CN110050228A - 具有微凹槽的黑色矩阵层、显示基底和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于在显示基底中限定多个子像素区的黑色矩阵层。所述黑色矩阵层包括微凹槽区，所述微凹槽区包括彼此间隔分布的多个微凹槽。所述多个微凹槽中的每一个的深度至少部分延伸穿过所述黑色矩阵层的深度。所述多个微凹槽中的至少一个具有沿伸长方向延伸的细长形状。

Description

具有微凹槽的黑色矩阵层、显示基底和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术，更具体地，涉及一种具有微凹槽的黑色矩阵层、显示基底和显示装置。
背景技术
在显示基底中，如数据线、触摸电极和公共电极线等金属线均由高导电性的金属制成，这些材料具有很高的光反射率。因此，需要在显示基底(如滤色基板)中设置黑色矩阵以阻挡来自金属线的光反射。黑色矩阵通常由具有较低光反射率的黑色材料(如碳、钼、铬等)构成。
发明内容
一方面，本发明提供一种用于在显示基底中限定多个子像素区的黑色矩阵层，包括微凹槽区，所述微凹槽区包括彼此间隔分布的多个微凹槽；其中，所述多个微凹槽中的每一个的深度至少部分延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且所述多个微凹槽中的至少一个具有沿伸长方向延伸的细长形状。
可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。
可选地，所述多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。
可选地，所述多个微凹槽中的每一个的深度大体延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且所述微凹槽区中的黑色矩阵层包括与所述多个微凹槽交替分布的多个黑色矩阵分支。
可选地，所述多个微凹槽中的至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。
可选地，所述多个微凹槽中的每一个朝所述多个子像素区中的至少一个开放。
可选地，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；并且所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内。
可选地，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
可选地，所述多个微凹槽这的每一个的凹槽宽度在约5μm～约10μm的范围内。
可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的间隔距离在约10μm～约30μm的范围内。
另一方面，本发明提供一种包括本文所述的衬底基板和上述黑色矩阵层的显示基底。
可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。
可选地，所述多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。
可选地，所述多个微凹槽中的每一个的深度大体延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且所述微凹槽区中的黑色矩阵层包括与所述多个微凹槽交替分布的多个黑色矩阵分支。
可选地，所述多个微凹槽中的至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。
可选地，所述多个微凹槽中的每一个朝所述多个子像素区中的至少一个开放。
可选地，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；并且所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内。
可选地，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
可选地，所述多个微凹槽中的每一个的凹槽宽度在约5μm～约10μm的范围内。
可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的间隔距离在约10μm～约30μm的范围内。
可选地，所述显示基底进一步包括滤色层；其中，所述滤色层包括位于所述多个子像素区的至少一部分中的多个滤色块。
可选地，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内；并且所述多个滤色块不存在于所述多个第一颜色子像素区中。
可选地，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
另一方面，本发明提供一种包括本文所述的显示基底的显示装置。
附图说明
以下附图仅作为根据本文各实施例的说明性示例，并非旨在限定本发明的范围。
图1是示出常规显示基底清洗过程的示意图。
图2是沿图1中的线A-A’的横截面图。
图3是沿图1中的线B-B’的横截面图。
图4是沿图1中的线C-C'的横截面图。
图5是根据本发明的一些实施例中黑色矩阵层的示意图。
图6是根据本发明的一些实施例中黑色矩阵层的示意图。
图7是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线A-A’的横截面图。
图8是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线A-A’的横截面图。
图9是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线B-B’的横截面图。
图10是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线B-B’的横截面图。
图11是根据本发明的一些实施例中显示基底的示意图。
图12是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线A-A’的横截面图。
图13是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线B-B’的横截面图。
图14是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线C-C’的横截面图。
具体实施方式
接下来将结合实施例对本发明进行更具体地描述。应当注意的是，以下一些实施例的描述是出于说明和描述的目的，并非旨在穷尽或或限制于所公开的精确形式。
在常规显示基底(如滤色基板)制造过程的一个步骤中，在形成显示基底的特定层后，用水等液体清洗显示基底。清洗过程完成后，残留在显示基底上的水用来自气刀的气移除。图1是示出常规显示基底清洗过程的示意图。参见图1，显示基底为包括黑色矩阵层1的滤色基板，黑色矩阵层1用于限定多个子像素区，如红色子像素区R、绿色子像素区G、蓝色子像素区B和白色子像素区W。滤色基板进一步包括滤色器，滤色器包括多个滤色块，如红色滤色块2a、绿色滤色块2b和蓝色滤色块2c。在一些滤色基板中，白色子像素区W不包含滤色块。在其它滤色基板中，白色子像素区W中设置有间隔件。图2是沿图1中的线A-A’的横截面图。图3是沿图1中的线B-B’的横截面图。图4是沿图1中的线C-C'的横截面图。如图1-4所示，在一些滤色基板中，白色子像素区W不包含滤色块。因此，白色子像素区和相邻子像素区之间存在很大段差。
参见图1和图2，在清洗过程中，来自气刀的气吹在显示基底上。由于白色子像素区和相邻子像素区之间的段差，显示基底上的余水无法完全移除，部分余水会残留在显示基底的“阴影”区S。在清洁步骤之后的制造过程中，将要在显示基底的表面形成涂覆层。涂覆材料通常通过如气相沉积工艺沉积在显示基底的滤色器上。由于气相沉积工艺在真空环境下进行，“阴影”区域S中的余水蒸发而形成凸点。余水凸点会破坏涂覆层，并最终导致在涂覆层上形成白色瑕疵。
虽然由于上述段差，该问题在不具有白色滤色块的白色子像素区最为严重，但在具有滤色块的子像素区中该问题同样存在。虽然可以通过增加来自气刀的气的压力和施加时间以进一步减少余水，但“阴影”区S并不能完全消除。此外，增加气刀的压力和施加时间的步骤将不可避免地延长基底的生产节拍时间，并增加基底被气刀损坏的风险。
因此，本发明尤其提供一种基本上消除因现有技术的局限和缺点而产生的一个或多个问题的具有微凹槽的黑色矩阵层、显示基底和显示装置。一方面，本发明提供一种用于在显示基底中限定多个子像素区的黑色矩阵层。在一些实施例中，所述黑色矩阵层包括微凹槽区，所述微凹槽区包括彼此间隔分布的多个微凹槽。可选地，所述多个微凹槽中的至少一个具有沿伸长方向延伸的细长形状。可选地，所述多个微凹槽中的每以个均具有沿伸长方向延伸的细长形状。可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。可选地，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向大体互相平行。可选地，所述多个微凹槽中的每一个的深度至少部分延伸穿过所述黑色矩阵层的深度。通过这种设计，多个微凹槽可以作为在气从气刀吹出时引导余水(尤其是从“阴影”区)流走的通道。因此，显示基底上的余水可以通过气刀程序完全移除，并且可以完全消除显示基底中的“阴影”区。
在一些实施例中，所有多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。在一些实施例中，多个微凹槽包括伸长方向彼此不同的多个微凹槽组。例如，在第一微凹槽组中，微凹槽的伸长方向具有大体相同的第一朝向，如大体互相平行。在第二微凹槽组中，微凹槽的伸长方向具有大体相同的第二朝向，如大体互相平行，第二朝向不同于第一朝向。
在本文中，本发明上下文中的术语“大体相同朝向”不限于相邻微凹槽的伸长方向大体互相平行的情况。术语“大体相同朝向”包括与基准伸长方向相比偏差达到5度、10度、15度、20度、25度、30度、35度、40度、45度、50度、55度、60度、65度、70度、75度、80度或以上。可选地，术语“大体相同朝向”表示相邻微凹槽的伸长方向彼此偏差不超过90度、80度、75度、70度、65度、60度、55度、50度、45度、40度、35度、30度、25度、20度、15度、10度、5度或更小。
图5是根据本发明的一些实施例中黑色矩阵层的示意图。参见图5，在一些实施例中，黑色矩阵层1包括微凹槽区3。在微凹槽区3中，黑色矩阵层1包括彼此间隔分布的多个微凹槽4。可选地，如图5所示，多个微凹槽4的每一个具有沿伸长方向延伸的细长形状。多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向，例如，如图5所示，多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向大体互相平行。
图6是根据本发明的一些实施例中黑色矩阵层的示意图。参见图6，多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向并非互相平行，而是具有大体相同朝向。在一个实例中，黑色矩阵层为显示基底中包括沿第一方向和第二方向布置在阵列中的多个子像素区的黑色矩阵层。如图6所示，第一方向和第二方向将显示基底平面划分为四个部分，按逆时针方向依次为Q1、Q2、Q3、Q4。在图6中，多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向全部具有大体相同朝向，如全部沿Q2到Q4(或沿Q4到Q2)。可选地，多个微凹槽4中相邻微凹槽的延长方全部沿Q1到Q3(或沿Q3到Q1)。虽然伸长方向不是互相平行，但多个微凹槽4足以作为通道，用以引导显示基底上的余水从“阴影”区流走。
图7是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线A-A’的横截面图。参见图7，多个微凹槽4中每一个的深度大体延伸穿过黑色矩阵层1的深度。黑色矩阵层1的深度方向在图7中用D表示。参见图5-图7，微凹槽区3中的黑色矩阵层1包括与多个微凹槽4交替分布的多个黑色矩阵分支5。
如图7所示，多个微凹槽中的每一个具有凹槽宽度w1。可选地，凹槽宽度w1的范围为约1μm～约20μm，例如，约1μm～约10μm、约10μm～约20μm、约5μm～约10μm、约5μm～约15μm、约1μm～约15μm、约10μm～约15μm、约1μm～约5μm、约2.5μm～约5μm、约5μm～约7.5μm以及约2.5μm～约7.5μm。如图7所示，多个微凹槽4中相邻微凹槽之间的间隔距离为w2。可选地，距离w2的范围为约10μm～约100μm、例如、约10μm～约30μm、约30μm～约50μm、约50μm～约70μm、约70μm～约90μm，以及约90μm～约100μm。
图8是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线A-A’的横截面图。参见图8，多个微凹槽4中每一个的深度仅部分延伸穿过黑色矩阵层1的深度。黑色矩阵层1的深度方向在图8中用D表示。参见图5、图6和图8，微凹槽区3中的黑色矩阵层1包括与多个微凹槽4交替分布的多个黑色矩阵分支5。
在一些实施例中，多个微凹槽4中至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。图9是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线B-B’的横截面图。参见图9，多个微凹槽4中的一个同时朝邻近的白色子像素区W和邻近的红色子像素区R开放。图10是根据本发明的一些实施例中沿图5中的线B-B’的横截面图。参见图10，多个微凹槽4中的一个朝邻近的白色子像素区W开放，但不朝邻近的红色子像素区R开放。可选地，多个微凹槽4中的每一个均朝多个子像素区中的至少一个开放。
在一些实施例中，多个微凹槽4中的至少一个的至少一端不朝多个子像素区中任何邻近的子像素区开放(例如，参见图6)。可选地，多个微凹槽4中的至少一个的两端均不朝多个子像素区中任何邻近的子像素区开放(例如，参见图6)。
在一些实施例中，多个微凹槽4包括与子像素区中具有滤色块的子像素区(例如，红色子像素区R具有红色滤色块，蓝色子像素区B具有蓝色滤色块，绿色子像素区G具有绿色滤色块)相邻但与不具有滤色块的子像素区(如不具有滤色块的白色子像素区)不相邻的多个微凹槽。可选地，多个微凹槽中的至少一个(如每一个)的至少一端(如两端)不朝多个子像素区中任何邻近的子像素区开放。可选地，多个微凹槽中的至少一个(如每一个)在微凹槽中间具有较大深度，在微凹槽两端具有较小深度。
在一些实施例中，多个子像素区包括多个第一颜色子像素区。可选地，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1限定多个第一颜色子像素区的区域内。参见图5和图6，由黑色矩阵层1限定的多个子像素区至少包括白色子像素区W和红色子像素区R。多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1限定白色子像素区W的区域内。通过这种设计，可以有效消除余水在白色子像素区中形成的“阴影”区。
可选地，多个子像素区包括多个红色子像素区、多个绿色子像素区、多个蓝色子像素区和多个白色子像素区中的一个或其组合。可选地，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1中限定红色子像素区R的区域内。可选地，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1中限定绿色子像素区的区域内。可选地，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1中限定蓝色子像素区的区域内。可选地，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1中限定红色子像素区R、绿色子像素区、蓝色子像素区和白色子像素区中的两个或两个以上的区域内。可选地，多个微凹槽4位于黑色矩阵层1中限定所有子像素区的区域内。
另一方面，本发明提供一种在显示基底上具有本文所述的衬底基板和黑色矩阵层的显示基底。图11是根据本发明的一些实施例中显示基底的示意图。图12是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线A-A’的横截面图。图13是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线B-B’的横截面图。图14是根据本发明的一些实施例中沿图11中的线C-C’的横截面图。参见图11-图14，在一些实施例中，显示基底包括衬底基板10以及位于衬底基板上的黑色矩阵层1。在一些实施例中，显示基底为包括滤色层的滤色基板，滤色层包括多个滤色块。如图11所示，在一些实施例中，滤色层包括红色子像素区R中的多个红色滤色块2a、绿色子像素区G中的多个绿色滤色块2b和蓝色子像素区B中的多个蓝色滤色块2c。可选地，显示基底在白色子像素区W内不包括任何滤色块，例如，白色子像素区W中不存在滤色块。
如图11-图14所示，在一些实施例中，显示基底的黑色矩阵层1包括微凹槽区3，在微凹槽区3内，黑色矩阵层1包括彼此间隔分布的多个微凹槽4。所述多个微凹槽具4每一个均具有沿伸长方向延伸的细长形状。多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向，例如，如图11所示，多个微凹槽4中相邻微凹槽的伸长方向大体互相平行。在一些实施例中，多个微凹槽4中的每一个位于黑色矩阵层1中限定多个第一颜色子像素区的区域内，例如，位于限定白色子像素区的区域内。
另一方面，本发明提供一种制造显示基底的方法。在一些实施例中，所述方法包括：在衬底基板上形成黑色矩阵层。可选地，形成所述黑色矩阵层的步骤包括：形成微凹槽区，所述微凹槽区包括彼此间隔分布的多个微凹槽。可选地，所述微凹槽区形成为：所述多个微凹槽中每一个的深度至少部分延伸穿过所述黑色矩阵层的深度。可选地，所述多个微凹槽中每一个形成为具有沿伸长方向延伸的细长形状。可选地，所述多个微凹槽形成为：所述多个微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。可选地，所述多个微凹槽形成为：所述多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。可选地，所述微凹槽区形成为：所述多个微凹槽中每一个的深度大体延伸穿过所述黑色矩阵层的深度，并且所述微凹槽区中的所述黑色矩阵层形成为包括与所述多个微凹槽交替分布的多个黑色矩阵分支。可选地，所述多个微凹槽形成为：所述多个微凹槽中至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。可选地，所述多个微凹槽形成为：所述多个微凹槽中每一个朝所述多个子像素区中至少一个开放。可选地，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区，并且所述多个微凹槽中的每一个均形成在所述黑色矩阵层中限定所述多个第一颜色子像素区的区域内。可选地，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。可选地，所述多个微凹槽中的每一个均形成为具有约5μm～约10μm范围内的凹槽宽度。可选地，所述多个微凹槽形成为：所述多个微凹槽中相邻微凹槽的间隔距离在约10μm～约30μm的范围内。
在一些实施例中，所述方法进一步包括：形成滤色层。可选地，形成所述滤色层的步骤包括：在所述多个子像素区的至少一部分中形成多个滤色块。可选地，形成所述多个子像素区的步骤包括：形成多个第一颜色子像素区。可选地，所述多个微凹槽中的每一个均形成在所述黑色矩阵层中限定所述多个第一颜色子像素区的区域内，并且所述多个滤色块不形成在所述多个第一颜色子像素区内。可选地，所述多个第一颜色子像素区是多个白色子像素区。
在一些实施例中，在形成所述黑色矩阵层和所述滤色层的步骤之后，所述方法进一步包括：用液体(如水)清洗包括所述黑色矩阵层和所述滤色层的所述显示基底。可选地，所述方法进一步包括：用来自气刀的气流移除所述显示基底上的水。可选地，所述多个微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向，并且来自所述气刀的气流沿所述大体相同朝向施加在所述显示基底上。利用本发明的方法，可以彻底消除因余水在显示基底上形成的“阴影”区。
在一些实施例中，所述方法进一步包括：在所述滤色层和所述黑色矩阵层上形成涂覆层。可选地，形成所述涂覆层的步骤通过气相沉积工艺执行。利用本发明的方法，由于完全移除了显示基底上的余水且完全消除了“阴影”区，可以彻底避免常规显示基底制造过程中余水导致的凸点问题。利用本发明方法制造的显示基底的涂覆层上基本没有白色瑕疵。
另一方面，本发明提供一种包括上述显示基底或根据上述方法制造的显示装置。合适的显示装置实例包括但不限于，电子纸、手机、平板电脑、电视、显示器、笔记本电脑、数码相册、GPS等。
出于示例和说明的目的提供了本发明实施例的上述说明。本发明的意图并非在于穷举或者将本发明限制在所披露的精确形式或示例性实施例。因此，上述说明应视为说明性而非限制性的。显然，许多修改和变型对于本领域的技术人员而言是显而易见的。这些实施例的选取和描述是为了更好地解释本发明的原理及其最佳应用模式，从而使本领域的技术人员能够理解：本发明适用于各种实施例并且本发明的各种变型适合于所设想的特定用途或实施方式。本发明的意图在于由所附权利要求及其等同内容来限定本发明的保护范围，除非另有说明，否则权利要求及其等同内容中的所有术语均具有最宽泛的合理意义。因此，术语“发明”、“本发明”等不一定将权利要求的范围限定于特定实施例，对本发明的示例性实施例的参考并不暗指对本发明的限制，并且不能推出这样的限制。本发明仅由所附权利要求的主旨和范围限定。此外，这些权利要求可能在名词或元件前面使用“第一”、“第二”等。除非给出了特定的数字，否则此类术语应当理解为一种命名法，并且不应解释为对由这种命名法修改的元件的数量做出限制。所描述的任何优点和益处可能不适用于本发明的所有实施例。应当理解的是，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的范围的情况下，可以在本领域技术人员描述的实施例中做出变型。此外，不管元件或组件是否在所附权利要求中明确地叙述，本发明中的元件和组件并非旨在专用于公众。

Claims (24)

1.一种用于在显示基底中限定多个子像素区的黑色矩阵层，包括微凹槽区，所述微凹槽区包括彼此间隔分布的多个微凹槽；
其中，所述多个微凹槽中的每一个的深度至少部分延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且
所述多个微凹槽中的至少一个具有沿伸长方向延伸的细长形状。
2.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。
3.根据权利要求2所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。
4.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中的每一个的深度大体延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且
所述微凹槽区中的所述黑色矩阵层包括与所述多个微凹槽交替分布的多个黑色矩阵分支。
5.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中的至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。
6.根据权利要求5所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中的每一个朝所述多个子像素区中的至少一个开放。
7.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；并且
所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内。
8.根据权利要求7所述的黑色矩阵层，其中，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
9.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中的每一个的凹槽宽度在约5μm～约10μm的范围内。
10.根据权利要求1所述的黑色矩阵层，其中，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的间隔距离在约10μm～约30μm的范围内。
11.一种显示基底，包括：
衬底基板；以及
根据权利要求1所述的黑色矩阵层。
12.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的伸长方向具有大体相同朝向。
13.根据权利要求12所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽的伸长方向大体互相平行。
14.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中的每一个的深度大体延伸穿过所述黑色矩阵层的深度；并且
所述微凹槽区中的所述黑色矩阵层包括与所述多个微凹槽交替分布的多个黑色矩阵分支。
15.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中的至少一个的至少一端朝所述多个子像素区中的一个开放。
16.根据权利要求15所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中的每一个朝所述多个子像素区中的至少一个开放。
17.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；并且
所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内。
18.根据权利要求17所述的显示基底，其中，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
19.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中的每一个的凹槽宽度在约5μm～约10μm的范围内。
20.根据权利要求11所述的显示基底，其中，所述多个微凹槽中相邻微凹槽的间隔距离在约10μm～约30μm的范围内。
21.根据权利要求11所述的显示基底，进一步包括：滤色层；
其中，所述滤色层包括位于所述多个子像素区的至少一部分中的多个滤色块。
22.根据权利要求21所述的显示基底，其中，所述多个子像素区包括多个第一颜色子像素区；
所述多个微凹槽中的每一个均位于所述黑色矩阵层的限定所述多个第一颜色子像素区的区域内；并且
所述多个滤色块不存在于所述多个第一颜色子像素区中。
23.根据权利要求22所述的显示基底，其中，所述多个第一颜色子像素区为多个白色子像素区。
24.一种显示装置，包括权利要求11-23中任意一项所述的显示基底。
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