CN105093692A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，包括该显示基板的显示装置可以准确控制取向膜的边缘位置，进而改善取向膜扩散到封框胶以外导致封框胶粘附力降低的问题。一种显示基板，包括衬底以及依次设置在所述衬底之上的平坦层、取向膜，所述显示基板还包括显示区域和位于所述显示区域周围的封框胶区域、以及位于所述封框胶区域和所述显示区域之间的隔离区域，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域设置有凹槽，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。本发明适用于显示基板、以及包括该显示基板的显示装置的制作。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)已经广泛应用于显示技术领域。参考图1所示，LCD包括对盒的阵列基板1和彩膜基板2、以及位于阵列基板1和彩膜基板2之间的液晶3和封框胶4。为了使得液晶具有初始取向，参考图1所示，LCD还包括设置在液晶3两侧的取向膜5。

实际生产中，取向膜的制作过程如下：先设置取向液，取向液固化后形成取向膜。但是取向液具有极强的扩散性，在取向液固化形成取向膜之前，取向液极有可能扩散到封框胶以外。参考图1所示，取向液固化后形成的取向膜5与封框胶4完全接触，这样会降低封框胶4的粘附力，导致该LCD边缘处易被剥离，从而产生气泡，进而影响产品性能。且这种问题在生产检测中不易被发现，一旦在终端用户使用中爆发，对于生产厂家的影响非常大。因此，取向液扩散到封框胶以外进而导致封框胶粘附力降低的问题亟待解决。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，包括该显示基板的显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供了一种显示基板，包括衬底以及依次设置在所述衬底之上的平坦层、取向膜，所述显示基板还包括显示区域和位于所述显示区域周围的封框胶区域、以及位于所述封框胶区域和所述显示区域之间的隔离区域，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域设置有凹槽，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。

可选的，所述封框胶区域包括两个相对的第一边缘区域，所述隔离区域包括两个相对的第二边缘区域，所述凹槽至少位于两个所述第一边缘区域或两个所述第二边缘区域。

可选的，在所述凹槽设置在所述第一边缘区域的情况下，所述第一边缘区域包括与所述隔离区域接触的第一区域和远离所述隔离区域的第二区域，所述凹槽位于所述第一区域。

可选的，所述第一区域和所述第二区域的形状均为矩形，且所述第一区域和所述第二区域的宽度相同。

可选的，所述凹槽的形状为梯台、半圆柱体或者长方体。

可选的，所述凹槽远离所述衬底的开口的宽度的范围为0.05mm-0.3mm。

可选的，所述凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。

本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括衬底以及依次设置在衬底之上的平坦层、取向膜，显示基板还包括显示区域和位于显示区域周围的封框胶区域、以及位于封框胶区域和显示区域之间的隔离区域，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽，取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内。那么在形成取向膜时，凹槽可以容纳向外扩散的取向液，以避免取向液扩散到封框胶区域以外，进而使得取向液形成的取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内，从而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。

另一方面，提供了一种显示装置，包括对盒的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶和封框胶，所述彩膜基板为上述所述的显示基板，和/或，所述阵列基板为上述所述的显示基板，所述封框胶位于所述彩膜基板的封框胶区域与所述阵列基板的封框胶区域之间的位置。

可选的，所述彩膜基板包括依次设置在所述衬底和所述平坦层之间的黑矩阵和彩膜层。

可选的，所述彩膜基板的平坦层的凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。

可选的，所述阵列基板包括依次设置在所述平坦层和所述取向膜之间的公共电极层、绝缘层和像素电极层。

可选的，所述阵列基板的平坦层的凹槽的高度小于所述平坦层的厚度。

本发明的实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。该显示装置可以为液晶显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。

再一方面，提供了一种显示基板的制作方法，所述方法包括：

在衬底上形成平坦层，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域形成凹槽；

在所述衬底上形成取向膜，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。

本发明的实施例提供了一种显示基板的制作方法，通过该方法形成的显示基板包括衬底以及依次形成在衬底之上的平坦层、取向膜，该显示基板还包括显示区域和位于显示区域周围的封框胶区域、以及位于封框胶区域和显示区域之间的隔离区域，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽，取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内。那么在形成取向膜时，凹槽可以容纳向外扩散的取向液，以避免取向液扩散到封框胶区域以外，进而使得取向液形成的取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内，从而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中提供的一种LCD的结构示意图；

图2a为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图2b为形成图2a取向膜时，取向液未扩散前的一种结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种凹槽的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的另一种凹槽的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种凹槽的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的一种LCD的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的另一种LCD的结构示意图。

附图标记：

1-阵列基板；2-彩膜基板；3-液晶；4-封框胶；5-取向膜；61-显示基板的封框胶区域；611-第一边缘区域；612-第一区域；613-第二区域；62-显示区域；63-隔离区域；631-第二边缘区域；7-显示基板的衬底；8-平坦层；9-凹槽；10-黑矩阵；11-彩膜层；12-公共电极层；13-绝缘层；14-像素电极层；100-阵列基板的衬底；101-阵列基板的封框胶区域；102-阵列基板的隔离区域；103-阵列基板的显示区域；200-彩膜基板的衬底；201-彩膜基板的封框胶区域；202-彩膜基板的隔离区域；203-彩膜基板的显示区域；81-阵列基板的平坦层；82-彩膜基板的平坦层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

实施例一

本发明的实施例提供了一种显示基板，参考图2a、3-4所示，该显示基板包括衬底7以及依次设置在衬底7之上的平坦层8、取向膜5，显示基板还包括显示区域62和位于显示区域62周围的封框胶区域61、以及位于封框胶区域61和显示区域62之间的隔离区域63，平坦层8在封框胶区域61和/或隔离区域63设置有凹槽9，取向膜5的至少一个边缘位于凹槽9内。

需要说明的是，上述显示基板可以与另一基板通过封框胶对盒形成显示装置，其中，该显示基板用于设置封框胶的区域为封框胶区域；该显示基板用于实现显示的区域为显示区域；封框胶区域和显示区域之间的区域为隔离区域，该隔离区域可以将封框胶区域和显示区域隔离开，避免后续设置封框胶时，由于工艺误差使得一部分封框胶进入到显示区域进而影响显示效果。当然，该显示基板还可以包括其他区域，这里不作具体限定，示例的，该显示基板还可以包括边缘区域，该边缘区域位于封框胶区域远离隔离区域的一侧，可用于形成驱动电路等。进一步需要说明的是，本发明实施例中仅详细介绍显示基板与发明点相关的结构，本发明实施例以及附图均以显示基板包括封框胶区域、隔离区域和显示区域为例进行说明。

上述显示基板中，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽是指：参考图2a所示，平坦层8可以在封框胶区域61设置有凹槽9；或者，参考图3所示，平坦层8可以在隔离区域63设置有凹槽9；或者，参考图4所示，平坦层8可以在封框胶区域61和隔离区域63均设置有凹槽9。本发明实施例对此不作限定，只要满足取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内即可。

上述显示基板中，取向膜的至少一个边缘位于凹槽内是指取向液形成取向膜之后，取向膜的至少一个边缘位于凹槽内。本发明实施例对于位于凹槽内的取向膜的边缘数量不作限定。示例的，取向膜可以仅有一个边缘位于凹槽内，或者取向膜有两个边缘位于凹槽内，或者取向膜的所有边缘均位于凹槽内，这里不作具体限定，可以根据设置的凹槽的情况而定。这里需要说明的是，由于形成取向膜的取向液具有扩散性，参考图2a所示，理论设计的取向膜的边缘位置与实际形成的取向膜的边缘位置存在偏差R。本发明实施例均以实际形成的取向膜为例进行说明。

上述显示基板中，本发明实施例对于显示基板包括的其他膜层不做限定，本发明实施例中仅详细介绍显示基板与发明点相关的结构，本领域技术人员能够根据公知常识以及现有技术获知，该显示基板还可以包括其他膜层，例如：还可以包括栅极、栅绝缘层、薄膜晶体管、像素电极层、公共电极层等以形成阵列基板，当然还可以包括黑矩阵、彩膜层等以形成彩膜基板。这里不作具体限定。

本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括衬底以及依次设置在衬底之上的平坦层、取向膜，显示基板还包括显示区域和位于显示区域周围的封框胶区域、以及位于封框胶区域和显示区域之间的隔离区域，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽，取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内。那么在形成取向膜时，凹槽可以容纳向外扩散的取向液，以避免取向液扩散到封框胶区域以外，进而使得取向液形成的取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内，从而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。例如，若要形成如图2b所示的取向膜5时，凹槽9可以容纳向外扩散的取向液，从而避免取向液扩散到封框胶区域61以外，最终形成如图2a所示的取向膜5，进而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。

可选的，参考图5-6所示，封框胶区域61包括两个相对的第一边缘区域611，隔离区域63包括两个相对的第二边缘区域631，凹槽至少位于两个第一边缘区域或两个第二边缘区域。

这里需要说明的是，凹槽至少位于两个第一边缘区域或两个第二边缘区域是指：若凹槽设置在封框胶区域，参考图5所示，凹槽9可以仅位于两个第一边缘区域611，或者，凹槽还可以位于除了两个第一边缘区域以外的其他边缘区域；若凹槽设置在隔离区域，参考图6所示，凹槽9可以仅位于两个第二边缘区域631，或者，凹槽还可以位于除了两个第二边缘区域以外的其他边缘区域。进一步需要说明的是，若凹槽设置在封框胶区域，凹槽还可以是仅位于一个第一边缘区域；若凹槽设置在隔离区域，凹槽还可以是仅位于一个第二边缘区域。考虑到凹槽的容积和成本，可以选择凹槽位于两个第一边缘区域或两个第二边缘区域。本发明实施例以及附图均以凹槽位于两个第一边缘区域或两个第二边缘区域为例进行说明。更进一步需要说明的是，第一边缘区域611、第二边缘区域631可以均是如图5所示的沿OA方向的区域，当然也可以均是如图5所示的沿OB方向的区域，这里不作具体限定，本发明实施例以及附图均以第一边缘区域611、第二边缘区域631是如图5所示的沿OA方向的区域为例进行说明。

进一步可选的，参考图7所示，在凹槽9设置在第一边缘区域611的情况下，第一边缘区域611包括与隔离区域63接触的第一区域612和远离隔离区域63的第二区域613，凹槽9位于第一区域612。

这里需要说明的是，本发明实施例对于上述第一区域和第二区域的划分范围不作限定，示例的，参考图7所示，第一区域612的宽度和第二区域613的宽度均为W；或者，第一区域的宽度可以小于第二区域的宽度；或者，第一区域的宽度可以大于第二区域的宽度。这样，可以将凹槽设置在靠近隔离区域的第一区域，从而减少后续设置的封框胶与取向膜的接触面积，进而提高封框胶的粘附力；同时，若凹槽未被取向液填满，则凹槽内还可以填充更多的封框胶，从而进一步提高封框胶的粘附力。

为了更进一步减少后续设置的封框胶与取向膜的接触面积，从而提高封框胶的粘附力，优选的，参考图7所示，第一区域612和第二区域613的形状可以均为矩形，且第一区域613和第二区域613的宽度相同。

可选的，凹槽的形状可以为梯台、半圆柱体或者长方体，这样易于制作且容积较大。本发明实施例以及附图均以凹槽的形状为长方体为例进行说明。

可选的，参考图8和图9所示，凹槽9远离衬底的开口的宽度W1的范围为0.05mm-0.3mm，示例的，凹槽远离衬底的开口的宽度可以是0.1mm、0.15mm、0.2mm或0.25mm。这样，有利于形成窄边框的显示装置。

可选的，凹槽的高度不超过平坦层的厚度。这里需要说明的是，凹槽的高度是指沿垂直于衬底方向，从远离衬底的开口到凹槽底部的最大距离。示例的，参考图8所示，凹槽9的形状为长方体，其沿垂直于衬底方向的截面是矩形，则沿垂直于衬底方向，从远离衬底的开口到凹槽底部的距离相同，均为H1，那么该凹槽9的高度即为H1。参考图10所示，凹槽的形状为半圆柱体，其沿垂直于衬底方向的截面是半圆形，则沿垂直于衬底方向，从远离衬底的开口到凹槽底部的距离不同，那么凹槽的高度为凹槽的弧顶到远离衬底的开口的距离H2。上述凹槽的高度可以反映凹槽被挖空的程度。示例的，参考图8所示，该凹槽9的高度H1小于平坦层8的厚度H，说明凹槽9被部分挖空；当然，参考图9所示，凹槽9的高度H1还可以等于平坦层8的厚度H，即凹槽9被完全挖空。本发明实施例对于凹槽挖空的程度不作限定，具体根据实际情况而定。

实施例二

本发明实施例提供了一种显示装置，参考图11所示，该显示装置包括对盒的阵列基板1和彩膜基板2、以及位于阵列基板1和彩膜基板2之间的液晶3和封框胶4，彩膜基板2为实施例一提供的显示基板，和/或，阵列基板1为实施例一提供的显示基板，封框胶4位于彩膜基板2的封框胶区域201与阵列基板1的封框胶区域101之间的位置。

需要说明的是，彩膜基板为实施例一提供的显示基板，和/或，阵列基板为实施例一提供的显示基板是指：彩膜基板可以是实施例一提供的显示基板，或者阵列基板可以是实施例一提供的显示基板，或者彩膜基板和阵列基板均可以是实施例一提供的显示基板，这里不作具体限定。由于彩膜基板和阵列基板均设置有取向膜，为了更好的改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题，可以选择最后一种结构。

本发明的实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。该显示装置可以为液晶显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。

可选的，参考图12所示，彩膜基板2包括依次设置在衬底200和平坦层82之间的黑矩阵10和彩膜层11。

可选的，彩膜基板的平坦层的凹槽的高度可以小于等于平坦层的厚度，即上述凹槽可以是部分挖空，或者全部挖空。其中，凹槽的高度的含义可以参考实施例一中的相关说明，这里不再赘述。参考图12所示，在封框胶区域201和隔离区域202，平坦层82的下方为黑矩阵10，那么上述凹槽可以是部分挖空，或者全部挖空，这里不作限定。示例的，若平坦层的厚度范围为2.2μm-2.5μm，则凹槽的最大高度的范围可以为2.2μm-2.5μm。例如，若平坦层的厚度为2.3μm，则凹槽的最大高度可以是2.2μm或2.3μm。本发明实施例以及附图均以凹槽为部分挖空为例进行说明。

这里需要说明的是，上述彩膜基板的显示区域203是指设置有彩膜层11、可用于显示的区域，封框胶区域201是指设置有封框胶4的区域，隔离区域202位于封框胶区域201和显示区域203之间，将封框胶区域201和显示区域203隔离开，避免后续设置封框胶4时，由于工艺误差使得一部分封框胶4进入到显示区域203进而影响显示效果。进一步需要说明的是，本发明实施例对于彩膜基板的平坦层设置的凹槽的位置不作具体限定，只要满足取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内即可。本发明实施例以及附图仅以凹槽设置在隔离区域、取向膜的两个边缘均位于上述凹槽内为例进行说明。

现提供一具体例子以说明上述彩膜基板的平坦层设置凹槽后的效果。现有技术中，取向膜的厚度范围为0.08μm-0.1um，彩膜基板的平坦层的常用厚度为2.2μm-2.5μm，两者厚度当量相差20倍以上，若设计宽度为0.1mm的凹槽，在取向液固化形成取向膜之前，该凹槽至少可以拦截宽度为2mm的取向液。而目前小尺寸液晶显示器件的边框宽度范围仅为0.7mm-1.2mm，因此本发明可以有效阻止取向液的扩散，进而可以准确控制取向膜的边缘位置。

可选的，参考图12所示，阵列基板1包括依次设置在平坦层81和取向膜5之间的公共电极层12、绝缘层13和像素电极层14。

可选的，阵列基板的平坦层的凹槽的高度小于平坦层的厚度，即上述凹槽为部分挖空。其中，凹槽的高度的含义可以参考实施例一中的相关说明，这里不再赘述。参考图12所示，由于平坦层81和衬底100之间还可能形成栅线、数据线、薄膜晶体管等，为了保护平坦层81下方的膜层，选择上述凹槽为部分挖空，即凹槽的最大高度小于平坦层的厚度。示例的，若平坦层的厚度范围为1.6μm-2.8μm，则凹槽的最大高度的范围可以为0.5μm-2.5μm。例如，若平坦层的厚度为2.0μm，则凹槽的最大高度可以是1.6μm、1.8μm或1.9μm。

这里需要说明的是，上述阵列基板的显示区域103是指用于显示的区域，封框胶区域101是指设置有封框胶4的区域，隔离区域102位于封框胶区域101和显示区域103之间，将封框胶区域101和显示区域103隔离开，避免后续设置封框胶4时，由于工艺误差使得一部分封框胶4进入到显示区域203进而影响显示效果。进一步需要说明的是，本发明实施例对于阵列基板的平坦层设置的凹槽的位置不作具体限定，只要满足取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内即可。本发明实施例以及附图仅以凹槽设置在隔离区域、取向膜的两个边缘均位于上述凹槽内为例进行说明。

上述阵列基板可用于形成ADS(AdvancedSuperDimensionSwitch，高级超维场转换技术)型显示装置，该显示装置具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差等优点。当然，若上述阵列基板中不包括公共电极层，则该阵列基板还可用于形成TN(TwistedNematic，扭曲向列型)型显示装置，这里不作具体限定，仅以上述阵列基板可用于形成ADS型显示装置为例进行说明。

现提供一具体例子以说明上述阵列基板的平坦层设置凹槽后的效果。现有技术中，取向膜的厚度范围为0.08μm-0.1um，阵列基板的平坦层的常用厚度为1.6μm-2.8μm，两者厚度当量相差约16-35倍，若设计宽度为0.1mm的凹槽，在取向液固化形成取向膜之前，该凹槽可以拦截宽度为1.6mm-3.5mm以上的取向液。而目前小尺寸液晶显示器件的边框宽度范围仅为0.7mm-1.2mm，因此本发明可以有效阻止取向液的扩散，进而可以准确控制取向膜的边缘位置。

实施例三

本发明实施例提供了一种实施例一提供的显示基板的制作方法，该方法包括：

步骤S01、在衬底上形成平坦层，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域形成凹槽。

需要说明的是，若平坦层在封框胶区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图2a所示；若平坦层在隔离区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图3所示；若平坦层在封框胶区域和隔离区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图4所示。本发明实施例对此不作限定。

进一步需要说明的是，本发明实施例对于平坦层和凹槽的制作方法不作限定。示例的，平坦层和凹槽可以通过一次构图工艺形成，一次构图工艺是将薄膜形成包含至少一个图案的层的工艺，一般包括掩膜、曝光、显影、刻蚀和剥离等工艺；当然，平坦层和凹槽还可以通过二次构图工艺形成，即先形成平坦层，再形成凹槽；这里不作具体限定，可以选择前者，以减少构图工艺次数从而降低生产成本。

步骤S02、在衬底上形成取向膜，该取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内。

本发明的实施例提供了一种显示基板的制作方法，通过该方法形成的显示基板包括衬底以及依次形成在衬底之上的平坦层、取向膜，显示基板还包括封框胶区域和显示区域、以及位于封框胶区域和显示区域之间的隔离区域，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽，取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内。那么在形成取向膜时，凹槽可以容纳向外扩散的取向液，以避免取向液扩散到封框胶区域以外，进而使得取向液形成的取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内，从而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种显示基板，包括衬底以及依次设置在所述衬底之上的平坦层、取向膜，所述显示基板还包括显示区域和位于所述显示区域周围的封框胶区域、以及位于所述封框胶区域和所述显示区域之间的隔离区域，其特征在于，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域设置有凹槽，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述封框胶区域包括两个相对的第一边缘区域，所述隔离区域包括两个相对的第二边缘区域，所述凹槽至少位于两个所述第一边缘区域或两个所述第二边缘区域。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在所述凹槽设置在所述第一边缘区域的情况下，所述第一边缘区域包括与所述隔离区域接触的第一区域和远离所述隔离区域的第二区域，所述凹槽位于所述第一区域。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一区域和所述第二区域的形状均为矩形，且所述第一区域和所述第二区域的宽度相同。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的形状为梯台、半圆柱体或者长方体。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽远离所述衬底的开口的宽度的范围为0.05mm-0.3mm。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。

8.一种显示装置，包括对盒的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶和封框胶，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求1-7任一项所述的显示基板，和/或，所述阵列基板为权利要求1-7任一项所述的显示基板，所述封框胶位于所述彩膜基板的封框胶区域与所述阵列基板的封框胶区域之间的位置。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜基板包括依次设置在衬底和平坦层之间的黑矩阵和彩膜层。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜基板的平坦层的凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。

11.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板包括依次设置在平坦层和取向膜之间的公共电极层、绝缘层和像素电极层。

12.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板的平坦层的凹槽的高度小于所述平坦层的厚度。

13.一种如权利要求1-7任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底上形成平坦层，所述平坦层在封框胶区域和/或隔离区域形成凹槽；

在所述衬底上形成取向膜，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。