の各々は、ブラックマトリクス層のうち、複数の第１色副画素領域を画定する領域に形成され、複数のカラーフィルタブロックは、複数の第１色副画素領域内に形成されない。選択可能に、複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である。

一部の実施例において、ブラックマトリクス層とカラーフィルタ層を形成する工程の後、当該方法は、ブラックマトリクス層とカラーフィルタ層を含む表示基板を液体（例えば、水）で洗浄することをさらに含む。選択可能に、当該方法は、エアーナイフからの空気流で表示基板から水を除去することをさらに含む。選択可能に、複数の微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向され、エアーナイフからの空気流は、略同一の向きで表示基板に加えられる。本発明の方法によれば、残留水によって表示基板上に形成される「影」領域を完全に除去することができる。

一部の実施例において、当該方法は、カラーフィルタ層とブラックマトリクス層にオーバーコート層を形成することをさらに含む。選択可能に、オーバーコート層を形成する工程は、蒸着プロセスによって行われる。本発明の方法によれば、表示基板上の残留水が完全に除去され、かつ「影」領域が完全に除去されるので、従来の表示基板製造プロセスでの残存水によるバンプの問題を完全に回避することができる。本発明の方法によって製造された表示基板のオーバーコート層には、基本的に白色の欠陥を有しない。

別の態様として、本開示は、本明細書に記載の表示基板、または本明細書に記載の方法によって製造される表示基板を有する表示装置を提供する。適切な表示装置の例には、電子ペーパー、携帯電話、タブレットパソコン、テレビ、モニター、ノートブックパソコン、デジタルフォトアルバム、ＧＰＳなどが含まれるが、これらに限定されない。

本発明の実施形態の上記説明は、例示および説明のために提供されたものである。本発明は、全部的に意図することではなく、開示された厳密な形態または例示的な実施例に本発明を限定することを意図するものでもない。したがって、上記の説明は、例示的なものであり、限定的なものではないと見なされるべきである。明らかに、当業者には、多くの修正および変形が明らかであろう。これらの実施例は、本発明の原理およびその最適な実施形態を最もよく説明するために選択されて記載されるものである。よって、当業者は、本発明が各実施例に適用するものであり、しかも本発明の各変形が、想定される特定の用途または実施形態に適合すると理解できる。本発明は、本発明の保護範囲が添付の請求項およびその同等内容によって限定されることを意図し、別途説明されない限り、請求項およびその同等内容に関連する全ての用語が最も合理的で広義の意味を持つ。したがって、「発明」、「本発明」などの用語は、請求項の範囲を必ずしも特定の実施例に限定するというわけではなく、本発明の例示的な実施例への参照が本発明に対する限定を示唆するというわけではなく、しかもこのような限定を導くことができない。本発明は、添付の請求項の精神および範囲のみによって限定される。さらに、これらの請求項には、名詞または要素の前に「第１」、「第２」などを使用することがある。特定の数が示されていない限り、このような用語は、命名法として理解されるべきであり、そのような命名法によって変更される要素の数を限定するものとして解釈されるべきではない。記載された利点および優れる点のいずれも、本発明のすべての実施形態に適用するものではない可能性がある。添付の請求項によって限定される本発明の範囲から逸脱することなく、当業者によって記載された実施形態に変更を加えることができることは理解されよう。さらに、本発明の要素および構成要素は、添付の請求項に明確的に記述されているかどうかにかかわらず、公衆に捧げることを意図するものではない。

Claims (24)

1. 互いに離間する複数の微細溝が含まれる微細溝領域を含み、表示基板で複数の副画素領域を画定するためのブラックマトリクス層において、
   前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さを少なくとも部分的に貫通し、
   前記複数の微細溝のうちの少なくとも１つは、伸長方向に延びる細長い形状を有するブラックマトリクス層。
2. 前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている請求項１に記載のブラックマトリクス層。
3. 前記複数の微細溝の伸長方向は、略平行である請求項２に記載のブラックマトリクス層。
4. 前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さをほぼ貫通し、
   前記微細溝領域でのブラックマトリクス層は、前記複数の微細溝と交互にする複数のブラックマトリクスブランチを含む請求項１に記載のブラックマトリクス層。
5. 前記複数の微細溝のうち、少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端は、前記複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口している請求項１に記載のブラックマトリクス層。
6. 前記複数の微細溝の各々は、前記複数の副画素領域のうちの少なくとも１つに向かって開口している請求項５に記載のブラックマトリクス層。
7. 前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含み、
   前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置する請求項１に記載のブラックマトリクス層。
8. 前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である請求項７に記載のブラックマトリクス層。
9. 前記複数の微細溝の各々の溝幅は、約５μｍ〜約１０μｍの範囲内にある請求項１に記載のブラックマトリクス層。
10. 前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の離間距離は、約１０μｍ〜約３０μｍの範囲内にある請求項１に記載のブラックマトリクス層。
11. ベース基板と、
    請求項１に記載のブラックマトリクス層とを備える表示基板。
12. 前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の伸長方向は、略同一の向きに配向されている請求項１１に記載の表示基板。
13. 前記複数の微細溝の伸長方向は、略平行である請求項１２に記載の表示基板。
14. 前記複数の微細溝の各々の深さは、前記ブラックマトリクス層の深さをほぼ貫通し、
    前記微細溝領域でのブラックマトリクス層は、前記複数の微細溝と交互にする複数のブラックマトリクスブランチを含む請求項１１に記載の表示基板。
15. 前記複数の微細溝のうち、少なくとも１つの微細溝の少なくとも一端は、前記複数の副画素領域のうちの１つに向かって開口している請求項１１に記載の表示基板。
16. 前記複数の微細溝の各々は、前記複数の副画素領域のうちの少なくとも１つに向かって開口している請求項１５に記載の表示基板。
17. 前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含み、
    前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置する請求項１１に記載の表示基板。
18. 前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である請求項１７に記載の表示基板。
19. 前記複数の微細溝の各々の溝幅は、約５μｍ〜約１０μｍの範囲内にある請求項１１に記載の表示基板。
20. 前記複数の微細溝のうち、隣接する微細溝の離間距離は、約１０μｍ〜約３０μｍの範囲内にある請求項１１に記載の表示基板。
21. 前記複数の副画素領域の少なくとも一部に位置する複数のカラーフィルタブロックが含まれるカラーフィルタ層をさらに備える請求項１１に記載の表示基板。
22. 前記複数の副画素領域は、複数の第１色副画素領域を含み、
    前記複数の微細溝の各々は、前記ブラックマトリクス層のうち、前記複数の第１色副画素領域を画定する領域内に位置され、
    前記複数のカラーフィルタブロックは、前記複数の第１色副画素領域に存在しない請求項２１に記載の表示基板。
23. 前記複数の第１色副画素領域は、複数の白色副画素領域である請求項２２に記載の表示基板。
24. 請求項１１〜２３のいずれか一項に記載の表示基板を備える表示装置。
    

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